JPH055102B2 - - Google Patents

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JPH055102B2
JPH055102B2 JP59171170A JP17117084A JPH055102B2 JP H055102 B2 JPH055102 B2 JP H055102B2 JP 59171170 A JP59171170 A JP 59171170A JP 17117084 A JP17117084 A JP 17117084A JP H055102 B2 JPH055102 B2 JP H055102B2
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JP
Japan
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layer
film unit
instant film
unit according
treatment
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JP59171170A
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Japanese (ja)
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JPS6148838A (en
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Shunichi Hosaka
Hiroyuki Kurabayashi
Jun Ise
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP17117084A priority Critical patent/JPS6148838A/en
Priority to US06/766,135 priority patent/US4668602A/en
Publication of JPS6148838A publication Critical patent/JPS6148838A/en
Publication of JPH055102B2 publication Critical patent/JPH055102B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C8/00Diffusion transfer processes or agents therefor; Photosensitive materials for such processes
    • G03C8/42Structural details
    • G03C8/52Bases or auxiliary layers; Substances therefor

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ピールアパートタイプのインスタン
トフイルムユニツトに関し、更に詳しくは画面枠
に良好な筆記性を与えたインスタントフイルムユ
ニツトに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a peel-apart type instant film unit, and more particularly to an instant film unit whose screen frame has good writability.

〔従来技術〕[Prior art]

ピールアパートタイプのインスタントフイルム
ユニツト(以下、単にフイルムユニツトと称す
る)は、例えば特公昭44−2528号に詳しく記載さ
れているように、ネガ画像が記録される感光シー
トと、この感光シートが重ね合わされた際に、ネ
ガ像に反転して受像シートに転写される受像シー
トとから主として構成されている。前記感光シー
トは引出しシートに接合されており、また受像シ
ートはマスクに接合されている。このマスクの先
端部は前記引出しシートに接合されている。
A peel-apart type instant film unit (hereinafter simply referred to as a film unit) is a film unit in which a photosensitive sheet on which a negative image is recorded is superimposed on a photosensitive sheet, as described in detail in, for example, Japanese Patent Publication No. 44-2528. It mainly consists of an image-receiving sheet, which is reversed into a negative image and transferred to the image-receiving sheet when the image is transferred to the image-receiving sheet. The photosensitive sheet is bonded to a drawer sheet, and the image receiving sheet is bonded to a mask. The leading end of this mask is joined to the drawer sheet.

前記感光シートの露光後に、フイルムユニツト
をフイルムパツクから引き出せば、感光シートと
受像シートとが重なつた状態で展開ローラの間を
通過する。この展開ローラを通過する際に、引出
しシートに取り付けた現像液ポツドが裂開し、ゼ
リー状をした現像処理液(以下、現像液という)
が感光シートと受像シートとの間に流れ出る。こ
の流れ出た現像液は、展開ローラにより所定の厚
みに展開され、感光シートに記録されているネガ
像が受像シートにポジ像として転写する。標準剥
離時間(標準現像時間)後に感光シートと受像シ
ートとを剥がすと、受像シートの上に写真画像を
得ることができる。
After the photosensitive sheet is exposed, when the film unit is pulled out from the film pack, the photosensitive sheet and image receiving sheet pass between developing rollers in an overlapping state. When passing through this developing roller, the developer pot attached to the drawer sheet splits and a jelly-like developing solution (hereinafter referred to as developer)
flows out between the photosensitive sheet and the image-receiving sheet. This flowing developer is spread to a predetermined thickness by a spreading roller, and the negative image recorded on the photosensitive sheet is transferred to the image receiving sheet as a positive image. When the photosensitive sheet and the image-receiving sheet are peeled off after a standard peeling time (standard development time), a photographic image can be obtained on the image-receiving sheet.

前記マスクは、マスク材と弱シール層とから構
成されている。このマスク材としてはクラフト
紙、グラシン紙等が用いられ、この下面に弱シー
ル層が形成されており、この弱シール層を介して
マスク材と受像シートとがヒートシールされてい
る。従来の弱シール層としては、例えばアメリカ
特許第2563387号、同第2659673号、同第2678274
号に開示されているように、マスク材の下面に塗
布した離型層と、その上に塗布した接着層とから
構成したものが知られている。前記アメリカ特許
第2563387号では、離型層として植物性蛋白質で
あるゼインに、可塑剤としてトリエチレングリコ
ールを混和したものが用いられ、接着層としては
エチルセルロースに可塑剤としてジエチルフタレ
ートを混和したものが用いられている。また前記
アメリカ特許第2659673号、同第2678274号では、
離型層としてポリビニルアルコールが用いられ、
また接着層としてはエチルセルロースに可塑剤と
してジエチルフタレートあるいはトリフエニルフ
オスフエートを混和したものが用いられている。
The mask is composed of a mask material and a weak sealing layer. Kraft paper, glassine paper, or the like is used as the mask material, and a weak sealing layer is formed on the lower surface of the masking material, and the masking material and the image-receiving sheet are heat-sealed via this weak sealing layer. Examples of conventional weak sealing layers include, for example, U.S. Pat.
As disclosed in No. 1, there is a known method comprising a release layer coated on the lower surface of a mask material and an adhesive layer coated thereon. In US Pat. No. 2,563,387, the release layer is made of zein, a vegetable protein, mixed with triethylene glycol as a plasticizer, and the adhesive layer is made of ethyl cellulose mixed with diethyl phthalate as a plasticizer. It is used. Also, in the above-mentioned US Patent No. 2659673 and US Patent No. 2678274,
Polyvinyl alcohol is used as the release layer,
The adhesive layer is made of ethyl cellulose mixed with diethyl phthalate or triphenyl phosphate as a plasticizer.

