JPH0557939A - Manufacture of thick film type thermal print head - Google Patents

Manufacture of thick film type thermal print head

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JPH0557939A
JPH0557939A JP3222965A JP22296591A JPH0557939A JP H0557939 A JPH0557939 A JP H0557939A JP 3222965 A JP3222965 A JP 3222965A JP 22296591 A JP22296591 A JP 22296591A JP H0557939 A JPH0557939 A JP H0557939A
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heating resistor
dot
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photoresist film
heat generating
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Abstract

PURPOSE:To reduce manufacturing cost for manufacturing a thermal print head whose heat generating resistor is divided into a plurality of dot heat generating resistors, in thermal print head of thick film type. CONSTITUTION:On a top surface of a head substrate 10, a heat generating resistor 15 is formed so as to extend in the shape of a line over both a common conductor pattern 13 and individual conductor patterns 14, Next, on the top surface of the head substrate 10, a photoresist film 16 is formed so as to cover the heat generating resistor 15. Thereafter, openings 16a are formed on each part between each individual conductor pattern in the photoresist film 16. Then, fine abrasive powders are sprayed on the part of the heat generating resistor 15, so that the line-like heat generating resistor 15 is divided into a plurality of dot heat generating resistors 15a.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ファクシミリ又はプリ
ンタ装置等に使用されるサーマルプリントヘッドのう
ち、発熱抵抗体を厚膜状にしたいわゆる厚膜型サーマル
プリントヘッドを製造する方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a so-called thick film type thermal print head in which a heating resistor is formed into a thick film, of thermal print heads used in facsimiles or printers. ..

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、厚膜型サーマルプリントヘッド
には、連続ドット型のものと、独立ドット型のものとが
ある。前者の連続ドット型のものは、例えば、実開平1
−158136号公報及び特開平1−321644号公
報等に記載され、且つ、図13及び図14に示すよう
に、ヘッド基板1aの上面に、厚膜状の発熱抵抗体2a
をライン状に形成し、このライン状発熱抵抗体2aに、
共通導体パターン3aと、個別導体パターン4aとを適
宜ピッチの間隔で接続して、前記ライン状発熱抵抗体2
aのうち前記共通導体パターン3aと前記個別導体パタ
ーン4aとの間のドット発熱抵抗体を、各々別々に発熱
させるようにしたものである。
2. Description of the Related Art Generally, thick film type thermal print heads include continuous dot type and independent dot type. The former continuous dot type is, for example,
As described in JP-A-158136 and JP-A-1-321644, and as shown in FIGS. 13 and 14, a thick film heating resistor 2a is formed on the upper surface of the head substrate 1a.
Is formed in a line shape, and the line-shaped heating resistor 2a is
The line-shaped heat generating resistor 2 is formed by connecting the common conductor pattern 3a and the individual conductor pattern 4a at an appropriate pitch.
Among a, the dot heating resistors between the common conductor pattern 3a and the individual conductor pattern 4a are individually made to generate heat.

【0003】一方、後者の独立ドット型のものは、例え
ば特開昭54−123039号公報の第1図A等に記載
され、且つ、図15及び図16に示すように、ヘッド基
板1bの上面に、複数個のドット状発熱抵抗体2bを一
列状に形成し、この各ドット状発熱抵抗体2bの各々
に、共通導体パターン3aと、個別導体パターン4aと
を適宜ピッチの間隔で接続して、各ドット発熱抵抗体2
bを、各々別々に発熱させるようにしたものである。
On the other hand, the latter independent dot type is described in, for example, FIG. 1A of JP-A-54-123039, and as shown in FIGS. 15 and 16, the upper surface of the head substrate 1b. , A plurality of dot-shaped heating resistors 2b are formed in a line, and a common conductor pattern 3a and an individual conductor pattern 4a are connected to each of the dot-shaped heating resistors 2b at appropriate pitch intervals. , Each dot heating resistor 2
b is designed to generate heat separately.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前者の連続
ドット型のものは、ヘッド基板1aに発熱抵抗体2aを
ライン状に形成することによって、多数個のドット発熱
抵抗体を一挙に形成することができるから、製造方法が
簡単で、安価に製造できると共に、ドット発熱抵抗体の
密度(単位長さ当たりに設けることができるドット発熱
抵抗体の数)を高密度にすることができる等の利点を有
する。
In the former continuous dot type, however, a large number of dot heating resistors are formed all at once by forming the heating resistors 2a in a line on the head substrate 1a. The advantages are that the manufacturing method is simple and can be manufactured at low cost, and the density of the dot heating resistors (the number of dot heating resistors that can be provided per unit length) can be increased. Have.

