JPH056300U - Main valve for gas storage container - Google Patents

Main valve for gas storage container

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Publication number
JPH056300U
JPH056300U JP5283791U JP5283791U JPH056300U JP H056300 U JPH056300 U JP H056300U JP 5283791 U JP5283791 U JP 5283791U JP 5283791 U JP5283791 U JP 5283791U JP H056300 U JPH056300 U JP H056300U
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JP
Japan
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valve
purge
gas
storage container
passage
Prior art date
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Application number
JP5283791U
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Japanese (ja)
Inventor
敦 繁森
俊博 難波
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Hitachi Metals Ltd
Iwatani Corp
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
Iwatani Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 高純度プロセスガスを貯蔵した容器に装着さ
れ、この容器の接続部分の奥深いところまでパージでき
る元弁を提供すること。 【構成】 金属製ダイヤフラム34を弁座部22に直
接、着座あるいは離座させることによってパージガス及
びプロセスガスを制御するパージ弁2及び供給弁3を共
通の弁箱4に設けると共に、パージガス導出流路21と
プロセスガス導入流路30を包囲して連通する連絡通路
8を有した継手部材5を前記弁箱4に固着し、前記パー
ジガス導出流路21から延出して設けた細管14が、前
記継手部材5の中心軸に対して偏心していることを特徴
とするガス貯蔵容器用元弁。
(57) [Summary] (Modified) [Purpose] To provide a main valve that can be installed in a container that stores high-purity process gas and that can purge to the deep part of the connection part of this container. A purge valve 2 and a supply valve 3 for controlling a purge gas and a process gas by directly seating or separating a metal diaphragm 34 on a valve seat portion 22 are provided in a common valve box 4, and a purge gas outlet flow path is provided. 21 is fixed to the valve box 4 with a joint member 5 having a communication passage 8 that surrounds and communicates with the process gas introduction passage 30, and a thin tube 14 extending from the purge gas lead-out passage 21 is provided with the joint. A main valve for a gas storage container, which is eccentric with respect to the central axis of the member 5.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は液化ガスあるいは高圧ガス等が充填されたガス貯蔵容器に装着して使 用されるガス貯蔵容器の元弁に関する。   The present invention is used by mounting it on a gas storage container filled with liquefied gas or high-pressure gas. The present invention relates to a main valve of a gas storage container used.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

近年、種々の産業分野で超高純度なガスが使用されている。例えば半導体製造 プロセスで使用されるガスがあり、これらのいわゆるプロセスガスの純度は、製 造される製品の品質に重大な影響を与える。従って、ガスの高純度を維持するた めに多大の配慮がなされねばならない。またこれらプロセスガスの中には毒性の 強いものや爆発する危険性の高いものもあり、取扱いに際しては安全性が要求さ れる。これらのプロセスガスは、ガス貯蔵容器に充填され、この容器に取り付け られた元弁を介して供給が行われている。 そして、上記した高純度プロセスガスは、貯蔵容器から元弁を介して各種の弁 及び配管を通って使用される。このとき配管内に不純物を含んだガスやパーティ クルがある場合、さらには接ガス金属面に不純ガスが吸着している場合、これら の不純ガスやパーティクルが高純度プロセスガスを通すときに放出されて、高純 度プロセスガスの純度を低下させる。これを防ぐために、例えば、接ガス金属面 の全てを高精度に電解研磨処理をして鏡面仕上げをし、不純ガスが金属面に極力 吸着しないようにするという対策がある。また通常行われるのは元弁を貯蔵容器 に取付けて、高純度プロセスガスを流す前に、配管系を真空ポンプによる真空引 き、あるいは不活性ガス置換によるパージ処理を施し、配管内を洗浄することが 行われている。   In recent years, ultra-high purity gas has been used in various industrial fields. For example, semiconductor manufacturing There are gases used in the process and the purity of these so-called process gases is It has a significant impact on the quality of the manufactured product. Therefore, it is necessary to maintain the high purity of the gas. Great care must be taken to ensure this. Also, some of these process gases are toxic Some are strong and some are at high risk of explosion, so safety is required when handling. Be done. These process gases are filled in a gas storage container and attached to this container. Supply is performed through the main valve.   The above-mentioned high-purity process gas is passed from the storage container through various valves to various valves. And used through piping. At this time, gas or impurities containing impurities in the piping If there is a clog, or if impure gas is adsorbed on the metal surface in contact with the gas, these The impure gas and particles are released when passing through the high-purity process gas, Degrade the purity of the process gas. To prevent this, for example, gas contact metal surface All of them are electropolished with high precision and mirror-finished, and impure gas is applied to the metal surface as much as possible. There is a measure to prevent adsorption. Also, it is usually done to use the original valve as a storage container. The piping system, and before flowing the high-purity process gas, vacuum the piping system with a vacuum pump. The inside of the piping can be cleaned by purging with an inert gas replacement. Has been done.