前記従来の弱シール層は、マスク材と離型層及
び接着層と受像シートとの接着強度が、離型層と
接着層のそれよりも強くしてあるため、マスクか
ら受像シートを剥がす際に、離型層と接着層との
間で剥離が起こり、接着層が受像シートに転写し
て白い画面枠として残るように予定されている。
In the conventional weak sealing layer, the adhesive strength between the mask material and the release layer and between the adhesive layer and the image-receiving sheet is stronger than that between the release layer and the adhesive layer, so when the image-receiving sheet is peeled off from the mask. It is planned that peeling will occur between the release layer and the adhesive layer, and the adhesive layer will be transferred to the image-receiving sheet and remain as a white screen frame.

しかし、従来の弱シール層では、標準剥離時間
(例えばモノクロタイプでは30秒)を少し越えて
から、受像シートをマスクから剥離すると、接着
層が部分的に受像シートに転写されなかつたり、
あるいは離型層の一部がマスク材から剥離して接
着層とともに受像シートに転写されたりすること
が多く、そのために外観がきたなくなる等の問題
があつた。この問題について研究した結果、現像
中に現像液がマスク材及び離型層とを浸透して、
接着層に達して弱シール層を膨潤(ふやけ)させ
てしまうことが原因であることが分かつた。そし
て、この離型層と接着層の膨潤は、剥離時間(現
像時間)が長くなるほどその度合が大きくなるこ
とが確認された。
However, with conventional weak sealing layers, if the image-receiving sheet is peeled off from the mask after a little longer than the standard peeling time (for example, 30 seconds for monochrome types), the adhesive layer may not be partially transferred to the image-receiving sheet.
Alternatively, a part of the release layer often peels off from the mask material and is transferred to the image-receiving sheet together with the adhesive layer, which causes problems such as an unsightly appearance. As a result of researching this problem, we found that the developer permeates through the mask material and release layer during development.
It was found that the cause was that it reached the adhesive layer and caused the weak sealing layer to swell. It was also confirmed that the degree of swelling of the release layer and adhesive layer increases as the peeling time (development time) increases.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、標準剥離時間をかなり経過した後
も、離型層と接着層との間で安定して剥離を行う
ことができるようにして、接着層を画面枠に全面
的に転写して外観がきれいな画面枠を与えるとと
もに、画面枠上に良好な筆記性を与えたフイルム
ユニツトを提供することを目的とするものであ
る。
The present invention enables stable peeling between the release layer and the adhesive layer even after the standard peeling time has elapsed, and transfers the adhesive layer entirely to the screen frame to improve the appearance. It is an object of the present invention to provide a film unit which provides a clear screen frame and provides good writing performance on the screen frame.

〔発明の特徴〕[Features of the invention]

上記目的を達成するために、本発明は、マスク
材と弱シール層との間に、耐アルカリ性を有する
耐処理液層を層設して、マスク材を浸透した現像
液が更に弱シール層へ浸透することがないように
したことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a processing liquid resistant layer having alkali resistance between the mask material and the weak sealing layer, so that the developer that has permeated the masking material is further transferred to the weak sealing layer. It is characterized in that it does not penetrate.

以下、図面を参照して本発明について詳細に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明を実施したフイルムユニツトを示す第3
図において、感光シート1は、その前端側に引出
しシート2が接合され、また後端側に余剰現像液
を受け留めるための短いスカート3が接合されて
いる。前記引出しシート2及びスカート3、表面
反射をなくすために、黒色印刷が施されている。
更に、前記引出しシート2の後端側で感光シート
1の横に、現像液を収容した現像液ポツド4と、
この現像液を感光シート1に向けて案内するフア
ンネル5とが取り付けられており、またその先端
側にはタブ6の接合部6aが接合されている。
The third part showing the film unit embodying the present invention.
In the figure, a photosensitive sheet 1 has a drawer sheet 2 joined to its front end, and a short skirt 3 for catching excess developer to its rear end. The drawer sheet 2 and skirt 3 are printed in black to eliminate surface reflections.
Furthermore, a developer pot 4 containing a developer is placed next to the photosensitive sheet 1 on the rear end side of the drawer sheet 2;
A funnel 5 is attached to guide the developer towards the photosensitive sheet 1, and a joint 6a of a tab 6 is joined to the tip end thereof.

