JPH0563040U - Heater chip polishing mechanism - Google Patents
Heater chip polishing mechanismInfo
- Publication number
- JPH0563040U JPH0563040U JP940092U JP940092U JPH0563040U JP H0563040 U JPH0563040 U JP H0563040U JP 940092 U JP940092 U JP 940092U JP 940092 U JP940092 U JP 940092U JP H0563040 U JPH0563040 U JP H0563040U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- heater chip
- stage
- heater
- polishing mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱圧着用のヒーターチップに対する研磨を簡
略化,高品質化し、費用削減,高精度化する。
【構成】 既設のX−Yステージ1に研磨ステージ2を
ヒーターチップ4の研磨面に対して平行に設置し、研磨
ステージ2上にラッピングペーパ3を貼り付ける。ヒー
ターチップ4を研磨する場合は、ヒーターチップ4を下
降させラッピングペーパ3に接触させた状態でX−Yテ
ーブル1を動作させる。動作パターンを変えることによ
り最適な研磨条件で研磨が行なえるので、良好な研磨面
が得られる。又、構造が単純なので、調整が容易で、さ
らに費用を節減できる。
(57) [Abstract] [Purpose] Simplify and improve the quality of heater chips for thermocompression bonding, reduce costs, and improve accuracy. [Structure] The polishing stage 2 is installed on the existing XY stage 1 in parallel with the polishing surface of the heater chip 4, and the lapping paper 3 is attached onto the polishing stage 2. When polishing the heater chip 4, the XY table 1 is operated while the heater chip 4 is lowered and brought into contact with the lapping paper 3. Since the polishing can be performed under the optimum polishing conditions by changing the operation pattern, a good polished surface can be obtained. Also, since the structure is simple, the adjustment is easy and the cost can be further reduced.
Description
【0001】[0001]
本考案は、熱圧着用ヒーターチップの研磨面を研磨するヒーターチップ研磨機 構に関する。 The present invention relates to a heater chip polishing mechanism for polishing a polishing surface of a heater chip for thermocompression bonding.
【0002】[0002]
従来のヒーターチップ研磨機構は図2に示すように、ベルトコンベア状の回転 部に布やすりを備えた研磨部6と、研磨くず収納部7と、全体をヒーターチップ 研磨位置まで移動させる研磨部押し出し用エアシリンダ8と、研磨部回転用モー ター9とを備えている。 As shown in FIG. 2, a conventional heater chip polishing mechanism includes a polishing unit 6 having a belt conveyor-like rotating unit with a cloth file, a polishing waste storage unit 7, and a polishing unit pusher for moving the entire heater chip to a polishing position. The air cylinder 8 and the motor 9 for rotating the polishing section are provided.
【0003】 次に動作について説明する。研磨部6及び研磨くず収納部7は、通常は図2の ような退避位置にある。ヒーターチップ4が、ICの圧着動作等で汚れたために 、下端面の研磨を行なう場合、研磨部押し出し用エアシリンダ8によって、ヒー ターチップ4の真下の位置まで、研磨部6が押し出される。Next, the operation will be described. The polishing section 6 and the polishing waste storage section 7 are normally in the retracted position as shown in FIG. When the lower end surface is polished because the heater chip 4 is soiled by the pressure bonding operation of the IC or the like, the polishing section pushing air cylinder 8 pushes the polishing section 6 to a position directly below the heater chip 4.
【0004】 ヒーターチップ4は、ヒーターチップ上下用シリンダ5によって下降し、研磨 部6の表面に接触する。The heater chip 4 is lowered by the heater chip up-and-down cylinder 5 and comes into contact with the surface of the polishing section 6.
【0005】 ここで、研磨部6は、研磨部回転用モーター9によって回転し、表面の布やす りによりヒーターチップ4の下端面を研磨して平滑にし、研磨くずは研磨くず収 納部7に収納される。Here, the polishing section 6 is rotated by a polishing section rotation motor 9, and the lower end surface of the heater chip 4 is polished and smoothed by the surface cloth, and the polishing waste is stored in the polishing waste storage section 7. To be done.
【0006】[0006]
この従来のヒーターチップ研磨機構では、研磨専用のために複雑な研磨機構を 設けなければならず、費用がかかるという問題点があった。 This conventional heater chip polishing mechanism has a problem in that a complicated polishing mechanism must be provided exclusively for polishing, which is expensive.
【0007】 又、研磨部のヒーターチップに対する平行度が正しく出ていなければ、ヒータ ーチップの下端面形状を平滑化できないという問題があった。There is also a problem that the shape of the lower end surface of the heater chip cannot be smoothed unless the parallelism of the polishing portion with respect to the heater chip is correct.
【0008】 本考案の目的は、構造を単純化し、かつヒーターチップの研磨精度を向上した ヒーターチップ研磨機構を提供することにある。An object of the present invention is to provide a heater chip polishing mechanism that has a simplified structure and has improved heater chip polishing accuracy.