【0003】 従来、このようなパージ処理を行うときの貯蔵容器の元弁として、例えば図3 に示す実公平2−34527 号公報に開示されたものがある。この容器元弁は、止め 弁50と配管内をパージするパージ弁51とで構成されている。従って、パージ弁51 を閉じ、止め弁50を開くことによって、貯蔵容器内の高純度プロセスガスがガス 取出し導管53へ供給される。一方、止め弁50を閉じ、パージ弁51を開くことによ って、不活性ガスなどのパージ用ガスがガス取出し導管53内に供給される。 また他の例として、実開昭63−24476 号に開示された分析弁60がある。このも のは、パージガスを導入する流路62を弁の弁棒61内に穿設すると共に、この流路 を連続して細長突起63に延設してガス導入口66内に進入できるようにしたもので ある。そして貯蔵容器からのガス導入路66及び導出路65は、上記パージガス用の 弁構成と共通部品を用いて構成している。即ち、パージガスを供給するときは、 容器側のプロセスガス流路を閉じることができ、一方プロセスガスを供給すると きは、パージガス流路を閉じると共にプロセスガス流路を開としている。従って 、一つの弁でプロセスガスとパージガスを切換えることができるようになってい る。[0003]   Conventionally, as a main valve of a storage container when performing such a purging process, for example, as shown in FIG. There is one disclosed in Japanese Utility Model Publication No. 2-34527. This container valve is a stop It is composed of a valve 50 and a purge valve 51 for purging the inside of the pipe. Therefore, the purge valve 51 The high-purity process gas in the storage container is closed by closing the valve and opening the stop valve 50. It is supplied to the take-out conduit 53. On the other hand, by closing the stop valve 50 and opening the purge valve 51, Thus, a purging gas such as an inert gas is supplied into the gas extraction conduit 53.   Another example is the analysis valve 60 disclosed in Japanese Utility Model Publication No. 63-24476. This one too In addition to forming a flow path 62 for introducing the purge gas in the valve stem 61 of the valve, Is continuously extended to the elongated protrusion 63 so that it can enter the gas inlet 66. is there. And the gas inlet path 66 and outlet path 65 from the storage container are for the purge gas. It is constructed using the valve configuration and common parts. That is, when supplying the purge gas, The process gas flow path on the container side can be closed, while supplying process gas In other words, the purge gas passage is closed and the process gas passage is opened. Therefore It is possible to switch between process gas and purge gas with one valve. It

