JPH0554694A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPH0554694A
JPH0554694A JP3215242A JP21524291A JPH0554694A JP H0554694 A JPH0554694 A JP H0554694A JP 3215242 A JP3215242 A JP 3215242A JP 21524291 A JP21524291 A JP 21524291A JP H0554694 A JPH0554694 A JP H0554694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
inspection
defect
defective
level
Prior art date
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Pending
Application number
JP3215242A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Tomohiro
靖彦 友廣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP3215242A priority Critical patent/JPH0554694A/en
Publication of JPH0554694A publication Critical patent/JPH0554694A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To shorten the selection time including a defect relief process in a semiconductor storage device. CONSTITUTION:A fuse 502 in a program circuit 5 is disconnected to set a nose P to the high level. The level of this node P sets a circuit 3 to the conductive state to form a leak line between an input terminal 1 and the ground, thereby generating a defect of input/output leak. The generated defect is first checked to select a defective article without performing the other checks. Thus, the check time is shortened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、冗長回路を有する半導
体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a redundant circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置は、全メモリセル中の1
ビットでも不良メモリセルが存在すると不良品となるた
め、大容量化が進む上で歩留り向上を計ることが困難に
なってきている。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory device has one of all memory cells.
If a defective memory cell exists even in a bit, it becomes a defective product, and it is becoming difficult to improve the yield as the capacity increases.

【0003】そのため、正規メモリセル中に発生した不
良に関してはチップ内に予め冗長のメモリセルを設けて
おき、テストにより正規メモリセルに不良が発見される
と、冗長回路を使って前記正規メモリセル中の不良メモ
リセルを回路的に切り放し、冗長メモリセルを接続する
救済処置を行っている。しかし前記正規メモリセル中の
不良メモリセルの数が冗長メモリセルの数を上回った場
合は、救済不可能なために不良品となってしまう。
Therefore, for a defect occurring in a normal memory cell, a redundant memory cell is provided in advance in the chip, and when a defect is found in the normal memory cell by a test, a redundant circuit is used to use the normal memory cell. A defective memory cell in the inside is cut off in a circuit manner, and a remedy for connecting a redundant memory cell is performed. However, if the number of defective memory cells in the normal memory cells exceeds the number of redundant memory cells, it cannot be relieved, resulting in a defective product.

【0004】図4は製造工程終了から製品出荷までをフ
ローチャートに表したものである。図4中の1次検査,
2次検査は電気特性検査であり、図4中の1次検査は救
済可能品を発見するための検査工程である。ウエハー上
に作り込まれた半導体チップは、1次検査により良品
か、不良品であるが救済可能であるものか、救済不可能
な不良品であるかを判定され、救済可能チップは前記救
済処置が施される。その後、図4中の2次検査により、
良品,救済処置施行品,不良品の半導体チップが混在す
るウエハーから良品を選別し、不良品にのみマーキング
を行っている。
FIG. 4 is a flowchart showing the process from the end of the manufacturing process to the shipment of the product. Primary inspection in Figure 4,
The secondary inspection is an electrical characteristic inspection, and the primary inspection in FIG. 4 is an inspection process for finding a repairable item. The semiconductor chip formed on the wafer is judged by the primary inspection as to whether it is a non-defective product, a defective product that can be repaired, or a defective product that cannot be repaired. Is applied. After that, by the secondary inspection in FIG.
Good wafers are selected from wafers in which semiconductor chips of non-defective products, repair treatment-implemented products, and defective products are mixed, and only defective products are marked.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】1次検査、2次検査は
各々複数の段階に分かれており、例えばリーク、機能、
消費電流、速度、動作電圧等、様々な試験が行なわれて
いる。
The primary inspection and the secondary inspection are each divided into a plurality of stages.
Various tests such as current consumption, speed, and operating voltage have been conducted.

【0006】従来の半導体記憶装置は、各々のチップが
1次検査において、良品であったか、救済処置施行品で
あったか、救済不可の不良品であったかを2次検査で識
別する方法がないため、2次検査においても全てのチッ
プを1次検査同様に段階を追って検査していく必要があ
る。そのため、1次検査で救済不可と判定されたチップ
は2次検査で1次検査と同じ段階まで試験を行なって不
良チップと判定されていた。
In the conventional semiconductor memory device, there is no method for identifying whether each chip is a non-defective product, a repair-processed product, or a non-repairable defective product in the primary inspection by the secondary inspection, and therefore, In the next inspection as well, it is necessary to inspect all chips step by step like the first inspection. Therefore, a chip determined to be unrepairable in the primary inspection is tested as a defective chip by performing the test in the secondary inspection to the same stage as the primary inspection.

