JPH0549055B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0549055B2 JPH0549055B2 JP61189944A JP18994486A JPH0549055B2 JP H0549055 B2 JPH0549055 B2 JP H0549055B2 JP 61189944 A JP61189944 A JP 61189944A JP 18994486 A JP18994486 A JP 18994486A JP H0549055 B2 JPH0549055 B2 JP H0549055B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- marker
- optical
- output
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 70
- 239000003550 marker Substances 0.000 claims description 39
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 34
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 23
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 9
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 9
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 9
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 3
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 claims description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 4
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004847 absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2/00—Demodulating light; Transferring the modulation of modulated light; Frequency-changing of light
- G02F2/002—Demodulating light; Transferring the modulation of modulated light; Frequency-changing of light using optical mixing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/04—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by beating two waves of a same source but of different frequency and measuring the phase shift of the lower frequency obtained
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
- H01S5/0687—Stabilising the frequency of the laser
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/50—Transmitters
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/50—Transmitters
- H04B10/501—Structural aspects
- H04B10/506—Multiwavelength transmitters
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/50—Transmitters
- H04B10/572—Wavelength control
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1303—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by using a passive reference, e.g. absorption cell
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
≪産業上の利用分野≫
本発明は、高精度かつ高分解能の光周波数スペ
クトル・アナライザに関する。
クトル・アナライザに関する。
≪従来の技術≫
従来の光周波数スペクトル・アナライザとして
は次のようなものがある。
は次のようなものがある。
イ 回折格子やプリズムを分光器として用いたも
の。
の。
ロ フアブリ・ペロー共振器を分光器として用い
たもの:第12図に示すように、2枚のハーフ
ミラーHMを対向して配置し共振器を構成す