【0004】[0004]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

上記従来例において、まず前者は止め弁50を閉じ、パージ弁51を開いて、パー ジ処理を行うとき、貯蔵容器との連通路である入口孔52内にまで不活性パージガ スが充分に進入しない。従って、止め弁50の弁座部分59から貯蔵容器の口元まで の入口孔52内のパージが完全に出来ない。また止め弁30及びパージ弁31の弁室55 ,57内には、開弁ばね56,58が装置されている。従って、このばねの摺動によっ てパーティクルが発生する。以上のことより高純度プロセスガスの純度を低下さ せるという問題があった。 一方後者のものは、パージガスは貯蔵容器の元の深い部分まで細管を進入させ て送れるので、上記のものよりパージ能力は高いと言える。しかしながら、弁の 構成が複雑でデッドスペースが大であることと、弁棒61及び細管63がねじ螺合64 を用いた摺動形式であるのでパーティクルの発生が大であり、上記と同様高純度 プロセスガスの純度を低下させるという問題がある。 本考案はパーティクルの発生のない弁構造であって、貯蔵容器の元部まで効率 的にパージ処理ができるガス貯蔵容器用元弁を提供することを目的とする。   In the above-mentioned conventional example, the former first closes the stop valve 50, opens the purge valve 51, and When carrying out the treatment, an inert purge gas is introduced into the inlet hole 52, which is a communication path with the storage container. Sus not enter enough. Therefore, from the valve seat portion 59 of the stop valve 50 to the mouth of the storage container. The inside of the inlet hole 52 of the can not be completely purged. Further, the valve chamber 55 of the stop valve 30 and the purge valve 31 Valve-opening springs 56 and 58 are provided in the valves 57 and 57, respectively. Therefore, the sliding of this spring Particles are generated. As a result, the purity of the high-purity process gas is reduced. There was a problem of making it possible.   On the other hand, in the latter, the purge gas allows the thin tube to penetrate deep into the storage container. Therefore, it can be said that the purging capacity is higher than the above. However, of the valve The structure is complicated and the dead space is large, and the valve rod 61 and the thin tube 63 are screwed together 64 Since it is a sliding type that uses particles, the generation of particles is large and high purity as above There is a problem of reducing the purity of the process gas.   The present invention has a valve structure that does not generate particles and is efficient up to the base of the storage container. An object of the present invention is to provide a main valve for a gas storage container that can be purged selectively.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

パージガス導入流路と、パージガス導出流路とを弁座部を介して連通し、前記 弁座部に直接、着座あるいは離座をする金属製のダイヤフラムを有するパージ弁 と、プロセスガス導入流路と、プロセスガス導出流路とを弁座部を介して連通し 、前記弁座部に直接、着座あるいは離座をする金属製のダイヤフラムを有する供 給弁とを共通の弁箱に備えた弁装置と、内部に中空の連絡通路を有し、一端にガ ス貯蔵容器との接続部を備え、他端は前記パージ弁のパージガス導出流路と前記 供給弁のプロセスガス導入流路とを包囲して前記弁箱に形成した継手部材と、前 記継手部材の連絡通路内で、この連絡通路の中心軸に対して偏心しており、前記 パージ弁のパージガス導出流路から延出して設けた細管と、前記継手部材の外側 に位置し、前記継手部材の接続部を介して、ガス貯蔵容器に接続するナット部材 とからなるガス貯蔵用元弁である。さらに上記において、前記細管の先端と対向 する前記連絡通路の内周壁を傾斜して形成したガス貯蔵容器用元弁である。   The purge gas introduction flow path and the purge gas discharge flow path are communicated with each other via a valve seat portion, Purge valve with a metal diaphragm that sits or separates directly from the valve seat And the process gas introduction flow path and the process gas discharge flow path are communicated via the valve seat portion. , A valve having a metal diaphragm that is directly seated or separated from the valve seat portion. It has a valve device with a common valve box for the valve supply, a hollow communication passage inside, and a gas valve at one end. A purge gas discharge passage of the purge valve and the other end of the purge valve. A joint member formed in the valve box to surround the process gas introduction flow path of the supply valve; In the connecting passage of the joint member, eccentric with respect to the central axis of the connecting passage, A thin tube extending from the purge gas outlet passage of the purge valve and the outside of the joint member And a nut member that is connected to the gas storage container via the connecting portion of the joint member. It is a main valve for gas storage consisting of and. Furthermore, in the above, it faces the tip of the thin tube. The main valve for a gas storage container is formed by inclining the inner peripheral wall of the communication passage.