【0007】2次検査の初期の検査段階では検出されな
い不良原因をもつ不良チップは、前記不良原因を検出す
る検査段階が2次検査の後期にあればあるほど検査時間
を必要とする。この結果としてウエハー1枚分の検査時
間が長くなる。特に近年は半導体記憶装置の大容量化に
伴いメモリセルの数も膨大になっているため、検査はだ
んだん長時間を必要とするようになっているそこで、本
発明は以上のような検査時間の長時間化を防ぐために、
簡単な回路を付加することにより検査時間を短縮できる
半導体記憶装置を提供することを目的とする。
A defective chip having a defect cause that is not detected in the initial inspection stage of the secondary inspection requires an inspection time as the inspection stage for detecting the defect cause is in the latter stage of the secondary inspection. As a result, the inspection time for one wafer becomes long. Particularly, in recent years, the number of memory cells has become enormous with the increase in capacity of semiconductor memory devices, so that the inspection requires a longer time. Therefore, the present invention has the above-described inspection time. In order to prevent a long time,
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can reduce the inspection time by adding a simple circuit.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、正規メモリセル中の不良メモリセルを冗長メモリセ
ルで置き換えて救済するための回路手段と、救済が不可
能であることを記憶するためのプログラム手段と、前記
プログラム手段の状態により少なくとも不良を拡大する
ための回路手段を含むことを特徴とする。
A semiconductor memory device of the present invention stores a circuit means for replacing a defective memory cell in a normal memory cell with a redundant memory cell for repair, and a memory for indicating that repair is impossible. And a circuit means for expanding at least a defect depending on the state of the program means.

【0009】[0009]

【作用】本発明では1次検査で救済不可となったチップ
をプログラムする事により、2次検査の初期の段階の試
験で不良チップとして識別できるように回路をセットす
る。従って、2次検査における前記不良チップは、1次
検査で救済不可と判定された試験の段階よりも早い段階
で選別することができる。
According to the present invention, by programming the chip that cannot be repaired in the primary inspection, the circuit is set so that it can be identified as a defective chip in the test in the initial stage of the secondary inspection. Therefore, the defective chip in the secondary inspection can be selected at an earlier stage than the stage of the test determined to be unrepairable in the primary inspection.

【0010】[0010]

【実施例】図1は本発明に係わる実施例の一例を示す回
路図である。図1の5はプログラム回路あり、図1中の
回路3はプログラム回路5の状態により不良を設定する
ための回路である。図1中での回路3は入力端子1を接
地するようにしている。プログラム回路5のヒューズ5
02が導通状態の時は、ノードQは電源電位であり”H
igh”レベルである。このノードQの”High”レ
ベルはインバータ501で反転されてノードPには”L
ow”レベルが現われる。このレベルが回路3のゲート
に印加されるので、回路3はOFF状態になり、入力端
子1から入力された信号はノアゲート2に入力される。
ヒューズ502を切断すると、ノードQは”Low”レ
ベルなり、このレベルがインバータ501に入力される
と、ノードPには”High”レベルが現われる。この
ノードPの”High”レベルが回路3のゲートに印加
されると回路3をON状態にして入力端子1を強制的に
接地させることになる。このことにより入力端子1に”
High”レベルが入力された時にリーク電流が流れる
と供に、内部信号4は常に”High”となって外部か
らの制御が不可能になる。
1 is a circuit diagram showing an example of an embodiment according to the present invention. Reference numeral 5 in FIG. 1 denotes a program circuit, and the circuit 3 in FIG. 1 is a circuit for setting a defect depending on the state of the program circuit 5. In the circuit 3 in FIG. 1, the input terminal 1 is grounded. Fuse 5 of program circuit 5
When 02 is conductive, the node Q is at the power supply potential and is "H".
"High" level. The "High" level of the node Q is inverted by the inverter 501, and "L" is applied to the node P.
The ow "level appears. Since this level is applied to the gate of the circuit 3, the circuit 3 is turned off and the signal input from the input terminal 1 is input to the NOR gate 2.
When the fuse 502 is cut, the node Q becomes "Low" level, and when this level is input to the inverter 501, the "High" level appears at the node P. When the "High" level of the node P is applied to the gate of the circuit 3, the circuit 3 is turned on and the input terminal 1 is forcibly grounded. By this, input terminal 1
In addition to the leakage current flowing when the "High" level is input, the internal signal 4 is always "High", and the external control becomes impossible.

【0011】図2は本特許に係わる別の実施例の一例を
示す回路図である。図2中の回路5は前述の図1中の回
路5と同じもので、ヒューズ502を切断すると、上記
で述べたようにノードPは”High”レベルになり、
ノードPのレベルはノアゲート2に入力される。そのた
め入力端子1からどんな信号が入力されようとも、ノア
ゲート2の出力つまり内部信号4には常に”Low”レ
ベルが出力される。よって入力端子1をチップコントロ
ール信号用の端子とすれば、ヒューズ502を切断する
ことによりチップの動作が完全に停止してしまうため、
電気特性検査の時に機能不良と判定される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of another embodiment according to the present patent. The circuit 5 in FIG. 2 is the same as the circuit 5 in FIG. 1 described above. When the fuse 502 is cut, the node P becomes the “High” level as described above.
The level of the node P is input to the NOR gate 2. Therefore, no matter what signal is input from the input terminal 1, the output of the NOR gate 2, that is, the internal signal 4 is always output at "Low" level. Therefore, if the input terminal 1 is used as a chip control signal terminal, the operation of the chip is completely stopped by cutting the fuse 502.
It is determined to be defective at the time of electrical characteristic inspection.