る。光速をc、2枚のハーフミラーの距離をL
とすると、この共振器はc/2Lの周波数間隔
で共振周波数を持つ。左側のハーフミラーHM
に被測定光を入射すると共振周波数と同じ周波
数の光は透過して受光器PDに入射する。ハー
フミラーHMをPZTなどで振動させて共振周波
数を掃引すると、受光器PDの出力から被測定
光のスペクトルを観測できる。
たもの:第12図に示すように、2枚のハーフ
ミラーHMを対向して配置し共振器を構成す
る。光速をc、2枚のハーフミラーの距離をL
とすると、この共振器はc/2Lの周波数間隔
で共振周波数を持つ。左側のハーフミラーHM
に被測定光を入射すると共振周波数と同じ周波
数の光は透過して受光器PDに入射する。ハー
フミラーHMをPZTなどで振動させて共振周波
数を掃引すると、受光器PDの出力から被測定
光のスペクトルを観測できる。
≪発明が解決しようとする問題点≫
しかしながら、上記のイの方式の光周波数スペ
クトル・アナライザでは、波長分解能が0.1nm
(=30GHz相当)程度、絶対精度が2nm(=600G
Hz相当)程度と、共に悪い。またロの方式の光周
波数スペクトル・アナライザは、周波数分解能が
数10MHzが限定である。基準波長の光を入力して
測定すれば絶対波長も測定できるが、取扱が非常
に難しく、精度も悪い(ミラーの平行度や垂直入
射の調整、ミラー間隔の変動による周波数エラー
等)。また複数モードで発振しているレーザ光を
同時に測定することが困難という欠点もある。
クトル・アナライザでは、波長分解能が0.1nm
(=30GHz相当)程度、絶対精度が2nm(=600G
Hz相当)程度と、共に悪い。またロの方式の光周
波数スペクトル・アナライザは、周波数分解能が
数10MHzが限定である。基準波長の光を入力して
測定すれば絶対波長も測定できるが、取扱が非常
に難しく、精度も悪い(ミラーの平行度や垂直入
射の調整、ミラー間隔の変動による周波数エラー
等)。また複数モードで発振しているレーザ光を
同時に測定することが困難という欠点もある。
将来のコヒーレント光通信分野や光応用計測分
野では1MHz以下の高精度、高分解能での周波数
測定が必要とされるので、上記の各方式では不十
分である。
野では1MHz以下の高精度、高分解能での周波数
測定が必要とされるので、上記の各方式では不十
分である。
本発明はこのような問題点を解決するためにな
されたもので、絶対精度で超高精度、超高分解能
な光周波数スペクトル・アナライザを実現するこ
とを目的とする。
されたもので、絶対精度で超高精度、超高分解能
な光周波数スペクトル・アナライザを実現するこ
とを目的とする。
≪問題点を解決するための手段≫
本発明に係る光周波数スペクトラム・アナライ
ザは、入力する掃引電気信号に対応して周波数掃
引した光を出力する可変波長レーザとこの可変波
長レーザの掃引周波数に対応し所定の周波数のみ
でマーカ光を出力する或いは通常マーカ光を出力
しておき所定の周波数のみでマーカ光を出力しな
いマーカ光源とこのマーカ光源からの出力光を入
射して電気信号に変換する受光素子とを備えたマ
ーカ付き可変波長光源部と、このマーカ付き可変
波長光源部の出力光と被測定光に関連する光を入
射しその周波数の差に対応する周波数の電気信号
を出力する光ヘテロダイン検波部と、この光ヘテ
ロダイン検波部の電気出力を入力するフイルタ部
と、このフイルタ部の電気出力を力する検波部
と、前記受光素子からの電気信号をマーカ信号入
力とし前記検波部の電気出力を光パワー入力とし
前記掃引電気信号に関連する電気信号を周波数軸
入力とする信号処理・表示部とを具備し、信号処
理・表示部が前記被測定光の光周波数スペクトル
をマーカとともに出力することを特徴とする。
ザは、入力する掃引電気信号に対応して周波数掃
引した光を出力する可変波長レーザとこの可変波
長レーザの掃引周波数に対応し所定の周波数のみ
でマーカ光を出力する或いは通常マーカ光を出力
しておき所定の周波数のみでマーカ光を出力しな
いマーカ光源とこのマーカ光源からの出力光を入
射して電気信号に変換する受光素子とを備えたマ
ーカ付き可変波長光源部と、このマーカ付き可変
波長光源部の出力光と被測定光に関連する光を入
射しその周波数の差に対応する周波数の電気信号
を出力する光ヘテロダイン検波部と、この光ヘテ
ロダイン検波部の電気出力を入力するフイルタ部
と、このフイルタ部の電気出力を力する検波部
と、前記受光素子からの電気信号をマーカ信号入
力とし前記検波部の電気出力を光パワー入力とし
前記掃引電気信号に関連する電気信号を周波数軸
入力とする信号処理・表示部とを具備し、信号処
理・表示部が前記被測定光の光周波数スペクトル
をマーカとともに出力することを特徴とする。
≪作用≫
上記のような構成の光周波数スペクトラム・ア
ナライザによれば、マーカ付き可変波長光源部の
光出力を用いて被測定光をヘテロダイン検波する
ことにより、上記の目的を達成できる。
ナライザによれば、マーカ付き可変波長光源部の
光出力を用いて被測定光をヘテロダイン検波する
ことにより、上記の目的を達成できる。
≪実施例≫
以下本発明を図面を用いて詳しく説明する。
第1図は本発明に係る光スペクトラムアナライ
ザの一実施例を示す構成ブロツク図である。帯状
の矢印は光信号の流れを示し実線の矢印は電気信
号の流れを示す。1は被測定光を入射する磁気光
学結果効晶(YIG、鉛ガラス他)などを用いた偏