【0006】[0006]

【作用】[Action]

本考案は上記の構成であるから、まずパージ弁及び供給弁の弁室には金属製の ダイヤフラムしかなく、このダイヤフラムを直接、弁座に当接あるいは離座させ る構成になっているので、パーティクル発生の原因になるものがなく、かつ弁室 内のデッドスペースが少ない。また、パージ弁と供給弁を共通の弁箱内で対向配 置したので全体としてコンパクトな弁装置となった。 本考案が最も特徴とするところは、パージ弁の導出流路から延出して設けた細 管を継手部材の軸心に対して偏心させたことである。この構成にすることによっ て、細管の先端から噴出された不活性パージガスは継手部材奥部の内周壁に必ず ぶつかる。するとガス流は乱流状態となって周壁を洗いながし、連絡通路内の全 体を隅々までパージすることが出来る。このとき継手部材奥部の内周壁を傾斜面 にしておくとガス流が撹拌しやすく一層効率的にパージすることが出来るもので ある。   Since the present invention has the above-mentioned configuration, first, the valve chambers of the purge valve and the supply valve are made of metal. There is only a diaphragm, and this diaphragm can be directly contacted with or separated from the valve seat. Since there is no need to cause particles, the valve chamber There is little dead space inside. In addition, the purge valve and the supply valve are oppositely arranged in the same valve box. Since it was installed, it became a compact valve device as a whole.   The feature of the present invention is that it is provided with a thin valve that extends from the outlet passage of the purge valve. That is, the pipe is eccentric to the axis of the joint member. With this configuration In addition, the inert purge gas ejected from the tip of the thin tube must be kept inside the inner wall of the joint member. Hit. Then, the gas flow becomes turbulent and the peripheral walls are washed, and You can purge every corner of your body. At this time, the inner peripheral wall at the back of the joint member is inclined If this is done, the gas flow is easy to stir and can be purged more efficiently. is there.

【0007】[0007]

