JPH05282892A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH05282892A
JPH05282892A JP4081038A JP8103892A JPH05282892A JP H05282892 A JPH05282892 A JP H05282892A JP 4081038 A JP4081038 A JP 4081038A JP 8103892 A JP8103892 A JP 8103892A JP H05282892 A JPH05282892 A JP H05282892A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
level
circuit
node
test
inspection
Prior art date
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Pending
Application number
JP4081038A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Tomohiro
靖彦 友廣
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH05282892A publication Critical patent/JPH05282892A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce an inspection cost by shortening an inspection sorting time including the step of relieving a defective product in a semiconductor memory having a redundancy circuit. CONSTITUTION:If a fuse 302 of a programming circuit 3 is not melted, a 'high' level is present at a node P, a 'low' level of an inverted level of the node P by an inverter is present at a node Q, and one of the inputs of the NAND gate is always set to the 'low' level, and hence an output of a test output terminal 4 becomes a 'high' level irrespective of the input from a test input terminal 1. If the fuse 302 is melted, the node P is the 'low' level and the node Q becomes the 'high' level. Since one of inputs of the NAND gate is the 'high' level, if the terminal 1 is the 'high' level, a 'low' level is output to a test output terminal 4. Accordingly, propriety can be identified according to a state of the programming circuit.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、冗長回路を有する半導
体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a redundant circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置は、全メモリセル中の1
ビットでも不良メモリセルが存在すると不良品となるた
め、大容量化が進む上で歩留り向上を計ることが困難に
なってきている。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory device has one of all memory cells.
If a defective memory cell exists even in a bit, it becomes a defective product, and it is becoming difficult to improve the yield as the capacity increases.

【0003】そのため、正規メモリセル中に発生した不
良に関してはチップ内に予め冗長のメモリセルを設けて
おき、テストにより正規メモリセルに不良が発見される
と、冗長回路を使って前記正規メモリセル中の不良メモ
リセルを回路的に切り放し、冗長メモリセルを接続する
救済処置を行っている。しかし前記正規メモリセル中の
不良メモリセルの数が冗長メモリセルの数を上回った場
合は、救済不可能なために不良品となってしまう。
Therefore, for a defect occurring in a normal memory cell, a redundant memory cell is provided in advance in the chip, and when a defect is found in the normal memory cell by a test, a redundancy circuit is used for the normal memory cell. A defective memory cell in the inside is cut off in a circuit manner, and a remedy for connecting a redundant memory cell is performed. However, if the number of defective memory cells in the normal memory cells exceeds the number of redundant memory cells, it cannot be relieved, resulting in a defective product.

【0004】図5は製造工程終了から製品出荷までをフ
ローチャートに表したものである。図5中の1次検査,
2次検査は電気特性検査であり、図5中の1次検査は救
済可能品を発見するための検査工程である。ウエハー上
に作り込まれた半導体チップは、1次検査により良品
か、不良品であるが救済可能であるものか、救済不可能
な不良品であるかを判定され、救済可能チップは前記救
済処置が施される。その後、図5中の2次検査により、
良品,救済処置施行品,不良品の半導体チップが混在す
るウエハーから良品を選別し、不良品にのみマーキング
を行っている。
FIG. 5 is a flow chart showing the process from the end of the manufacturing process to the shipment of the product. Primary inspection in Figure 5,
The secondary inspection is an electrical characteristic inspection, and the primary inspection in FIG. 5 is an inspection process for finding a repairable item. The semiconductor chip formed on the wafer is determined by the primary inspection as to whether it is a non-defective product, a defective product that can be repaired, or a defective product that cannot be repaired. Is applied. After that, by the secondary inspection in FIG.
Good wafers are selected from wafers in which semiconductor chips of non-defective products, repair treatment-implemented products, and defective products are mixed, and only defective products are marked.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】1次検査、2次検査は
各々複数の段階に分かれており、例えばリーク、機能、
消費電流、速度、動作電圧等、様々な試験が行なわれて
いる。
The primary inspection and the secondary inspection are each divided into a plurality of stages.
Various tests such as current consumption, speed, and operating voltage have been conducted.

