JPH0560197B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0560197B2
JPH0560197B2 JP9782682A JP9782682A JPH0560197B2 JP H0560197 B2 JPH0560197 B2 JP H0560197B2 JP 9782682 A JP9782682 A JP 9782682A JP 9782682 A JP9782682 A JP 9782682A JP H0560197 B2 JPH0560197 B2 JP H0560197B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
signal
data
output
signals
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP9782682A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS58215797A (en
Inventor
Koji Shinoda
Kikuo Sakai
Shinko Ogata
Yoshiaki Oonishi
Hiroshi Kawamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Microcomputer System Ltd, Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Microcomputer System Ltd
Priority to JP57097826A priority Critical patent/JPS58215797A/en
Priority to FR838308194A priority patent/FR2528613B1/en
Priority to GB08315593A priority patent/GB2123640B/en
Priority to GB08600841A priority patent/GB2168213B/en
Priority to IT21520/83A priority patent/IT1218349B/en
Priority to DE3320673A priority patent/DE3320673A1/en
Priority to US06/502,636 priority patent/US4604749A/en
Publication of JPS58215797A publication Critical patent/JPS58215797A/en
Priority to GB8519908A priority patent/GB2162397A/en
Priority to GB8519909A priority patent/GB2162398B/en
Priority to GB08519907A priority patent/GB2163313B/en
Priority to US06/820,523 priority patent/US4839860A/en
Priority to MYPI87001787A priority patent/MY100601A/en
Priority to SG882/87A priority patent/SG88287G/en
Priority to SG87787A priority patent/SG87787G/en
Priority to SG87087A priority patent/SG87087G/en
Priority to SG87587A priority patent/SG87587G/en
Priority to HK13/88A priority patent/HK1388A/en
Priority to HK14/88A priority patent/HK1488A/en
Priority to HK10/88A priority patent/HK1088A/en
Priority to HK12/88A priority patent/HK1288A/en
Publication of JPH0560197B2 publication Critical patent/JPH0560197B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F11/00Error detection; Error correction; Monitoring
    • G06F11/07Responding to the occurrence of a fault, e.g. fault tolerance
    • G06F11/08Error detection or correction by redundancy in data representation, e.g. by using checking codes
    • G06F11/10Adding special bits or symbols to the coded information, e.g. parity check, casting out 9's or 11's
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F11/00Error detection; Error correction; Monitoring
    • G06F11/07Responding to the occurrence of a fault, e.g. fault tolerance
    • G06F11/08Error detection or correction by redundancy in data representation, e.g. by using checking codes
    • G06F11/10Adding special bits or symbols to the coded information, e.g. parity check, casting out 9's or 11's
    • G06F11/1008Adding special bits or symbols to the coded information, e.g. parity check, casting out 9's or 11's in individual solid state devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Detection And Correction Of Errors (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、半導体記憶装置に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a semiconductor memory device.

従来より、情報理論の1つとして、誤り訂正コ
ード(Error Correcting Code)を用いてデータ
の誤まりを訂正する回路(以下、ECC回路と称
する)が公知である。
2. Description of the Related Art Conventionally, as part of information theory, a circuit (hereinafter referred to as an ECC circuit) that corrects errors in data using an error correcting code has been known.

本願発明者は、この発に先き立つて1チツプの
半導体記憶装置にECC回路を内蔵させて、欠陥
メモリセルを救済して、その歩留の向上を図るこ
とを考えた。この場合、1ビツト誤り訂正機能を
持つECC回路では、例えば、8ビツトのデータ
に対して4ビツトのパリテイが必要になり、32ビ
ツトのデータに対して6ビツトのパリテイが必要
になり、100ビツトのデータに対して8ビツトの
パリテイが必要になる。このように、データのビ
ツト数が少ないとパリテイビツト数の全体に占め
る割合が多くなつてメモリアレイの、実質的な記
憶容量が小さくなつてしまう。一方、データビツ
ト数を多くすると、データ出力のために多数の外
部端子が必要になるので、半導体記憶装置では、
上記ECC回路を内蔵させることが不可能になる。
Prior to this development, the inventor of the present application considered incorporating an ECC circuit into a one-chip semiconductor memory device to relieve defective memory cells and improve the yield thereof. In this case, an ECC circuit with a 1-bit error correction function requires, for example, 4 bits of parity for 8 bits of data, 6 bits of parity for 32 bits of data, and 100 bits of parity. 8-bit parity is required for the data. As described above, when the number of data bits is small, the ratio of parity bits to the total number becomes large, and the actual storage capacity of the memory array becomes small. On the other hand, increasing the number of data bits requires a large number of external terminals for data output, so in semiconductor memory devices,
It becomes impossible to incorporate the above ECC circuit.

したがつて、この発明の目的は、実質的な記憶
容量を大きくしつつ、外部端子数を少なくした
ECC回路内蔵の半導体記憶装置を提供すること
にある。
Therefore, an object of the present invention is to reduce the number of external terminals while increasing the actual storage capacity.
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device with a built-in ECC circuit.

この発明の他の目的は、以下の説明及び図面か
ら明らかになるであろう。
Other objects of the invention will become apparent from the following description and drawings.

以下、この発明を実施例とともに詳細に説明す
る。
Hereinafter, this invention will be explained in detail together with examples.

第1A図には、この発明をマスク型ROMに適
用した場合の一実施例のブロツク図が示されてい
る。
FIG. 1A shows a block diagram of an embodiment in which the present invention is applied to a mask type ROM.

同図では、特に制限されないが、約1メガビツ
トのメモリセルをそれぞれ512列(ロウ)×608行
(カラム)=311296ビツトの記憶容量を持つメモリ
アレイ(M−ARY1ないしM−ARY4)に分けて
配置したマスク型ROMの回路構成図を示してい
る。この図における主要なブロツクは、実際の幾
何学的配置に合せて描かれている。また、各ブロ
ツクは、それぞれ公知の半導体集積回路技術によ
つて1個の半導体基板上に形成されたMOSFET
により構成されている。
In the figure, although not particularly limited, memory cells of approximately 1 megabit are arranged in memory arrays (M-ARY 1 to M-ARY 4 ) each having a storage capacity of 512 columns (rows) x 608 rows (columns) = 311,296 bits. A circuit configuration diagram of a mask-type ROM arranged separately is shown. The main blocks in this figure are drawn according to their actual geometry. In addition, each block is a MOSFET formed on a single semiconductor substrate using known semiconductor integrated circuit technology.
It is made up of.

各メモリアレイM−ARY1ないしM−ARY4
は、ダイナミツク型回路により構成され、読出し
基準電圧を形成するためのダミーアレイを含んで
いる。
Each memory array M-ARY 1 to M-ARY 4
is constituted by a dynamic circuit and includes a dummy array for forming a read reference voltage.

外部からのアドレス信号A0ないしA16を受ける
アドレスバツフアADBは、スタテイツク型回路
により構成され、一方において、アドレスデコー
ダに伝える内部相補アドレス信号a00ないし
a1616を形成する。なお、特に制限されないが
外部からのチツプ選択信号により、上記アド
レス信号A0ないしA16の受け付けが行なわれる。
The address buffer ADB, which receives address signals A 0 to A 16 from the outside, is constituted by a static type circuit, and on the other hand, internal complementary address signals A 0 , 0 to A 16 that are transmitted to the address decoder.
Form a 16 , 16 . It should be noted that, although not particularly limited, the address signals A0 to A16 are accepted by an external chip selection signal.

上記相補アドレス信号a00ないしa1616
うち、アドレス信号a00ないしa99がXデコ
ーダDCR1,DCR2に伝えられる。また、残りの
アドレス信号a1010ないしa1616がYデコー
ダY1DCR,Y2DCRに伝えられる。
Among the complementary address signals a0,0 to a16,16 , address signals a0,0 to a9,9 are transmitted to the X decoders DCR1 , DCR2 . Further, the remaining address signals a 10 , 10 to a 16 , 16 are transmitted to the Y decoders Y 1 DCR and Y 2 DCR.

特に制限されないが、上記アドレスデコーダ
XDCR1ないしY2DCRは、スタテイツク型回路に
より構成されている。
Although not particularly limited, the above address decoder
XDCR 1 to Y 2 DCR are constituted by static type circuits.

上記メモリアレイM−ARY1ないしM−ARY4
のロウ系アドレス選択線(ワード線)には、上記
アドレス信号a00ないしa99を受けるXアド
レスデコーダ(兼ワード線ドライバ)XDCR1
XDCR2で形成された210=1024通りのワード線選
択信号が印加される。このうち、XDCR1で形成
される512通りのワード線選択信号は、左側のメ
モリアレイM−ARY1,M−ARY2における512
本のワード線W9〜W511にそれぞれ印加される。
一方、XDCR2で形成される残り512通りのワード
線選択信号は、右側のメモリアレイM−ARY3
M−ARY4における512本のワード線W512〜W1023
それぞれ印加される。
The above memory array M-ARY 1 to M-ARY 4
The row-related address selection lines (word lines) include X address decoders (also word line drivers) XDCR 1 , which receive the address signals a 0 , 0 to a 9 , 9 .
2 10 =1024 word line selection signals formed by XDCR 2 are applied. Among these, the 512 word line selection signals formed by XDCR 1 are the 512 word line selection signals formed by XDCR 1 ,
The signal is applied to word lines W 9 to W 511 of the book, respectively.
On the other hand, the remaining 512 word line selection signals formed by XDCR 2 are sent to the right memory array M-ARY 3 ,
512 word lines W 512 to W 1023 in M-ARY 4
are applied respectively.

また、上記XDCR1,XDCR2は、最上位ビツト
のアドレス信号a99に基づいて、上記左側のメ
モリアレイM−ARY1,M−ARY2のメモリセル
を選ぶときには、右側のダミーアレイを選び、逆
に右側のメモリアレイM−ARY3,M−ARY4
メモリセルを選ぶときには、左端のダミーアレイ
を選ぶダミーワード線選択信号も形成する。
Furthermore, when selecting the memory cells of the left memory arrays M-ARY 1 and M-ARY 2 based on the address signals a 9 and 9 of the most significant bits, the XDCR 1 and XDCR 2 select the dummy arrays on the right. Conversely, when selecting the memory cells of the right side memory arrays M-ARY 3 and M-ARY 4 , a dummy word line selection signal for selecting the leftmost dummy array is also generated.

Y1デコーダY1DCRは、残りのアドレス信号の
うち5ビツのアドレス信号a1010ないしa14
a14を受けて、32通りのデコード出力信号を形成
する。上述のように各メモリアレイM−ARY1
いしM−ARY4は、それぞれ608行あることより、
1つのデコード出力信号によつて同時に19本の行
が選択されるように、カラムスイツチCW1ない
しCW4を制御する。これにより、カラムスイツ
チCW1,CW2は、左側のメモリアレイM−
ARY1,M−ARY2における合計38個のメモリセ
ル(又はダミーセル)からの信号を伝え、カラム
スイツチCW3,CW4は、右側のメモリアレイM
−ARY3,M−ARY4における合計38個のダミー
セル(又メモリセル)からの信号を伝える。
The Y 1 decoder Y 1 DCR outputs 5-bit address signals a 10 , 10 to a 14 , among the remaining address signals.
a 14 to form 32 decoded output signals. As mentioned above, since each memory array M-ARY 1 to M-ARY 4 has 608 rows,
Column switches CW 1 to CW 4 are controlled so that 19 rows are simultaneously selected by one decode output signal. As a result, the column switches CW 1 and CW 2 switch the left memory array M-
Column switches CW 3 and CW 4 transmit signals from a total of 38 memory cells (or dummy cells) in ARY 1 and M-ARY 2.
-Transmits signals from a total of 38 dummy cells (or memory cells) in ARY 3 and M-ARY 4 .

上記カラムスイツチCW1ないしCW4からの信
号を受けるセンスアンプSAは、合計38個のダイ
ナミツク型差動増幅回路により構成されている。
The sense amplifier SA receiving signals from the column switches CW 1 to CW 4 is composed of a total of 38 dynamic differential amplifier circuits.

上記ワード線選択により、例えば左側のメモリ
アレイから情報の読出しを行なう時には、上記差
動増幅回路は、右側のメモリアレイのダミーセル
からの読出基準電と、左側のメモリアレイのメモ
リセルからの信号を受け、その信号が“1”か
“0”かの判定を行なう。
By selecting the word line, for example, when reading information from the left memory array, the differential amplifier circuit receives the read reference voltage from the dummy cell of the right memory array and the signal from the memory cell of the left memory array. It receives the signal and determines whether the signal is "1" or "0".

上記ダイナミツク型のROMアレイ及びセンス
アンプの動作に必要なクロツク、例えば、プリチ
ヤージ、デイスチヤージのためのタイミング信号
等を形成するために、上記アドレスバツフア
ADBからのアドレス信号を受けるエツジトリガ
と、タイミング発生回路とが設られている。上記
エツジトリガは、上記アドレス信号a0ないしa14
及びチツプ選択信号のいずれかのレベル変化
を検出して、1つのトリガパルスを形成する。タ
イミング発生回路は、上記トリガパルスを受け
て、メモリアレイ及びセンスアンプSAの読出し
動作に必要な各種タイミング信号を形成する。同
図では、そのうち、メモリアレイ及びセンスアン
プのプリチヤージ及びデイスチヤージを制御する
タイミング信号PCと、ワード線選択タイミング
を規定するタイミング信号φX及びセンスアンプ
SAの活性化タイミングを規定するタイミング信
号φPA1が代表として示されている。
The address buffer is used to form clocks necessary for the operation of the dynamic ROM array and sense amplifier, such as timing signals for precharge and discharge.
An edge trigger that receives address signals from the ADB and a timing generation circuit are provided. The above edge trigger uses the above address signal a 0 to a 14.
A trigger pulse is generated by detecting a level change in either of the chip selection signal and the chip selection signal. The timing generation circuit receives the trigger pulse and forms various timing signals necessary for read operations of the memory array and sense amplifier SA. In the figure, a timing signal PC that controls precharge and discharge of the memory array and sense amplifier, a timing signal φX that defines the word line selection timing, and a sense amplifier
Timing signal φ PA1 that defines the activation timing of SA is shown as a representative.

上記1つのXデコード出力(ワード線選択)信
号と1つのYデコーダ出力(カラム選択)信号と
により定された38個のメモリセルから読み出され
た情報は、上記センスアンプSAを通して同時に
誤まり訂正回路(以下、ECC回路と称する)に
入力され、ここで誤まり訂正が行なわれる。これ
らの38ビツトの読出し情報のうち、32ビツトの情
報がデータ信号とされ、残り6ビツトの情報が冗
長(パリテイ)信号とされている。
The information read from the 38 memory cells determined by the one X decode output (word line selection) signal and one Y decoder output (column selection) signal is simultaneously error-corrected through the sense amplifier SA. The signal is input to a circuit (hereinafter referred to as an ECC circuit), where error correction is performed. Of these 38 bits of read information, 32 bits of information are used as data signals, and the remaining 6 bits of information are used as redundant (parity) signals.