受像シート7は、最終的な写真像を記録するた
めのものであり、後述する弱シール層を介してマ
スク8に接合されている。このマスク8は、画面
サイズに対応した開口8aが形成され、その先端
が前記引出しシート2に接合されている。この開
口8aの両サイドには、比較的厚い紙で作つた帯
状のレール9,10が接着されている。このレー
ル9,10の後端部には、余剰現像液を収容する
スペースを確保するために、2個の板状突起1
1,12が接着されている。
The image receiving sheet 7 is for recording a final photographic image, and is bonded to the mask 8 via a weak sealing layer, which will be described later. This mask 8 is formed with an opening 8a corresponding to the screen size, and its tip is joined to the drawer sheet 2. Band-shaped rails 9 and 10 made of relatively thick paper are adhered to both sides of this opening 8a. At the rear ends of these rails 9, 10, two plate-like protrusions 1 are provided in order to secure a space for accommodating excess developer.
1 and 12 are glued together.

第4図はフイルムユニツトの展開状態を示すも
のである。前述したフイルムユニツトは、周知の
ように、フイルムパツク内に複数個収納されてい
る。このフイルムパツクは、その内部にバネ付勢
されたフイルム圧板が収納されており、複数個の
フイルムユニツトの感光シートが重なつた状態で
前記フイルム圧板の上に位置し、そして複数の受
像シートが重なつた状態で前記フイルム圧板の下
方に位置している。
FIG. 4 shows the unfolded state of the film unit. As is well known, a plurality of the above-mentioned film units are housed in a film pack. This film pack has a spring-loaded film pressure plate housed therein, the photosensitive sheets of a plurality of film units are placed on top of the film pressure plate in an overlapping state, and a plurality of image receiving sheets are placed on top of the film pressure plate. They are located below the film pressure plate in an overlapping state.

前記感光シート1の露光後に、タブ6を手で引
き出せば、引出しシート2がタブ6とともに引き
出される。この時に、マスク8はその先端側から
徐々に引出しシート2に重なりながら、フイルム
パツクの出口に向かつて移動し、そして感光シー
ト1はフイルム圧板の背後に徐々に廻り込んで反
転する。このフイルムパツクの出口付近には、一
対の展開ローラ15,16が配置されており、タ
ブ6が展開ローラ15の上側を通り、引出しシー
ト2の先端を展開ローラ15と16の間から少し
出した時に、タブ6の後端にある接合部6aが展
開ローラ15によつて、引出しシート2から剥離
される。
When the tab 6 is pulled out by hand after the photosensitive sheet 1 is exposed, the pull-out sheet 2 is pulled out together with the tab 6. At this time, the mask 8 moves toward the exit of the film pack while gradually overlapping the pull-out sheet 2 from its leading end, and the photosensitive sheet 1 gradually goes behind the film pressure plate and is reversed. A pair of developing rollers 15 and 16 are arranged near the exit of the film pack, and the tab 6 passes over the developing roller 15, and the leading edge of the pull-out sheet 2 is slightly pushed out from between the developing rollers 15 and 16. At this time, the joint portion 6a at the rear end of the tab 6 is peeled off from the drawer sheet 2 by the unfolding roller 15.

次に、引出しシート2の先端を手でつかんで引
き出せば、最初に引出しシート2とマスク8とが
重なつた状態で展開ローラ15,16の間を通過
し、その後感光シート1と受像シート7とが重な
つた状態で展開ローラ15,16の間を通過す
る。前記引出しシート2が展開ローラ15,16
を通過する際に、これに取り付けた現像液ポツド
4が押しつぶされるので現像液がフアンネル5を
通つて後方に流れ出る。この流れ出た現像液は、
展開ローラ15,16で展開されて、レール9,
10を介して対面した感光シート1と受像シート
7との間に均一な厚みとなり、そして余分な現像
液は、スカート3、マスク8、一対の板状突起1
1,12で囲まれた余剰現像液収容室に貯溜さ
れ、徐々に硬化する。
Next, when the leading edge of the pull-out sheet 2 is grasped by hand and pulled out, the pull-out sheet 2 and the mask 8 first pass between the developing rollers 15 and 16 in an overlapping state, and then the photosensitive sheet 1 and the image-receiving sheet 7 It passes between the developing rollers 15 and 16 in an overlapping state. The drawer sheet 2 is spread out by the development rollers 15 and 16
When passing through the funnel 5, the developer pot 4 attached thereto is crushed, and the developer flows out through the funnel 5 to the rear. This flowing developer is
It is unfolded by the unfolding rollers 15 and 16, and the rail 9,
The thickness is uniform between the photosensitive sheet 1 and the image-receiving sheet 7 which face each other through the substrate 10, and the excess developer is removed by the skirt 3, the mask 8, and the pair of plate-like protrusions 1.
The surplus developer is stored in a surplus developer storage chamber surrounded by 1 and 12, and gradually hardens.