【0006】従来の半導体記憶装置は、各々のチップが
1次検査において良品であったか、救済処置施行品であ
ったか、救済不可の不良品であったか、ということを2
次検査で識別する方法がないため、2次検査においても
全てのチップを1次検査と同様の段階を追って検査して
いく必要がある。そのため、1次検査で良品と判定され
たチップであっても、2次検査で1次検査と同じ試験を
再度行なってからでなければ良品チップとは判定されて
いなかった。
In the conventional semiconductor memory device, whether each chip is a non-defective product in the primary inspection, is a repair treatment-implemented product, or is a defective product that cannot be repaired.
Since there is no way to identify it in the secondary inspection, it is necessary to inspect all chips in the secondary inspection in the same steps as in the primary inspection. Therefore, even if a chip is determined to be a non-defective product in the primary inspection, it is not determined to be a non-defective chip unless the same test as the primary inspection is performed again in the secondary inspection.

【0007】良品チップに対して1次検査,2次検査と
同じ検査を行うので、結果としてウエハー1枚分の検査
時間が長くなる。特に近年は半導体記憶装置の大容量化
に伴いメモリセルの数も膨大になっているため、検査は
だんだん長時間を必要とするようになっている。
Since the same inspections as the primary inspection and the secondary inspection are performed on the non-defective chips, the inspection time for one wafer is long as a result. Particularly, in recent years, the number of memory cells has become enormous with the increase in capacity of semiconductor memory devices, so that the inspection requires a longer time.

【0008】そこで、本発明は以上のような検査時間の
長時間化を防ぐために、簡単な回路を付加することによ
り検査時間を短縮できる半導体記憶装置を提供すること
を目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of shortening the inspection time by adding a simple circuit in order to prevent the above inspection time from being lengthened.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、正規メモリセル中の不良メモリセルを冗長メモリセ
ルで置き換えて救済するための回路手段と、良品である
ことを記憶するためのプログラム手段と、前記プログラ
ム手段の状態により良品であることを識別できる信号を
出力するための回路手段を含むことを特徴とする。
A semiconductor memory device of the present invention includes a circuit means for replacing a defective memory cell in a normal memory cell with a redundant memory cell for repair, and a program for storing a good product. Means and circuit means for outputting a signal capable of identifying a non-defective product according to the state of the program means.

【0010】[0010]

【作用】本発明では1次検査で良品と判定されたチップ
をプログラムする事により、2次検査の初期の段階の試
験で良品チップとして識別できるように回路をセットす
る。従って、1次検査で良品と判定されたチップは2次
検査をしないか、または2次検査中の必要のない検査を
省くことができる。
According to the present invention, by programming a chip which is determined to be non-defective in the primary inspection, a circuit is set so that it can be identified as a non-defective chip in the test in the initial stage of the secondary inspection. Therefore, the chips that are determined to be non-defective in the primary inspection are not subjected to the secondary inspection, or unnecessary inspection during the secondary inspection can be omitted.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本発明の実施例の一例を示す回路図で
ある。図1中の回路3はプログラム回路である。プログ
ラム回路3のヒューズ302を切断していない時は、ノ
ードPは”High”レベルであり、このレベルはイン
バータ301で反転されてノードQを”Low”レベル
にする。よって、テスト用入力端子1に印加する電圧
が”High”レベルでも”Low”レベルであっても
NANDゲート2の入力レベルの一つが常に”Low”
レベルであるために、テスト用出力端子4の電圧レベル
は常に”High”レベルである。プログラム回路3の
ヒューズ302を切断した時には、ノードPが”Lo
w”レベルとなり、このレベルがインバータで反転され
てノードQを”High”レベルにする。よって、NA
NDゲートの入力の一つが常に”High”レベルにな
るために、テスト用入力端子1に”High”レベルを
印加すると、テスト用出力端子4に”Low”レベルが
出力される。以上のことから、プログラム回路の状態が
判断できる。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of an embodiment of the present invention. The circuit 3 in FIG. 1 is a program circuit. When the fuse 302 of the program circuit 3 is not blown, the node P is at "High" level, and this level is inverted by the inverter 301 to bring the node Q to "Low" level. Therefore, one of the input levels of the NAND gate 2 is always "Low" whether the voltage applied to the test input terminal 1 is "High" level or "Low" level.
Since it is the level, the voltage level of the test output terminal 4 is always the “High” level. When the fuse 302 of the program circuit 3 is blown, the node P becomes “Lo”.
It becomes the w "level, and this level is inverted by the inverter to bring the node Q to the" High "level.
Since one of the inputs of the ND gate is always at the "High" level, when the "High" level is applied to the test input terminal 1, the "Low" level is output to the test output terminal 4. From the above, the state of the program circuit can be determined.