上記のROMは、特に制限されないが、1文字
が32×32ドツトで構成される漢字パターン発生回
路として用いられる。したがつて、上記ROMに
は、1024文字を記憶させることができる。
The above-mentioned ROM is used as a kanji pattern generation circuit in which one character consists of 32×32 dots, although this is not particularly limited. Therefore, the ROM can store 1024 characters.

上記ECC回路は、特に制限されないが、スタ
テイツク型回路により構成されている。したがつ
て、特に制限さないが、上記センスアンプSAに
は、上記ダイナミツク型差動回路の出力信号を受
け、スタテイツクな出力信号を形成するメインア
ンプを兼ねたラツチ回路が設られている。
The ECC circuit described above is constituted by a static type circuit, although it is not particularly limited. Therefore, although not particularly limited, the sense amplifier SA is provided with a latch circuit that also serves as a main amplifier that receives the output signal of the dynamic differential circuit and forms a static output signal.

上記ECC回路によつて誤まり訂正された32ビ
ツトのデータ信号は、マルチプレクサによつて8
ビツトずつ4回にわたつて出力バツフアに伝えら
れ、全ビツトが出力される。このような時割動作
のために、残りのアドレス信号a15,a16の2ビツ
トが用いられる。すなわち、上記アドレス信号
a1515及びa1616を受けるY2デコーダY2DCR
によつて、4通りの制御信号を形成して、れらの
アドレス信号の変化に従つてマルチプレクサから
4回に分けて8ビツトづつ並列に出力させること
ができる。
The 32-bit data signal whose error is corrected by the above ECC circuit is converted into 8 bits by the multiplexer.
Each bit is passed to the output buffer four times, and all bits are output. For such time allocation operations, the remaining two bits of address signals a 15 and a 16 are used. In other words, the above address signal
Y2 decoder Y2 DCR receiving a15,15 and a16,16
Accordingly, four types of control signals can be formed, and 8 bits each can be outputted in parallel from the multiplexer four times in accordance with changes in these address signals.

上記出力バツフアは、スタテイツク型回路によ
り構成され、特に制限されないが、高出力インピ
ーダンス状態を含む3状態出力機能を持つてい
る。
The output buffer is constructed of a static type circuit and has a three-state output function including, but not limited to, a high output impedance state.

以下、上記主要な各回路ブロツクをより具体的
な実施例とともに詳細に説明する。
Each of the above-mentioned main circuit blocks will be explained in detail below along with more specific examples.

第1B図には、上記エツジトリガと、タイミン
グ発生回路の一実施例を示すブロツク図が示され
ている。
FIG. 1B is a block diagram showing one embodiment of the edge trigger and timing generation circuit.

上記アドレスバツフアADBからのアドレス信
号a0ないしa14は、遅延回路Delay0ないしDelay14
に入力され、その出力に遅延回路a0′ないしa14′が
形成される。そして、上記遅延回路Delay0ない
しDelay14の入力信号a0ないしa14と、その遅延出
力信号a0′ないしa14′とは、それぞれ排他的論和回
路EX0ないしEX14に入力される。上記排他的論
理和回路EX0ないしEX14の出力は、OR回路に伝
えられ、ここでエツジトリガパルスφapdが形成さ
れる。
Address signals a 0 to a 14 from the address buffer ADB mentioned above are sent to delay circuits Delay 0 to Delay 14.
, and delay circuits a 0 ′ to a 14 ′ are formed at its output. Input signals a 0 to a 14 of the delay circuits Delay 0 to Delay 14 and their delayed output signals a 0 ′ to a 14 ′ are input to exclusive OR circuits EX 0 to EX 14 , respectively. The outputs of the exclusive OR circuits EX 0 to EX 14 are transmitted to an OR circuit, where an edge trigger pulse φ apd is formed.

上記排他的論理和回路EX0は、第1C図に示す
ように、アドレス信号a0が変化したときに、その
入力信号a0,a0′において、遅延時間に両者のレ
ベル不一致が生じるので、その出力に遅延時間に
見合つたパルス幅のパルスを形成する。したがつ
て、上記OR回路からは、上記アドレス信号a0
いしa14のうち、いずれかが変化したときに、エ
ツジトリガパルスφapdが出力されることになる。
As shown in FIG. 1C, in the exclusive OR circuit EX 0 , when the address signal a 0 changes, a level mismatch occurs between the input signals a 0 and a 0 ' in the delay time. A pulse with a pulse width commensurate with the delay time is formed in the output. Therefore, the edge trigger pulse φ apd is output from the OR circuit when any one of the address signals a 0 to a 14 changes.

上記アドレス信号A0〜A14のいずれかが、いつ
変化しても上記エツジトリガパルスφapdが形成さ
れるようにするために、言い換えるならばアドレ
ス信号A0〜A14が非同期的に変化しても、上記エ
ツジトリガパルスφapdが形成されるようにするた
めに、上記アドレスバツフア回路ADBは、スタ
テイツク型回路で構成されている。特に制限され
ないが、この実施例では、pチヤンネル型
MOSFETとNチヤンネル型MOSFETで構成さ
れたCMOS(相補型MOS)回路でアドレスバツフ
ア回路が構成されている。CMOS回路で構成さ
れたスタテイツク型のアドレスバツフア回路の一
実施例を第1E図に示す。同図には、アドレス信
号A0を受けて、相補的なアドレス信号a00
形成する部分のみが示されているが、他のアドレ
ス信号に対しても同様な回路が設けられている。
In other words, the address signals A 0 to A 14 are changed asynchronously so that the edge trigger pulse φ apd is generated whenever any of the address signals A 0 to A 14 changes. However, in order to generate the edge trigger pulse φ apd , the address buffer circuit ADB is constructed of a static type circuit. Although not particularly limited, in this embodiment, a p-channel type
The address buffer circuit is composed of a CMOS (complementary MOS) circuit composed of a MOSFET and an N-channel MOSFET. An embodiment of a static address buffer circuit constructed from a CMOS circuit is shown in FIG. 1E. The figure only shows the part that receives address signal A 0 and forms complementary address signals a 0 , 0 , but similar circuits are provided for other address signals as well. .

なお、以下の説明では、図面を簡単にするため
に、回路記号は、第2B図に示すような使い方を
する。すなわち、第2B図において、Pの添字を
付した回路記号がPチヤンネル型MOSFETを、
Nの添字を付した回路記号がNチヤンネル型
MOSFETを、そしてX印をした回路記号が、高
しきい値電圧で、常にオフ状態となるNチヤンネ
ル型MOSFETをそれぞれ示している。例えば、
第1E図において、Q100はPチヤンネル型
MOSFETをしており、Q100はNチヤンネル型
MOSFETを示している。
In the following description, in order to simplify the drawings, circuit symbols will be used as shown in FIG. 2B. That is, in FIG. 2B, the circuit symbol with the suffix P indicates a P channel type MOSFET,
The circuit symbol with the subscript N is the N channel type.
The MOSFET and the circuit symbol with an X mark indicate an N-channel MOSFET that has a high threshold voltage and is always in an off state. for example,
In Figure 1E, Q 100 is P channel type
It uses MOSFET, and Q100 is N-channel type.
Shows MOSFET.

従つて、アドレス信号A0に対するアドレスバ
ツフア回路は、Pチヤンネル型MOSFETQ100
いしQ107とNチヤンネル型MOSFETQ103ないし
Q115によつて構成されている。
Therefore, the address buffer circuit for address signal A 0 consists of P-channel MOSFETs Q 100 to Q 107 and N-channel MOSFETs Q 103 to Q 107.
It is composed of Q 115 .

また、上記アドレスバツフア回路と同様に上記
排他論理和回路及び上記OR回路も、ステイツク
型回路で構成されている。
Further, like the address buffer circuit, the exclusive OR circuit and the OR circuit are also comprised of stake type circuits.

特に制限されないが上記OR回路は、第1F図
に示されているようなCMOS回路によつて構成
されている。すなわち、MOSFETQ116ないし
Q129によつてスタテイツク型のOR回路が構成さ
れている。
Although not particularly limited, the above-mentioned OR circuit is constituted by a CMOS circuit as shown in FIG. 1F. i.e. MOSFETQ 116 or
A static type OR circuit is constructed by Q129 .

第1B図に示されているタイミング発生回路
は、スタテイツク型回路によつて構成された2つ
のパルス幅伸長回路と、内部タイミング信号発生
回路とからなり、上記エツジトリガパルスφapd
受けて、このROMを動作させるのに必要な各種
タイミング信号を形成する。同図においては、説
明を簡単にするために、ROMを動作させるのに
主要なタイミング信号のみが示されている。ま
た、第1D図に上記主要なタイミング信号のう
ち、タイミング信号φXS,φPCS,φX,φPC,φPA1
φPA2,φla,φS及びφHZの波形が示されている。同
図においては、図面を簡単にするために、プリチ
ヤージ信号PC及びタイミング信号Sは、省略さ
れているが、これらのタイミング信号PCSは、
上記タイミング信号φPC,φSがそれぞれ位相反転
された信号である。
The timing generation circuit shown in FIG. 1B consists of two pulse width expansion circuits constructed of static type circuits and an internal timing signal generation circuit . Forms various timing signals necessary to operate the ROM. In the figure, only the main timing signals for operating the ROM are shown to simplify the explanation. In addition, among the main timing signals mentioned above, timing signals φ XS , φ PCS , φ X , φ PC , φ PA1 ,
The waveforms of φ PA2 , φ la , φ S and φ HZ are shown. In the figure, the precharge signal PC and timing signal S are omitted to simplify the drawing, but these timing signals PC and S are
The timing signals φ PC and φ S are signals whose phases are inverted, respectively.

上記2つのパパルス幅伸長回路のうち、一方の
パルス伸長回路は、プリチヤージパルスPCと、
それに対して位相反転されたタイミング信号φPC
及び、上記内部タイミング信号発生回路から、上
記各種タイミング信号を発生させるためには必要
な基準信号φPCSを形成する。この基準信号φPCS
は、このパルス幅伸長回路によつて上記エツジト
リガパルスφapdのパルス幅が伸長された信号であ
つて、ある所定のパルス幅に調整されている。ま
た上記タイミング信号φPCは、上記基準信号φPCS
の立下りに同期して、立下る信号である。従つ
て、上記プリチヤージ信号PCは、上記基準信号
φPCSの立下りに同期して立上ることになる。上述
したメモリアレイのデータ線のプリチヤージ及び
センスアンプのプリチヤージは、上記プリチヤー
ジ信号PCがロウレベルのときに行なわれる。従
つて、プリチヤージの時間は、上記エツジトリガ
パルスφapdのパルス幅を伸長させることにより形
成された上記信号によつて規定されることにな
る。このパルス幅伸長動作は、例えば遅延回路
と、論理ゲート回路との組合せにより実現できる
ものである。
Among the two pulse width expansion circuits mentioned above, one pulse expansion circuit has a precharge pulse PC ,
The timing signal φ PC whose phase is inverted with respect to it
A reference signal φ PCS necessary for generating the various timing signals described above is generated from the internal timing signal generation circuit. This reference signal φ PCS
is a signal in which the pulse width of the edge trigger pulse φ apd is expanded by this pulse width expansion circuit, and is adjusted to a certain predetermined pulse width. In addition, the timing signal φ PC is the reference signal φ PCS .
This is a signal that falls in synchronization with the fall of . Therefore, the precharge signal PC rises in synchronization with the fall of the reference signal φ PCS . The precharging of the data lines of the memory array and the precharging of the sense amplifiers described above are performed when the precharge signal PC is at a low level. Therefore, the precharge time is defined by the signal formed by extending the pulse width of the edge trigger pulse φ apd . This pulse width expansion operation can be realized, for example, by a combination of a delay circuit and a logic gate circuit.

他方のパルス幅伸長回路は、ワード線選択タイ
ミング信号φXと、上記基準信号φPCSと同様に、内
部タイミング信号発生回路から上述した各種タイ
ミング信号を発生させるために必要な基準信号
φXSを形成する。この基準信号φXSは、上記基準信
号φPCSと同様に、上記エツジトリガパルスφapd
パルス幅を伸長させて形成された信号であつて、
そのパル幅は、ワード線をメモリセルの選択レベ
ルに立上げるのに要する時間に調整される。
The other pulse width expansion circuit forms a word line selection timing signal φ X and a reference signal φ do. This reference signal φ
The pulse width is adjusted to the time required to raise the word line to the memory cell selection level.

内部タイミング信号発生回路は、上述した2つ
の基準信号φPCSとφXSとを受けて、第1D図に示
すタイミング信号φS,φPA1,φPA2,φla及びφHZ
を形成する。これらのタイミング信号は、以下の
説明において使われるので、これらのタイミング
信号の働きは、後の説明で明確になる。
The internal timing signal generation circuit receives the two reference signals φ PCS and φ These timing signals will be used in the following description, so the function of these timing signals will become clear later in the description.

このように、ROMを動作させるのに重要なタ
イミング信号を別々のパルス幅伸長回路で形成す
るようにしたことにより、重要なタイミング信号
の設定を別々行なうことができ、設計が容易にな
るとともに以下に述べるような利点がある。
In this way, by forming the timing signals important for operating the ROM in separate pulse width expansion circuits, it is possible to set the important timing signals separately, which simplifies the design and improves the following: There are advantages as described in .

すなわち、別々のパルス幅伸長回路からプリチ
ヤージ期間を規定している基準信号φPCSと、ワー
ド線をメモリセルの選択レベルにするために必要
な時間を規定している基準信号φXSとが内部タイ
ミング信号発生回路に供給されるため、この2つ
の基準信号をもとに読み出しタイミングを決めれ
ば、誤動作することなく、常に正確な読み出しを
行なうことができる。つまり、上記2つの基準信
号のうち、立ち下りの遅い方の基準信号にもとず
いて、読み出し動作に必要なタイミング信号、例
えば、センスアンプを活性化させるタイミング信
号φPA1の発生タイミングを決めるようにすれば、
タイミング信号φPA1が、発生される時点には、プ
リチヤージが終わつており、しかもワード線は、
メモリセルの選択レベルまで立ち上つていること
になる。従つて、この時点で、センスアンプを動
作させれば、所望のメモリセルから正確な情報を
読み出すことができる。しかも、どちらの基準信
号が遅く立ち下がつたかは、比較的簡単な論理回
路により検出することができる。
In other words, the reference signal φ PCS , which specifies the precharge period from separate pulse width expansion circuits, and the reference signal φ Since the signal is supplied to the signal generation circuit, if the read timing is determined based on these two reference signals, accurate readout can always be performed without malfunction. In other words, the generation timing of the timing signal necessary for the read operation, for example, the timing signal φ PA1 for activating the sense amplifier, is determined based on the reference signal that falls slowly between the two reference signals mentioned above. If you do that,
By the time the timing signal φ PA1 is generated, precharging has finished and the word line is
This means that the voltage has risen to the memory cell selection level. Therefore, if the sense amplifier is operated at this point, accurate information can be read from the desired memory cell. Moreover, which reference signal falls later can be detected by a relatively simple logic circuit.