光制御部、2はこの偏光制御部1の出力光を入力
する光増幅部、3は掃引信号発生器、10はこの
掃引信号発生器3により周波数掃引を制御される
マーカ付き可変波長光源部、HM2はこのマーカ
付き可変波長光源部10の基準波長光Rsおよび
可変波長光Rvを合成するハーフミラー、HM1
はこのハーフミラーHM2および前記光増幅部2
の出力光を入力するハーフミラー、4はPINフオ
トダイオードやアバランシエフオトダイオードな
どからなり前記ハーフミラーHM1の出力光を入
力する光ヘテロダイン検波部、5はこの光ヘテロ
ダイン検波部4の電気出力を入力して増幅すると
ともにバンドパス特性を有するフイルタ部、6は
このフイルタ部5の電気出力の入力する検波部、
7はこの検波部6の電気出力を入力する信号処
理・表示部である。
ザの一実施例を示す構成ブロツク図である。帯状
の矢印は光信号の流れを示し実線の矢印は電気信
号の流れを示す。1は被測定光を入射する磁気光
学結果効晶(YIG、鉛ガラス他)などを用いた偏
光制御部、2はこの偏光制御部1の出力光を入力
する光増幅部、3は掃引信号発生器、10はこの
掃引信号発生器3により周波数掃引を制御される
マーカ付き可変波長光源部、HM2はこのマーカ
付き可変波長光源部10の基準波長光Rsおよび
可変波長光Rvを合成するハーフミラー、HM1
はこのハーフミラーHM2および前記光増幅部2
の出力光を入力するハーフミラー、4はPINフオ
トダイオードやアバランシエフオトダイオードな
どからなり前記ハーフミラーHM1の出力光を入
力する光ヘテロダイン検波部、5はこの光ヘテロ
ダイン検波部4の電気出力を入力して増幅すると
ともにバンドパス特性を有するフイルタ部、6は
このフイルタ部5の電気出力の入力する検波部、
7はこの検波部6の電気出力を入力する信号処
理・表示部である。
光増幅部2はAIGaAsレーザ(780nm帯)や
InGaAsPレーザ(1500nm帯)などで構成され、
下記の3方式のものを用いることができる。
InGaAsPレーザ(1500nm帯)などで構成され、
下記の3方式のものを用いることができる。
(イ) 共振器形半導体レーザ増幅器と呼ばれ、発振
閾値近傍のバイアス電流を流し、レーザダイオ
ードに信号光を入射して誘導放出により線形光
増幅を行うもの。
閾値近傍のバイアス電流を流し、レーザダイオ
ードに信号光を入射して誘導放出により線形光
増幅を行うもの。
(ロ) 光注入同期増幅器と呼ばれ、発振しているレ
ーザダイオードに信号光を入射して発振光の光
周波数および位相を制御するもの。
ーザダイオードに信号光を入射して発振光の光
周波数および位相を制御するもの。
(ハ) 進行波形レーザ増幅器と呼ばれ、レーザダイ
オード・チツプの両端面を無反射コートし、信
号光の通過のみで光増幅するもの。
オード・チツプの両端面を無反射コートし、信
号光の通過のみで光増幅するもの。
上記のような構成の光スペクトラムアナライザ
の動作を次に詳しく説明する。偏光制御部1に周
波数ωiの被測定光が入射すると、磁気光学効果結
晶の旋光性を利用して印加磁界を制御することに
より、入射光の偏光面をハーフミラーHM2の出
力光と同じ偏光面となるように制御する。偏光制
御部1の光出力は光増幅部2で増幅された後(周
波数ωi′)ハーフミラーHM1でマーカ付き可変
波長光源部10の周波数ωpの出力光と合成され、
光ヘテロダイン検波部4で両周波数の差ωp−
ωi′(ただしこの場合はωi′=ωi)の周波数をもつ
電気信号に変換される。光ヘテロダイン検波部4
の電気出力はフイルタ5のバンドパス特性を一部
が通過し検波部6でパワーとして取出される。信
号処理・表示部7は掃引信号発生器3からの掃引
に関連した信号を周波数軸信号として入力し、検
波部6の電気出力をパワー信号として入力して被
測定光71および基準光72をスペクトル表示す
るとともに、マーカ付き可変波長光源部10から
出力されるマーカ電気信号Enを入力して、マー
カ73を表示する。
の動作を次に詳しく説明する。偏光制御部1に周
波数ωiの被測定光が入射すると、磁気光学効果結
晶の旋光性を利用して印加磁界を制御することに
より、入射光の偏光面をハーフミラーHM2の出
力光と同じ偏光面となるように制御する。偏光制
御部1の光出力は光増幅部2で増幅された後(周
波数ωi′)ハーフミラーHM1でマーカ付き可変
波長光源部10の周波数ωpの出力光と合成され、
光ヘテロダイン検波部4で両周波数の差ωp−
ωi′(ただしこの場合はωi′=ωi)の周波数をもつ
電気信号に変換される。光ヘテロダイン検波部4
の電気出力はフイルタ5のバンドパス特性を一部
が通過し検波部6でパワーとして取出される。信
号処理・表示部7は掃引信号発生器3からの掃引
に関連した信号を周波数軸信号として入力し、検
波部6の電気出力をパワー信号として入力して被
測定光71および基準光72をスペクトル表示す
るとともに、マーカ付き可変波長光源部10から
出力されるマーカ電気信号Enを入力して、マー
カ73を表示する。
第2図は第1図装置におけるマーカ付き可変波
長光源部10の詳細を示す構成ブロツク図であ
る。マーカ付き可変波長光源部10において、1
1は波長を制御する掃引電気信号Eiが加わる入力
端子、12はこの入力端子11を介して前記掃引
電気信号Eiを入力する可変波長レーザ、BS1は
この可変波長レーザ12の出力光を入射して2方
向に分離するビームスプリツタ、FP1はこのビ