【0005】しかし、その反面、前記各ドット発熱抵抗
体における抵抗値を、当該ドット発熱抵抗体に対して共
通導体パターン3a及び個別導体パターン4aを介して
電流を印化することによって所定値になるように調整
(トリミング)するに際して、一つの個別導体パターン
4aに接続される二つのドット発熱抵抗体に対して同時
に調整用の電流が印加されることになり、換言すると、
各ドット発熱抵抗体の抵抗値調整を二つのドット発熱抵
抗体について行うので、各ドット発熱抵抗体の間の抵抗
値にアンバランスが発生し易くて、印字品質が低いと言
う問題がある。
However, on the other hand, the resistance value of each dot heating resistor is set to a predetermined value by impressing a current on the dot heating resistor via the common conductor pattern 3a and the individual conductor pattern 4a. When the adjustment (trimming) is performed as described above, the adjustment current is simultaneously applied to the two dot heating resistors connected to one individual conductor pattern 4a. In other words,
Since the resistance value of each dot heating resistor is adjusted with respect to the two dot heating resistors, there is a problem that imbalance easily occurs in the resistance value between the dot heating resistors and the print quality is low.

【0006】これに対して、後者の独立ドット型のもの
は、各ドット発熱抵抗体2bに対する抵抗値調整を、各
ドット発熱抵抗体2bの各々について別々に行うことが
できるので、抵抗値のバラ付きが小さくて、印字品質を
高いと言う利点を有する反面、ヘッド基板1bの上面
に、複数個のドット発熱抵抗体2bを各々別々に独立し
て形成するために、ドット密度を、高密度にすることが
できないと言う問題があった。
On the other hand, in the latter independent dot type, since the resistance value adjustment for each dot heating resistor 2b can be performed separately for each dot heating resistor 2b, the resistance value varies. While it has the advantage that the attachment is small and the printing quality is high, a plurality of dot heating resistors 2b are separately and independently formed on the upper surface of the head substrate 1b. There was a problem that I could not do it.

【0007】そこで、最近では、この独立ドット型のも
のにおいて、多数個のドット発熱抵抗体を高密度で形成
するために「リフトオホ法」又は「エッチング法」を採
用している。しかしながら、「リフトオホ法」は、例え
ば、第4回マイクロエレクトロニクスシンポジウム(M
ES’91),1991年5月,東京、45Pの「リフ
トオフ法によるサーマルヘッド用発熱素子形成技術」に
記載されているように、きわめて複雑な工程を必要とす
るので、製造コストが大幅にアップするのである。
Therefore, recently, in the independent dot type, the "lift-off method" or the "etching method" is adopted to form a large number of dot heating resistors at high density. However, the "lift lift method" is used, for example, in the 4th Microelectronics Symposium (M
ES'91), Tokyo, May 1991, 45P, "Technology for forming a heating element for a thermal head by a lift-off method", which requires extremely complicated steps, resulting in a significant increase in manufacturing cost. To do.