特に制限されないが、この実施例においては、
消費電力を少なくするために、センスアンプを活
性化させるためのタイミング信号φPA1に同期した
タイミング信号φoにより、プリチヤージ信号PC
の立ち下がりが制御されるようになつている。す
なわち、メモリセルからの情報の増幅が終わつた
時点で、データ線及びセンスアンプ等へのプリチ
ヤージが始まるようにされている。例えば、セン
スアンプでメモリセルからの情報を増幅した後、
プリチヤージしないでおくと、選択されなかつた
メモリセルが結合されたデータ線の浮遊容量の電
荷が時間の経過とともにリークされてしまう。こ
の放電されてしまつたデータ線の浮遊容量を再び
プリチヤージするには、比較的大きな電力を要す
る。そのため、この実施例においては、上述した
ようにセンスアンプでメモリセルの情報を増幅し
た後、すぐにデータ線の浮遊容量(寄生容量)を
プリチヤージするようにしている。
Although not particularly limited, in this example,
In order to reduce power consumption, the precharge signal PC is activated by the timing signal φ o synchronized with the timing signal φ PA1 for activating the sense amplifier.
The fall of the current is now controlled. That is, precharging to the data line, sense amplifier, etc. is started at the point when the amplification of information from the memory cell is completed. For example, after amplifying information from a memory cell with a sense amplifier,
If precharging is not performed, the charges in the stray capacitance of the data line connected to unselected memory cells will leak over time. A relatively large amount of power is required to precharge the discharged stray capacitance of the data line again. Therefore, in this embodiment, after the sense amplifier amplifies the information in the memory cell as described above, the stray capacitance (parasitic capacitance) of the data line is immediately precharged.

また、後で詳しくするが、この実施例において
は、ROMの低消費電力化を図るために、メモリ
セルの情報がデータ線に伝達された後、ワード線
のレベルがメモリセルの非選択レベルになるよう
にされている。具体的には、第1B図に示されて
いるように、ワード線選択タイミング信号φXが、
センスアンプを活性化するための信号φPA1によつ
て制御されるゲート回路を介して出力されるよう
にされている。このようにすることにより、セン
スアンプが動作し始めると、全てのワード線のレ
ベルがメモリセルの非選択レベルにされる。
In addition, as will be explained in detail later, in this embodiment, in order to reduce the power consumption of the ROM, after the information of the memory cell is transmitted to the data line, the level of the word line is set to the non-select level of the memory cell. It is meant to be. Specifically, as shown in FIG. 1B, the word line selection timing signal φ
It is configured to be outputted via a gate circuit controlled by a signal φPA1 for activating the sense amplifier. By doing so, when the sense amplifier starts operating, the levels of all word lines are set to the non-selection level of memory cells.

第2A図には、上記メモリアレイ及びセンスア
ンプの具体的一実施例の回路図が示されている。
FIG. 2A shows a circuit diagram of a specific embodiment of the memory array and sense amplifier.

特に制限されないが、この実施例は、第2A図
に示すように、各回路がCMOS回路で構成され
ている。
Although not particularly limited, in this embodiment, each circuit is constituted by a CMOS circuit, as shown in FIG. 2A.

第2A図には、例えばメモリアレイM−
ARY3,M−ARY4のように、センスアンプの右
側に配置されたメモリアレイの具体的回路図が示
されている。したがつて、縦方向にW512ないし
W1023の512本のワード線が形成され、上記のメ
モリアレイM−ARY3,M−ARY4に共通に用い
られる。一方、ブラツクボツクスで示された左側
のメモリアレイに対しては、同様にW0ないし
W511の512本のワード線が形成されている。
FIG. 2A shows, for example, a memory array M-
A specific circuit diagram of a memory array arranged on the right side of the sense amplifier is shown as ARY 3 and M-ARY 4 . Therefore, vertically W 512 or
512 word lines of W 1023 are formed and are commonly used for the above memory arrays M-ARY 3 and M-ARY 4 . On the other hand, for the left memory array indicated by the black box, W 0 to
512 word lines of W 511 are formed.

また、同図において、メモリアレイには、横方
向に接地線Gと、データ線DLが交互に配置され
ている。特に制限されないが、第1番目には接地
線G0が形成され、第2番目はデータ線DL0が形成
されている。以下、同様に接地線G1、データ線
DL1のように接地線とデータ線が交互に配置され
ている。
Further, in the figure, ground lines G and data lines DL are alternately arranged in the horizontal direction in the memory array. Although not particularly limited, the ground line G 0 is formed in the first line, and the data line DL 0 is formed in the second line. Below, similarly, the ground wire G 1 and the data line
As in DL 1 , the ground wire and data wire are arranged alternately.

上記ワード線とデータ線の交差部分にそれぞれ
記憶用MOSFETM0〜M6等が形成される。
Memory MOSFETM 0 to M 6 and the like are formed at the intersections of the word lines and data lines, respectively.

すなわち、上記記憶用MOSFETは、nチヤン
ネル型とされ、そのゲートが対応するワード線に
接続され、そのドレインが対応するデータ線に接
続され、そのソースが対応する接地線に接続され
ている。したがつて、端部の接地線G0を除き、
例えば、1つのデータ線DL0及び接地線G1には、
同一ワード線W512に対してそれぞれ異なる記憶
用MOFETM0,M1及びM1,M2のドレイン及び
ソースが共通に接続されている。特に制限されな
いが、これらの接地線、データ線は、記憶用
MOSFETのソース及びドレインを構成する半導
領域と一体的に形成された半導体領域を利用する
ことによつて、高集積度アレイを実現している。
That is, the storage MOSFET is of an n-channel type, and its gate is connected to a corresponding word line, its drain is connected to a corresponding data line, and its source is connected to a corresponding ground line. Therefore, except for the ground wire G 0 at the end,
For example, for one data line DL 0 and ground line G 1 ,
The drains and sources of different storage MOFETM 0 , M 1 and M 1 , M 2 are commonly connected to the same word line W 512 . Although not particularly limited, these ground wires and data wires may be used for storage purposes.
A highly integrated array is realized by using semiconductor regions that are integrally formed with the semiconductor regions that constitute the source and drain of the MOSFET.

上記データ線DL0ないしDL7の8本が1組とさ
れ、カラムスイツチを構成するpチヤンネル
MOSFETS0ないしS11を通して共通化され、セン
スアンプSA0の一方の入力端子に接続される。上
記カラムスイツチは、4本のデータ線を選択する
MOSFETS8ないしS11と、それぞれについて2本
のデータ線を選択するMOSFETS0ないしS7との
直列回路で構成され、例えばMOSFETS8とS0
オンさせるとデータ線DL0が選ばれる。このよう
に、カラムスイツチは、カラムアドレスのデコー
ド機能を持つている。
The eight data lines DL 0 to DL 7 listed above form a p-channel that constitutes a column switch.
It is shared through MOSFETS 0 to S 11 and connected to one input terminal of sense amplifier SA 0 . The column switch above selects four data lines.
It is composed of a series circuit of MOSFETS 8 to S11 and MOSFETS 0 to S7 that select two data lines for each. For example, when MOSFETS 8 and S0 are turned on, data line DL0 is selected. In this way, the column switch has a column address decoding function.

また、各接地線及びデータ線には、第1B図及
び第1D図で述べたプリチヤージ信号PSを受け
る代表として示されたpチヤンネルMOSFETP0
ないしP8が電源電圧VCCとの間に設けられる。そ
して、代表として示されている各接地線G0ない
しG4にはそれぞれ接地電位との間に、デイスチ
ヤージ用nチヤンネルMOSFETD0ないしD4が設
けられる。これらのMOSFETD0ないしD4等のゲ
ートには、カラムアドレスに従つた1/8の選択信
号φSOないしφS7が上記第1D図に示したタイミン
グ信号φSに同期して印加される。すなわち、タイ
ミング信号φSがハイレベルのときに、1/8の選択
信号S0ないしS7が各デイスチヤージ用Nチヤンネ
ルMOSFETに印加される。これにより、それぞ
れのプリチヤージ/デイスチヤージ群PDSiの内
のそれぞれのデイスチヤージ用MOSFETDnの内
から1つのデイスチヤージ用MOSFETが選ば
れ、オン状態にされ、他のデイスチヤージ用
MOSFETはオフ状態のままにされる。
In addition, each ground line and data line is connected to a p-channel MOSFETP 0 , which is shown as a representative for receiving the precharge signal PS described in FIGS. 1B and 1D.
P8 is provided between the power supply voltage V CC and the power supply voltage V CC . Discharge n-channel MOSFETDs 0 to D4 are provided between each of the representative ground lines G0 to G4 and the ground potential, respectively. 1/8 selection signals φ SO to φ S7 according to the column address are applied to the gates of these MOSFETDs 0 to D 4 in synchronization with the timing signal φ S shown in FIG. 1D. That is, when the timing signal φ S is at a high level, 1/8 selection signals S 0 to S 7 are applied to each discharge N-channel MOSFET. As a result, one discharge MOSFET is selected from among the discharge MOSFETs TDn in each pre-charge/discharge group PDSi and turned on, and the other discharge MOSFETs are turned on.
The MOSFET is left off.

今、データ線DL0を選択して、MOSFETD0
オンさせて接地接G0を選ぶと、記憶用
MOSFETM0の行が選ばれる。上記MOSFETD0
に換えD1をオンさせると、データ線DL0には、記
憶用MOSFETM1の行が選ばれる。
Now, select data line DL 0 , turn on MOSFETD 0 and select ground ground G 0 , then the memory
The row with MOSFETM 0 is selected. Above MOSFETD 0
When D1 is turned on instead, the row of storage MOSFETM1 is selected for data line DL0 .

また、上記データ線DLと対応する接地線との
間には、ダミーセルを構成する2つのMOSFET
が直列形態に設けられる。
In addition, two MOSFETs constituting a dummy cell are connected between the data line DL and the corresponding ground line.
are arranged in series.

すなわち、データ線DL0について見ると、接地
線G0に対してダミーMOSFETDC01,DC02が接
地線G1に対してダミーMOSFETDC03,DC04
それぞれ設けられている。また、高しきい値電圧
のMOSFETが、それぞれのダミーMOSFETに
対して並列に設けられている。
That is, looking at the data line DL 0 , dummy MOSFETs DC 01 and DC 02 are provided for the ground line G 0, and dummy MOSFETs DC 03 and DC 04 are provided for the ground line G 1 , respectively. Further, a high threshold voltage MOSFET is provided in parallel to each dummy MOSFET.

これにより、ワード線に接続されるMOSFET
の数と、ダミーワード線に接続されるMOSFET
との総数を等しくすることができる。このように
することにより、ワード線とダミーワード線との
負荷容量を同じくし、その選択レベルへの立ち上
りを等しくしている。
This allows the MOSFET connected to the word line to
and the number of MOSFETs connected to the dummy word line.
The total number of can be made equal. By doing so, the word line and the dummy word line have the same load capacitance, and the rise to the selection level is made equal.

上記ダミーセルを構成する直列形態の
MOSFETDC01,DC02等は、それぞれ記憶用
MOSFETと同一サイズのMOSFETで構成され
るともに、選択されたときにオン状態になるよう
に形成されている。したがつて、選択されたダミ
ーMOSFETの合成コンダクタンスは、上記選択
されたときにオン状態となる記憶用MOSFETの
コンダクタンスのほぼ1/2となる。
The series form that constitutes the above dummy cell
MOSFETDC 01 , DC 02 , etc. are for memory respectively.
It is composed of a MOSFET of the same size as the MOSFET, and is formed to turn on when selected. Therefore, the combined conductance of the selected dummy MOSFET is approximately 1/2 of the conductance of the storage MOSFET that is turned on when selected.

これに対して選択される記憶用MOSFETにオ
フ状態になるような情報が書き込まれているとき
には、ダミーMOSFETの合成コンダクタンス
が、上記選択された記憶用MOSFETのそれより
も大きな値になる。
On the other hand, when information that causes the selected storage MOSFET to turn off is written, the composite conductance of the dummy MOSFET becomes larger than that of the selected storage MOSFET.

なお、デイスチヤージMOSFETD0ないしD4
は、選択さないデータ線のデイスチヤージを禁止
して、無駄な消費電流が発生することを防止して
いる。これらのMOSFETD0ないしD4等は、それ
がオン状態のときのコンダクタンスがオン状態の
記憶用MOSFETのそれに比べて十分大きくなる
ように、そのサイズが設定される。
Note that the discharge MOSFETDs 0 to D4 and the like prohibit discharge of unselected data lines to prevent wasteful current consumption. The sizes of these MOSFETDs 0 to D4 , etc. are set so that the conductance when they are in the on state is sufficiently larger than that of the storage MOSFET in the on state.

このため、データ線のデイスチヤージ時定数は
ほぼ、記憶用MOSFETと、ダミーMOSFETと
のコンダクタンスに従つて決定される。
Therefore, the discharge time constant of the data line is determined approximately according to the conductance of the storage MOSFET and the dummy MOSFET.

またダミーセルを構成する上記MOSFETは、
記憶用MOSFETと同時に形成することができる
ため、製造工程が増えることは無い。しかも、同
時に形成することにより、例えば製造条件のバラ
ツキ等によつて、記憶用MOSFETの特性、例え
ばコンダクタンスに変化が生じた場合、上記ダミ
ーMOSFETにも同様な特性の変化が生じる。こ
のため、製造条件のバラツキ等に影響されること
なく、ダミーMOSFETの合成コンダクタンスを
選択によりオンする記憶用MOSFETのコンダク
タンスのほぼ1/2にできる。従つて歩留りの高い
メモリを製造することができる。
In addition, the above MOSFET that constitutes the dummy cell is
Since it can be formed at the same time as the memory MOSFET, there is no additional manufacturing process. Moreover, by forming them at the same time, if the characteristics of the storage MOSFET, such as conductance, change due to, for example, variations in manufacturing conditions, a similar change in characteristics occurs in the dummy MOSFET. Therefore, the combined conductance of the dummy MOSFET can be made approximately half the conductance of the storage MOSFET that is selectively turned on, without being affected by variations in manufacturing conditions. Therefore, memories with high yield can be manufactured.