【実施例】【Example】

以下、本考案の実施例を図面により説明する。 図1及び図2は一実施例を示すガス貯蔵容器用元弁(以下元弁という。)の部 分断面図である。図2は図1のA−A断面図である。 以下元弁の構成について説明すると、まず弁装置1はパージ弁2と供給弁3が 一つの共通する弁箱4の中に対向配置して構成されている。パージ弁2と供給弁 3の弁箱は共通のものであるが、各々独立した弁機能を有している。即ちパージ 弁2において、弁箱4内に略L字状のパージガス導入流路20(図2参照)と略L 字状のパージガス導出流路21を形成し、これらの流路は弁座部22が形成された弁 室23内で連通している。弁座部22には例えばシール性能を高めるためにフッ素系 樹脂からなるシール部材が嵌着されており、この弁座部に対向する位置に金属製 ダイヤフラム24がダイヤフラム押え部材25によって外周を挟着して装置されてい る。前記金属製ダイヤフラム24は外周縁が平面で中央部分が上部に膨出した、い わゆる部分球殻形状を程している。従ってこの膨出した中央部を弁棒26によって 押圧するとある一定の荷重でダイヤフラム24は飛び移り変形をして、直接弁座部 22と当接した着座状態となりパージ弁は閉となる。そして弁棒26を上方に移動す るとダイヤフラム24は自身の弾性復元力で元の状態にもどった離座状態となりパ ージ弁は開となる。 一方供給弁3は上記パージ弁2に対向する弁箱4の面に構成されているが、略 L字状のプロセスガス導入流路30と略L字状のプロセスガス導出流路31は図示の 通り形成され、その他弁座部32,金属製ダイヤフラム34等の構成及び作用は上記 パージ弁2と同様のものなので説明は省略する。以上のようにパージ弁2と供給 弁3は、弁室23及び33内に金属製ダイヤフラム24及び34しか存在せず、極めて簡 素でデッドスペースが少なく、パーティクルの発生源がない構成となっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.   FIG. 1 and FIG. 2 are parts of a main valve for a gas storage container (hereinafter referred to as a main valve) showing an embodiment. FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.   The structure of the main valve will be described below. First, the valve device 1 includes the purge valve 2 and the supply valve 3. It is configured so as to face each other in one common valve box 4. Purge valve 2 and supply valve The three valve boxes are common, but each has an independent valve function. Ie purging In the valve 2, a substantially L-shaped purge gas introduction flow path 20 (see FIG. 2) and a substantially L-shaped valve box 4 are provided. V-shaped purge gas lead-out passages 21 are formed, and these passages are valves provided with valve seat portions 22. It communicates in the room 23. The valve seat portion 22 has, for example, a fluorine-based material to improve sealing performance. A sealing member made of resin is fitted, and a metal member is placed at a position facing the valve seat. The diaphragm 24 is installed with the diaphragm holding member 25 sandwiching the outer periphery. It The metal diaphragm 24 has a flat outer peripheral edge and a central portion that bulges upward. It has a partially spherical shell shape. Therefore, the bulged central portion is When pressed, the diaphragm 24 jumps and deforms under a certain load, and the valve seat portion is directly deformed. The seated state where it abuts 22 and the purge valve is closed. And move valve stem 26 upwards Then, the diaphragm 24 returns to its original state due to its own elastic restoring force, and becomes a seated state. The valve will open.   On the other hand, the supply valve 3 is formed on the surface of the valve box 4 facing the purge valve 2, The L-shaped process gas introduction flow path 30 and the substantially L-shaped process gas discharge flow path 31 are illustrated. The valve seat portion 32, the metal diaphragm 34, etc. are configured and function as described above. Since it is the same as the purge valve 2, the description is omitted. Supply with purge valve 2 as described above The valve 3 has only metal diaphragms 24 and 34 in the valve chambers 23 and 33 and is extremely simple. It has a bare structure with little dead space and no particle generation source.

【0008】 継手部材5は、パージガス導出流路21とプロセスガス導入流路30が開口した弁 箱4の一端側面に溶接手段で固着されており、前記2つの流路を連通するように 、内部は中空の連絡通路8が形成されている。連絡通路の他端はテーパ状の傾斜 壁面9が形成され、その先端はガス貯蔵容器(図示せず)に通ずる入口孔10とな っている。外端部に形成された接続部6はガス貯蔵容器との接続用で、ボール軸 受17とナット部材7が係止するつば部19を有している。従って、ガス貯蔵容器を 接続する際は点線で示したように、ナット部材7を前進させ、内周面に設けため ねじ13を容器側の接続おねじと螺合して接続するものである。 細管14はステンレス製でパージガス導出流路21の先端に溶接手段によって固着 されている。細管14の先端噴出口15は連絡通路端の傾斜壁面9の近くまで延出し ている。そして細管14の軸心12は継手部材5の軸心よりもC寸法だけ偏心してお り、噴出口15から噴出されるパージガスは必ず連絡通路の壁面にぶつかる構成に なっている。細管の偏心は少なくとも噴出口を含む先端部分で達成されておれば よく、従って細管は必ずしも直管ではなく途中から曲がっているような形状でも よい。[0008]   The joint member 5 is a valve in which the purge gas outlet passage 21 and the process gas inlet passage 30 are open. It is fixed to one end side surface of the box 4 by welding means so that the two flow paths are communicated with each other. A hollow communication passage 8 is formed inside. The other end of the communication passage is tapered A wall surface 9 is formed, the tip of which forms an inlet hole 10 that leads to a gas storage container (not shown). ing. The connecting portion 6 formed on the outer end is for connecting with a gas storage container, It has a collar portion 19 with which the bridge 17 and the nut member 7 are locked. Therefore, the gas storage container When connecting, as shown by the dotted line, the nut member 7 is moved forward and provided on the inner peripheral surface. The screw 13 is screwed into a male connection screw on the container side for connection.   The thin tube 14 is made of stainless steel and is fixed to the tip of the purge gas outlet channel 21 by welding means. Has been done. The tip end ejection port 15 of the thin tube 14 extends close to the inclined wall surface 9 at the end of the communication passage. ing. The axis 12 of the thin tube 14 is eccentric from the axis of the joint member 5 by the dimension C. Therefore, the purge gas spouted from the spout 15 must hit the wall of the communication passage. Has become. If the eccentricity of the thin tube is achieved at least at the tip including the ejection port Well, therefore, the thin tube is not necessarily a straight tube, but a shape that bends from the middle Good.