ームスプリツタBS1の透過光を入力するフアブ
リ・ペロー・エタロンからなる共振器でマーカ光
源を構成するもの、EO1はこの共振器FP1内の
光軸上に設けられた電気光学素子、E1はこの電
気光学素子EO1を駆動する信号源、PD1は前記
共振器FP1の出力光を入射して電気信号に変換
する受光素子、14は一定波長の出力光を発生す
る高安定、高精度の基準波長レーザ光源である。
長光源部10の詳細を示す構成ブロツク図であ
る。マーカ付き可変波長光源部10において、1
1は波長を制御する掃引電気信号Eiが加わる入力
端子、12はこの入力端子11を介して前記掃引
電気信号Eiを入力する可変波長レーザ、BS1は
この可変波長レーザ12の出力光を入射して2方
向に分離するビームスプリツタ、FP1はこのビ
ームスプリツタBS1の透過光を入力するフアブ
リ・ペロー・エタロンからなる共振器でマーカ光
源を構成するもの、EO1はこの共振器FP1内の
光軸上に設けられた電気光学素子、E1はこの電
気光学素子EO1を駆動する信号源、PD1は前記
共振器FP1の出力光を入射して電気信号に変換
する受光素子、14は一定波長の出力光を発生す
る高安定、高精度の基準波長レーザ光源である。
上記のような構成のマーカ付き可変波長光源部
の動作を次に説明する。可変波長レーザ12は入
力端子11を介して加わる信号Eiに対応する波長
の出力光を発生する。この出力光の一部はビーム
スプリツタBS1で反射されて可変波長出力光Rv
となり、他の一部は透過して共振器FP1に入力
する。共振器FP1は光路上に存在する電気光学
素子EO1の作用により等価的な共振器間隔を変
えることができる。したがつて共振器FP1の出
力光Rnは信号源E1の出力(電圧)に対応する
波長間隔でピーク値を生ずる。受光素子PD1は
この出力光Rnを電気式号に変換してマーカ信号
Enを端子13から出力する。第3図はこのマー
カ信号Enを周波数領域で示したスペクトラム・
チヤートである。基準波長レーザ光源14は可変
波長レーザ光源12の出力帯域の範囲内で一定波
長の出力光Rsを発生する。
の動作を次に説明する。可変波長レーザ12は入
力端子11を介して加わる信号Eiに対応する波長
の出力光を発生する。この出力光の一部はビーム
スプリツタBS1で反射されて可変波長出力光Rv
となり、他の一部は透過して共振器FP1に入力
する。共振器FP1は光路上に存在する電気光学
素子EO1の作用により等価的な共振器間隔を変
えることができる。したがつて共振器FP1の出
力光Rnは信号源E1の出力(電圧)に対応する
波長間隔でピーク値を生ずる。受光素子PD1は
この出力光Rnを電気式号に変換してマーカ信号
Enを端子13から出力する。第3図はこのマー
カ信号Enを周波数領域で示したスペクトラム・
チヤートである。基準波長レーザ光源14は可変
波長レーザ光源12の出力帯域の範囲内で一定波
長の出力光Rsを発生する。
第1図ではパルス光を被測定光してそのスペク
トルを測定する場合を示すために、掃引信号発生
器3にパルス同期信号を加えている。第4図はこ
の場合の動作を説明するためのタイムチヤートで
ある。パルス光に同期したトリガ信号(第4図
B)を掃引信号発生器3に入力し、これに同期し
て可変波長出力光Rvの周波数ωpを第4図Aのよ
うにステツプ状に掃引する。同時に信号処理・表
示部7に周波数ωpの掃引に対応した(第4図A
と同様の)信号を送る。その結果、1つのパルス
光ごとに1点のωpのパワースペクトルを測定す
ることになり、掃引後、第5図の説明図に示すよ
うなパルス光の全スペクトルを出力できる。
トルを測定する場合を示すために、掃引信号発生
器3にパルス同期信号を加えている。第4図はこ
の場合の動作を説明するためのタイムチヤートで
ある。パルス光に同期したトリガ信号(第4図
B)を掃引信号発生器3に入力し、これに同期し
て可変波長出力光Rvの周波数ωpを第4図Aのよ
うにステツプ状に掃引する。同時に信号処理・表
示部7に周波数ωpの掃引に対応した(第4図A
と同様の)信号を送る。その結果、1つのパルス
光ごとに1点のωpのパワースペクトルを測定す
ることになり、掃引後、第5図の説明図に示すよ
うなパルス光の全スペクトルを出力できる。
本実施例における光周波数の動作例を次に示
す。基準波長光Rsの波長:780nm(レーザダイ
オードの波長をRb(ルビジウム)の吸収線にロツ
クする) 可変波長光Rvの波長:780nm±50nm ωiの波長:780nm±50nm 第1図の実施例に述べたような構成によれば、
測定データとともに基準光とマーカ光が表示また
は記録されるので、基準光の波長からマーカ光の
間隔数を数えるとともに、内挿を行えば波長の絶
対値を容易に知ることができる。
す。基準波長光Rsの波長:780nm(レーザダイ
オードの波長をRb(ルビジウム)の吸収線にロツ
クする) 可変波長光Rvの波長:780nm±50nm ωiの波長:780nm±50nm 第1図の実施例に述べたような構成によれば、
測定データとともに基準光とマーカ光が表示また
は記録されるので、基準光の波長からマーカ光の
間隔数を数えるとともに、内挿を行えば波長の絶
対値を容易に知ることができる。
また光はスペクトラムアナライザの周波数分解
能はマーカ付き可変波長光源部10の可変波長出
力光Rvのスペクトル幅とフイルタ部5の帯域幅
で決まる。可変波長出力Rvのスペクトル幅はマ
ーカ付き可変波長光源部10内の可変波長レーザ