次に、ダミーセルの選択方法について述べる。
ダミーセルの選択には、前述したように、ロウ系
アドレス信号の最上位アドレス信号A9と、前記
選択信号φS0ないしφS7を形成するときに使われた
カラムアドレス信号のうち最下位のアドレス信号
A10が使われる。すなわち、最上位アドレス信号
A9は、左右いずれのメモリアレイからダミーセ
ルを選択するかを決めるのに使われる。そして、
最下位アドレス信号A10は、データ線に対して、
上側のダミーセルを選択するか、上記データ線に
対して、下側のダミーセルを選択するかを決める
ために使われる。なお、この最下位アドレス信号
A10は、上記選択信号φS0〜φS7において、データ
線に対して、上側の接地線に結合されたデイスチ
ヤージ用MOSFETをオン状態にするか、上記デ
ータ線に対して、下側の接地線に結合されたデイ
スチヤージ用MOSFETをオン状態にするかを決
めているアドレス信号である。
Next, a method for selecting dummy cells will be described.
To select a dummy cell, as described above, the most significant address signal A9 of the row-related address signals and the lowest address signal of the column address signals used when forming the selection signals φ S0 to φ S7 are used.
A 10 is used. That is, the highest address signal
A9 is used to determine which dummy cell is selected from the left or right memory array. and,
The lowest address signal A10 is for the data line.
It is used to decide whether to select the upper dummy cell or the lower dummy cell relative to the data line. Note that this lowest address signal
A10 is used to turn on the discharge MOSFET connected to the upper ground line with respect to the data line, or to turn on the discharge MOSFET connected to the lower ground line with respect to the data line in the selection signals φ S0 to φ S7 . This is an address signal that determines whether to turn on the discharge MOSFET coupled to the

実際には、上記2つのアドレス信号とワード線
選択タイミング信号φXとをデコードすることに
より、4種類のダミーワード線駆動信号φa0
φa1a0a1を形成する。そして、例えば、右
側のメモリアレイからメモリセルの情報をセンス
アンプに取り出す際には、左側のメモリアレイか
ら対応するダミーセルを上記駆動信号によつて選
び、基準電圧を上記センスアンプに供給するよう
にする。
Actually, by decoding the above two address signals and the word line selection timing signal φ X , four types of dummy word line drive signals φ a0 ,
Form φ a1 , a0 , a1 . For example, when extracting memory cell information from the right memory array to the sense amplifier, a corresponding dummy cell is selected from the left memory array using the drive signal, and a reference voltage is supplied to the sense amplifier. do.

なお、記憶用MOSFETへの情報の書き込み
は、特に制限されないが、記憶用MOSFETのチ
ヤンネルが形成される領域へイオン打込みを行な
うか、行なわないかによつて行なわれる。例え
ば、記憶用MOSFETのチヤンネル型に対して逆
導電型の不純物イオンを打込むか、又は打込まな
いかによつて、記憶用MOSFETに2値信号の
“1”又は“0”を書き込むことができる。この
場合、イオン打込みによつて、記憶用MOSFET
のしきい値電圧が高くなつた状態が、2値信号の
“1”に対応し、イオン打込みをせずに、記憶用
MOSFETのしきい値電圧が低い値に保持されて
いる状態が2値信号の“0”に対応している。
Note that writing of information to the storage MOSFET is performed depending on whether or not ion implantation is performed into the region where the channel of the storage MOSFET is formed, although there is no particular restriction. For example, depending on whether or not impurity ions of the opposite conductivity type are implanted into the channel type of the memory MOSFET, a binary signal of "1" or "0" can be written to the memory MOSFET. . In this case, the memory MOSFET is
The state in which the threshold voltage of
The state in which the threshold voltage of the MOSFET is held at a low value corresponds to "0" of the binary signal.

読み出し動作は、記憶用MOSFETが選択され
たとき、そのゲート・ソース間に印加される電圧
によつて、その記憶用MOSFETがオンするか、
又はオフするかを検出することにより行なわれ
る。言い換えるならば、選択された記憶用
MOSFETのコンダクタンスが、大きいか、小さ
いかを検出することにより読み出し動作が行なわ
れる。この大小の検出を行なうための基準が、上
記ダミーセルによつて形成される。
In a read operation, when a storage MOSFET is selected, the voltage applied between its gate and source determines whether the storage MOSFET is turned on or not.
This is done by detecting whether it is turned off or off. In other words, for selected storage
A read operation is performed by detecting whether the conductance of the MOSFET is large or small. A reference for performing this magnitude detection is formed by the dummy cell.

上記8本のデータ線に関連して設けられたメモ
リセル群MC0、ダミーセル群DC0、カラムスイツ
チCW0及びプリチヤージ/デイスチヤージスツ
チ群PGS0が1組とされ、次に説明する1つのセ
ンスアンプSA0及びメインアンプMA0に対応し
ている。したがつて、各メモリアレイM−ARY0
ないしM−ARY4には、上記19組のアレイと19個
のセンスアンプ及びメインアンプが設られること
になる。
The memory cell group MC 0 , the dummy cell group DC 0 , the column switch CW 0 , and the precharge/discharge switch group PGS 0 provided in connection with the eight data lines are considered to be one set. Compatible with sense amplifier SA 0 and main amplifier MA 0 . Therefore, each memory array M−ARY 0
M-ARY 4 is provided with the above-mentioned 19 sets of arrays, 19 sense amplifiers, and main amplifiers.

センスアンプSA0は、上記左右のメモリアレイ
の対応するデータ線からの読出し信号を受けるダ
イナミツク型差動増幅回路により構成される。
The sense amplifier SA0 is constituted by a dynamic differential amplifier circuit that receives read signals from the corresponding data lines of the left and right memory arrays.

pチヤンネルMOSFETQ1(Q2)とnチヤンネ
ルMOSFETQ3(Q4)で構成された2つのCMOS
インバータによつてラツチ回路が構成され、その
接地電位側にパワースイツチとしてのnチヤンネ
ルMOSFETQ6を設けることにより、ダイナミツ
ク型回路とされる。また、このセンスアンプ側か
ら上記データ線へのプリチヤージを助けるため、
上記MOSFETQ3,Q4の通常の動作状態でソース
とされる共通電極と電源電圧VCCとの間に、pチ
ヤンネルMOSFETQ5が設けられる。上記
MOSFETQ5,Q6のゲートには、センスアンプを
活性化するためのタイミング信号φPA1が共通に印
加されている。
Two CMOS consisting of p-channel MOSFETQ 1 (Q 2 ) and n-channel MOSFET Q 3 (Q 4 )
A latch circuit is constituted by the inverter, and by providing an n-channel MOSFET Q6 as a power switch on the ground potential side, a dynamic type circuit is formed. Also, to help pre-charge from this sense amplifier side to the data line,
A p-channel MOSFET Q 5 is provided between the common electrode of the MOSFETs Q 3 and Q 4 that serves as a source in a normal operating state and the power supply voltage V CC . the above
A timing signal φ PA1 for activating the sense amplifier is commonly applied to the gates of MOSFETQ 5 and Q 6 .

上記センスアンプSA0の両入出力端子間にはプ
リチヤージレベルを等しくするためのpチヤンネ
ルMOSFETQ7が設けられ、上記プリチヤージ信
PCがそのゲートに印加されている。
A p-channel MOSFET Q7 for equalizing the precharge level is provided between both input and output terminals of the sense amplifier SA0 , and the precharge signal PC is applied to its gate.

上記センスアンプSA0の増幅出力信号は、上記
タイミング信号φPA2によつて制御されるnチヤン
ネル伝送ゲートMOSFETQ8,Q9を通して、メイ
ンアンプMA0の入出力端子に伝えられる。この
メインアンプMA0の一対の入出力端子には、p
チヤンネルMOSFETQ10,Q11で構成されたプリ
チヤージMOSFETと、両者のプリチヤージレベ
ルを等しくする上記同様なpチヤンネル
MOSFETQ12が設けられている。これらの
MOSFETQ10ないしQ12のゲートには、上述した
タイミング信号Sが印加されている。
The amplified output signal of the sense amplifier SA 0 is transmitted to the input/output terminal of the main amplifier MA 0 through n-channel transmission gate MOSFETs Q 8 and Q 9 controlled by the timing signal φ PA2 . The pair of input and output terminals of this main amplifier MA 0 has p
A pre-charge MOSFET consisting of channel MOSFETs Q 10 and Q 11 , and a p-channel similar to the above to equalize the pre-charge level of both.
MOSFETQ 12 is provided. these
The above-mentioned timing signal S is applied to the gates of MOSFETQ10 to Q12 .

このメインアンプMA0も上記センスアンプ
SA0と同様なMOSFETQ13ないしQ13により構成
され、一方の出力信号、すなわち、ノードNB0
からの出力信号がpチヤンネルMOSFETQ19
nチヤンネルMOSFETQ20で構成されたインバ
ータを通して、出力信号BL0を形成する。このイ
ンバータの接地側に設けられたnチヤンネル
MOSFETQ21のゲートと上記差動回路の活性化
を制御するMOSFETQ18のゲートには、上記し
たタイミング信号φlaが印加されている。このタ
イミング信号φlaがハイレベルの期間、上記差動
回路は、センスアンプから送られてきた信号を増
幅して、ラツチする。すなわち、スタテイツクな
出力信号BL0がセンスアンプMA0から出力され
る。
This main amplifier MA 0 is also the above sense amplifier
It is composed of MOSFETQ 13 to Q 13 similar to SA 0 , and one output signal, that is, node NB 0
The output signal is passed through an inverter composed of a p-channel MOSFETQ 19 and an n-channel MOSFETQ 20 to form an output signal BL0 . n channel provided on the ground side of this inverter
The timing signal φ la described above is applied to the gate of MOSFETQ 21 and the gate of MOSFETQ 18 that controls activation of the differential circuit. While the timing signal φ la is at a high level, the differential circuit amplifies and latches the signal sent from the sense amplifier. That is, a static output signal BL0 is output from the sense amplifier MA0 .

なお、上記メインアンプにおいて、pチヤンネ
ルMOSFETQ17は、前述したセンスアンプにお
けるMOSFETQ5と同様の働きをする。すなわ
ち、センスアンプ等へのプリチヤージを行なつて
いるとき、タイミング信号Sはロウレベルとされ
る。このため、このときMOSFETQ17がオン状
態となり、このMOSFETからもメインアンプ等
へのプリチヤージが行なわれるようになり、プリ
チヤージの高速化が図れる。
Note that in the main amplifier, the p-channel MOSFETQ 17 functions similarly to the MOSFETQ 5 in the sense amplifier described above. That is, when precharging the sense amplifier etc., the timing signal S is set to low level. Therefore, at this time, MOSFETQ 17 is turned on, and precharging from this MOSFET to the main amplifier etc. is also performed, thereby increasing the speed of precharging.

また、このメインアンプへのプリチヤージのと
き、上記タイミング信号φlaはロウレベルとされ
る。このため、上記MOSFETQ21はオフ状態と
なる。また、プリチヤージにより、ノードNB0
もハイレベルとなるため、MOSFETQ19もオフ
状態となる。このため、メインアンプがプリチヤ
ージされる前に、インバータから出力されていた
出力信号BL0のレベルが、この出力信号ラインの
浮遊容量(寄生容量)及びMOSFETQ19,Q20
浮遊容量(寄生容量)に保持されることになる。
従つて、メインアンプがプリチヤージされている
ときも、インバータからは、プリチヤージされる
前の出力信号が出力されることになる。
Further, when precharging the main amplifier, the timing signal φ la is set to a low level. Therefore, the MOSFETQ 21 is turned off. Also, due to precharge, node NB 0
MOSFETQ 19 is also turned off because it becomes high level. For this reason, before the main amplifier is precharged, the level of the output signal BL 0 output from the inverter is affected by the stray capacitance (parasitic capacitance) of this output signal line and the stray capacitance (parasitic capacitance) of MOSFETs Q 19 and Q 20 . will be held.
Therefore, even when the main amplifier is precharged, the inverter outputs the output signal before being precharged.

上記各メインアンプから出力された読出し出力
信号BLoは、それぞれ第2C図に示されているよ
うなインバータIVに供給され、上記出力信号
BLoに対して位相反転されたo′と、上記出力信
号BLoに対応した信号Do′とにされて、次段の
ECC回路に供給される。なお、このインバータ
IVとしては、例えば、第1G図に示されている
ようなCMOS回路によつて構成されたスタテイ
ツク型のインバータが使われる。
The read output signal BL o outputted from each of the main amplifiers is supplied to an inverter IV as shown in FIG. 2C, and the output signal BL o is
o ′ whose phase is inverted with respect to BL o and a signal D o ′ corresponding to the above output signal BL o are output to the next stage.
Supplied to the ECC circuit. In addition, this inverter
As IV, for example, a static type inverter constructed from a CMOS circuit as shown in FIG. 1G is used.

第3図には、Xデコーダの一実施例の具体的回
路図が示されている。
FIG. 3 shows a specific circuit diagram of one embodiment of the X decoder.

この実施例では、1本のワード線を選択するた
めに、3段階に分けて、その選択信号が形成され
る。このように3段階に分けたのは、まず第1
に、ICチツプ内で無駄な空白部分が生じないよ
うにすることにある。つまり、多数のMOSFET
から構成されることによつて比較的大きな面積を
有するNANDゲートの横方向の配列間隔(ピツ
チ)を、メモリアレイのワード線配列ピツチに合
せることにある。また、第2には、1つのアドレ
ス信号線の有する負荷を軽くして、そのスイツチ
ングスピードを向上させることにある。
In this embodiment, in order to select one word line, the selection signal is formed in three stages. The reason why we divided this into three stages is that the first
The second objective is to prevent unnecessary blank areas from occurring within the IC chip. That is, a large number of MOSFETs
The purpose is to match the horizontal pitch of the NAND gates, which have a relatively large area due to their structure, to the word line pitch of the memory array. The second objective is to reduce the load on one address signal line and improve its switching speed.

したがつて、上位アドレス信号a44ないa9
a9を受けるpチヤンネルMOSFETQ30ないしQ35
及びnチヤンネルMOSFETQ36ないしQ41とによ
り、8本分ワード線選択信号を形成する。そし
て、中位2ビツトのアドレス信号a2,a3で形成さ
れた1/4選択デコード信号a00ないしa11と、上記
デコード出力をインバータIV1で反転した信号を
受けるpチヤンネルMOSFETQ42,Q43及びnチ
ヤンネルMOSFETQ44,Q45とにより、4本分の
ワード線選択信号を形成する。この4本分のワー
ド線選択信号は、インバータ形態のpチヤンネル
MOSFETQ46とnチヤンネルMOSFETQ47から
なるワード線駆動回路のゲート入力にそれぞれ印
加される。
Therefore, the upper address signals a 4 , 4 and a 9 ,
p-channel MOSFET receiving a 9 Q 30 to Q 35
and n-channel MOSFETs Q36 to Q41 to form eight word line selection signals. Then, p-channel MOSFETs Q 42 and Q receive 1/4 selection decode signals a 00 to a 11 formed by the middle 2-bit address signals a 2 and a 3 and a signal obtained by inverting the above decode output with an inverter IV 1 . 43 and n-channel MOSFETs Q 44 and Q 45 form four word line selection signals. These four word line selection signals are connected to an inverter-type p channel.
These signals are applied to the gate inputs of a word line drive circuit consisting of MOSFETQ 46 and n-channel MOSFETQ 47 , respectively.