【0008】一方、「エッチング法」は、ヘッド基板の
上面に、発熱抵抗体をライン状に延びるように形成し、
次いで、このライン状発熱抵抗体をホトレジスト膜にて
被覆したのち、このホトレジスト膜のうち各個別導体パ
ターン間の部分の各々に、マスク露光・現像によって開
口部を形成し、この状態で全体をエッチング処理するこ
とにより、前記ライン状発熱抵抗体を、エッチング液に
て、多数個のドット発熱抵抗体に溶解・分断するのであ
るが、発熱抵抗体をエチッグン液による溶解にて分断す
るに際しては、きわめて特殊なエチッング液を使用しな
ければならないことに加えて、このエッチング液を後処
理しなければならず、しかも、厚膜状の発熱抵抗体を、
エッチング液の溶解によって多数個のドット発熱抵抗体
に分断することには可成り長い時間を必要とするから、
これまた、製造コストが大幅にアップするのであった。
On the other hand, in the "etching method", a heating resistor is formed on the upper surface of the head substrate so as to extend linearly,
Next, after covering this line-shaped heating resistor with a photoresist film, an opening is formed by mask exposure and development in each part of this photoresist film between each individual conductor pattern, and the whole is etched in this state. By processing, the line-shaped heating resistor is dissolved and divided into a large number of dot heating resistors by an etching solution.However, when the heating resistor is cut by dissolution by the ethigun solution, it is extremely difficult. In addition to having to use a special etching solution, this etching solution must be post-processed, and moreover, a thick film heating resistor,
Since it takes a considerably long time to divide into a large number of dot heating resistors by dissolving the etching solution,
In addition, the manufacturing cost was significantly increased.

【0009】本発明は、前記した二つの厚膜型サーマル
プリントヘッドのうち、後者の独立ドット型のものを、
簡単な工程で安価に製造できる方法を提供することを技
術的課題とする。
The present invention is based on the latter independent dot type of the two thick film type thermal print heads described above.
It is a technical object to provide a method that can be manufactured at low cost with a simple process.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、ヘッド基板の上面に、共通導体パター
ンと個別パターンとを形成すると共に、発熱抵抗体を、
前記共通導体パターン及び個別導体パターンの両方に跨
がってライン状に延びるように形成し、次いで、前記ヘ
ッド基板の上面にホトレジスト膜を、少なくとも前記発
熱抵抗体を覆うように形成したのち、このホトレジスト
膜に対してマスク露光・現像を行って、当該ホトレジス
ト膜のうち前記各個別導体パターン間の部分の各々に開
口部を形成し、次いで、前記発熱抵抗体の部分に対して
微細な研磨粒子を吹き付けて、前記ライン状発熱抵抗体
を、前記各個別導体パターンごとのドット発熱抵抗体に
分断すると言う方法を採用した。
In order to achieve this technical object, the present invention forms a common conductor pattern and an individual pattern on the upper surface of a head substrate, and a heating resistor
It is formed so as to extend in a line shape across both the common conductor pattern and the individual conductor pattern, and then a photoresist film is formed on the upper surface of the head substrate so as to cover at least the heating resistor. Mask exposure / development is performed on the photoresist film to form openings in each of the portions of the photoresist film between the individual conductor patterns, and then fine abrasive particles are formed on the portion of the heating resistor. Was sprayed to divide the linear heating resistor into dot heating resistors for each individual conductor pattern.

【0011】[0011]

【作 用】このように、ヘッド基板の上面に、発熱抵抗
体を覆うホトレジスト膜を形成し、このホトレジスト膜
のうち各個別導体パターン間の部分の各々に開口部を形
成したのち、前記発熱抵抗体に対して微細な研磨粒子を
吹き付けることにより、この研磨粒子は、前記ホトレジ
スト膜に形成した開口部から侵入して、前記発熱抵抗体
のうち前記開口部内の部分に対して直接的に衝突するこ
とにより、当該部分の発熱抵抗体を研磨・切削するか
ら、前記ライン状の発熱抵抗体を、前記各個別導体パタ
ーンごとのドット発熱抵抗体に分断することができるの
である。
[Operation] In this way, a photoresist film covering the heating resistor is formed on the upper surface of the head substrate, and an opening is formed in each of the portions of the photoresist film between the individual conductor patterns. By spraying fine abrasive particles onto the body, the abrasive particles penetrate through the opening formed in the photoresist film and directly collide with the portion of the heating resistor inside the opening. As a result, since the heating resistor in that portion is polished and cut, the line-shaped heating resistor can be divided into the dot heating resistors for each of the individual conductor patterns.