【0009】[0009]
前記目的を達成するため、本考案に係るヒーターチップ研磨機構においては、 X−Yステージと、研磨ステージと、ラッピングペーパとを有するヒーターチッ プ研磨機構であって、 X−Yステージは、昇降可能なヒーターチップによる熱圧着の処理対象物を支 持し、直交する2軸方向に移動して位置決めを行うものであり、 研磨ステージは、ヒーターチップの研磨面に対して平行に配置され、前記X− Yステージ上に設けられた処理対象物の支持面を避けた位置に支持されたもので あり、 ラッピングペーパは、前記研磨ステージ上に貼付され、該X−Yステージの動 きに連動してヒーターチップの研磨面を研磨するものである。 To achieve the above object, the heater chip polishing mechanism according to the present invention is a heater chip polishing mechanism having an XY stage, a polishing stage, and lapping paper, and the XY stage can be moved up and down. The object to be thermocompression-bonded by a different heater chip is supported and moved in two orthogonal directions to perform positioning. The polishing stage is arranged parallel to the polishing surface of the heater chip. -It is supported at a position avoiding the supporting surface of the processing object provided on the Y stage, and the wrapping paper is stuck on the polishing stage and linked with the movement of the XY stage. The polishing surface of the heater chip is polished.
【0010】[0010]
処理対象物を支持し該処理対象物の精密な位置決めを行う既設のX−Yステー ジを利用して、ヒーターチップの研磨作業を行う。 The heater chip is polished using an existing XY stage that supports the object to be processed and precisely positions the object.
【0011】[0011]
以下、本考案の一実施例を図により説明する。図1は、本考案の一実施例を示 す斜視図である。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.
【0012】 図1において、ヒーターチップ4によってIC等をプリント基板等に熱圧着す る場合には、直交する2軸方向に移動するX−Yステージ1が既設されている。 このX−Yステージ1は、直交するボールネジ1b,1bと、ボールネジ1bを 回転駆動するパルスモータ1a,1aとにより2軸方向に移動される構造のもの であり、精密な位置決めがなされる。In FIG. 1, when an IC or the like is thermocompression bonded to a printed circuit board or the like by a heater chip 4, an XY stage 1 that moves in two orthogonal axes is already installed. The XY stage 1 has a structure in which it is moved in two axial directions by orthogonal ball screws 1b and 1b and pulse motors 1a and 1a that rotationally drive the ball screw 1b, and precise positioning is performed.
【0013】 本実施例では、このX−Yステージ1を利用するものであり、研磨ステージ2 と、ラッピングペーパ3とを付加している。In this embodiment, this XY stage 1 is used, and a polishing stage 2 and a lapping paper 3 are added.
【0014】 研磨ステージ2は、昇降可能なヒーターチップの下端研磨面に対して平行に配 置され、X−Yステージ1上に設けられた処理対象物の支持面を避けた位置(実 施例では横方向に張出す位置)に支持されている。The polishing stage 2 is arranged parallel to the lower polishing surface of the heater chip that can be moved up and down, and is located at a position avoiding the support surface of the processing object provided on the XY stage 1 (example It is supported in a position where it extends laterally).
【0015】 ラッピングペーパ3は、研磨ステージ2上に貼付され、X−Yステージ1の動 きに連動してヒーターチップ4の研磨面を研磨するものである。The wrapping paper 3 is attached to the polishing stage 2 and polishes the polishing surface of the heater chip 4 in conjunction with the movement of the XY stage 1.
【0016】 次に動作について説明する。ヒーターチップ4の研磨を行う場合には、まず、 X−Yステージ1を移動させて研磨ステージ2をヒーターチップ4の真下位置に 位置決めする。Next, the operation will be described. When polishing the heater chip 4, first, the XY stage 1 is moved to position the polishing stage 2 directly below the heater chip 4.
【0017】 次にヒーターチップ4をシリンダ5により下降させ、ヒーターチップ4の研磨 面を研磨ステージ2のラッピングペーパ3に接触させる。Next, the heater chip 4 is lowered by the cylinder 5, and the polishing surface of the heater chip 4 is brought into contact with the lapping paper 3 of the polishing stage 2.
【0018】 この状態でX−Yステージ1を一方向に往復運動させ、ヒーターチップ4の研 磨面をラッピングペーパ3により研磨する。In this state, the XY stage 1 is reciprocated in one direction, and the polished surface of the heater chip 4 is polished by the lapping paper 3.
【0019】 尚、X−Yステージ1の動作方向を変更することにより、ヒーターチップ4に 対する最適な研磨方法を採用することが可能である。By changing the operation direction of the XY stage 1, it is possible to adopt an optimum polishing method for the heater chip 4.