第1図は受像シートとマスクとの接合部を示す
ものである。前記受像シート7は、バライタ紙等
を用いた支持体70と、その上に塗布された受像
層71とから構成されている。前記マスク8は、
マスク材80と、現像液の浸透を防止するための
耐処理液層81と、接着強度が弱い弱シール層8
2とから構成されており、この弱シール層82を
介してマスク材80が受像シート7にヒートシー
ルされている。この弱シール層82は、離型層8
3と接着層84とから構成されており、マスク8
と受像シート7とを剥がす際に、離型層83と接
着層84との間から剥離が起こるようにするため
に、この間の接着強度が最も弱くなつている。前
記マスク材80の上には、レール9がヒートシー
ルにより強固に接合されている。
FIG. 1 shows the joint between the image receiving sheet and the mask. The image-receiving sheet 7 includes a support 70 made of baryta paper or the like, and an image-receiving layer 71 coated thereon. The mask 8 is
A mask material 80, a processing liquid resistant layer 81 for preventing permeation of a developer, and a weak sealing layer 8 with low adhesive strength.
2, and the mask material 80 is heat-sealed to the image receiving sheet 7 via this weak sealing layer 82. This weak sealing layer 82 is the release layer 8
3 and an adhesive layer 84, the mask 8
In order to cause peeling to occur between the release layer 83 and the adhesive layer 84 when the image receiving sheet 7 is peeled off, the adhesive strength between the release layer 83 and the adhesive layer 84 is made the weakest. The rail 9 is firmly bonded onto the mask material 80 by heat sealing.

前記マスク材80としては、クラフト紙、グラ
シン紙等を用いることができるが、現像液の浸透
により、部分的なまくれ(ベコ)が発生するのを
防止するために、次のようなものを用いるのが好
ましい。
As the mask material 80, kraft paper, glassine paper, etc. can be used, but in order to prevent partial blisters from occurring due to penetration of the developer, the following materials are used. is preferable.

(a) 原紙にポリエチレン(PE)を混抄するとと
もに、スチレン・アクリル系サイズ剤を内添し
たもの (b) ポリエチレン混抄紙 ポリエチレンの混抄率は1〜12重量%であ
り、厚みは30〜40μである。
(a) Base paper mixed with polyethylene (PE) and styrene/acrylic sizing agent added internally (b) Paper mixed with polyethylene The mixing ratio of polyethylene is 1 to 12% by weight, and the thickness is 30 to 40μ. be.

上記のマスク材としては、(a)のものが好まし
く、この場合の混抄率は1〜12重量%であり、厚
み30〜40μである。
As the above-mentioned mask material, the material (a) is preferable, and in this case, the mixing ratio is 1 to 12% by weight and the thickness is 30 to 40μ.

前記マスク材80の下面に塗布される耐処理液
層81としては、現像液の浸透を抑えるために耐
アルカリ性に優れ、マスク材80と離型層83と
の密着性が良好なものが用いられる。このような
特性を持つた耐処理液層としては次のものがあ
り、これらは単独又は2種以上適当に混合して用
いられる。
As the processing liquid-resistant layer 81 applied to the lower surface of the mask material 80, a layer having excellent alkali resistance and good adhesion between the mask material 80 and the release layer 83 is used to suppress penetration of the developer. . Processing liquid-resistant layers having such characteristics include the following, and these may be used alone or in an appropriate mixture of two or more.

(a) 塩ビ酢ビコポリマー 塩化ビニルと酢酸ビニルとを重合したもので
あり、含有率は塩化ビニルが80〜95重量%で残
りが酢酸ビニルとしたものが好ましい。このよ
うな塩ビ酢ビコポリマーとしては、塩化ビニル
が90重量%で、酢酸ビニルが10重量%の含有率
を持つており、平均重合度が600の400×150M
(商品名:日本ゼオン社製)がある。
(a) Vinyl chloride and vinyl acetate copolymer A copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate, preferably containing 80 to 95% by weight of vinyl chloride and the remainder being vinyl acetate. Such a vinyl chloride/vinyl acetate copolymer has a content of 90% by weight of vinyl chloride and 10% by weight of vinyl acetate, and has an average polymerization degree of 600.
(Product name: Nippon Zeon Co., Ltd.).

(b) ポリ塩化ビニル (c) ポリメタクリル酸メチル これには、住友化学社製のスミペツクス(商
品名)がある。
(b) Polyvinyl chloride (c) Polymethyl methacrylate This includes Sumipex (trade name) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.

(b) 塩化ビニルと酢酸ビニルとビニルアルコール
との3元重合体 この共重合体としては、塩化ビニルが91重量
%、酢酸ビニルが3重量%、ビニルアルコール
が6重量%の含有率を持つたビニライト
3VAGH(商品名:ユニオンカーバイト社製)
がある。
(b) Terpolymer of vinyl chloride, vinyl acetate, and vinyl alcohol This copolymer has a content of 91% by weight of vinyl chloride, 3% by weight of vinyl acetate, and 6% by weight of vinyl alcohol. vinyl light
3VAGH (Product name: Union Carbide)
There is.