【0012】[0012]

【発明の効果】このように、本発明は、ライン状に形成
した発熱抵抗体を、微細な研磨粒子の吹き付けによっ
て、多数個のドット発熱抵抗体に分断するもので、その
分断を、前記エッチング液の溶解によって分断よりも遙
かに短い時間で行うことができると共に、極く普通の研
磨粒子を使用することができ、しかも、研磨粒子を繰り
返して使用することもできるから、その製造コストを、
前記した「リフトオフ法」及び「エッチング法」の場合
よりも、大幅に低減できる効果を有する。
As described above, according to the present invention, the heating resistor formed in a line shape is divided into a large number of dot heating resistors by spraying fine abrasive particles. It can be carried out in a much shorter time than the separation by dissolving the liquid, and very ordinary abrasive particles can be used, and further, the abrasive particles can be used repeatedly, so that the production cost thereof can be reduced. ,
Compared with the above-mentioned "lift-off method" and "etching method", it has the effect of being able to reduce significantly.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面について説明す
る。先づ、図1に示すように、上面にグレーズ層11を
形成したヘッド基板10を用意し、このヘッド基板10
におけるグレーズ層11の上面に、金等の金属ペースト
を薄膜状に塗着・焼成することによって、金属膜12を
形成し、次いで、前記金属膜12を対して従来から公知
のフォトエッチングを施すことによって、図2に示すよ
うに、共通導体パターン13と個別導体パターン14と
を形成する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. First, as shown in FIG. 1, a head substrate 10 having a glaze layer 11 formed on its upper surface is prepared.
A metal paste, such as gold, is applied in a thin film on the upper surface of the glaze layer 11 to form a metal film 12, and then the metal film 12 is subjected to conventionally known photoetching. Thus, as shown in FIG. 2, the common conductor pattern 13 and the individual conductor pattern 14 are formed.

【0014】次に、図3、図4及び図5に示すように、
前記ヘッド基板10におけるグレーズ層11の上面に、
発熱抵抗体15を、当該発熱抵抗体15が前記共通導体
パターン13及び個別導体パターン14の両方に跨がっ
てライン状に延びるように形成する。この場合、他の実
施例においては、ヘッド基板10におけるグレーズ層1
1の上面に、先づ、発熱抵抗体15をライン状に形成
し、次いで、共通導体パターン13及び個別導体パター
ン14を、前記ライン状発熱抵抗体15に連なるように
形成するようにしても良いのである。
Next, as shown in FIGS. 3, 4 and 5,
On the upper surface of the glaze layer 11 on the head substrate 10,
The heating resistor 15 is formed such that the heating resistor 15 extends in a line shape across both the common conductor pattern 13 and the individual conductor pattern 14. In this case, in another embodiment, the glaze layer 1 on the head substrate 10 is
The heating resistor 15 may be first formed in a line shape on the upper surface of 1, and then the common conductor pattern 13 and the individual conductor pattern 14 may be formed so as to be continuous with the line heating resistor 15. Of.

【0015】次いで、これらの上面に、図6に示すよう
に、適宜厚さのホトレジスト膜16を、全体を覆うよう
に形成したのち、このホトレジスト膜16に対してマス
ク露光・現像を行うことによって、図7及び図8に示す
ように、当該ホトレジスト膜16のうち前記各個別導体
パターン14間の部分の各々に開口部16aを形成す
る。
Then, as shown in FIG. 6, a photoresist film 16 having an appropriate thickness is formed on the upper surfaces of the photoresist film 16 so as to cover the entire surface, and then the photoresist film 16 is subjected to mask exposure and development. As shown in FIGS. 7 and 8, openings 16a are formed in the photoresist film 16 between the individual conductor patterns 14, respectively.