また、下位2ビツトのアドレス信号a0,a1と、
ワード線選択タイミング信号φXとで、ワード線
選択タイミングに同期して形成される4つのワー
ド線選択タイミング信号φW00ないしφW11が、上記
駆動回路のpチヤンネルMOSFETQ46等のドレ
インに伝えられる。
In addition, the lower two bits of the address signals a 0 , a 1 and
Four word line selection timing signals φ W00 to φ W11 , which are generated in synchronization with the word line selection timing signal φ

したがつて、アドレス信号a0ないしa9がすべて
“0”のとき、言い換えれば0ないし9がすべて
“1”のときに、ワード線選択タイミング信号φX
に同期して、ワード線W0をハイレベルに立ち上
らせることができる。
Therefore, when address signals a0 to a9 are all " 0 ", in other words, when all address signals a0 to a9 are "1", word line selection timing signal φ
The word line W0 can be raised to a high level in synchronization with the word line W0.

また、各ワード線には、特に制限されないが、
ドライバーに対して反対側に非選択のワード線の
電位を回路の接地電位にするためのNチヤンネル
MOSFETが接続され、各MOSFETのゲートに
は、それに対応する駆動回路に供給されるワード
線選択タイミング信号φwiJ(1=0,1、j=0,
1)に対して位相反転された信号が供給される。
例えば、駆動回路DV0が結合されたワード線W0
には、タイミング信号00がそのゲートに印加
されるMOSFETQ170が結合される。このように
することにより、非選択のワード線、例えば、
W3の電位は、MOSFETQ48及びQ173によつて接
地電位にされるため、ワード線の多重選択を防止
することができる。なお、タイミング信号φwij
対して位相反転された信号は、例えば、タイミン
グ信号φwijをインバータにより位相反転させれば
簡単にられる。
In addition, each word line may include, but is not particularly limited to,
N channel for setting the potential of unselected word lines on the opposite side to the driver to the circuit ground potential
A word line selection timing signal φ wiJ (1=0, 1, j=0,
A signal whose phase is inverted with respect to 1) is supplied.
For example, the word line W 0 to which the drive circuit DV 0 is coupled
is coupled to MOSFETQ 170 to which timing signal 00 is applied to its gate. By doing this, the unselected word line, e.g.
Since the potential of W 3 is set to the ground potential by MOSFETs Q 48 and Q 173 , multiple selection of word lines can be prevented. Note that the signal whose phase is inverted with respect to the timing signal φ wij can be easily obtained by, for example, inverting the phase of the timing signal φ wij using an inverter.

第4図には、カラムスイツチを選択するY1
コーダの一実施例の回路図が示れている。
FIG. 4 shows a circuit diagram of one embodiment of a Y1 decoder for selecting column switches.

この実施例のデコーダは、第2A図に示したカ
ラムスイツチCW0のMOSFETS8ないしS11を選択
するデコード信号y00ないしy11を形成する。
The decoder of this embodiment generates decode signals y 00 to y 11 that select MOSFETS 8 to S 11 of column switch CW 0 shown in FIG. 2A.

並列形態とされたpチヤンネルMOSFETQ51
Q52と、直列形態とされたnチヤンネル
MOSFETQ53,Q54とにより、2入力のNANDゲ
ートが構成され、例えば上記デコード信号y00
形成する場合には、アドレス信号1213がその
入力に印加される。上記並列形態の
MOSFETQ51,Q52に対して直列にpチヤンネル
MOSFETQ50が設けられ、上記直列形態とされ
たMOSFETQ53,Q54に対して並列にnチヤンネ
ルMOSFETQ52が設けられ、これらの
MOSFETQ50,Q52のゲートには、第1D図に示
したタイミング信号φPCが印加されている。
P-channel MOSFETQ 51 in parallel configuration,
Q 52 and n-channel in series configuration
MOSFETs Q 53 and Q 54 constitute a two-input NAND gate, and address signals 12 and 13 are applied to its inputs, for example, when forming the decode signal y 00 described above. The above parallel form
p channel in series with MOSFETQ 51 , Q 52
MOSFETQ 50 is provided, and an n-channel MOSFETQ 52 is provided in parallel to MOSFETQ 53 and Q 54 which are in series configuration.
A timing signal φ PC shown in FIG. 1D is applied to the gates of MOSFETs Q 50 and Q 52 .

上記論理ゲートの出力は、インバータIV2
IV3を通して上記デコード信号y00とされる。
The output of the above logic gate is connected to the inverter IV 2 ,
The decoded signal y 00 is obtained through IV 3 .

上記カラムスイツチCW0のMOSFETS0ないし
S7を選択するデコード信号y0,y1についても、1
ビツトのYアドレス信号と上記タイミング信号
φPCとにより上記同様なデコーダによつて形成さ
れる。
MOSFETS 0 to above column switch CW 0
Regarding the decoded signals y 0 and y 1 that select S 7 , 1
It is formed by a decoder similar to the above using the bit Y address signal and the timing signal φ PC .

したがつて、Yアドレス信号に無関係に、プリ
チヤージ期間には、上記タイミング信号φPCがハ
イレベルとなつて、そのデコード出力をすべてロ
ウレベルにする。これにより、pチヤンネル
MOSFETで構成されたカラムスイツチは、すべ
てオンするものとなる。したがつて、第2A図に
おいて、データ線DLへのプリチヤージは、上記
プリチヤージMOSFETP0ないしP3等のオンによ
るプリチヤージとともに、このプリチヤージ動作
によりオンするセンスアンプSA0のnチヤンネル
MOSFETQ3,Q4のオンとともに、pチヤンネル
MOSFETQ5のオンにより、センスアンプ側から
もデータ線DLへのプリチヤージを行なわせるこ
とによつて、プリチヤージ期間の短縮化を図るこ
とができる。
Therefore, regardless of the Y address signal, during the precharge period, the timing signal φ PC becomes high level, and all of its decoded outputs become low level. This allows the p-channel
All column switches composed of MOSFETs are turned on. Therefore, in FIG. 2A, the precharge to the data line DL is caused by the precharge caused by turning on the precharge MOSFETP 0 to P3 , etc., as well as by the n channel of the sense amplifier SA0 which is turned on by this precharge operation.
With MOSFETQ 3 and Q 4 turned on, p channel
By turning on MOSFETQ 5 , the sense amplifier side also precharges the data line DL, thereby shortening the precharge period.

第5図には、第1A図におけるECC回路の一
実施例の概略図が示されている。
FIG. 5 shows a schematic diagram of one embodiment of the ECC circuit in FIG. 1A.

論理演算回路は、上記ROMからの38ビツトの
読出し信号D0′,0′ないしD37′,37′を受け、所
定の組み合せの排他的論理和により、誤りビツト
を指定するシンドロームS0ないしS5を形成する。
例えば、第6図に示すような検査マトリツクスに
基づいて上記排他的論理和の組み合せが決定され
るとともに、書込みデータWのパリテイビツト
BP0ないしBP5が決定される。
The logic operation circuit receives the 38-bit read signals D 0 ′, 0 ′ to D 37 ′, 37 ′ from the ROM, and uses the exclusive OR of a predetermined combination to generate syndromes S 0 to S that designate error bits. form 5 .
For example, the above combination of exclusive ORs is determined based on a test matrix as shown in FIG. 6, and the parity bit of write data W is determined.
BP 0 to BP 5 are determined.

例えば、上記書込みデータWのデータビツト
B0ないしB31に同図に示すように“1”と“0”
を書き込む場合、そのパリテイビツトBP0は、上
記検査マトリツクスのシンドロームS0に着目し、
その行において“1”の立つているビツトに対応
した上記書込みデータ間で排他的論理和をとり、
この排他的論理和が“0”になるように、パリテ
イビツトBP0の値が決められる。上記データで
は、データビツトB0ないしB4,B14ないしB21
びB28ないしB29の間で排他的論理和がとられる。
この場合、この排他的論理和は“1”となるた
め、パリテイビツトBP0は“1”とされて、上記
データビツトとこのパリテイビツトとの排他的論
理和が“0”となるようにされる。
For example, the data bits of the write data W
B 0 to B 31 are “1” and “0” as shown in the same figure.
When writing the parity bit BP 0 , focus on the syndrome S 0 of the above inspection matrix,
Exclusive OR is performed between the above write data corresponding to the bit set to “1” in that line,
The value of parity bit BP0 is determined so that this exclusive OR becomes "0". In the above data, exclusive OR is performed between data bits B 0 to B 4 , B 14 to B 21 and B 28 to B 29 .
In this case, since this exclusive OR is "1", the parity bit BP0 is set to "1" so that the exclusive OR of the data bit and this parity bit becomes "0".

以下、同様にシンドロームS1ないしS5の行につ
いて同様に排他的論理和が“0”になるように、
パリテイビツトBP1ないしBP1が決定される。
Below, in the same way, for the rows of syndromes S 1 to S 5 , so that the exclusive OR becomes "0",
Parity bits BP 1 to BP 1 are determined.

このデータの例では、上述のようにして決定さ
れたパリテイビツトBP0ないしBP5は、同図に示
すように全て“1”となる。
In this data example, the parity bits BP 0 to BP 5 determined as described above are all "1" as shown in the figure.

シンドロームS0ないしS5を求める論理式は、次
式(1)ないし(6)のようになる。
The logical formulas for determining the syndromes S 0 to S 5 are as shown in the following formulas (1) to (6).

S0=B0B1B2B3B4B14B15B16B17
B18B19B20B21B28B29BP0 ……(1) S1=B0B5B6B7B8B14B15B16B17
B22B23B24B25B30BP1 ……(2) S2=B1B5B9B10B11B14B18B19
B22B23B26B27B28B30B31BP2
……(3) S3=B2B6B9B12B13B15B16B20
B21B22B24B26B27BP3 ……(4) S4=B3B7B10B12B16B19B20B23
B25B26B29B31BP4 ……(5) S5=B4B8B11B13B17B21B24B25
B27B28B29B30B31BP5 ……(6) なお、これらの論理式おいて、印は排他的論
理和を示している。
S 0 =B 0 B 1 B 2 B 3 B 4 B 14 B 15 B 16 B 17
B 18 B 19 B 20 B 21 B 28 B 29 BP 0 ……(1) S 1 =B 0 B 5 B 6 B 7 B 8 B 14 B 15 B 16 B 17
B 22 B 23 B 24 B 25 B 30 BP 1 ……(2) S 2 =B 1 B 5 B 9 B 10 B 11 B 14 B 18 B 19
B 22 B 23 B 26 B 27 B 28 B 30 B 31 BP 2
...(3) S 3 = B 2 B 6 B 9 B 12 B 13 B 15 B 16 B 20
B 21 B 22 B 24 B 26 B 27 BP 3 ……(4) S 4 =B 3 B 7 B 10 B 12 B 16 B 19 B 20 B 23
B 25 B 26 B 29 B 31 BP 4 ……(5) S 5 =B 4 B 8 B 11 B 13 B 17 B 21 B 24 B 25
B 27 B 28 B 29 B 30 B 31 BP 5 ...(6) In these logical formulas, the mark indicates exclusive OR.

第1A図に示した実施例のマスク型ROMで
は、上記データビツトB0ないしB31と上記パリテ
イビツトBP0ないしBP5とからなる38ビツトが、
アドレス信号A0ないしA14からなる1組のアドレ
ス信号によつて選択される38個の記憶用
MOSFETに書き込まれる。すなわち、1つのY
デコード信号と2つのYデコード信号とにより選
択される38個の記憶用MOSFET(メモリセル)
に上記38ビツトがそれぞれ書き込まれる。例え
ば、左側メモリアレイを構成する各群に対して、
上記38ビツトのうちの1ビツトづつが割当られ
て、書き込まれる。特に制限さないが、メモリア
レイM−ARY1には、上記データのうちデータビ
ツトB0ないしB18が書き込まれ、メモリアレイM
−ARY2には、データビツトB19ないしB31及びパ
リテイビツトBP0ないしBP5が書き込まれる。
In the mask type ROM of the embodiment shown in FIG. 1A, 38 bits consisting of the data bits B0 to B31 and the parity bits BP0 to BP5 are as follows:
38 memories selected by a set of address signals A 0 to A 14
Written to MOSFET. That is, one Y
38 memory MOSFETs (memory cells) selected by the decode signal and two Y decode signals
The above 38 bits are written to each. For example, for each group that makes up the left memory array,
One bit of the above 38 bits is allocated and written. Although not particularly limited, data bits B 0 to B 18 of the above data are written to the memory array M-ARY 1 .
- In ARY 2 , data bits B 19 to B 31 and parity bits BP 0 to BP 5 are written.

このようにして、第6図に示すような書込みデ
ータWをメモリアレイ内に書込んだ後、上記書込
みデータWをECC回路に読み出した時、そのデ
ータが、例えば同図に示すような読み出しデータ
Rのように誤まつたデータになつていた場合、す
なわち、書込んだときのデータWが読み出し時に
は、その第7桁目のビツトB7が“0”から“1”
に変化していた場合、ECC回路内の論演算回路
は、このデータRにもとづいて、上記式(1)ないし
(6)に従いシンドロームS0ないしS5を論理演算す
る。このシンドロームS0ないしS5を求める演算過
程において、上記第7桁目のビツトB7が取り込
まれるのは、シンドロームS1とS4を求める論理演
算である。上述したように第7桁目のビツトB7
が“0”から“1”に変化しているため、上記シ
ンドロームS1とS4は、それぞれ“1”となる。こ
の他のシンドロームS0,S2,S3及びS5に関して
は、それを求める演算過程において取り込まれる
ビツトに誤まりがないため、このシンドロード
S0,S2,S3及びS5は、それぞれ“0”となる。
In this way, after writing the write data W as shown in FIG. 6 into the memory array, when the write data W is read out to the ECC circuit, the data becomes, for example, the read data as shown in the same figure. If the data is incorrect as shown in R, that is, when data W is written and read, the 7th digit bit B7 changes from “0” to “1”.
, the logical operation circuit in the ECC circuit calculates the above equation (1) or based on this data R.
Logical operations are performed on the syndromes S 0 to S 5 according to (6). In the calculation process for calculating syndromes S 0 to S 5 , the seventh digit bit B 7 is taken in during the logical calculation for calculating syndromes S 1 and S 4 . As mentioned above, the 7th digit bit B 7
changes from "0" to "1", the syndromes S 1 and S 4 each become "1". Regarding the other syndromes S 0 , S 2 , S 3 and S 5 , there are no errors in the bits taken in during the calculation process to obtain them, so this syndrome
S 0 , S 2 , S 3 and S 5 are each “0”.

このため、論理演算回路から出力されるシンド
ロームS5ないしS0のビツトパターンは、“010010”
となる。このビツトパターンは、第6図に示した
検査マトリクスにおいて、第7桁目のビツトD7
を指示するシンドロームS5ないしS0のビツトパタ
ーンと一致する。すなわち、上記検査マトリクス
において、ビツトD7の列を見ると、シンドロー
ムS5ないしS0のパターンは、“010010”となつて
おり、上記論理演算回路から出力されたシンドロ
ームS5ないしS0のビツトパターンと一致してい
る。但し、この場合、検査マトリツクスにおい
て、空白の欄は“0”とされる。
Therefore, the bit pattern of syndromes S5 to S0 output from the logical operation circuit is “010010”.
becomes. This bit pattern corresponds to bit D 7 in the 7th digit in the inspection matrix shown in FIG.
matches the bit pattern of syndrome S 5 to S 0 that indicates That is, looking at the bit D7 column in the above inspection matrix, the pattern for syndromes S5 to S0 is "010010", and the bits for syndromes S5 to S0 output from the logic operation circuit are matches the pattern. However, in this case, blank columns in the inspection matrix are set to "0".