【0012】図2は本発明の実施例の別の一例を示す回
路図である。テスト用入力端子1に電流を印加し、ヒュ
ーズ5が切断されていなければ導通し、切断されていれ
ば導通しないことから、プログラム状態が判別できる。
FIG. 2 is a circuit diagram showing another example of the embodiment of the present invention. A current is applied to the test input terminal 1, and if the fuse 5 is not cut off, it is conductive, and if it is cut off, it is not conductive, so that the program state can be determined.

【0013】図3は本発明の実施例の別の一例を示す回
路図である。図3中の回路7は制御回路であり、回路3
は図1のプログラム回路と同じものである。制御回路7
のNチャンネルトランジスタはスレッショルド電圧を半
導体記憶装置の通常使用電圧より高いテスト用電圧に対
応するように設定しておき、半導体記憶装置の通常動作
には影響を与えないようにしておく。入力端子6に前記
通常使用電圧を印加した場合は、制御回路7のNチャン
ネルトランジスタがOFF状態のため、プログラム回路
3の状態に関わらずテスト用出力端子4は接地電圧にな
っている。入力端子6に前記テスト用電圧を印加した場
合は制御回路7のNチャンネルトランジスタはON状態
になる。この場合、プログラム回路3のヒューズ302
が切断されていない状態では、ノードPは”High”
レベルであり、このレベルがインバータ301で反転さ
れて、ノードQは”Low”レベルとなるのでテスト用
出力端子4には”Low”レベルが出力される。ヒュー
ズ302が切断されている状態では、ノードPは”Lo
w”レベルになり、このレベルはインバータ301で反
転されてノードQは”High”レベルとなるので、テ
スト用出力端子4には”High”レベルが出力され
る。よって、プログラム回路3の状態がテスト用電圧を
印加した時にだけテスト用出力端子に出力されて、通常
使用電圧では入力端子6からの入力信号になんら影響を
与えない。
FIG. 3 is a circuit diagram showing another example of the embodiment of the present invention. The circuit 7 in FIG. 3 is a control circuit, and the circuit 3
Is the same as the program circuit of FIG. Control circuit 7
The threshold voltage of the N-channel transistor is set so as to correspond to a test voltage higher than the normal use voltage of the semiconductor memory device, and the normal operation of the semiconductor memory device is not affected. When the normal use voltage is applied to the input terminal 6, the N-channel transistor of the control circuit 7 is in the OFF state, so that the test output terminal 4 is at the ground voltage regardless of the state of the program circuit 3. When the test voltage is applied to the input terminal 6, the N-channel transistor of the control circuit 7 is turned on. In this case, the fuse 302 of the program circuit 3
Is not disconnected, node P is "High"
Since this level is inverted by the inverter 301 and the node Q becomes "Low" level, the "Low" level is output to the test output terminal 4. When the fuse 302 is cut off, the node P is "Lo".
Since the level becomes w "and this level is inverted by the inverter 301 and the node Q becomes" High "level, the" High "level is output to the test output terminal 4. Therefore, the state of the program circuit 3 is changed. The voltage is output to the test output terminal only when the test voltage is applied, and the normal use voltage does not affect the input signal from the input terminal 6.

