JPH0563054A - ウエハ温度測定方法及び装置 - Google Patents

ウエハ温度測定方法及び装置

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JPH0563054A
JPH0563054A JP24463691A JP24463691A JPH0563054A JP H0563054 A JPH0563054 A JP H0563054A JP 24463691 A JP24463691 A JP 24463691A JP 24463691 A JP24463691 A JP 24463691A JP H0563054 A JPH0563054 A JP H0563054A
Authority
JP
Japan
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wafer
temperature
small piece
piece
reaction container
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP24463691A
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English (en)
Inventor
Kazuo Takano
加津雄 高野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】 [目的]反応容器内で所定の処理を受けるウエハの温度
を正確に測定し、最適・高精度な温度制御を可能とす
る。 [構成]ウエハ押さえ部32Aより外周側で、かつ上部
電極12と下部電極20との間の所定位置に、上部開口
34Aおよび下部開口34Bを有するウエハ小片保持部
34がウエハ保持部材32に一体に設けられ、このウエ
ハ小片保持部34にウエハ30と同じ材質のウエハ小片
36が配設される。このウエハ小片36には、両電極1
2,20からの熱が加わり、下部開口34Bを介して冷
却ガスもあたる。このように、ウエハ小片36は、ウエ
ハ30と同一の環境下に置かれるため、ウエハ30の温
度とほぼ同一の温度を有する。このウエハ小片36に
は、ウエハ小片保持部34の上部開口34Aを介して熱
電対38が取り付けられ、この熱電対38の出力線40
は、反応容器10の外に配置されているウエハ温度モニ
タ装置42の入力端子に接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、反応容器内で所定の処
理を受ける半導体ウエハの温度を測定するための方法お
よび装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程において、半導体ウエハ
は真空チャンバ等の反応容器内で所定の処理を受ける
が、その処理の出来具合はウエハ温度に左右されること
が多い。たとえば、最近のエッチング加工の主流である
プラズマエッチングにおいては、ウエハ温度を低くする
ほどサイドカットの少ない良好な異方性エッチングが得
られる。しかし、ウエハ温度が低いほどエッチング速度
は遅くなるので、ウエハ温度をいたずらに下げればよい
というわけでもなく、最適な温度を設定し、かつその設
定温度に制御しなければならない。最適な温度制御を行
うには、反応容器内のウエハの温度を正確に測定する必
要がある。
【0003】従来のウエハ温度測定方式は、試料台また
は冷却水の温度を検出し、その検出温度をウエハの温度
としていた。すなわち、ウエハは一時的な処理のため反
応容器に出し入れされる被加工物であることから、熱電
対を直接ウエハに取り付けるわけにはいかないので、試
料台または冷却水の間接的な温度測定を行っていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、試料
台、冷却水は、ウエハに接触ないし近接しても、ウエハ
とは全く異なる温度特性を有する材質・物質であるか
ら、試料台や冷却水の温度とウエハ温度との近似性はよ
くない。このために、試料台または冷却水の温度を検出
してウエハの温度を推定する上記従来方式は、測定誤差
が多く、精度の高いウエハ温度測定値が得られなかっ
た。
【0005】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、反応容器内のウエハの温度を正確に測定し、最
適・高精度な温度制御を可能とするウエハ温度測定方法
および装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のウエハ温度測定方法は、反応容器内の所定
位置に配置された半導体ウエハに近接した位置にウエハ