つまり、上記論理演算回路から出力されるシン
ドロームS5ないしS0のビツトパターンは、そこに
供給されているデータに含まれている誤りのある
データビツトの桁を示している。
In other words, the bit patterns of syndromes S5 to S0 output from the logic operation circuit indicate the digits of the erroneous data bits included in the data supplied thereto.

上記論理演算回路から出力されたシンドローム
と、インバータで反転されたシンドローム0ない
5は、誤り桁数に変換するデコーダDCRに入
力される。
The syndromes output from the logic operation circuit and syndromes 0 to 5 inverted by the inverter are input to a decoder DCR which converts them into the number of error digits.

デコーダDCRは、アンドゲートG0ないしG31
構成され、それぞれの出力が“1”の場合に誤り
桁であることを示している。これらのアンドゲー
トG0ないしG31と、上記読出しデータRの情報ビ
ツトB0ないしB31とは、それぞれ排他的論理和回
路EXOR0ないしEXOR31に入力され、上記マル
チプレクサへ伝える出力データD0ないしD31を形
成する。上述のように第7桁目に誤りがあると、
アンドゲートG7の出力が“1”となるため、上
記“1”と誤まつて読出された第7桁目の信号
は、EXOR7によつて“1”から“0”に反転さ
れて正しい情報に訂正される。
The decoder DCR is composed of AND gates G0 to G31 , and when each output is "1", it indicates an erroneous digit. These AND gates G 0 to G 31 and the information bits B 0 to B 31 of the read data R are input to exclusive OR circuits EXOR 0 to EXOR 31 , respectively, and the output data D 0 to B 31 are transmitted to the multiplexer. Form D 31 . As mentioned above, if there is an error in the 7th digit,
Since the output of AND gate G 7 becomes "1", the signal of the 7th digit which was incorrectly read as "1" is inverted from "1" to "0" by EXOR 7 and becomes correct. The information will be corrected.

なお、この実施例のECC回路では、1ビツト
のエラーを訂正することはできるが、2ビツト以
上のエラーを訂正することはできない。例えば2
ビツトのエラーを訂正することのできるような
ECC回路においては、その構成が複雑となり、
素子数も増加する。またこの場合には、パリテイ
ビツト(冗長ビツト)を大幅に増やさなければな
らない。
Note that the ECC circuit of this embodiment can correct a 1-bit error, but cannot correct an error of 2 or more bits. For example 2
such as being able to correct bit errors.
In the ECC circuit, its configuration is complicated,
The number of elements also increases. Also, in this case, the number of parity bits (redundant bits) must be significantly increased.

第7図には、前記エツジトリガ又は上記論理演
算回路及び誤り訂正に用いられた排他的論理和回
路の具体的一実施例回路が示されている。
FIG. 7 shows a specific embodiment of the edge trigger or the logic operation circuit and the exclusive OR circuit used for error correction.

この実施例では、pチヤンネルMOSFETQP1
ないしQP4及びnチヤンネルMOSFETQo1ないし
Qo4で構成されている。上記MOSFETQP1,QP2
及びMOSFETQo1,Qo2が直列形態とされ、上記
QP3,QP4及びMOSFETQo3,Qo4が直列形態とさ
れている。
In this example, p-channel MOSFETQ P1
or Q P4 and n-channel MOSFETQ o1 or
It consists of Q o4 . Above MOSFETQ P1 , Q P2
and MOSFETQ o1 and Q o2 are in series form, and the above
Q P3 , Q P4 and MOSFETs Q o3 and Q o4 are connected in series.

上記MOSFETQP2とQo1の接続点及び
MOSFETQP4とQo3の接続点が共通接続され出力
OUTを形成する。上記MOSFETQo1,Qo2のゲー
トには、それぞれ入力信号a,bが印加され、上
記MOSFETQo3,Qo4のゲートには、それぞれ入
信号,が印加されている。
The connection point of MOSFETQ P2 and Q o1 above and
The connection point of MOSFETQ P4 and Q o3 is commonly connected and output
Form OUT. Input signals a and b are applied to the gates of the MOSFETs Q o1 and Q o2 , respectively, and input signals are applied to the gates of the MOSFETs Q o3 and Q o4 , respectively.

また、上記MOSFETQP1,QP4のゲートには、
それぞれ入力信号,が印加され、上記
MOSFETQP2,QP3のゲートには、それぞれ入力
信号b,aが印加されている。
In addition, the gates of MOSFETQ P1 and Q P4 above are
The input signal, respectively, is applied and the above
Input signals b and a are applied to the gates of MOSFETs Q P2 and Q P3 , respectively.

今、入力信号a,bが共にハイレベル(“1”)
のときには、MOSFETQo1,Qo2がオンして、出
力OUTをローレベル(“0”)にする。逆に、入
力信号,が共にハイレベルのときには、
MOSFETQo3,Qo4がオンして出力OUTを同様に
ローレベルにする。
Now, input signals a and b are both high level (“1”)
When , MOSFETs Q o1 and Q o2 are turned on and the output OUT is set to low level (“0”). Conversely, when both input signals are at high level,
MOSFETQ o3 and Q o4 are turned on and the output OUT is similarly set to low level.

そして、入力信号a(又は)がローレベルで
入力信号(又はb)がローレベルのときには、
MOSFETQP3(又はQP1)とMOSFETQP4(又は
QP2)がオンして、出力OUTをハイレベルにす
る。このように、入力信号a,bのレベルが一致
したときには出力OUTをローレベルにし、不一
致のときには出力OUTをハイレベルにするから
排他的論理和動作を行なう。
Then, when input signal a (or) is low level and input signal b (or b) is low level,
MOSFETQ P3 (or Q P1 ) and MOSFETQ P4 (or
Q P2 ) turns on and makes the output OUT high level. In this way, when the levels of the input signals a and b match, the output OUT is set to the low level, and when they do not match, the output OUT is set to the high level, so that an exclusive OR operation is performed.

この実施例回烈は、素子数が8個と少なく、か
つ電源電圧VCCと接地電位間で直流電流が流れな
いから極めて低消費電力になるという利点を有す
る。
This embodiment has the advantage of extremely low power consumption because the number of elements is as small as eight, and no direct current flows between the power supply voltage V CC and the ground potential.

上記ECC回路内の論理演算回路においては、
シンドロームS0ないしS5を形成するために、その
内部で前記論理式(1)ないし(6)に示すような論理演
算が行なわれている。すなわち、多数の排他的論
理和動作が論演算回路内で行なわれている。
In the logic operation circuit in the above ECC circuit,
In order to form the syndromes S 0 to S 5 , logical operations as shown in the above-mentioned logical formulas (1) to (6) are performed inside the syndromes. That is, a large number of exclusive OR operations are performed within the logical operation circuit.

このため、この排他的論理和動作を行なう論理
回路として、第7図に示すような排他的論理和回
路を用いることにより、比較的少ない素子数で上
記論理演算回路を構成することができるようにな
るとともに、この論理演算回路での消費電力を比
較的小さくすることができる。
Therefore, by using an exclusive OR circuit as shown in FIG. 7 as a logic circuit that performs this exclusive OR operation, it is possible to configure the above logic operation circuit with a relatively small number of elements. At the same time, the power consumption in this logic operation circuit can be made relatively small.

また、前記第2A図において、右側のメモリア
レイに情報を書込む際、左側のメモリアレイに対
して反転した情報を書込むようにすれば、センス
アンプ及びメインアンプからの読み出しデータ
は、左、右いずれの読出しにおいても常に正相出
力BLoo′)とすることができる。
In addition, in FIG. 2A, when writing information to the right memory array, if inverted information is written to the left memory array, the read data from the sense amplifier and main amplifier will be changed to the left, In either reading on the right side, the positive phase output BL o ( o ') can always be obtained.

第8図には、上記メモリアレイの選択された一
対のデータ線のそれぞれの電位VD及びDが、時
間とともに変化するようすを示している。
FIG. 8 shows how the potentials V D and D of the selected pair of data lines of the memory array change over time.

同図において、破線は、ダミーセルが結合され
たデータ線の電位変化を示している。また、一点
鎖線は、記憶用MOSFETに情報“0”が書込ま
れているときのデータ線の電位変化を示し、二点
鎖線は、上記記憶用MOSFETに情報“1”が書
込まれているときのデータ線の電位変化を示して
いる。
In the figure, a broken line indicates a change in potential of a data line connected to a dummy cell. In addition, the one-dot chain line shows the potential change of the data line when information "0" is written in the storage MOSFET, and the two-dot chain line shows the change in the potential of the data line when information "1" is written in the storage MOSFET. It shows the potential change of the data line at the time.

センスアンプは、この一対のデータ線間の電圧
差を増幅して、メインアンプに伝える。
The sense amplifier amplifies the voltage difference between the pair of data lines and transmits it to the main amplifier.

この場合、前述したように、接地線が選ばれな
いデータ線においては、上述のようなデイスチヤ
ージが行なわれないから、プリチヤージレベルが
保持されたままとなり、無効消費電流が生じるの
を防止することができる。
In this case, as described above, since the above-mentioned discharge is not performed on the data line for which the ground line is not selected, the pre-charge level is maintained and the generation of invalid current consumption is prevented. be able to.

第9図には、出力マルチプレクサ及び出力バツ
フアの一実施例の具体的回路が示されている。
FIG. 9 shows a specific circuit of an embodiment of an output multiplexer and an output buffer.

ECC回路からの出力信号D0ないしD31は、次の
ようなマルチプレクサによつて、8ビツトずつが
出力バツフアに伝えられる。
The output signals D 0 to D 31 from the ECC circuit are transmitted 8 bits at a time to the output buffer by the following multiplexer.

代表として示されたデータD0について説明す
ると、このデータD0はインバータIV4を通して、
pチヤンネルMOSFETQ55とnチヤンネル
MOSFETQ58のゲートに伝えられる。上記
MOSFETQ55とQ58のドレイン出力は、それぞれ
pチヤンネルMOSFETQ56とnチヤンネル
MOSFETQ57を通して、出力線に接続される。
To explain the data D 0 shown as a representative, this data D 0 is passed through the inverter IV 4 ,
p-channel MOSFETQ 55 and n-channel
Sent to the gate of MOSFETQ 58 . the above
The drain outputs of MOSFETQ 55 and Q 58 are p-channel MOSFETQ 56 and n-channel respectively.
Connected to the output line through MOSFETQ 57 .

タイミング信号φ00ないしφ11は、特に制限され
ないが、第10図に示すようなアドレスバツフア
とY2デコーダとによつて形成される。アドレス
バツフアは、2つの単位バツフアAD1,AD2から
なり、それぞれの単位バツフアは、同じ構成とさ
れるので、同図には、単位バツフアAD1のみにつ
いてだけ具体的回路が示されている。単位バツフ
アAD1は、スタテイク型回路で構成されている。
すなわち、MOSFETQ136ないしQ163によつて単
位バツフアAD1構成されている。Y2デコーダも
4つの単位デコーダYU1〜YU4からなり、それ
ぞれが同じ構成にされている。このため同図で
は、単デコーダYU1のみが示されている。単位
デコーダYU1は、MOSFETQ164ないしQ169によ
つて構成されており、前記第3図で示したXデコ
ーダと異なり、特別なタイミング信号を必要とし
ない回路構成とされている。このため、上記Y2
デコーダは、アドレスバツフアから供給されるア
ドレス信号だけで上記タイミング信号φ00ないし
φ11を形成することができる。
Timing signals φ 00 to φ 11 are formed by an address buffer and a Y 2 decoder as shown in FIG. 10, although not particularly limited thereto. The address buffer consists of two unit buffers AD 1 and AD 2 , and each unit buffer has the same configuration, so the figure shows a specific circuit only for unit buffer AD 1 . . The unit buffer AD 1 is composed of a static type circuit.
That is, MOSFETQ 136 to Q 163 constitute unit buffer AD 1 . The Y2 decoder also consists of four unit decoders YU1 to YU4 , each of which has the same configuration. Therefore, only the single decoder YU1 is shown in the figure. The unit decoder YU 1 is composed of MOSFETs Q 164 to Q 169 , and unlike the X decoder shown in FIG. 3, it has a circuit configuration that does not require a special timing signal. For this reason, the above Y 2
The decoder can form the timing signals φ 00 to φ 11 using only the address signals supplied from the address buffer.

上記Y2デコーダは、アドレス信号a1515
a1616を受けて、1/4選択信号を形成する。
The above Y2 decoder uses address signals a15 , 15 ,
A 16 and 16 are received to form a 1/4 selection signal.

今、Yアドレス信号a15,a16が共に“0”なら
ばタイミング信号φ00がハイレベルとなる。この
信号φ00は、第9図において、nチヤンネル
MOSFETQ57と、インバータIV5を通して反転さ
れてpチヤンネルMOSFETQ56のゲートに印加
される。
Now, if the Y address signals a 15 and a 16 are both "0", the timing signal φ 00 becomes high level. This signal φ 00 is the n channel in FIG.
It is inverted through MOSFETQ 57 and inverter IV 5 and applied to the gate of p-channel MOSFETQ 56 .

したがつて、タイミング信号φ00がハイレベル
のとき、これらのMOSFETQ56,Q57が共にオン
するので、上記データD0が出力線に伝えられ、
上記タイミング信号φ00がロウレベルのとき上記
MOSFETQ55,Q57が共にオフするので上記デー
タD0に無関係にハイインピーダンスとなる。
Therefore, when the timing signal φ 00 is at high level, these MOSFETs Q 56 and Q 57 are both turned on, so the data D 0 is transmitted to the output line,
When the above timing signal φ 00 is low level, the above
Since MOSFETQ 55 and Q 57 are both turned off, they become high impedance regardless of the data D 0 mentioned above.

データD0からD7までの8ビツトの信号を受け
る8個の上記同様な回路が1組とされ、上記タイ
ミング信号φ00によつて制御される。
A set of eight circuits similar to those described above which receive 8-bit signals from data D0 to D7 is controlled by the timing signal φ00 .

そして、残りのデータ信号についても、データ
D8〜D15,D16〜D23及びD24〜D31のように、8ビ
ツトづつが上記同様な回路で構成され、残りのタ
イミング信号φ01ないしφ11によつて制御される。
そして、上記4組の出力線は、対応するビツト
D0,D8,D16,D24のように8ビツトおきのデー
タ間で共通化される。したがつて、出力線の総数
は8本とされる。
Then, for the remaining data signals, the data
Each of 8 bits, such as D 8 to D 15 , D 16 to D 23 and D 24 to D 31 , is constructed by a circuit similar to the above, and is controlled by the remaining timing signals φ 01 to φ 11 .
The above four sets of output lines are connected to the corresponding bits.
Data of every 8 bits such as D 0 , D 8 , D 16 , and D 24 are shared. Therefore, the total number of output lines is eight.