【0014】図4は本発明の実施例の別の一例を示す回
路図である。回路3は図1,図3のものと同じプログラ
ム回路であり、回路8はスイッチ回路、回路9は制御回
路である。スイッチ回路8のNチャンネルトランジスタ
はスレッショルド電圧を前記テスト用電圧に対応するよ
うに設定しておく。入力端子6に前記通常使用電圧を印
加している場合は、スイッチ回路8はOFF状態であ
り、ノードPは”Low”レベルである。よって前述の
プログラム回路の動作からノードQは”High”レベ
ルになり、制御回路9のPチャンネルトランジスタはO
FF状態で出力端子10の信号には何等の影響を与えな
い。入力端子6にテスト用電圧を印加した時は、スイッ
チ回路8がON状態になり、プログラム回路3のヒュー
ズ302が切断されていなければ、ノードPは”Hig
h”レベルになり、ノードQは”Low”レベルになる
ので制御回路9がON状態となって、出力端子10に電
源電圧が出力される。入力端子6にテスト用電圧を印加
している状態でヒューズ302が切断されている場合
は、ノードPは”Low”レベル、ノードQは”Hig
h”レベルになり、制御回路9がOFF状態となるので
出力端子10に電源電圧が出力されない。このことから
通常使用時には入力端子6からの入力信号や出力端子1
0に出力される出力信号に何等の影響を与えることな
く、入力端子6にテスト用電圧を印加した時にのみプロ
グラム回路の状態が出力端子10に現われる。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another example of the embodiment of the present invention. The circuit 3 is the same program circuit as that shown in FIGS. 1 and 3, the circuit 8 is a switch circuit, and the circuit 9 is a control circuit. The threshold voltage of the N-channel transistor of the switch circuit 8 is set so as to correspond to the test voltage. When the normal use voltage is applied to the input terminal 6, the switch circuit 8 is in the OFF state and the node P is at the “Low” level. Therefore, from the operation of the above-mentioned program circuit, the node Q becomes "High" level and the P-channel transistor of the control circuit 9 becomes O.
In the FF state, there is no effect on the signal at the output terminal 10. When the test voltage is applied to the input terminal 6, the switch circuit 8 is turned on, and if the fuse 302 of the program circuit 3 is not blown, the node P becomes “High”.
Since the node Q becomes "h" level and the node Q becomes "Low" level, the control circuit 9 is turned on and the power supply voltage is output to the output terminal 10. The state in which the test voltage is applied to the input terminal 6 When the fuse 302 is blown at, the node P is at "Low" level and the node Q is at "Hig".
The power supply voltage is not output to the output terminal 10 because the control circuit 9 is turned off at the "h" level. Therefore, the input signal from the input terminal 6 and the output terminal 1 are not used during normal use.
The state of the program circuit appears at the output terminal 10 only when the test voltage is applied to the input terminal 6 without affecting the output signal output to 0.

【0015】これまでに述べた実施例では、1次検査で
良品となったチップに対してプログラム回路5内のヒュ
ーズ502を切断することにより、良品であることを記
憶させることが可能となり、簡単な試験で良品であるこ
とを識別できる。
In the above-described embodiments, the fuse 502 in the program circuit 5 is cut off from the chip which has become a non-defective product in the primary inspection. It can be identified as a non-defective product by various tests.

【0016】なお、上記実施例の破線で囲まれたプログ
ラム回路は説明のために簡単な回路例として挙げたもの
であるが、上記のようにヒューズを切断するのではな
く、レーザー照射により抵抗の抵抗値を変える方法、M
NOS,FAMOS等の不揮発性記憶素子を使う方法等
でも、同様の結果を得ることが可能である。このこと
は、図2のヒューズ5に関しても言えることである。
又、前記プログラム回路はプログラムする前と、プログ
ラム後で逆の状態を作ることが出来るものであるのなら
どの様な回路、手段を用いても良い。
The program circuit surrounded by the broken line in the above embodiment is given as a simple circuit example for the purpose of explanation. However, instead of cutting the fuse as described above, the resistance is changed by laser irradiation. Method of changing resistance, M
Similar results can be obtained by a method using a non-volatile memory element such as NOS or FAMOS. This also applies to the fuse 5 shown in FIG.
Further, any circuit or means may be used for the program circuit as long as it can create a state opposite to that before programming and after programming.