12で決まるので、これに後述(第7図〜第10
図)のような外部共振器形レーザダイオードを使
用することにより、優れた周波数分解能(100k
Hz)を得ることができる。
能はマーカ付き可変波長光源部10の可変波長出
力光Rvのスペクトル幅とフイルタ部5の帯域幅
で決まる。可変波長出力Rvのスペクトル幅はマ
ーカ付き可変波長光源部10内の可変波長レーザ
12で決まるので、これに後述(第7図〜第10
図)のような外部共振器形レーザダイオードを使
用することにより、優れた周波数分解能(100k
Hz)を得ることができる。
また絶対精度で高精度(10-12)、高安定
(10-12)な光周波数スペクトラム・アナライザを
得ることができる。
(10-12)な光周波数スペクトラム・アナライザを
得ることができる。
また光パルスの測定が容易という利点もある。
なお光ヘテロダイン検波部4にW−Ni(タング
ステン、ニツケル)点接触ダイオードやジヨゼフ
ソン素子を使うこともできる。
ステン、ニツケル)点接触ダイオードやジヨゼフ
ソン素子を使うこともできる。
また、上記の実施例ではフイルタ部5としてバ
ンドパスフイルタを用いたが、これに限らず、ロ
ーパスフイルタを用いてもよい。その場合には
ωpの掃引に伴つて、ωi′=ωpとなるωi′の光パワ
ーが検出されることになる。
ンドパスフイルタを用いたが、これに限らず、ロ
ーパスフイルタを用いてもよい。その場合には
ωpの掃引に伴つて、ωi′=ωpとなるωi′の光パワ
ーが検出されることになる。
また上記第2図の実施例において、フアブリ・
ペロー・エタロンFP1の共振器間隔を自由に変
えることができる場合には電気光学素子EO1が
不要となる。
ペロー・エタロンFP1の共振器間隔を自由に変
えることができる場合には電気光学素子EO1が
不要となる。
第6図は第1図装置におけるマーカ付き可変波
長光源部10の一変形例を示す構成ブロツク図で
ある。第2図装置と同じ部分は同一の記号を付し
て説明を省略する。CL1はビームスプリツタBS
1の透過光を入力する標準物質を封入した吸収セ
ルでマーカ光源を構成するもの、PD1はこの吸
収レスCL1の出力光Rnを入射して電気信号に変
換する受光素子、CP1はこの受光素子PD1の出
力が接続する比較器、13はこの比較器CP1の
出力が接続するマーカ信号出力端子である。標準
物質としてはCs(852nm付近に2本の吸収線)、
Rb(780nm付近に4本、794nm付近に4本の吸収
線)、NH3(多数の吸収線)、H2O(多数の吸収線)
などが使用される。
長光源部10の一変形例を示す構成ブロツク図で
ある。第2図装置と同じ部分は同一の記号を付し
て説明を省略する。CL1はビームスプリツタBS
1の透過光を入力する標準物質を封入した吸収セ
ルでマーカ光源を構成するもの、PD1はこの吸
収レスCL1の出力光Rnを入射して電気信号に変
換する受光素子、CP1はこの受光素子PD1の出
力が接続する比較器、13はこの比較器CP1の
出力が接続するマーカ信号出力端子である。標準
物質としてはCs(852nm付近に2本の吸収線)、
Rb(780nm付近に4本、794nm付近に4本の吸収
線)、NH3(多数の吸収線)、H2O(多数の吸収線)
などが使用される。
上記のような構成のマーカ付き可変波長光源部
10の動作を次に説明する。可変波長レーザ12
の出力光の一部はビームスプリツタBS1を透過
して吸収セルCL1に入射する。入射光は吸収セ
ルCL1の内部に封入された標準物質により特定
の波長(前述)で吸収を受け、前記波長でピーク
値(最下点)を有する透過光Rnを出力する。受
光素子PD1はこの出力光Rnを電気信号に変換
し、比較器CP1で波形整形した後マーカ信号En
として端子13から出力する。量子標準のマーカ
光が出力されるので、高精度の波長測定が可能で
ある。
10の動作を次に説明する。可変波長レーザ12
の出力光の一部はビームスプリツタBS1を透過
して吸収セルCL1に入射する。入射光は吸収セ
ルCL1の内部に封入された標準物質により特定
の波長(前述)で吸収を受け、前記波長でピーク
値(最下点)を有する透過光Rnを出力する。受
光素子PD1はこの出力光Rnを電気信号に変換
し、比較器CP1で波形整形した後マーカ信号En
として端子13から出力する。量子標準のマーカ
光が出力されるので、高精度の波長測定が可能で
ある。
第7図は第2図のマーカ付き可変波長光源部1
0における可変波長レーザ12の一具体例で、共
振器内に波長選択性の素子を挿入したものを示す
構成ブロツク図である。図においてLD2は半導
体レーザ、121,122はこの半導体レーザ
LD2の両端に設けられた無反射コート部、LS5
はこの無反射コート部121から出射される光を
平行光とするレンズ、HM4はこのレンズLS5
を通過した光が反射されるとともに共振光を外部
へ出力するハーフミラー、LS6は無反射コート
部122から出射される光を平行光とするレン
ズ、UM1はこのレンズLS6を通過する光が入
射する第1の超音波変調器、UM2はこの超音波
変調器UM1からの出力光が入射する第2の超音
波変調器、M1はこの超音波変調器UM2から出
射した光を反射するミラー、DR1は前記超音波
変調器UM1,UM2を周波数Fで励振する発振
器である。半導体レーザLD2の無反射コート部
121から出射した光はレンズLD5で平行光と
された後ハーフミラーHM4で反射され、反射光
は光路を元に戻つて再び半導体レーザLD2に入