【0009】 次にこのガス貯蔵用元弁の作用について説明する。 まずガス貯蔵容器に、この元弁を前記接続部をナット部材7を用いて接続する 。その後、不活性ガス例えばN2ガスを用いてガス貯蔵容器の接続部分を含む根元 部分まで全てをパージ処理する。配管系の全てをパージすることがガス純度を左 右する重要な要因であることは上述した通りである。まずガス貯蔵容器自身に装 置された弁を閉じ、パージ弁2及び供給弁3を開として、パージ弁のパージガス 導入流路20からN2ガスを導入し、パージガス導出流路21,細管内の流路16を経由 して噴出口15からN2ガスを噴出させると共に、N2ガスを傾斜壁面9にぶつけて、 実線矢印で示すように連絡通路8内を撹拌するように、いわば乱流状態として通 路の周壁を含む全体をパージするものである。そしてN2ガスは供給弁の導入流路 30及び導出流路31を通って、続く配管系を従来通りパージ処理するものである。 その後、容器内のプロセスガスを流す場合は、パージ弁2を閉とし、供給弁3を 開として、容器に装置された弁を開として、点線矢印で示すように、連絡通路8 ,プロセスガス導入流路30,プロセスガス導出流路31を経由して後続配管に供給 される。 以上説明のとおり、本実施例によって、パーティクルの発生がなく、パージ処 理が完全にかつ効率的に行える。またその他に、例えば継手部材を組付けた後で は電解研磨のための電極棒が入口孔10から挿入できなかったが、細管を偏心して 設けたので電極棒が挿入しやすくなるという効果がある。Next, the operation of the main valve for gas storage will be described. First, the main valve is connected to the gas storage container using the nut member 7 at the connecting portion. After that, an inert gas such as N 2 gas is used to perform a purge process to the root portion including the connection portion of the gas storage container. As described above, purging the entire piping system is an important factor affecting the gas purity. First, the valve installed in the gas storage container itself is closed, the purge valve 2 and the supply valve 3 are opened, N 2 gas is introduced from the purge gas introduction flow passage 20 of the purge valve, and the purge gas discharge flow passage 21 and the flow in the narrow tube are introduced. via the road 16 from the ejection port 15 with jetting N 2 gas, bumping N 2 gas to the inclined wall 9, so as to stir the inside communication passage 8 as shown by the solid line arrows, so to speak as a turbulent state The entire part including the peripheral wall of the passage is purged. Then, the N 2 gas passes through the introduction flow path 30 and the discharge flow path 31 of the supply valve, and the subsequent piping system is purged as usual. After that, when the process gas in the container is allowed to flow, the purge valve 2 is closed, the supply valve 3 is opened, the valve installed in the container is opened, and as shown by a dotted arrow, the communication passage 8 and the process gas introduction It is supplied to the subsequent piping via the flow path 30 and the process gas outlet flow path 31. As described above, according to the present embodiment, the generation of particles is prevented and the purging process can be performed completely and efficiently. In addition, for example, the electrode rod for electrolytic polishing could not be inserted from the inlet hole 10 after the joint member was assembled, but since the thin tube is eccentrically provided, the electrode rod can be easily inserted.