【0017】図4のスイッチ回路8を複数個のNチャン
ネルトランジスタで構成しているのは、トランジスタの
スレッショルド電圧が製造上のばらつきのためにテスト
用電圧に対応しないようなものができる場合に、1個で
もテスト用電圧に対応したスレッショルド電圧を持つも
のがあればスイッチ回路8の機能を満たすからである。
だからスイッチ回路8を構成するNチャンネルトランジ
スタの個数は1個から何個でも製造工程の精度に合わせ
て決めれば良い。
The switch circuit 8 shown in FIG. 4 is composed of a plurality of N-channel transistors when the threshold voltage of the transistors does not correspond to the test voltage due to manufacturing variations. This is because the function of the switch circuit 8 is satisfied if there is even one device having a threshold voltage corresponding to the test voltage.
Therefore, the number of N-channel transistors forming the switch circuit 8 may be any number from one to any number depending on the accuracy of the manufacturing process.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上に述べた本発明により、チップの1
次検査において良品と判定された製品をプログラム回路
で記憶して、2次検査の初期段階で選別する事が出来
る。
According to the present invention described above, the chip 1
The products judged to be non-defective products in the next inspection can be stored in the program circuit and selected in the initial stage of the secondary inspection.

【0019】従って、選別に要する時間を短縮すると供
に、製品に対する検査コストを削減できるという効果が
ある。
Therefore, there is an effect that the inspection time for the products can be reduced as well as the time required for the selection can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のテスト用入力端子とテスト用出力端子
がある場合の、プログラム回路とその状態を信号として
出力するための回路の回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram of a circuit for outputting a program circuit and its state as a signal when there is a test input terminal and a test output terminal according to the present invention.

【図2】本発明のテスト用端子がある場合の、プログラ
ム回路の回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram of a program circuit having a test terminal of the present invention.

【図3】本発明の既製の入力端子とテスト用出力端子が
ある場合のプログラム回路とその状態を信号として出力
するための回路の回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram of a program circuit having a ready-made input terminal and a test output terminal according to the present invention and a circuit for outputting its state as a signal.

【図4】本発明の既製の入力端子回路と既製の出力端子
とを使用する場合にプログラム回路のプログラム状態を
信号として出力するための回路の回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram of a circuit for outputting a program state of a program circuit as a signal when using a ready-made input terminal circuit and a ready-made output terminal of the present invention.

【図5】従来技術での製造工程終了から製品出荷までの
フローチャート。
FIG. 5 is a flowchart from the end of the manufacturing process to product shipment in the conventional technology.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・テスト用入力端子 2・・・NANDゲート 3・・・プログラム回路 301・・・インバータ 302・・・ヒューズ 303・・・抵抗 4・・・テスト用出力端子 6・・・既製の入力端子 7・・・制御回路 8・・・スイッチ回路 9・・・制御回路 10・・・既製の出力端子 P,Q・・・各図のノード 1 ... Test input terminal 2 ... NAND gate 3 ... Program circuit 301 ... Inverter 302 ... Fuse 303 ... Resistor 4 ... Test output terminal 6 ... Ready-made input Terminal 7 ... Control circuit 8 ... Switch circuit 9 ... Control circuit 10 ... Ready-made output terminals P, Q ... Nodes in each figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】正規メモリセル中の不良メモリセルを冗長
メモリセルで置き換えて救済するための回路手段と、チ
ップが良品であることを記憶するためのプログラム手段
と、前記プログラム手段の状態により良品であることを
識別できる信号を出力するための回路手段を含むことを
特徴とする半導体記憶装置。
1. A circuit means for replacing a defective memory cell in a normal memory cell with a redundant memory cell for remedy, a program means for storing that a chip is a non-defective product, and a non-defective product depending on the state of the program means. A semiconductor memory device including circuit means for outputting a signal capable of identifying that
JP4081038A 1992-04-02 1992-04-02 Semiconductor memory Pending JPH05282892A (en)

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JP4081038A JPH05282892A (en) 1992-04-02 1992-04-02 Semiconductor memory

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6035430A (en) * 1996-10-21 2000-03-07 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit device with restoring circuit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6035430A (en) * 1996-10-21 2000-03-07 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit device with restoring circuit

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