【0020】[0020]
以上説明したように本考案は、単純な構造の付加のみで、ヒーターチップ先端 の研磨を行なうことができるために、費用を節減できる。また、構造が単純なた め、取り付けの精度が良くなり、ヒーターチップに対する研磨精度を向上できる 。 As described above, the present invention can reduce the cost because the tip of the heater chip can be polished only by adding a simple structure. Also, since the structure is simple, the mounting accuracy is improved, and the polishing accuracy for the heater chip can be improved.
【0021】 さらに、X−Yステージの動作方向を変更することによって最適な研磨方法を 取ることができ、ヒーターチップ先端の良好な研磨面を得ることができる。Further, by changing the operation direction of the XY stage, an optimum polishing method can be adopted, and a good polished surface at the tip of the heater chip can be obtained.
【図1】本考案の一実施例を示す斜視図ある。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.
【図2】従来のヒーターチップ研磨機構を示す斜視図で
ある。FIG. 2 is a perspective view showing a conventional heater chip polishing mechanism.
1 X−Yステージ 1a パルスモータ 1b ボールネジ 2 研磨ステージ 3 ラッピングペーパ 4 ヒーターチップ 6 研磨部 7 研磨くず収納部 1 XY stage 1a Pulse motor 1b Ball screw 2 Polishing stage 3 Lapping paper 4 Heater chip 6 Polishing section 7 Polishing waste storage section
Claims (1)
ッピングペーパとを有するヒーターチップ研磨機構であ
って、 X−Yステージは、昇降可能なヒーターチップによる熱
圧着の処理対象物を支持し、直交する2軸方向に移動し
て位置決めを行うものであり、 研磨ステージは、ヒーターチップの研磨面に対して平行
に配置され、前記X−Yステージ上に設けられた処理対
象物の支持面を避けた位置に支持されたものであり、 ラッピングペーパは、前記研磨ステージ上に貼付され、
該X−Yステージの動きに連動してヒーターチップの研
磨面を研磨するものであることを特徴とするヒーターチ
ップ研磨機構。1. A heater chip polishing mechanism having an XY stage, a polishing stage, and wrapping paper, wherein the XY stage supports an object to be thermocompression-bonded by a vertically movable heater chip, Positioning is carried out by moving in two orthogonal directions, and the polishing stage is arranged parallel to the polishing surface of the heater chip, and the supporting surface of the processing object provided on the XY stage is placed on the supporting surface. The wrapping paper is attached to the polishing stage.
A heater chip polishing mechanism for polishing the polishing surface of a heater chip in conjunction with the movement of the XY stage.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP940092U JPH0563040U (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Heater chip polishing mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP940092U JPH0563040U (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Heater chip polishing mechanism |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0563040U true JPH0563040U (en) | 1993-08-20 |
Family
ID=11719375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP940092U Pending JPH0563040U (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Heater chip polishing mechanism |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0563040U (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015136730A (en) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 日本アビオニクス株式会社 | heater chip polishing tool |
JP2019161215A (en) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | 株式会社村田製作所 | Method and apparatus for manufacturing coil component |
-
1992
- 1992-01-31 JP JP940092U patent/JPH0563040U/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015136730A (en) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 日本アビオニクス株式会社 | heater chip polishing tool |
JP2019161215A (en) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | 株式会社村田製作所 | Method and apparatus for manufacturing coil component |
US11217389B2 (en) | 2018-03-07 | 2022-01-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing coil component |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4037386B2 (en) | Work side processing method and apparatus | |
JP6704244B2 (en) | Polishing equipment | |
JP2007210043A (en) | Side machining apparatus for work | |
KR950012915B1 (en) | Bonding apparatus | |
KR20210088877A (en) | Polishing equipment with 360 angle rotation of work | |
JPH0563040U (en) | Heater chip polishing mechanism | |
JP2849904B2 (en) | Work chamfering machine, perimeter machining device and chamfering / perimeter machining device | |
JP2017205838A (en) | One-surface polishing device of plate-like substrate | |
TW511202B (en) | Inner lead bonding apparatus | |
JP2002224938A (en) | Grinding device and grinding method for plate shape workpiece | |
JP2005038978A (en) | Outer periphery polishing device for flat surface of semiconductor wafer | |
JP2000153450A (en) | Flat surface polishing device | |
JP3801780B2 (en) | Truing tool and wafer chamfering device with truing tool | |
JPH0523935A (en) | Compound laser beam machine | |
JP3853402B2 (en) | Chip bonding equipment | |
JP2000233350A (en) | Tool unit for automatic deburring device | |
JPH1133898A (en) | Grinding device | |
JP4650678B2 (en) | Truing method of chamfering grindstone | |
CN219026925U (en) | Positioning edging equipment for electronic component processing | |
CN221111287U (en) | Wafer thinning processing fixing device | |
JP2002036105A (en) | Grinding machine | |
JPH11265860A (en) | Partial polishing device and method | |
JP2001259995A (en) | Buffing device, buffing system and buffing method | |
JP2595603Y2 (en) | Grinding equipment | |
JPH0715251U (en) | Sander for processing narrow concave parts |