出力バツフアは、上記出力線に応じて設けられ
た8個の出力回路からなり、その一つが代表とし
て示されている。
The output buffer consists of eight output circuits provided according to the output lines, one of which is shown as a representative.

この出力バツフアは、MOSFETQ59ないしQ66
で構成された2組の2入力NANDゲートと、4
つのインバータIV6ないしIV9と、nチヤンネル
MOSFETQ67,Q68で構成されたプツシユプル出
力回路とで構成される。
This output buffer is MOSFET Q 59 to Q 66
Two sets of 2-input NAND gates consisting of 4
one inverter IV 6 to IV 9 and n-channel
It consists of a push-pull output circuit consisting of MOSFETQ 67 and Q 68 .

すなわち、上記マルチプレクサの出力線からの
信号を受けるインバータIV6の出力信号は、
MOSFETQ59ないしQ62で構成されたNANDゲー
トの一方の入力に印加される。また、上記インバ
ータIV6の出力信号を受けるインバータIV7の出
力信号は、MOSFETQ63ないしQ66で構成された
NANDゲートの一方の入力に印加される。そし
て、これら2組のNANDゲートの他方の入力に
は、上記タイミング信号φHZが印加されている。
上記2つのNANDゲートの出力信号はそれぞれ
インバータIV8,IV9を通して出力MOSFETQ67
Q68のゲートに伝えられる。
That is, the output signal of inverter IV 6 receiving the signal from the output line of the multiplexer is:
Applied to one input of a NAND gate consisting of MOSFETQ59 to Q62 . In addition, the output signal of inverter IV 7 , which receives the output signal of inverter IV 6 , is composed of MOSFETs Q 63 to Q 66 .
Applied to one input of the NAND gate. The timing signal φ HZ is applied to the other input of these two sets of NAND gates.
The output signals of the above two NAND gates are passed through inverters IV 8 and IV 9 to the output MOSFETs Q 67 and 67 , respectively.
Reported to the gate of Q 68 .

上記タイミング信号φHZは、例えば、前述した
基準信号φPCS,φXSおよびチツプ選択信号によ
つて形成され、チツプが非選択の期間と、アドレ
ス信号A0〜A14が変化したことにより、新らたな
データがメインアンプからECC回路に出力され
たことによつて、ECC回路の出力信号が不定に
なつたとき、上記タイミング信号φHZはロウレベ
ルにされる。このタイミング信号φHZがロウレベ
ルにされることによつて、ECC回路からの読み
出しデータとは、無関係に、出力MOSFETQ67
Q68がオフ状態にされる。このため、外部出力端
子Do(n=0〜7)はハイインピーダンスとな
る。これにより、この実施例の半導体記憶装置を
共通データバス方式のシステムに接続させること
ができるとともに、不定なデータが出力されるの
を防止することができる。
The above-mentioned timing signal φ HZ is formed by, for example, the reference signals φ PCS and φ When the output signal of the ECC circuit becomes undefined due to the output of new data from the main amplifier to the ECC circuit, the timing signal φ HZ is set to a low level. By setting this timing signal φHZ to low level, the output MOSFETQ 67 ,
Q 68 is turned off. Therefore, the external output terminal D o (n=0 to 7) becomes high impedance. This allows the semiconductor memory device of this embodiment to be connected to a common data bus type system, and also prevents output of undefined data.

次に、この実施例の動作を、第1D図に示した
波形図に従つて簡単に説明する。
Next, the operation of this embodiment will be briefly explained with reference to the waveform diagram shown in FIG. 1D.

まず、所望のメモリセルから情報を読み出すた
めに、アドレス信号A0ないしA14が変化させられ
る。すると、エツジトリガから、エツジトリガパ
ルスφapdが発生される。
First, address signals A 0 to A 14 are changed to read information from the desired memory cell. Then, an edge trigger pulse φ apd is generated from the edge trigger.

一方のパルス幅伸長回路は、このエツジトリガ
パルスφaPdを受けて、データ線等のプリチヤージ
時間を規定する基準信号φpcsを形成する。また他
方のパルス幅伸長回路は、このエツジトリガパル
スφapdの立下りに応答して、ワード線選択タイミ
ング信号φXと、ワード線をメモリセルの選択レ
ベルまで立上げるのに要する時間に対応したパル
ス幅を有する基準信号φXSを形成する。ワード線
選択タイミング信号φXが立ち上がることにより、
所望のメモリセルが結合されたワード線及びそれ
に対応したダミーワード線の電位が上昇し始め
る。
One pulse width expansion circuit receives this edge trigger pulse φ aPd and forms a reference signal φ pcs that defines the precharge time of the data line, etc. In addition, in response to the falling edge trigger pulse φ apd , the other pulse width expansion circuit generates a word line selection timing signal φ A reference signal φXS having a pulse width is formed. When the word line selection timing signal φX rises,
The potentials of the word line connected to the desired memory cell and the corresponding dummy word line begin to rise.

アドレス信号が変化してから、予じめ決められ
た時間だけ経過すると、すなわち、データ線及び
センスアンプ等のプリチヤージに要する時間だけ
経過すると、基準信号φPCSが立ち下る。これに応
答して、内部タイミング信号発生回路は、タイミ
ング信号φSを立ち上げるとともに、タイミング信
号φPCを立ち下げる。タイミング信号φPCが立ち下
がることにより、データ線およびセンスアンプ等
のプリチヤージが終了する。これに対して、メイ
ンアンプは、タイミング信号φSが立ち上がるた
め、プリチヤージされ始める。
When a predetermined time has elapsed since the address signal changed, that is, when the time required for precharging the data lines, sense amplifiers, etc. has elapsed, the reference signal φ PCS falls. In response, the internal timing signal generation circuit raises the timing signal φ S and lowers the timing signal φ PC . When the timing signal φ PC falls, precharging of the data line, sense amplifier, etc. is completed. On the other hand, the main amplifier starts to be precharged because the timing signal φ S rises.

また、タイミング信号発生回路は、タイミング
信号φSのハイレベルの立ち上がりに続いて、タイ
ミング信号φlaをロウレベルに立ち下げる。これ
により、今まで活性化されていた、メインアンプ
及びその後段のインバータが不活性状態となり、
メインアンプのラツチが解除される。
Further, the timing signal generation circuit lowers the timing signal φ la to a low level following the rise of the timing signal φ S to a high level. As a result, the main amplifier and the subsequent inverter, which had been activated until now, become inactive.
The main amplifier is unlatched.

このため、メインアンプのノードNBoは、前
に出力していた状態からプリチヤージに変化す
る。
Therefore, the node NB o of the main amplifier changes from its previous output state to precharge.

また、このタイミング信号φSが立ち上がるた
め、所望のメモリセルが結合された接地線のデイ
スチヤージ用MOSFETと、この所望のメモリセ
ルに対応したダミーセルが結合された接地線のデ
イスチヤージ用MOSFETがオン状態になる。さ
らにこのとき、タイミング信号φPCが立ち下がる
ため、プリチヤージのために、全てのデータ線を
センスアンプに結合させていたカラムスイツチ
が、所望のメモリセルが結合されたデータ線と、
それに対応したダミーセルが結合されたデータ線
のみをセンスアンプに結合させるように動作す
る。このため、所望のメモリセルに記憶されてい
た情報がデータ線の電位変化として、センスアン
プの一方の入出力端子に伝わり、このセンスアン
プの他方の入出力端子に、ダミーセルからの基準
電圧が伝わるようになる。すなわち、所望のメモ
リセルが結合されたデータ線DLoの電位は、同図
に示されているように、そのメモリセルに記憶さ
れている情報に従つて、変化する。
In addition, since this timing signal φ S rises, the discharge MOSFET of the ground line connected to the desired memory cell and the discharge MOSFET of the ground line connected to the dummy cell corresponding to this desired memory cell are turned on. Become. Furthermore, at this time, since the timing signal φ PC falls, the column switch, which had connected all the data lines to the sense amplifier for precharging, connects the data line to which the desired memory cell is connected.
The corresponding dummy cell operates to couple only the coupled data line to the sense amplifier. Therefore, the information stored in the desired memory cell is transmitted to one input/output terminal of the sense amplifier as a change in the potential of the data line, and the reference voltage from the dummy cell is transmitted to the other input/output terminal of this sense amplifier. It becomes like this. That is, as shown in the figure, the potential of the data line DL o connected to a desired memory cell changes according to the information stored in that memory cell.

次に、上記基準信号φXSが立ち下がる。このと
きには、所望のメモリセルが結合されたワード線
の電位が、メモリセルの選択レベルになつてい
る。
Next, the reference signal φXS falls. At this time, the potential of the word line connected to the desired memory cell is at the memory cell selection level.

この基準信号φXSの立ち下がりに応答して、内
部タイミング信号発生回路は、タイミング信号φS
を立ち下げる。これにより、メインアンプへのプ
リチヤージが終了する。
In response to the falling of the reference signal φ XS , the internal timing signal generation circuit generates the timing signal φ
bring down. This completes precharging to the main amplifier.

内部タイミング信号発生回路は、このタイミン
グ信号φSの立ち下がりに同期して、センスアンプ
を活性化するためのタイミング信号φPA1を立ち上
げる。これにより、センスアンプが、上記メモリ
セルが結合されたデータ線と、上記ダミーセルが
結合されたデータ線との間の電位差を増幅し始め
る。
The internal timing signal generation circuit raises a timing signal φ PA1 for activating the sense amplifier in synchronization with the fall of this timing signal φ S. As a result, the sense amplifier begins to amplify the potential difference between the data line to which the memory cell is coupled and the data line to which the dummy cell is coupled.

また、内部タイミング信号発生回路は、このタ
イミング信号φPA1の立ち上がり同期して、ワード
線選択信号φXを立ち下げる。すなわち、ワード
線を非選択レベルにして、低消費電力化を図る。
Further, the internal timing signal generation circuit lowers the word line selection signal φX in synchronization with the rise of the timing signal φPA1 . That is, the word line is set to a non-select level to reduce power consumption.

上記のように、センスアンプが動作し始めるこ
とにより、所望のメモリセルが結合されたデータ
線DLoの電位は、同図にすように、それに記憶さ
れている情報に従つて、大きく変化する。
As mentioned above, when the sense amplifier starts operating, the potential of the data line DL o connected to the desired memory cell changes greatly according to the information stored therein, as shown in the figure. .

センスアンプによつて、上記1対のデータ線間
の電位差が、ある程度増幅されると、内部タイミ
ング信号発生回路は、タイミング信号φPA2を立ち
上げる。これにより、センスアンプの出力信号が
メインアンプに伝達される。
When the potential difference between the pair of data lines is amplified to some extent by the sense amplifier, the internal timing signal generation circuit raises the timing signal φ PA2 . Thereby, the output signal of the sense amplifier is transmitted to the main amplifier.

このタイミング信号φPA2の立ち上がりに続い
て、内部タイミング信号発生回路は、タイミング
信号φlaを再びハイレベルに立ち上げる。このタ
イミング信号φlaの立ち上がりにより、メインア
ンプ及びインバータが活性化され、センスアンプ
から送られてきた上記出力信号を増幅するととも
にラツチして、これをECC回路に伝える。従つ
て、メインアンプのノードNBoのレベルは、プ
リチヤージレベルから、所望のメモリセルの情報
に従つたレベルに変化する。インバータは、その
出力ノードの寄生容量に保持していたデータから
新らたなデータを出力するように変化する。
Following the rise of the timing signal φ PA2 , the internal timing signal generation circuit raises the timing signal φ la to high level again. The rise of this timing signal φ la activates the main amplifier and inverter, amplifies and latches the output signal sent from the sense amplifier, and transmits it to the ECC circuit. Therefore, the level of the node NB o of the main amplifier changes from the precharge level to the level according to the information of the desired memory cell. The inverter changes from the data held in the parasitic capacitance of its output node to output new data.

またECC回路は、インバータが古いデータか
ら新たらしいデータを出力するまでに要した時間
と、ECC回路自体の遅れ時間とにより、主に決
まるある時間の間、不定のデータを出力した後、
ECC回路によつて正確に訂正された新しいデー
タを出力るようになる。
In addition, the ECC circuit outputs undefined data for a certain period of time, which is mainly determined by the time required for the inverter to output new data from old data, and the delay time of the ECC circuit itself.
New data that has been accurately corrected by the ECC circuit will be output.

このECC回路が、不定のデータを出力してい
る間、タイミング信号φHZは、ロウレベルとされ
る。これにより、外部出力端子は、この間、フロ
ーテイング状態となつている。その後、新しいデ
ータが外部出力端子から出力されるようになる。
While this ECC circuit is outputting undefined data, the timing signal φ HZ is kept at a low level. As a result, the external output terminal is in a floating state during this time. After that, new data will be output from the external output terminal.

また、内部タイミング信号発生回路は、上記タ
イミング信号φPA1をロウレベルに立ち下げた後、
再びタイミング信号φPCをハイレベルに立ち上げ
て、再びデータ線、センスアンプ等のプリチヤー
ジを始めさせる。
Furthermore, after the internal timing signal generation circuit lowers the timing signal φPA1 to a low level,
Raise the timing signal φ PC to high level again to start precharging the data line, sense amplifier, etc. again.

なお、メインアンプが、不活性状態にされてか
ら、再びタイミング信号φlaによつて活性化され
るまでの間は、メインアンプの後段の上記インバ
ータによつて前のデータが保持されているため、
ECC回路の出力信号Doおよび外部出力端子から
の出力信号DOoは、前のデータとなつている。
Note that the previous data is held by the inverter in the latter stage of the main amplifier after the main amplifier is deactivated until it is activated again by the timing signal φ la . ,
The output signal D o of the ECC circuit and the output signal DO o from the external output terminal are the previous data.

また、タイミング信号φSのロウレベルの立ち下
げは、基準信号φPCS又は、基準信号φXSのいずれ
か、立ち下がりの遅い方によつて規定される。こ
れは、前にも述べたように、読み出し動作を確実
に行なうためである。
Further, the fall of the timing signal φ S to the low level is defined by either the reference signal φ PCS or the reference signal φ XS , whichever falls later. This is to ensure that the read operation is performed as described above.

次に、アドレス信号と、外部出力端子からの出
力データDOo(n=0〜7)との関係について述
べる。第11図には、アドレス信号A0〜A16と、
出力データ線DOoとの関係が示されている。
Next, the relationship between the address signal and the output data DO o (n=0 to 7) from the external output terminal will be described. In FIG. 11, address signals A 0 to A 16 and
The relationship with the output data line DO o is shown.

アドレス信号A0〜A14のいずれか1つのアドレ
ス信号が変化すると、前述したように、32ビツト
のデータがECC回路から出力されるようになる。
特に制限されないが、この実施例においては、こ
の32ビツトのデータを4つの組み分けて時分割的
に外部出力端子から取り出すことができるように
なつている。すなわち、アドレス信号A15とA16
の組み合わせにより、4つの組みのいずれを取り
出すかを決めることができるようになつている。
When any one of the address signals A0 to A14 changes, 32-bit data is output from the ECC circuit, as described above.
Although not particularly limited, in this embodiment, the 32-bit data can be divided into four groups and taken out from the external output terminals in a time-division manner. i.e. address signals A 15 and A 16
Depending on the combination of , it is possible to decide which of the four sets to take out.