射する。無反射コート部122から出射した周波
数f01の光はレンズLS6で平行光とされ、第1の
超音波変調器UM1に入射する。超音波により生
じる回折格子に対して特定の入射角および出射角
を満足するような光の波長は超音波の波長が変わ
れば変化する。入射光は回折の際に超音波による
ドツプラシフトを受け、+1次回折光(超音波の
方向の回折される方向が同じ)の周波数はf01+
Fとなる。超音波変調器UM1からの出射光は超
音波変調器UM2で再び回折する。超音波変調器
UM2では超音波の進行波の方向と回折光の関係
が超音波変調器UM1における場合と逆で、−1
次回折光となるので、ドツプラシフト量は−Fと
なり、超音波変調器UM2の出力光の数端数はf01
+F−F=f01となる。超音波変調器UM2の出力
光はミラーM1で反射した後超音波変調器UM2
でドツプラシフトを受けて周波数がf01−Fとな
つた後、超音波変調器UM1でf01−F+F=f01
となり、元の周波数f01となつて半導体レーザLD
2に戻るので、共振状態が持続する。この様な構
成な構成で超音波の波長(周波数F)を変えれ
ば、共振する光の波長を掃引することができる。
ハーフミラーHM4を介して共振した光が外部に
出力される。
0における可変波長レーザ12の一具体例で、共
振器内に波長選択性の素子を挿入したものを示す
構成ブロツク図である。図においてLD2は半導
体レーザ、121,122はこの半導体レーザ
LD2の両端に設けられた無反射コート部、LS5
はこの無反射コート部121から出射される光を
平行光とするレンズ、HM4はこのレンズLS5
を通過した光が反射されるとともに共振光を外部
へ出力するハーフミラー、LS6は無反射コート
部122から出射される光を平行光とするレン
ズ、UM1はこのレンズLS6を通過する光が入
射する第1の超音波変調器、UM2はこの超音波
変調器UM1からの出力光が入射する第2の超音
波変調器、M1はこの超音波変調器UM2から出
射した光を反射するミラー、DR1は前記超音波
変調器UM1,UM2を周波数Fで励振する発振
器である。半導体レーザLD2の無反射コート部
121から出射した光はレンズLD5で平行光と
された後ハーフミラーHM4で反射され、反射光
は光路を元に戻つて再び半導体レーザLD2に入
射する。無反射コート部122から出射した周波
数f01の光はレンズLS6で平行光とされ、第1の
超音波変調器UM1に入射する。超音波により生
じる回折格子に対して特定の入射角および出射角
を満足するような光の波長は超音波の波長が変わ
れば変化する。入射光は回折の際に超音波による
ドツプラシフトを受け、+1次回折光(超音波の
方向の回折される方向が同じ)の周波数はf01+
Fとなる。超音波変調器UM1からの出射光は超
音波変調器UM2で再び回折する。超音波変調器
UM2では超音波の進行波の方向と回折光の関係
が超音波変調器UM1における場合と逆で、−1
次回折光となるので、ドツプラシフト量は−Fと
なり、超音波変調器UM2の出力光の数端数はf01
+F−F=f01となる。超音波変調器UM2の出力
光はミラーM1で反射した後超音波変調器UM2
でドツプラシフトを受けて周波数がf01−Fとな
つた後、超音波変調器UM1でf01−F+F=f01
となり、元の周波数f01となつて半導体レーザLD
2に戻るので、共振状態が持続する。この様な構
成な構成で超音波の波長(周波数F)を変えれ
ば、共振する光の波長を掃引することができる。
ハーフミラーHM4を介して共振した光が外部に
出力される。
また可変波長レーザ12の第2の具体例とし
て、第8図のように共振器内に光の屈折率を制御
できる素子を挿入したものを用いてもよい。第7
図と同一の部分には同じ記号を付して説明を省略
する。EO1はLiNbO3(ニオブ酸リチウム)等か
らなりレンズLS6の出力光を入射する両面無反
射コートの電気光学素子、E2はこの電気光学素
子EO1を制御する信号源である。半導体レーザ
LD2を出射した光はレンズLS6で平行光となつ
た後電気光学素子EO1を通過し、ミラーM1で
反射した後元の光路を逆行して、再び半導体レー
ザLD2に入射する。この結果HM4とミラーM
1の間で共振器を構成できる。HM4とミラーM
1の間の電気光学素子EO1の光路に沿つた長さ
1を除く距離をL3、電気光学素子EO1の屈折率
をn3、光速をc、pを整数とすると、発振周波数
f02は f02=p・c/2(L3+n3(V)1) ……(1) となる。すなわち信号源E2により電気光学素子
EO1の電解強度を変えることにより屈折率n3を
変化させることができ、その結果発振周波数f02
を掃引できる。
て、第8図のように共振器内に光の屈折率を制御
できる素子を挿入したものを用いてもよい。第7
図と同一の部分には同じ記号を付して説明を省略
する。EO1はLiNbO3(ニオブ酸リチウム)等か
らなりレンズLS6の出力光を入射する両面無反
射コートの電気光学素子、E2はこの電気光学素
子EO1を制御する信号源である。半導体レーザ
LD2を出射した光はレンズLS6で平行光となつ
た後電気光学素子EO1を通過し、ミラーM1で
反射した後元の光路を逆行して、再び半導体レー
ザLD2に入射する。この結果HM4とミラーM
1の間で共振器を構成できる。HM4とミラーM
1の間の電気光学素子EO1の光路に沿つた長さ
1を除く距離をL3、電気光学素子EO1の屈折率