【0016】そして、前記開口部16aに対して、図7
及び図8に示すように、ノズル17から微細な研磨粒子
を空気と一緒に吹き付けるのである。すると、ノズル1
7から空気と一緒に噴出する研磨粒子は、前記ホトレジ
スト膜16に形成した開口部16aから侵入して、前記
発熱抵抗体15のうち前記開口部16a内の部分に対し
て直接的に衝突することにより、当該部分の発熱抵抗体
15を研磨・切削して、発熱抵抗体15のうち前記開口
部16aの部分に、図9に示すように、溝18が刻設さ
れることになるから、前記ライン状の発熱抵抗体15
を、前記各個別導体パターン14ごとのドット発熱抵抗
体15aに分断することができるのである。
Then, with respect to the opening 16a, as shown in FIG.
And, as shown in FIG. 8, fine abrasive particles are blown together with air from the nozzle 17. Then, nozzle 1
Abrasive particles ejected together with air from 7 penetrate through the opening 16a formed in the photoresist film 16 and directly collide with a portion of the heating resistor 15 inside the opening 16a. As a result, the heating resistor 15 in that portion is ground and cut, and the groove 18 is formed in the opening 16a of the heating resistor 15 as shown in FIG. Line-shaped heating resistor 15
Can be divided into the dot heating resistors 15a for each of the individual conductor patterns 14.

【0017】なお、本発明者の実験によると、前記ホト
レジスト膜16における開口部16aの幅寸法Sを、1
5ミクロンにした場合、粒径5ミクロンの研磨粒子の吹
き付けにて、ライン状発熱抵抗体15を多数個のトッド
発熱抵抗体15aに研磨・分断できるのであり、この場
合において、前記ホトレジスト膜16は、軟質材である
ことにより、前記研磨粒子の吹き付けによる前記ホトレ
ジスト膜16の侵食は殆ど認められなかった。
According to an experiment conducted by the present inventor, the width S of the opening 16a in the photoresist film 16 is set to 1
In the case of 5 microns, the line-shaped heating resistor 15 can be polished and divided into a number of todd heating resistors 15a by spraying abrasive particles having a particle size of 5 microns. In this case, the photoresist film 16 is Due to the soft material, the erosion of the photoresist film 16 due to the spraying of the abrasive particles was hardly recognized.

【0018】また、他の実施例においては、ライン状発
熱抵抗体15を、図9に示すように、多数個のドット発
熱抵抗体15aに完全に分断することなく、図10に示
すように、溝18の深さを浅くすることによって、不完
全な分断状態にしても良いのである。このようにして、
ライン状発熱抵抗体15を多数個のドット発熱抵抗体1
5aに分断すると、前記ホトレジスト膜16を、エッチ
ング等によって除去したのち、全体の表面に、オーバコ
ートガラス19を塗着・形成することによって、図11
及び図12に示すような、独立ドット型の厚膜型サーマ
ルプリントヘッドを得ることができるのである。
Further, in another embodiment, as shown in FIG. 9, the line-shaped heating resistor 15 is not completely divided into a large number of dot heating resistors 15a as shown in FIG. By making the depth of the groove 18 shallow, an incomplete divided state may be obtained. In this way
The line-shaped heat generating resistor 15 includes a large number of dot heat generating resistors 1.
When divided into 5a, the photoresist film 16 is removed by etching or the like, and then the overcoat glass 19 is applied and formed on the entire surface.
Also, an independent dot type thick film type thermal print head as shown in FIG. 12 can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の方法におけるヘッド基板の斜視図であ
る。
FIG. 1 is a perspective view of a head substrate in a method of the present invention.

【図2】前記ヘッド基板に、共通導体パターンと個別導
体パターンとを形成した状態の斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a state in which a common conductor pattern and individual conductor patterns are formed on the head substrate.