第11図に示されているように、アドレス信号
A15,A16の組み合わせをの状態にすると、外
部出力端子からはDO()で示されている8ビ
ツトのデータを取り出すことができる。これに続
いてアドレス信号A15,A16の組み合わせをの
状態にすると、短時間の間に、この状態に従つた
DO()で示されている8ビツトのデータを取
り出すことができる。以下、同様にして、短時間
で、DO()で示されている8ビツトのデータ
およびDO()で示されている8ビツトのデー
タを取り出すことができる。
As shown in Figure 11, the address signal
When the combination of A 15 and A 16 is set to the state, 8-bit data indicated by DO() can be extracted from the external output terminal. Following this, if the combination of address signals A 15 and A 16 is set to the state, it follows this state for a short time.
The 8-bit data indicated by DO() can be extracted. Thereafter, the 8-bit data indicated by DO() and the 8-bit data indicated by DO() can be retrieved in a short time in the same manner.

このように短時間で、DO()のデータ、DO
()のデータ及びDO()のデータを取り出す
ことができる理由は、すでに、データDO(〇
1)を取り出すときに、DO()ないしDO()
のデータがECC回路の出力ノードまで達してい
るからである。
In this way, in a short time, the data in DO(), DO
The reason why data in () and data in DO() can be retrieved is that when retrieving data DO(〇1), DO() or DO()
This is because the data reaches the output node of the ECC circuit.

この実施例によれば、データビツト数を多くし
て、必要なバリテイビツト数の占める割合を小さ
くしているので、メモリアレイの実質的な容量を
大きくできる。そして、ECC回路の出力データ
は、マルチプレクサによつて、数回に分けて時分
割的に出力するので、出力端子数が増加すること
はない。これにより、1チツプの半導体記憶装置
において、そのメモリアレイへの記憶容量が実質
的に大きくできるとともに、その欠陥ビツトの救
済と読出しを効率良く行なうことができる。
According to this embodiment, the number of data bits is increased and the ratio occupied by the required number of validity bits is reduced, so that the actual capacity of the memory array can be increased. Since the output data of the ECC circuit is divided into several times and output in a time-sharing manner by the multiplexer, the number of output terminals does not increase. As a result, in a one-chip semiconductor memory device, the storage capacity of the memory array can be substantially increased, and defective bits can be repaired and read out efficiently.

そして、メモリアレイから同時に読出す記憶用
MOSFETを、前述のようにセンスアンプに対応
したブロツクに分けてあるので、半導体基板上に
おいてこれらの記憶用MOSFETは分散されるこ
とになる。したがつて、半導体基板上において複
数ビツトにわたつて集中的に発生する欠陥メモリ
セルがあつても、これらは読出し時に分散されて
読出されるので、前記1ビツト訂正機能のECC
回路を用いるものとしてもこれらを確実に救済す
ることができる。
and for storage to be read simultaneously from the memory array.
Since the MOSFETs are divided into blocks corresponding to sense amplifiers as described above, these storage MOSFETs are distributed on the semiconductor substrate. Therefore, even if there are defective memory cells that occur intensively over multiple bits on the semiconductor substrate, these are dispersed and read out during readout, so that the ECC of the 1-bit correction function is
Even if a circuit is used, these problems can be reliably relieved.

また、メモリアレイ及びセンスアンプをダイナ
ミツク型回路とした場合において、メインアンプ
を設けることによりECC回路にスタテイツクな
読出しデータ及びパリテイ信号が供給されるよう
になつているので、ECC回路の構成及び動作を
簡素化することができる。
Furthermore, when the memory array and sense amplifier are configured as dynamic circuits, static read data and parity signals are supplied to the ECC circuit by providing a main amplifier. It can be simplified.

さらに、前記実施例のようにスタテイツク型回
路とダイナミツク回路とを組合せて記憶装置を構
成した場合には、低消費電力化を図りつつ、その
外部からの取り扱いを簡便することができる。そ
して、CMOS回路で構成することにより、スタ
テイツク型回路での消費電力が小さくできるの
で、よりつそうの消費電力化を図ることができ
る。
Furthermore, when a storage device is configured by combining a static type circuit and a dynamic circuit as in the above embodiment, it is possible to reduce power consumption and simplify external handling. Furthermore, by configuring the CMOS circuit, the power consumption of the static type circuit can be reduced, so that even higher power consumption can be achieved.

この発明は、前記実施例に限定されない。 The invention is not limited to the above embodiments.

半導体記憶装置にECC回路を内蔵させる場合
には、前述したような問題が生じる。したがつ
て、この発明は、上記問題を解決するものとして
ECC回路内蔵の半導体記憶装置、例えば、各種
の半導ROMの他、半導体RAMに広く利用する
ことができる。
When incorporating an ECC circuit into a semiconductor memory device, the above-mentioned problems arise. Therefore, this invention solves the above problem.
It can be widely used in semiconductor memory devices with built-in ECC circuits, such as various semiconductor ROMs and semiconductor RAMs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1A図は、この発明の一実施例を示すブロツ
ク図、第1B図は、そのエツジトリガ及びタイミ
ング発生回路の一実施例を示すブロツク図、第1
C図は、エツジトリガの動作を説明するためのタ
イミング図、第1D図は、エツジトリガ及びタイ
ミング発生回路の動作を説明するための波形図、
第1E図は、アドレスバツフア回路の一実施例を
示す回路図、第1F図は、論理和回路の一実施例
を示す回路図、第1G図は、インバータ回路の一
実施例を示す回路図、第2A図は、メモリアレイ
及びセンスアンプの具体的一実施例を示す回路
図、第2B図は、MOSFETの回路記号を示した
図、第2C図は、インバータ回路の一実施例を示
す論理記号図、第3図は、Xデコーダの一実施例
を示す回路図、第4図は、Y1デコーダの一実施
例を示す回路図、第5図は、ECC回路の一実施
例を示す概略図、第6図は、その一実施例を示す
検査マトリツクスと書込/読出しデータのビツト
パターン図、第7図は、排他的論理和回路の一実
施例を示す回路図、第8図は、読出し動作を説明
するためのタイミング図、第9図は、マルチプレ
クサ及び出力バツフアの一実施例を示す回路図、
第10図は、Y2デコーダ及びアドレスバツフア
回路の一実施例を示す回路図、第11図は、時分
割的に出力データを取り出すことを説明するため
のタイミング図である。
FIG. 1A is a block diagram showing one embodiment of the present invention, FIG. 1B is a block diagram showing one embodiment of the edge trigger and timing generation circuit, and FIG.
Figure C is a timing diagram for explaining the operation of the edge trigger, Figure 1D is a waveform diagram for explaining the operation of the edge trigger and timing generation circuit,
FIG. 1E is a circuit diagram showing one embodiment of the address buffer circuit, FIG. 1F is a circuit diagram showing one embodiment of the OR circuit, and FIG. 1G is a circuit diagram showing one embodiment of the inverter circuit. , FIG. 2A is a circuit diagram showing a specific example of a memory array and sense amplifier, FIG. 2B is a diagram showing circuit symbols of MOSFETs, and FIG. 2C is a logic diagram showing an example of an inverter circuit. Symbol diagram, FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of the X decoder, FIG. 4 is a circuit diagram showing one embodiment of the Y1 decoder, and FIG. 5 is a schematic diagram showing one embodiment of the ECC circuit. 6 is a diagram of a check matrix and a bit pattern of write/read data showing one embodiment of the test matrix, FIG. 7 is a circuit diagram showing an embodiment of an exclusive OR circuit, and FIG. A timing diagram for explaining a read operation; FIG. 9 is a circuit diagram showing an embodiment of a multiplexer and an output buffer;
FIG. 10 is a circuit diagram showing one embodiment of the Y2 decoder and address buffer circuit, and FIG. 11 is a timing diagram for explaining time-divisionally extracting output data.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 外部からのアドレス信号を受けるアドレス端
子と、外部へデータを出力するためのD個のデー
タ出力端子(Dは整数、D>1)と、ROMメモ
リアレイと、ECC回路と、センスアンプと、デ
コーダとを含む半導体記憶装置において、 上記ECC回路は上記メモリアレイからのmビ
ツト(mは整数でDの倍数、倍数は2以上)のデ
ータ信号と該mビツトのデータ信号の対応したn
ビツト(nは整数、n>1)のパリテイ信号とを
受けて、少なくとも上記データ出力端子数よりも
多いデータの誤り訂正を行なうように構成されて
なり、上記ECC回路からの誤り訂正されたmビ
ツトのデータをメモリセルを選択なしいアドレス
信号に基づき、Dビツトごとに複数回にわたつて
順次に出力するマルチプレクサと、該マルチプレ
クサの出力信号を受けて、データを出力する出力
バツフアとを有することを特徴とする半導体記憶
装置。 2 上記メモリアレイはダイナミツク型メモリア
レイで構成されることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体記憶装置。 3 上記半導体記憶装置はCMOS回路によつて
構成されるものであることを特徴とする特許請求
の範囲第1項乃至第2項のうち1つに記載の半導
体記憶装置。
[Claims] 1. An address terminal that receives an address signal from the outside, D data output terminals (D is an integer, D>1) for outputting data to the outside, a ROM memory array, and an ECC circuit. In a semiconductor memory device including a sense amplifier and a decoder, the ECC circuit receives an m-bit data signal (m is an integer and a multiple of D, where the multiple is 2 or more) from the memory array and the m-bit data signal. corresponding n
The circuit is configured to receive a parity signal of bits (n is an integer, n>1) and perform error correction of at least more data than the number of data output terminals, and the error-corrected m A multiplexer that sequentially outputs bit data multiple times for each D bit based on an address signal that does not select a memory cell, and an output buffer that receives the output signal of the multiplexer and outputs the data. A semiconductor memory device characterized by: 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory array is a dynamic memory array. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is constituted by a CMOS circuit.
JP57097826A 1982-06-09 1982-06-09 Semiconductor storage device Granted JPS58215797A (en)

Priority Applications (20)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57097826A JPS58215797A (en) 1982-06-09 1982-06-09 Semiconductor storage device
FR838308194A FR2528613B1 (en) 1982-06-09 1983-05-18 SEMICONDUCTOR MEMORY
GB08315593A GB2123640B (en) 1982-06-09 1983-06-07 A semiconductor memory
GB08600841A GB2168213B (en) 1982-06-09 1983-06-07 A read only semiconductor memory
DE3320673A DE3320673A1 (en) 1982-06-09 1983-06-08 SEMICONDUCTOR STORAGE
IT21520/83A IT1218349B (en) 1982-06-09 1983-06-08 SEMICONDUCTOR MEMORY, PARTICULARLY READ-ONLY MEMORY
US06/502,636 US4604749A (en) 1982-06-09 1983-06-09 Semiconductor memory
GB8519908A GB2162397A (en) 1982-06-09 1985-08-08 A semiconductor memory
GB8519909A GB2162398B (en) 1982-06-09 1985-08-08 A semiconductor memory
GB08519907A GB2163313B (en) 1982-06-09 1985-08-08 A semiconductor memory
US06/820,523 US4839860A (en) 1982-06-09 1986-01-17 Semiconductor device having head only memory with differential amplifier
MYPI87001787A MY100601A (en) 1982-06-09 1987-09-21 A semiconductor memory.
SG87587A SG87587G (en) 1982-06-09 1987-10-12 A semiconductor memory
SG882/87A SG88287G (en) 1982-06-09 1987-10-12 A semiconductor memory
SG87787A SG87787G (en) 1982-06-09 1987-10-12 A semiconductor memory
SG87087A SG87087G (en) 1982-06-09 1987-10-12 A semiconductor memory
HK13/88A HK1388A (en) 1982-06-09 1988-01-07 A semiconductor memory
HK14/88A HK1488A (en) 1982-06-09 1988-01-07 A semiconductor memory
HK10/88A HK1088A (en) 1982-06-09 1988-01-07 A semiconductor memory
HK12/88A HK1288A (en) 1982-06-09 1988-01-07 A semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57097826A JPS58215797A (en) 1982-06-09 1982-06-09 Semiconductor storage device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58215797A JPS58215797A (en) 1983-12-15
JPH0560197B2 true JPH0560197B2 (en) 1993-09-01

Family

ID=14202526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57097826A Granted JPS58215797A (en) 1982-06-09 1982-06-09 Semiconductor storage device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS58215797A (en)
MY (1) MY100601A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2849804B2 (en) * 1995-10-13 1999-01-27 合泰半導体股▲分▼有限公司 Memory access interface circuit and memory access method
KR0167298B1 (en) * 1995-12-20 1999-01-15 문정환 Fast access memory device
JP2009070509A (en) 2007-09-14 2009-04-02 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53143134A (en) * 1977-05-20 1978-12-13 Hitachi Ltd Semiconductor memory element
JPS55125597A (en) * 1979-03-19 1980-09-27 Nec Corp Semiconductor memory circuit

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53143134A (en) * 1977-05-20 1978-12-13 Hitachi Ltd Semiconductor memory element
JPS55125597A (en) * 1979-03-19 1980-09-27 Nec Corp Semiconductor memory circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58215797A (en) 1983-12-15
MY100601A (en) 1990-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4817052A (en) Semiconductor memory with an improved dummy cell arrangement and with a built-in error correcting code circuit
US4604749A (en) Semiconductor memory
US4747080A (en) Semiconductor memory having self correction function
US7219272B2 (en) Semiconductor integrated circuit with memory redundancy circuit
KR970011133B1 (en) Semiconductor memory
KR950005579B1 (en) Semiconductor memory device
US20050229080A1 (en) Semiconductor memory device equipped with error correction circuit
US10120741B2 (en) Semiconductor memory device
JPH11312396A (en) Multibit semiconductor memory device and error correcting method for the same
US8634260B2 (en) Semiconductor device and control method therefor
US5177743A (en) Semiconductor memory
JP2573380B2 (en) Non-volatile semiconductor memory
JPH0727716B2 (en) Memory decode drive circuit
US4878201A (en) Semiconductor memory device having an improved timing signal generator for the column selection circuit
JP3009667B2 (en) Bit line mutual arrangement type ROM
US6542422B1 (en) Semiconductor memory device performing high speed coincidence comparison operation with defective memory cell address
JPH0560197B2 (en)
US4943967A (en) Semiconductor memory with an improved dummy cell arrangement and with a built-in error correction code circuit
JP4528087B2 (en) Semiconductor memory
JP2642094B2 (en) Semiconductor storage device
US11100966B2 (en) Array edge repeater in memory device
JP4856965B2 (en) memory
JPH023188A (en) Non-volatile semiconductor memory device
US6226220B1 (en) Semiconductor memory device
JPH06243691A (en) Semiconductor memory