JPH0563047B2 - - Google Patents

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JPH0563047B2
JPH0563047B2 JP61314860A JP31486086A JPH0563047B2 JP H0563047 B2 JPH0563047 B2 JP H0563047B2 JP 61314860 A JP61314860 A JP 61314860A JP 31486086 A JP31486086 A JP 31486086A JP H0563047 B2 JPH0563047 B2 JP H0563047B2
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JP
Japan
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thin metal
transistor
transistor chip
metal wire
length
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JP61314860A
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Japanese (ja)
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JPS63160253A (en
Inventor
Osamu Shiozaki
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements

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  • Microwave Amplifiers (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の構造に関し、特に高周
波、高出力用途で使用する電界効果トランジスタ
の構造に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to the structure of a semiconductor device, and particularly to the structure of a field effect transistor used in high frequency, high power applications.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の電界効果トランジスタにおいて
は、ソース接地形成が一般的であり、電界効果ト
ランジスタチツプの複数個のゲートボンデイング
バツドは、複数の金線等によりトランジスタパツ
ケージの入力メタライズ部に電気的に接続され、
また複数個のドレインボンデイングパツドは同じ
く複数の金線等により出力メタライズ部に電気的
に接続されておりしかも上記複数の金線の長さは
すべて等しくなるように形成されていた。
Conventionally, in this type of field effect transistor, the common source formation is common, and the multiple gate bonding pads of the field effect transistor chip are electrically connected to the input metallized portion of the transistor package using multiple gold wires, etc. connected,
Further, the plurality of drain bonding pads are similarly electrically connected to the output metallized portion by a plurality of gold wires, and the lengths of the plurality of gold wires are all formed to be equal.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述した従来の電界効果トランジスタは、高周
波、高出力用途の場合、複数個のゲートボンデイ
ングパツドまたは複数個のドレインボンデイング
パツドは、複数個の金属細線によつてトランジス
タパツケージ内のそれぞれ入力側メタライズ部ま
たは出力側メタライズ部にすべて等長にて電気的
に接続されている。ところがこの場合には、複数
個の金属線細には、自己インダクタンスと相互イ
ンダクタンスを有し、並行に複数個の金属細線を
配置する通常の構成においては両端部の金属細線
の有する総合インダクタンスの方が中央部の金属
細線の有するそれよりも小さくなりインダクタン
スにおける不平衡が生じ入力電力または出力電力
がそれぞれ電界トランジスタチツプへ均一に導入
または導出できなくなり、高周波、高出力用途に
おいては、電力利得及び電力出力の低下を誘因し
ていた。
In the conventional field effect transistor described above, in the case of high-frequency, high-power applications, multiple gate bonding pads or multiple drain bonding pads are connected to metallization on the input side within the transistor package by multiple thin metal wires. All are electrically connected to the output side metallized portion at equal lengths. However, in this case, the multiple thin metal wires have self-inductance and mutual inductance, and in a normal configuration in which multiple thin metal wires are arranged in parallel, the total inductance of the thin metal wires at both ends is greater than the total inductance of the thin metal wires at both ends. is smaller than that of the thin metal wire in the center, causing unbalance in inductance and making it impossible for input power or output power to be uniformly introduced into or led out from the field transistor chip, respectively.In high-frequency, high-output applications, power gain and power This caused a decrease in output.

上述した従来の電界効果トランジスタの場合は
トランジスタチツプの複数個のドレインボンデイ
ングパツドやゲートボンデイングパツドを電気的
に接続する各金属細線の長さがすべて等しいた
め、トランジスタチツプの中央部を接続する金属
細線は、その両隣りからの相互インダクタンスが
付加される為トランジスタチツプの端部を接続す
る金属細線の総合インダクタンスよりも大きくな
りRF動作が不均一になるそれに対して本発明は、
金属細線の長さに関してトランジスタチツプの中
央部の方が端部に比較して短くすることによつて
実効的に各金属細線の持つ総合インダクタンスを
等しくすることによりRF動作における位相バラ
ンスを実現し、高出力化高利得化を計ることがで
きるという独創的内容を有する。
In the case of the conventional field effect transistor mentioned above, the lengths of the thin metal wires that electrically connect the multiple drain bonding pads and gate bonding pads of the transistor chip are all the same, so they are connected at the center of the transistor chip. Since mutual inductance from both sides of the thin metal wire is added, the total inductance of the thin metal wire that connects the ends of the transistor chip becomes larger than the total inductance of the thin metal wire, resulting in non-uniform RF operation.In contrast, the present invention
By making the length of the thin metal wires shorter at the center of the transistor chip than at the ends, we can effectively equalize the total inductance of each thin metal wire, thereby achieving phase balance in RF operation. It has the original content of being able to measure high output and high gain.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の電界効果トランジスタにおいては、複
数個のゲートボンデイングパツドとトランジスタ
パツケージとを電気的に接続する複数個の金属細
線の長さまたは、複数個のドレインボンデイング
パツドとトランジスタパツケージとを電気的に接
続する複数個の金属細線の長さにおいてトランジ
スタチツプの中央部を接続する部分の金属細線の
長さが、トランジスタチツプの端部を接続する部
分のそれよりも短くして各金属細線の有する総合
インダクタンスが実効的に等しくなるようにした
構造を有している。
In the field effect transistor of the present invention, the length of a plurality of thin metal wires that electrically connect a plurality of gate bonding pads and a transistor package, or the length of a plurality of thin metal wires that electrically connect a plurality of gate bonding pads and a transistor package; The length of the plurality of thin metal wires connected to the transistor chip is such that the length of the portion of the thin metal wire that connects the center of the transistor chip is shorter than that of the portion that connects the ends of the transistor chip. It has a structure in which the total inductance is effectively equal.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す製品平面図で
ある。また第2図は従来の製品平面図である。高
周波、高出力用途の電界効果トランジスタは、電
力出力を外部へ取り出す為に、複数個のチツプの
ドレインボンデイングパツド1とパツケージ2の
出力側メタライズ部3とを複数個の金属細線4で
電気的に接続されている。さらに外部からトラン
ジスタチツプ5内に電力を供給する為に、複数個
のチツプのゲートボンデイングパツド6とパツケ
ージ2の入力側メタライズ部7とを前記と同様に
複数個の金属細線8で電気的に接続されている。
この場合、平行に配置されている複数個のドレイ
ン側の金属細線4のうちトランジスタチツプ5の
中央部と接続している金属細線の長さの方がトラ
ンジスタチツプ5の端部を接続している金属細線
の長さよりも短くして各ドレイン側の金属細線4
の持つ総合インダクタンスを等しくしてRF電力
出力を均一に取り出すことができる構造となつて
いる。
FIG. 1 is a product plan view showing one embodiment of the present invention. Furthermore, FIG. 2 is a plan view of a conventional product. Field-effect transistors for high-frequency, high-output applications use a plurality of thin metal wires 4 to electrically connect the drain bonding pads 1 of a plurality of chips and the output-side metallized portion 3 of a package 2 in order to extract power output to the outside. It is connected to the. Furthermore, in order to supply power from the outside into the transistor chip 5, the gate bonding pads 6 of the plurality of chips and the input side metallized portion 7 of the package 2 are electrically connected using a plurality of thin metal wires 8 in the same manner as described above. It is connected.
In this case, among the plurality of thin metal wires 4 on the drain side arranged in parallel, the length of the thin metal wire that connects to the center of the transistor chip 5 connects the ends of the transistor chip 5. The thin metal wire 4 on each drain side is made shorter than the length of the thin metal wire.
The structure is such that the total inductance of the two elements is equalized and the RF power output can be uniformly extracted.