小片を配設し、前記ウエハ小片の温度を直接検出し、そ
の検出温度に基づいて前記半導体ウエハの温度の測定値
を得る方法とした。
【0007】また、本発明のウエハ温度測定装置は、反
応容器内の所定位置に配置された半導体ウエハに近接し
た位置でウエハ小片を支持する手段と、前記ウエハ支持
手段に支持されたウエハ小片の温度を直接検出する手段
と、前記温度検出手段より得られた検出温度に基づいて
前記ウエハの温度の測定値を与える手段とを具備する構
成とした。
【0008】
【作用】本発明では、反応容器内の所定位置に配置され
たウエハの近くに、ウエハ小片が配設される。このウエ
ハ小片は、好ましくはウエハと同一の材質からなるもの
でよく、ウエハの近くに配置されることから、ウエハと
ほぼ同一の環境下に置かれ、ウエハとほぼ同一の温度を
有する。したがって、このウエハ小片の温度を直接検出
することによって、ウエハを直接検出した場合とほぼ同
じ検出温度を得ることが可能であり、特別な補正を行わ
なくとも、正確なウエハ温度測定値を得ることができ
る。
【0009】
【実施例】以下、添付図を参照して本発明の実施例を説
明する。図1は、本発明の一実施例による枚葉式プラズ
マエッチング装置の要部の構成を示す断面図である。こ
のエッチング装置において、反応容器10内の中央部に
上部電極12と下部電極20とが一定の間隔をおいて互
いに平行に配設され、下部電極20上に1枚のウエハ3
0が配置される。反応容器10の側面には、ウエハ30
を出し入れするためのバルブ11が設けられている。
【0010】上部電極12は、その上方に中心部にエッ
チングガス導入用の貫通孔14Aを有する上部電極ブロ
ック14が取付られており、また下方にはフロロカーボ
ン系のエッチングガスをウエハ30の上面(加工面)に
向けて均一に送るための多数の開口16Aを有する上部
電極板16を取付してなるものである。上部電極ブロッ
ク14には冷却水を通すための水路14Bが内設され、
この水路14Bには上部冷却水供給装置18より冷却水
が供給される。この上部冷却水供給装置18は冷却水の
温度を検出する温度計、冷却水を冷却する冷却器、冷却
水を循環させるためのポンプ等を有している。
【0011】下部電極20は、その下方に中心部に冷却
ガス導入用の貫通孔22Aを有する下部電極ブロック2
2が取付られており、この下部電極プロック22の上面
に下部電極板24が被せられている。そして、この下部
電極20は、ウエハ30に対する試料台または設置台と
しての役割(機能)をも有している。下部電極ブロック
22には冷却水を通すための水路22Bが内設され、こ
の水路22Bには下部冷却水供給装置26より冷却水が
供給されるようになっている。この下部冷却水供給装置
26は、上部冷却水供給装置18と同様な構成・機能を
有するものでよい。
【0012】上部電極12、下部電極20はそれぞれア
ース、高周波電源(図示せず)に接続され、両電極間に
高周波電源電圧が印加される。これにより、両電極間の
空間にプラズマが発生し、このプラズマ中の反応性イオ
ンがウエハ30に対して垂直に入射することにより、異
方性のエッチングが行われるようになっている。
【0013】下部電極20の外側には絶縁材からなるウ
エハ保持部材32が設けられる。このウエハ保持部材3
2は環状のウエハ押さえ部32Aを有しており、下部電
極ブロック22の貫通孔22Aから吹き付ける熱媒体と
なるガスの圧力によってウエハ30が垂直上方にいくら
か浮き上がると、ウエハ30の外周縁部がウエハ押さえ
部32Aによって押さえ付けられるようになっている。
ウエハ保持部材32には冷却ガス排出用の複数の開口3
2Bも設けられ、ウエハ30の下面に吹き付けられた冷
却ガスは、これらの開口32Bを通って反応室内に入
り、そこからガス排出口10Aを通って反応容器10の
外へ排出されるようになっている。
【0014】本実施例では、ウエハ押さえ部32Aより
外周側で、かつ上部電極12と下部電極20との間の所
定位置に、上部開口34Aおよび下部開口34Bを有す
るウエハ小片保持部34がウエハ保持部材32に一体に
設けられ、このウエハ小片保持部34にウエハ30と同
じ材質のウエハ小片36が配設される。したがって、こ
のウエハ小片36には、両電極12,20からの熱が加
わり、下部開口34Bを介して冷却ガスもあたる。この
ように、ウエハ小片36は、ウエハ30と同一の環境下
に置かれるため、ウエハ30の温度とほぼ同一の温度を
有する。 このウエハ小片36には、ウエハ小片保持部
34の上部開口34Aを介して熱電対38が取り付けら
れる。この熱電対38の出力線40は、反応容器10の
外に配置されているウエハ温度モニタ装置42の入力端
子に接続される。したがって、熱電対38の出力線40
にはウエハ小片36の温度を表す温度検出信号が得ら
