JPH0551891B2 - - Google Patents

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JPH0551891B2
JPH0551891B2 JP62079977A JP7997787A JPH0551891B2 JP H0551891 B2 JPH0551891 B2 JP H0551891B2 JP 62079977 A JP62079977 A JP 62079977A JP 7997787 A JP7997787 A JP 7997787A JP H0551891 B2 JPH0551891 B2 JP H0551891B2
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JP
Japan
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light
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photomask blank
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Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
JP62079977A 1987-03-31 1987-03-31 フオトマスクブランク Granted JPS63244037A (ja)

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JPS63244037A JPS63244037A (ja) 1988-10-11
JPH0551891B2 true JPH0551891B2 (OSRAM) 1993-08-03

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JPS63244037A (ja) 1988-10-11

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