第3図は、本発明の実施例2の平面図である。
実施例2は実施例1と異なつてトランジスタチツ
プの中央部を接続する金属細線の長さが、トラン
ジスタチツプの端を接続する金属細線の長さより
も短くし各金属細線の持つ総合インダクタンスを
実効的に等しくした構造をドレイン側だけでなく
ゲート側も実施してよりRF動作の位相的均一化
を計つたものである。
FIG. 3 is a plan view of Embodiment 2 of the present invention.
Embodiment 2 differs from Embodiment 1 in that the length of the thin metal wire that connects the center of the transistor chip is shorter than the length of the thin metal wire that connects the ends of the transistor chip, so that the overall inductance of each thin metal wire can be effectively reduced. By implementing a structure equal to , not only on the drain side but also on the gate side, we aim to make the phase of the RF operation more uniform.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明は、トランジスタ
チツプのゲートボンデイングパツドとパツケージ
の入力メタライズ部またはトランジスタチツプの
ドレインボンデイングパツドとパツケージの出力
メタライズ部を相互に接続する複数個の金属細線
のうち、トランジスタチツプの中央部を接続する
金属細線の長さの方がトランジスタチツプの端部
を接続するそれの長さよりも細くすることにより
各金属細線の持つ総合インダクタンスを等しくす
ることにより、入力電力が均一にトランジスタチ
ツプに駆動され、出力電力についても均一にトラ
ンジスタ外へ取り出すことができる。それによつ
て高周波、高出力用途において高出力化及び高利
得化を実現することができる。
As described above, the present invention provides a method for connecting the gate bonding pad of a transistor chip and the input metallized portion of the package, or the drain bonding pad of the transistor chip and the output metallized portion of the package to each other. By making the length of the thin metal wire that connects the center of the transistor chip thinner than the length of the thin metal wire that connects the ends of the transistor chip, the total inductance of each thin metal wire is made equal, thereby making the input power uniform. It is driven by the transistor chip, and the output power can be uniformly extracted from the transistor. Thereby, high output and high gain can be achieved in high frequency, high output applications.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例1の電界効果トランジ
スタ平面図であり、第2図は第1図に対応した従
来構造の電界効果トランジスタ平面図である。ま
た第3図は本発明の実施例2の平面図であり実施
例1のより改善された構造である。 1……ドレインボンデイングパツド、2……ト
ランジスタパツケージ、3……出力側メタライズ
部、4……ドレイン側金属細線、5……トランジ
スタチツプ、6……ゲートボンデイングパツド、
7……入力側メタライズ部、8……ゲート側金属
細線。
1 is a plan view of a field effect transistor according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of a field effect transistor having a conventional structure corresponding to FIG. Further, FIG. 3 is a plan view of a second embodiment of the present invention, which is an improved structure of the first embodiment. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Drain bonding pad, 2...Transistor package, 3...Output side metallization part, 4...Drain side thin metal wire, 5...Transistor chip, 6...Gate bonding pad,
7...Input side metallized part, 8...Gate side thin metal wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 トランジスタチツプ上の複数の電極と半導体
容器に設けられたメタライズ部とを平行に並んだ
複数の金属細線で接続した半導体装置において、
前記複数の金属細線のうち中央部に存在する金属
細線の長さが、端部に存在する金属細線の長さよ
りも短いことを特徴とする半導体装置。
1. In a semiconductor device in which a plurality of electrodes on a transistor chip and a metallized portion provided in a semiconductor container are connected by a plurality of thin metal wires arranged in parallel,
A semiconductor device characterized in that a length of a metal thin wire existing in a central portion of the plurality of metal thin wires is shorter than a length of a metal thin wire existing at an end portion.
JP31486086A 1986-12-23 1986-12-23 Semiconductor device Granted JPS63160253A (en)

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