(e) 塩化ビニルと酢酸ビニルとマレイン酸との3
元共重合体 この共重合体としては、塩化ビニルが86重量
%、酢酸ビニルが13重量%、マレイン酸が1重
量%の含有率を持つたビニライトVMCH(商品
名:ユニオンカーバント社製)がある。
(e) 3 of vinyl chloride, vinyl acetate, and maleic acid
Original copolymer This copolymer was Vinylite VMCH (trade name: manufactured by Union Carvant), which had a content of 86% by weight of vinyl chloride, 13% by weight of vinyl acetate, and 1% by weight of maleic acid. be.

(f) メタクリル酸メチル(MMA)コポリマー 分子式では、(―MMA)x――(―R)y――で表され
る。ここで、Rとしてはアクリル酸エチル
(EA)、メタクリル酸エチル(EMA)、アクリ
ル酸ブチル(BA)、メタクリル酸ブチル
(BMA)等があり、xは50〜100、yは50〜0
である。
(f) Methyl methacrylate (MMA) copolymer The molecular formula is (-MMA) x --(-R) y --. Here, R includes ethyl acrylate (EA), ethyl methacrylate (EMA), butyl acrylate (BA), butyl methacrylate (BMA), etc., x is 50 to 100, and y is 50 to 0.
It is.

(g) ポリ塩化ビニリデン これには、SOA(商品名:呉羽化学社製)が
ある。
(g) Polyvinylidene chloride This includes SOA (trade name: manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd.).

(h) ポリスチレン(PSt)又はスチレン(St)系
のコポリマー (―St)x――(―R)y――、Rとしては、メタクリ

酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、
メタクリル酸ブチル等があり、xは50〜100、
yは0〜50である。
(h) Polystyrene (PSt) or styrene (St) copolymer (-St) x --(-R) y --, R is methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate,
There are butyl methacrylate, etc., where x is 50 to 100,
y is 0-50.

これらの耐処理液剤のうち(a)の塩ビ酢ビコポリ
マーが最ま好ましい。
Among these treatment liquid-resistant agents, (a) vinyl chloride-vinyl acetate copolymer is most preferred.

前記耐処理液層81の上に塗布される離型層8
3としては、現像液の浸透を抑えるために、耐ア
ルカリ性を有し、接着層84に対して離型性を有
するポリマーが用いられる。このポリマーとして
は、前述した耐処理液剤(a)〜(h)のうちから選ぶこ
とができる。この離型層83には、弱シールの強
度調節のために、次の添加物を添加するのが望ま
しい。
A release layer 8 coated on the treatment liquid resistant layer 81
As the material 3, a polymer having alkali resistance and releasability to the adhesive layer 84 is used in order to suppress penetration of the developer. This polymer can be selected from among the treatment liquid resistant agents (a) to (h) described above. It is desirable to add the following additives to the release layer 83 in order to adjust the strength of the weak seal.

(a) 脂肪酸アミド 脂肪酸アミドの中では、オレイン酸アミドが
好ましく、前記離型剤の固形分に対して1〜5
重量%を添加する。
(a) Fatty acid amide Among the fatty acid amides, oleic acid amide is preferable, and the amount of oleic acid amide is 1 to 5% based on the solid content of the mold release agent.
Add % by weight.

(b) グリセリンエステルロジン又はベンタエリス
リツトエステルロジン これにはエステルガムH(商品名:荒川林産)
がある。
(b) Glycerin ester rosin or bentaerythrite ester rosin, including Ester Gum H (trade name: Arakawa Hayashisan)
There is.

上記した各種の離型剤としては、塩ビ酢ビコポ
リマー50〜30重量%に対してポリメタクリル酸メ
チル50〜70重量%で組み合わせたものが好まし
く、この組成比により所定の剥離強度に制御する
ことができる。更に、これに(a)のオレイン酸アミ
ドを離型剤の固形分に対して3重量%を添加する
のがよい。
As the above-mentioned various mold release agents, it is preferable to use a combination of 50 to 70% by weight of polymethyl methacrylate to 50 to 30% by weight of vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, and the peel strength can be controlled to a predetermined value depending on this composition ratio. I can do it. Furthermore, it is preferable to add oleic acid amide (a) to this in an amount of 3% by weight based on the solid content of the mold release agent.

前記接着層84には、液体インキに対して筆記
性を与えるために、−CONH−、−OH等の親水基
を持つた熱可塑性ポリマーが用いられる。このよ
うな接着剤には、次のようなものがある。
For the adhesive layer 84, a thermoplastic polymer having hydrophilic groups such as -CONH- and -OH is used in order to provide writing properties to liquid ink. Examples of such adhesives include:

(a) ポリアミド これには、ダイマー酸をベースにしたポリア
ミドがあり、好ましいものとしては、DPX−
1163、1175、1300、1358、マクロメート6212
(商品名:ヘンケル白水社製)がある。
(a) Polyamides These include polyamides based on dimer acids, preferably DPX-
1163, 1175, 1300, 1358, Macromate 6212
(Product name: manufactured by Henkel Hakusuisha).

(b) 低ケン化度ポリビニルアルコール(ケン化度
が30〜50mol%、重合度が300〜600) 好ましいものとしては、L5407、L7514(商品
名:日本合成化学工業社製)がある。
(b) Low degree of saponification polyvinyl alcohol (degree of saponification 30 to 50 mol%, degree of polymerization 300 to 600) Preferred examples include L5407 and L7514 (trade name: manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.).