をn3、光速をc、pを整数とすると、発振周波数
f02は f02=p・c/2(L3+n3(V)1) ……(1) となる。すなわち信号源E2により電気光学素子
EO1の電解強度を変えることにより屈折率n3を
変化させることができ、その結果発振周波数f02
を掃引できる。
第9図は可変波長レーザ12の第2の具体例
で、第8図の可変波長レーザを2重共振器形とし
たものを示す構成ブロツク図である。第8図と同
一の部分は同じ記号を付して説明を省略する。
BS2はレンズLS6からの出射光を2方向に分離
するビームスプリツタ、EO2はこのビームスプ
リツタBS2を透過した光を入射する電気光学素
子、M1はこの電気光学素子EO2の出力光を反
射するミラー、EO3は前記ビームスプリツタBS
2で反射した光を入射する電気光学素子、M2は
この電気光学素子EO3の出射光を反射するミラ
ーである。前記光学素子EO2,EO3の光路方向
の長さをそれぞれl4,l5、屈折率をそれぞれn4,
n5、HM4,M1間の光路に沿つたl4を除く距離
をL4,HM4,M2間の光路に沿つたl5を除く距
離をL5、qを整数とすると、この場合の発振周
波数f03は f03=q・c/2|(L4+n4(V1)l4) −(L5+n5(V2)l5)| ……(2) となる。(2)式は(1)式よりも分母も小さくできるの
で、第8図装置の場合よりも発振周波数の可変範
囲を大きくできる。
で、第8図の可変波長レーザを2重共振器形とし
たものを示す構成ブロツク図である。第8図と同
一の部分は同じ記号を付して説明を省略する。
BS2はレンズLS6からの出射光を2方向に分離
するビームスプリツタ、EO2はこのビームスプ
リツタBS2を透過した光を入射する電気光学素
子、M1はこの電気光学素子EO2の出力光を反
射するミラー、EO3は前記ビームスプリツタBS
2で反射した光を入射する電気光学素子、M2は
この電気光学素子EO3の出射光を反射するミラ
ーである。前記光学素子EO2,EO3の光路方向
の長さをそれぞれl4,l5、屈折率をそれぞれn4,
n5、HM4,M1間の光路に沿つたl4を除く距離
をL4,HM4,M2間の光路に沿つたl5を除く距
離をL5、qを整数とすると、この場合の発振周
波数f03は f03=q・c/2|(L4+n4(V1)l4) −(L5+n5(V2)l5)| ……(2) となる。(2)式は(1)式よりも分母も小さくできるの
で、第8図装置の場合よりも発振周波数の可変範
囲を大きくできる。
第10図は可変波長レーザ12の第4の具体例
で、第8図の可変波長レーザダイオードを1チツ
プ上に集積化したものを示す構成図である。12
3はAlGaAs、InGaAsPなどから構成されるレー
ザダイオード、124はこのレーザダイオード1
23の接合部に設けられた光増幅部、125は同
じく導波路形外部共振器、126,127はレー
ザダイオード123の両端にもうけられたミラ
ー、128は前記光増幅部124に対応してレー
ザダイオード123の表面に設けられた電極、1
29は前記導波路形外部共振器125に対応して
レーザダイオード123の表面に設けられた電極
である。電極128を介して接合部に電流ILDを
注入して光増幅部124においてレーザ光を発生
させ、導波路形外部共振器125に電極129を
介して電流IFを流し導波路形外部共振器125の
屈折率を変化させて発振周波数を掃引する。光増
幅器124および導波路形外部共振器125の接
合部に沿つた流さをそれぞれl6,l7、屈折率をそ
れぞれn6,n7、rを整数とすると、発振周波数
f04は f04=r・c/2(n6l6+n7(IF)l7) ……(3) となる。
で、第8図の可変波長レーザダイオードを1チツ
プ上に集積化したものを示す構成図である。12
3はAlGaAs、InGaAsPなどから構成されるレー
ザダイオード、124はこのレーザダイオード1
23の接合部に設けられた光増幅部、125は同
じく導波路形外部共振器、126,127はレー
ザダイオード123の両端にもうけられたミラ
ー、128は前記光増幅部124に対応してレー
ザダイオード123の表面に設けられた電極、1
29は前記導波路形外部共振器125に対応して
レーザダイオード123の表面に設けられた電極
である。電極128を介して接合部に電流ILDを
注入して光増幅部124においてレーザ光を発生
させ、導波路形外部共振器125に電極129を
介して電流IFを流し導波路形外部共振器125の
屈折率を変化させて発振周波数を掃引する。光増
幅器124および導波路形外部共振器125の接
合部に沿つた流さをそれぞれl6,l7、屈折率をそ
れぞれn6,n7、rを整数とすると、発振周波数
f04は f04=r・c/2(n6l6+n7(IF)l7) ……(3) となる。
第11図は第2図の基準波長レーザ光源14の
具体例を示す構成ブロツク図である。図におい
て、LD3は半導体レーザ、BS3はこの半導体レ
ーザLD3の出力光が入射するビームスプリツタ、
CL2はこのビームスプリツタBS3の反射光を入
射する標準物質が封入された吸収セル、PD3は
この吸収セルCL2の透過光が入射する受光素子、
LA1はこの受光素子PD3の電気出力を入力しこ
れに対応する出力で前記半導体レーザLD3の電
流を制御するロツクインアンプ、DR2は前記半
導体レーザLD3の電流を周波数変調するととも
に前記ロツクインアンプLA1の位相検波周波数
を供給する発振器である。ビームスプリツタBS