【図3】前記ヘッド基板に、発熱抵抗体をライン状に形
成した状態の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a state where a heating resistor is formed in a line on the head substrate.

【図4】図3のIV−IV視拡大断面図である。4 is an enlarged sectional view taken along line IV-IV of FIG.

【図5】図3のV−V視拡大断面図である。5 is an enlarged sectional view taken along line VV of FIG.

【図6】前記ヘッド基板に、ホトレジスト膜を形成した
状態の斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a state in which a photoresist film is formed on the head substrate.

【図7】前記ヘッド基板におけるホトレジスト膜に、開
口部を形成した状態の斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a state where an opening is formed in the photoresist film on the head substrate.

【図8】図7のVIII−VIII視拡大断面図である。FIG. 8 is an enlarged sectional view taken along line VIII-VIII of FIG. 7.

【図9】ライン状発熱抵抗体を多数個のトッド発熱抵抗
体に分断した状態の断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which the line heating resistor is divided into a large number of todd heating resistors.

【図10】図9の別例を示す断面図である。10 is a cross-sectional view showing another example of FIG.

【図11】完成した厚膜状サーマルプリントヘッドの斜
視図である。
FIG. 11 is a perspective view of the completed thick film thermal print head.

【図12】図11のXII −XII 視拡大断面図である。12 is an enlarged sectional view taken along line XII-XII of FIG.

【図13】従来における連続ドット型のサーマルプリン
トヘッドの斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view of a conventional continuous dot type thermal print head.

【図14】図13のXIV −XIV 視拡大断面図である。14 is an enlarged sectional view taken along line XIV-XIV of FIG.

【図15】従来における独立ドット型のサーマルプリン
トヘッドの平面図である。
FIG. 15 is a plan view of a conventional independent dot type thermal print head.

【図16】図15のXVI −XVI 視拡大断面図である。16 is an enlarged sectional view taken along line XVI-XVI of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ヘッド基板 11 グレーズ層 13 共通導体パターン 14 個別導体パターン 15 ライン状発熱抵抗体 16 ホトレジスト膜 16a 開口部 17 研磨粒子の吹き付け用ノズル 10 Head Substrate 11 Glaze Layer 13 Common Conductor Pattern 14 Individual Conductor Pattern 15 Linear Heating Resistor 16 Photoresist Film 16a Opening 17 Abrasive Particle Spraying Nozzle

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ヘッド基板の上面に、共通導体パターンと
個別パターンとを形成すると共に、発熱抵抗体を、前記
共通導体パターン及び個別導体パターンの両方に跨がっ
てライン状に延びるように形成し、次いで、前記ヘッド
基板の上面にホトレジスト膜を、少なくとも前記発熱抵
抗体を覆うように形成したのち、このホトレジスト膜に
対してマスク露光・現像を行って、当該ホトレジスト膜
のうち前記各個別導体パターン間の部分の各々に開口部
を形成し、次いで、前記発熱抵抗体の部分に対して微細
な研磨粒子を吹き付けて、前記ライン状発熱抵抗体を、
前記各個別導体パターンごとのドット発熱抵抗体に分断
することを特徴とする厚膜型サーマルプリントヘッドの
製造方法。
1. A common conductor pattern and an individual pattern are formed on an upper surface of a head substrate, and a heating resistor is formed so as to extend in a line shape across both the common conductor pattern and the individual conductor pattern. Then, a photoresist film is formed on the upper surface of the head substrate so as to cover at least the heating resistor, and then the photoresist film is subjected to mask exposure / development so that each of the individual conductors of the photoresist film is exposed. An opening is formed in each of the portions between the patterns, and then fine abrasive particles are sprayed on the portion of the heating resistor to form the line-shaped heating resistor.
A method for manufacturing a thick film type thermal print head, characterized by dividing the individual conductor patterns into dot heating resistors.
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