(c) ポリビニルアセテート、酢酸ビニル・マレイ
ン酸ポリマー (d) ポリビニルピロリドン(PVP) 上記各種の接着剤には、表面をザラザラにして
鉛筆に対する筆記性を与えるためのマツト剤を添
加するとよい。このマツト剤の一例としては、シ
リカがある。このシリカは、平均粒径が2〜5μ
であり、接着剤の固形分に対して5〜20重量%を
添加するとよく、これには未処理のもの、無機系
処理を施したもの、有機系処理を施したものがあ
り、これらのうち無機系処理をしたものが特に好
ましい。前記未処理のものにはS−224、無機系
処理を施したものとしてはS−978(いずれも商品
名:富士デヴイソン社製)があり、有機系処理を
施したものにはOK−412(商品名:西ドイツのデ
グサ社製)がある。
(c) Polyvinyl acetate, vinyl acetate/maleic acid polymer (d) Polyvinylpyrrolidone (PVP) A matting agent may be added to the various adhesives mentioned above to make the surface rough and make it easier to write with a pencil. An example of this matting agent is silica. This silica has an average particle size of 2 to 5μ
It is recommended to add 5 to 20% by weight based on the solid content of the adhesive, and this includes untreated, inorganic treated, and organic treated types. Particularly preferred are those that have undergone inorganic treatment. The untreated product is S-224, the inorganic treated product is S-978 (product name: Fuji Davison), and the organically treated product is OK-412 (all products are manufactured by Fuji Davison). Product name: Manufactured by Degussa of West Germany).

前記接着剤とマツト剤の最適な組み合わせは、
ポリアミドとシリカであり、このシリカはポリア
ミドの固形分に対して20重量%を添加すれば、鉛
筆に対して良好な筆記性を与えることができるま
た、このシリカは、耐処理液層81と弱シール層
82とをグラビア塗布で順次層設したのち、マス
ク8を一時的にロール状に巻き取つておく際に、
接着層84が対面するマスク材80の背面にくつ
くこと(ブロツキングと称されている)を防止す
る上で効果がある。
The optimal combination of the adhesive and matting agent is
They are polyamide and silica, and if 20% by weight of this silica is added to the solid content of polyamide, it can give good writing properties to a pencil. After sequentially applying the seal layer 82 by gravure coating, when the mask 8 is temporarily wound up into a roll,
This is effective in preventing the adhesive layer 84 from sticking to the back surface of the facing mask material 80 (referred to as blocking).

第2図は受像シートとマスクとの剥離状態を示
すものである。所定の剥離時間例えばモノクロで
45秒、カラーで90秒が経過してから、受像シート
7とマスク8から剥がせば、離型層83と接着層
84との間から剥離が起こり、接着層84が受像
シート7に完全に転写されて白い画面枠を形成す
る。
FIG. 2 shows the state in which the image-receiving sheet and the mask are separated. Specified peeling time e.g. monochrome
When the image-receiving sheet 7 and mask 8 are peeled off after 45 seconds and 90 seconds have elapsed for color, peeling occurs between the release layer 83 and the adhesive layer 84, and the adhesive layer 84 is completely attached to the image-receiving sheet 7. It is transferred to form a white screen frame.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明では、耐処理液層81をマスク材80と
弱シール層82との間に層設したから、マスク材
80から浸透してきた現像液が更に弱シール層8
2に浸透しないようにすることができる。したが
つて、離型層83及び接着層84が現像液で膨潤
することがないから、マスク材80と耐処理液層
81、耐処理液層81と離型層83、及び接着層
84と受像シート7との接着強度に対して、離型
層83と接着層84との接着強度が弱くなつた状
態を、標準剥離時間から少なくとも10分程度越え
るまでは確実に維持しているので、マスク8と受
像シート7とを剥離した場合に、接着層84を完
全に受像シート7に転写することができる。これ
により、受像シート7がはがしやすいとともに、
剥離後の画面枠の外観がきれいであり、またこの
画面枠へ良好な筆記を行うことができる。特に、
接着層84にシリカを添加すれば、ブロツキング
防止の点で効果的であるとともに、鉛筆に対して
良好な筆記性を付与することができる。
In the present invention, since the processing liquid resistant layer 81 is provided between the mask material 80 and the weak seal layer 82, the developer that has penetrated from the mask material 80 is further transferred to the weak seal layer 82.
2 can be prevented from penetrating. Therefore, since the release layer 83 and the adhesive layer 84 are not swollen by the developer, the mask material 80 and the processing liquid-resistant layer 81, the processing liquid-resistant layer 81 and the release layer 83, and the adhesive layer 84 and the image receiving layer The adhesive strength between the release layer 83 and the adhesive layer 84 is maintained at least 10 minutes after the standard peeling time, so that the mask 8 When the image-receiving sheet 7 and the image-receiving sheet 7 are separated, the adhesive layer 84 can be completely transferred to the image-receiving sheet 7. This makes it easy to peel off the image receiving sheet 7, and
The appearance of the screen frame after peeling off is beautiful, and it is possible to write well on this screen frame. especially,
Adding silica to the adhesive layer 84 is effective in preventing blocking and can provide good writing properties to the pencil.