【0010】[0010]

【考案の効果】[Effect of device]

本考案によれば、パーティクルの発生がなく、デッドスペースの少ない弁構造 であって、貯蔵容器の根元部分の奥深い場所まで完全にかつ効率的にパージ処理 ができる。   According to the present invention, a valve structure that does not generate particles and has a small dead space It is also possible to completely and efficiently purge deep inside the root of the storage container. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本考案の実施例を示すガス貯蔵容器用元弁の
要部断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of an essential part of a main valve for a gas storage container showing an embodiment of the present invention.

【図2】 図1のA−A断面を示す要部断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing an AA cross section of FIG.

【図3】 従来例の容器用元弁を示す部分断面図であ
る。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a conventional container main valve.

【図4】 他の従来例の分析弁を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing another conventional analysis valve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…弁装置 2…パージ弁 3…供給弁 4…弁箱 5…継手部材 6…接続部 7…ナット部材 8…連絡通路 9…傾斜壁 11…継手部材の軸心 12…細管の軸心 14…細管 20…パージガス導入流路 21…パージガス導出流路 22…弁座部 24…金属製ダイヤフラム 30…プロセスガス導入流路 31…プロセスガス導出流路 32…弁座部 34…金属製ダイヤフラム 1 ... Valve device 2 ... Purge valve 3 ... Supply valve 4 ... Valve box 5: Joint member 6 ... Connection part 7 ... Nut member 8 ... Communication passage 9 ... Inclined wall 11 ... Shaft center of joint member 12 ... Capillary axis 14 ... narrow tube 20 ... Purge gas introduction channel 21 ... Purge gas outlet channel 22 ... Valve seat 24 ... Metal diaphragm 30 ... Process gas introduction flow path 31 ... Process gas outlet channel 32 ... Valve seat 34 ... Metal diaphragm

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 パージガス導入流路と、パージガス導出
流路とを弁座部を介して連通し、前記弁座部に直接、着
座あるいは離座をする金属製のダイヤフラムを有するパ
ージ弁と、プロセスガス導入流路と、プロセスガス導出
流路とを弁座部を介して連通し、前記弁座部に直接、着
座あるいは離座をする金属製のダイヤフラムを有する供
給弁とを共通の弁箱に備えた弁装置と、 内部に中空の連絡通路を有し、一端にガス貯蔵容器との
接続部を備え、他端は前記パージ弁のパージガス導出流
路と前記供給弁のプロセスガス導入流路とを通づるよう
に前記弁箱に形成した継手部材と、 前記継手部材の連絡通路内で、この連絡通路の中心軸に
対して偏心して前記パージ弁のパージガス導出流路から
延出して設けた細管と、 前記継手部材の外側に位置し、前記継手部材の接続部を
介して、ガス貯蔵容器に接続することを特徴とするガス
貯蔵容器用元弁。
1. A purge valve having a metal diaphragm, which communicates a purge gas introduction flow path and a purge gas discharge flow path through a valve seat portion, and which is directly seated on or separated from the valve seat portion, and a process. A gas inlet passage and a process gas outlet passage are connected to each other through a valve seat portion, and a supply valve having a metal diaphragm that seats or separates directly on the valve seat portion forms a common valve box. A valve device having the same, a hollow communication passage inside, a gas storage container connection portion at one end, and a purge gas outlet passage of the purge valve and a process gas introduction passage of the supply valve at the other end. A coupling member formed in the valve box so as to pass through, and a thin tube provided in the communication passage of the coupling member and extending eccentrically from the central axis of the communication passage and extending from the purge gas outlet passage of the purge valve. And located outside the fitting member A main valve for a gas storage container, which is connected to the gas storage container via a connecting portion of the joint member.
【請求項2】 前記細管の先端と対向する前記連絡通路
の内周壁を傾斜して形成したことを特徴とする請求項1
記載のガス貯蔵容器用元弁。
2. The inner peripheral wall of the communication passage facing the tip of the thin tube is formed to be inclined.
The original valve for the gas storage container described.
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