れ、ウエハ温度モニタ装置42はその温度検出信号を必
要に応じて校正した上でウエハ30の測定温度を割り出
し、その割り出した測定温度をディスプレイに表示す
る。
【0015】さらに、ウエハ温度の最適化制御を行うた
めに、ウエハ温度モニタ装置42で得られたウエハ温度
測定値は、冷却水供給装置18,26等の温度制御部へ
与えられてよい。
【0016】本実施例では、上記のように、ウエハ小片
36はウエハ30と同じ材質で同一の環境下に置かれる
ためほぼ同一の温度を有する。したがって、ウエハ小片
36の温度測定値をそのままウエハ30の温度測定値と
して用いることができ、精度の高いウエハ温度測定値が
得られる。また、ウエハ30を入れ替えても、ウエハ小
片36はそのままなので(入れ替えないので)、熱電対
38の取り外し・付け直しを行う必要はなく、随時温度
測定を行うことができる。
【0017】なお、本実施例では、ウエハ小片36の温
度を直接検出するために、熱電対38を使用したが、白
金測温抵抗体等の他の形式の接触温度センサを用いるこ
とも可能であり、あるいは赤外線温度センサ等の非接触
温度センサも可能である。また、本実施例は枚葉式プラ
ズマエッチング装置に係るものであったが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、他の方式のブラズマエッ
チング装置、ドライエッチング装置、さらには成膜等の
他の処理を行う装置にも適用可能である。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
反応容器内の所定位置に配置されたウエハに近接した位
置にウエハ小片を配設して、このウエハ小片の温度を直
接検出し、その検出温度に基づいてウエハの温度測定値
を求めるようにしたので、ウエハを直接検出した場合に
匹敵するほどの高精度なウエハ温度測定が可能である。
したがって、ウエハ温度の最適化制御または精密制御が
可能となり、良好な処理結果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による枚葉式プラズマエッチ
ング装置の要部の構成を示す略断面図である。 10 反応容器 12 上部電極 18 冷却水供給装置 20 下部電極 26 冷却水供給装置 30 ウエハ 32 ウエハ保持部材 34 ウエハ小片保持部 36 ウエハ小片 38 熱電対 42 ウエハ温度モニタ装置

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 反応容器内の所定位置に配置されたウエ
    ハの温度測定方法において、 前記ウエハに近接した位置にウエハ小片を配設し、前記
    ウエハ小片の温度を直接検出し、その検出温度に基づい
    て前記ウエハの温度の測定値を得ることを特徴とするウ
    エハ温度測定方法。
  2. 【請求項2】 反応容器内の所定位置に配置されたウエ
    ハの温度測定装置において、 前記ウエハに近接した位置でウエハ小片を支持する手段
    と、前記ウエハ支持手段に支持されたウエハ小片の温度
    を直接検出する手段と、前記温度検出手段より得られた
    検出温度に基づいて前記ウエハの温度の測定値を与える
    手段とを具備したことを特徴とするウエハ温度測定装
    置。
JP24463691A 1991-08-29 1991-08-29 ウエハ温度測定方法及び装置 Withdrawn JPH0563054A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001208616A (ja) * 2000-01-28 2001-08-03 Ohkura Electric Co Ltd 温度検出素子
JP2012193753A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Kubota-Ci Co 管更生部材の加熱軟化温度測定装置およびそれを備える加熱装置
JP2015059833A (ja) * 2013-09-19 2015-03-30 株式会社アンベエスエムティ 表面温度測定用熱電対及び表面温度測定装置

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JP2012193753A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Kubota-Ci Co 管更生部材の加熱軟化温度測定装置およびそれを備える加熱装置
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Effective date: 19981112