以下、本発明の実施例を説明する。 Examples of the present invention will be described below.

〔実施例〕〔Example〕

マスク材80として、(a)のスチレン・アクリル
サイズ剤を添加し、かつPE12重量%を原紙に混
抄して厚さ33μにしたものを用いた。耐処理液剤
として、前述した(a)の塩ビ酢ビコポリマー(400
×150M)を用い、これを乾燥塗布量が2.5g/m2
になるようにマスク材80にグラビヤ塗装して耐
処理液層81を形成した。離型剤として、前述し
た塩ビ酢ビコポリマー(400×150M)と、ポリメ
タクリル酸メチル(MHO)とを30:70(重量%)
で混合したものを用い、これを乾燥塗布量が1.3
g/m2となるようにグラビヤ塗装して離型層83
を層設した。接着剤として、前述した(a)のポリア
ミド(DPX−1163)に有機系処理を施したシリ
カ(S−978)をポリアミドに対して20重量%で
添加したものを用い、これを乾燥塗布量が4.0
g/m2となるようにグラビヤ塗装をして接着層8
4を層設した。
As the mask material 80, a material to which the styrene/acrylic sizing agent (a) was added and 12% by weight of PE was mixed into a base paper to a thickness of 33 μm was used. As a treatment liquid-resistant agent, the above-mentioned (a) vinyl chloride-acetate copolymer (400
×150M) with a dry coating amount of 2.5g/m 2
A treatment liquid-resistant layer 81 was formed by gravure coating the mask material 80 so that the mask material 80 had the following properties. As a mold release agent, the aforementioned vinyl chloride/vinyl acetate copolymer (400 x 150M) and polymethyl methacrylate (MHO) were mixed at a ratio of 30:70 (wt%).
The dry coating amount is 1.3.
g/m 2 by gravure coating and release layer 83
Layered. As an adhesive, the polyamide (DPX-1163) mentioned above (a) was added with organically treated silica (S-978) at 20% by weight based on the polyamide. 4.0
g/m 2 and apply gravure coating to adhesive layer 8.
4 was layered.

このマスク8をモノクロの受像シート7にヒー
トシールした。このヒートシールの条件は、シー
ル温度が100〜150度の範囲であり、シール時間が
0.3秒であり、圧力が2.5Kg/cm2である。このヒー
トシールにより、マスク8と受像シール7とがみ
だりにはがれない良好な接着強度を得ることがで
きた。
This mask 8 was heat-sealed to a monochrome image receiving sheet 7. The conditions for this heat sealing are that the sealing temperature is in the range of 100 to 150 degrees and the sealing time is
The time is 0.3 seconds and the pressure is 2.5Kg/cm 2 . By this heat sealing, it was possible to obtain a good adhesive strength that would prevent the mask 8 and the image receiving seal 7 from peeling off unnecessarily.

現像開始後モノクロの標準剥離時間である45秒
が経過した時、現像開始後5分が経過した時、現
像開始後10分が経過した時に、マスク8と受像シ
ート78とを剥離してはがしやすさ、接着層84
の受像シート7への転写性、転写された接着層
(画面枠)への筆記性について調べた。その結果、
いずれの剥離時間においても、はがしやすさが良
好であつた。また、接着層84が受像シート7に
完全に転写され、外観のきれいな画面枠を得るこ
とができた。また、この画面枠は、鉛筆(硬さ
HB)、ボールペン、水性及び油性ペンに対して
良好な筆記性があつた。
When 45 seconds, which is the standard monochrome peeling time, has elapsed after the start of development, when 5 minutes have passed since the start of development, and when 10 minutes have passed since the start of development, the mask 8 and the image-receiving sheet 78 are peeled off for easy peeling. Adhesive layer 84
The transferability of the image to the image-receiving sheet 7 and the writing ability of the transferred adhesive layer (screen frame) were investigated. the result,
The ease of peeling was good at all peeling times. Further, the adhesive layer 84 was completely transferred to the image receiving sheet 7, and a screen frame with a beautiful appearance could be obtained. Also, this screen frame is a pencil (hardness
HB), had good writing properties with ballpoint pens, water-based pens, and oil-based pens.