【0012】図3は本特許に係わる別の実施例の一例を
示す回路図である。図3の破線で囲まれた回路5は、図
1,図2のものと同じ回路である。よって、ヒューズ5
02を切断することによりノードPが”High”レベ
ルになり、回路をON状態にするため電源配線6と接地
配線7がショートする経路が作られることになる。これ
により、電気特性検査の時に、電源電流異常として不良
品と判定される。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of another embodiment according to the present patent. The circuit 5 surrounded by the broken line in FIG. 3 is the same circuit as that in FIGS. 1 and 2. Therefore, fuse 5
By disconnecting 02, the node P becomes "High" level, and a path for short-circuiting the power supply wiring 6 and the ground wiring 7 is created to turn on the circuit. As a result, at the time of the electrical characteristic inspection, it is determined that the power supply current is abnormal and the product is defective.

【0013】これまでに述べた実施例では、1次検査で
救済不可となったチップに対してプログラム回路5内の
ヒューズ502を切断することにより、あらたに新しい
不良を発生させることが可能となる。
In the above-described embodiments, a new defect can be generated by cutting the fuse 502 in the program circuit 5 for the chip that cannot be repaired by the primary inspection. ..

【0014】なお、上記実施例の破線で囲まれたプログ
ラム回路は説明のために簡単な回路例として挙げたもの
であるが、上記のようにヒューズを切断するのではな
く、レーザー照射により抵抗の抵抗値を変える方法、M
NOS,FAMOS等の不揮発性記憶素子を使う方法等
でも、同様の結果を得ることが可能である。又、前記プ
ログラム回路は、図1,図2,図3のノードPにプログ
ラムを行なわない状態と、プログラムを行な った状態
とで、逆のレベルを与えることが出来ればどの様な回
路,手段であろうともそれぞれの特性異常を発生させる
ことが可能である。
The program circuit surrounded by a broken line in the above embodiment is given as a simple circuit example for the purpose of explanation. However, instead of cutting the fuse as described above, the resistance is changed by laser irradiation. Method of changing resistance, M
Similar results can be obtained by a method using a non-volatile memory element such as NOS or FAMOS. Also, the program circuit should be able to give opposite levels to the node P in FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3 in the non-programmed state and the programmed state. It is possible to cause each characteristic abnormality regardless of the means.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上に述べた本発明により、チップの1
次検査において救済不可となった製品をプログラム回路
で不良を拡大して、2次検査の初期段階で選別する事が
出来る。
According to the present invention described above, the chip 1
Products that cannot be repaired in the secondary inspection can be sorted out in the initial stage of the secondary inspection by expanding defects in the program circuit.

【0016】従って、選別に要する時間を短縮すると供
に、製品に対する検査コストを削減できるという効果が
ある。
Therefore, there is an effect that the inspection time for the products can be reduced as well as the time required for the selection can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の回路図。FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の別の実施例での回路図。FIG. 2 is a circuit diagram of another embodiment of the present invention.

【図3】本発明のさらに別の実施例での回路図。FIG. 3 is a circuit diagram of still another embodiment of the present invention.

【図4】製造の終了した半導体記憶装置の電気特性検査
工程から製品出荷までのフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart from an electrical characteristic inspection process of a manufactured semiconductor memory device to product shipment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・入力端子 2・・・ノアゲート 3・・・不良設定回路 4・・・内部信号 5・・・プログラム回路 501・・・インバータ 502・・・ヒューズ 503・・・抵抗 6・・・電源配線 7・・・接地配線 P,Q・・・各図におけるノード 1 ... Input terminal 2 ... NOR gate 3 ... Fault setting circuit 4 ... Internal signal 5 ... Program circuit 501 ... Inverter 502 ... Fuse 503 ... Resistor 6 ... Power supply Wiring 7 ... Ground wiring P, Q ... Nodes in each figure

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/82 27/04 T 8427−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/82 27/04 T 8427-4M

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】正規メモリセル中の不良メモリセルを冗長
メモリセルで置き換えて救済するための回路手段と、救
済が不可能であることを記憶するためのプログラム手段
と、前記プログラム手段の状態により少なくとも不良を
拡大するための回路手段を含むことを特徴とする半導体
記憶装置。
1. A circuit means for replacing a defective memory cell in a normal memory cell with a redundant memory cell to relieve, a program means for storing that relieving is impossible, and a state of the program means. A semiconductor memory device comprising at least circuit means for magnifying a defect.
JP3215242A 1991-08-27 1991-08-27 Semiconductor storage device Pending JPH0554694A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5768290A (en) * 1996-10-22 1998-06-16 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit device incorporating fuse-programmable pass/fail identification circuit and pass/fail determination method thereof
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