耐処理液層がないフイルムユニツトについて、
比較実験を行つたところ、標準剥離時間でははが
しやすさは良好であつたが、転写性及び筆記性は
多少低下していた。また、剥離時間が5分の時に
は、はがしやすさは良好であつたが、転写性及び
筆記性はかなり悪化した。剥離時間を10分にした
時には、はがしやすさ、転写性、筆記性のいずれ
も悪化していた。
Regarding film units without a processing liquid-resistant layer,
When a comparative experiment was conducted, it was found that the peelability was good under the standard peeling time, but the transferability and writability were somewhat degraded. Further, when the peeling time was 5 minutes, the ease of peeling was good, but the transferability and writability were considerably deteriorated. When the peeling time was set to 10 minutes, the ease of peeling, transferability, and writability all deteriorated.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はマスクと受像シートの層構造を示す斜
視図である。第2図はマスクと受像シートの剥離
状態を示す斜視図である。第3図はフイルムユニ
ツトの斜視図である。第4図はフイルムユニツト
の展開状態を示す断面図である。 1……感光シート、2……引出しシート、4…
…現像液ポツド、5……フアンネル、6……タ
ブ、7……受像シート、8……マスク、9,10
……レール、15,16……展開ローラ、70…
…支持体、71……受像層、80……マスク材、
81……耐処理液層、82……弱シール層、83
……離型層、84……接着層。
FIG. 1 is a perspective view showing the layer structure of a mask and an image-receiving sheet. FIG. 2 is a perspective view showing a state in which the mask and the image-receiving sheet are separated. FIG. 3 is a perspective view of the film unit. FIG. 4 is a sectional view showing the developed state of the film unit. 1...Photosensitive sheet, 2...Drawer sheet, 4...
...Developer pot, 5...Funnel, 6...Tab, 7...Image receiving sheet, 8...Mask, 9, 10
...Rail, 15, 16...Development roller, 70...
... Support, 71 ... Image-receiving layer, 80 ... Mask material,
81... Processing liquid resistant layer, 82... Weak sealing layer, 83
...Release layer, 84...Adhesive layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 画面に対応する開口が形成されたマスク材
に、離型層と接着層とからなる弱シール層を介し
て接合された受像シートと、露光後に前記受像シ
ートに重ね合わされ、その間に現像液が展開され
る感光シートとからなり、現像液の展開後に前記
離型層と接着層との間で剥離されるインスタント
フイルムユニツトにおいて 前記弱シール層とマスク材との間に、耐アルカ
リ性に優れたポリマーからなる耐処理液層を層設
し、前記現像液が弱シール層に浸透するのを防止
したことを特徴とするインスタントフイルムユニ
ツト。 2 前記耐処理液層は、塩ビ酢ビコポリマーから
なることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
のインスタントフイルムユニツト。 3 前記塩ビ酢ビコポリマーは、塩化ビニルが80
〜95重量%であり、残りが酢酸ビニルであること
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載のインス
タントフイルムユニツト。 4 前記耐処理液層は、ポリ塩化ビニルからなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のイ
ンスタントフイルムユニツト。 5 前記耐処理液層は、ポリメタクリル酸メチル
からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のインスタントフイルムユニツト。 6 前記耐処理液層は、塩ビ酢ビコポリマーとポ
リメタクリル酸メチルとからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のインスタントフイ
ルムユニツト。 7 前記塩ビ酢ビコポリマーは30〜50重量%であ
り、残りがポリメタクリル酸メチルであることを
特徴とする特許請求の範囲第6項記載のインスタ
ントフイルムユニツト。 8 前記耐処理液層は、塩化ビニルと酢酸ビニル
とビニルアルコールの3元共重合体からなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のインス
タントフイルムユニツト。 9 前記耐処理液層は、塩化ビニルと酢酸ビニル
とマレイン酸の3元共重合体からなることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のインスタント
フイルムユニツト。 10 前記耐処理液層は、メタクリル酸メチルコ
ポリマーからなることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のインスタントフイルムユニツト。 11 前記耐処理液層は、塩化ビニリデンからな
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
インスタントフイルムユニツト。 12 前記耐処理液層は、ポリスチレン又はこれ
のコポリマーからなることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のインスタントフイルムユニツ
ト。
[Claims] 1. An image receiving sheet bonded to a mask material in which an opening corresponding to the screen is formed via a weak sealing layer consisting of a release layer and an adhesive layer, and an image receiving sheet that is superimposed on the image receiving sheet after exposure. , and a photosensitive sheet on which a developer is spread, and the instant film unit is peeled off between the release layer and the adhesive layer after the developer is spread, and between the weak sealing layer and the mask material, An instant film unit characterized in that a processing liquid-resistant layer made of a polymer with excellent alkali resistance is provided to prevent the developer from penetrating the weak sealing layer. 2. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. 3 The vinyl chloride vinyl acetate copolymer contains 80% vinyl chloride.
3. The instant film unit according to claim 2, wherein the amount is 95% by weight and the remainder is vinyl acetate. 4. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of polyvinyl chloride. 5. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of polymethyl methacrylate. 6. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of vinyl chloride/vinyl acetate copolymer and polymethyl methacrylate. 7. The instant film unit according to claim 6, wherein the vinyl chloride/vinyl acetate copolymer is 30 to 50% by weight, and the remainder is polymethyl methacrylate. 8. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of a ternary copolymer of vinyl chloride, vinyl acetate, and vinyl alcohol. 9. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of a ternary copolymer of vinyl chloride, vinyl acetate, and maleic acid. 10. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of methyl methacrylate copolymer. 11. The instant film unit according to claim 1, wherein the treatment-resistant liquid layer is made of vinylidene chloride. 12. The instant film unit according to claim 1, wherein the processing liquid-resistant layer is made of polystyrene or a copolymer thereof.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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