3の透過光がこの基準波長レーザ光源の出力光と
なる。標準物質としてはCs,Rb,NH3,H2Oな
ど任意の物質を用いることができる。半導体レー
ザLD3の出力光はビームスプリツタBS3で反射
されて吸収セルCL2に入射し、吸収セル内CL2
の標準物質による吸収を受ける。吸収量を受光素
子PD3で検出し、ロツクインアンプLA1を介し
て半導体レーザLD3の電流に帰還する。半導体
レーザLD3の出力波長は標準物質の吸収スペク
トル線にロツクされるので、高安定、高精度の基
準波長光源を実現できる。
具体例を示す構成ブロツク図である。図におい
て、LD3は半導体レーザ、BS3はこの半導体レ
ーザLD3の出力光が入射するビームスプリツタ、
CL2はこのビームスプリツタBS3の反射光を入
射する標準物質が封入された吸収セル、PD3は
この吸収セルCL2の透過光が入射する受光素子、
LA1はこの受光素子PD3の電気出力を入力しこ
れに対応する出力で前記半導体レーザLD3の電
流を制御するロツクインアンプ、DR2は前記半
導体レーザLD3の電流を周波数変調するととも
に前記ロツクインアンプLA1の位相検波周波数
を供給する発振器である。ビームスプリツタBS
3の透過光がこの基準波長レーザ光源の出力光と
なる。標準物質としてはCs,Rb,NH3,H2Oな
ど任意の物質を用いることができる。半導体レー
ザLD3の出力光はビームスプリツタBS3で反射
されて吸収セルCL2に入射し、吸収セル内CL2
の標準物質による吸収を受ける。吸収量を受光素
子PD3で検出し、ロツクインアンプLA1を介し
て半導体レーザLD3の電流に帰還する。半導体
レーザLD3の出力波長は標準物質の吸収スペク
トル線にロツクされるので、高安定、高精度の基
準波長光源を実現できる。
基準波長レーザ光源14の具体例として示した
第11図の方法は線形吸収法とよばれ、ドツプラ
シフトにより吸収スペクトルが比較的太くなる
が、飽和吸収法(堀、門田、北野、薮崎、小川:
飽和吸収分光を用いた半導体レーザの周波数安定
化、信学技報 OQE82−116)によりドツプラシ
フトで隠れている超微細構造の吸収線を検出し
て、これに半導体レーザLD3の発振波長をロツ
クすればさらに高安定とすることができる。
第11図の方法は線形吸収法とよばれ、ドツプラ
シフトにより吸収スペクトルが比較的太くなる
が、飽和吸収法(堀、門田、北野、薮崎、小川:
飽和吸収分光を用いた半導体レーザの周波数安定
化、信学技報 OQE82−116)によりドツプラシ
フトで隠れている超微細構造の吸収線を検出し
て、これに半導体レーザLD3の発振波長をロツ
クすればさらに高安定とすることができる。
≪発明の効果≫
以上述べたように本発明によれば、絶対精度で
超高精度(10-12)、高安定(10-12)かつ超高分
解能(100kHz)な光周波数スペクトラム・アナ
ライザを実現することができる。また光パルスの
測定も可能である。
超高精度(10-12)、高安定(10-12)かつ超高分
解能(100kHz)な光周波数スペクトラム・アナ
ライザを実現することができる。また光パルスの
測定も可能である。
第1図は本発明に係る光周波数スペクトラム・
アナライザの1実施例を示す構成ブロツク図、第
2図は第1図装置のマーカ付き可変波長光源10
の構成ブロツク図、第3図は第2図装置の動作を
説明するためのスペクトラムチヤート、第4図は
第2図装置の動作の1態様を示すタイムチヤー
ト、第5図は同動作説明図、第6図はマーカ付き
可変波長光源10のマーカ光源部分の一変形例を
示す構成ブロツク図、第7図〜第10図は第2図
における可変波長レーザ12の4つの具体例を示
す構成説明図、第11図は第2図の基準波長レー
ザ14の具体的構成例を示す構成ブロツク図、第
12図は従来の光周波数スペクトル・アナライザ
を示す基本構成図、第13図は第12図装置の動
作を説明するための特性曲線図である。 3……掃引信号発生器、4……光ヘテロダイン
検波部、5……フイルタ部、6……検波部、7…
…信号処理・表示部、10……マーカ付き可変波
長光源部、12……可変波長レーザ、73……マ
ーカ、Ei……掃引電気信号、Rn……マーカ光、
FP1……フアブリ・ペロー・エタロン、EO1…
…電気光学素子、CL1……吸収セル、E1……
信号源、HM1,HM2……ハーフミラー。
アナライザの1実施例を示す構成ブロツク図、第
2図は第1図装置のマーカ付き可変波長光源10
の構成ブロツク図、第3図は第2図装置の動作を
説明するためのスペクトラムチヤート、第4図は
第2図装置の動作の1態様を示すタイムチヤー
ト、第5図は同動作説明図、第6図はマーカ付き
可変波長光源10のマーカ光源部分の一変形例を
示す構成ブロツク図、第7図〜第10図は第2図
における可変波長レーザ12の4つの具体例を示
す構成説明図、第11図は第2図の基準波長レー
ザ14の具体的構成例を示す構成ブロツク図、第
12図は従来の光周波数スペクトル・アナライザ
を示す基本構成図、第13図は第12図装置の動
作を説明するための特性曲線図である。 3……掃引信号発生器、4……光ヘテロダイン
検波部、5……フイルタ部、6……検波部、7…
…信号処理・表示部、10……マーカ付き可変波
長光源部、12……可変波長レーザ、73……マ
ーカ、Ei……掃引電気信号、Rn……マーカ光、
FP1……フアブリ・ペロー・エタロン、EO1…
…電気光学素子、CL1……吸収セル、E1……
信号源、HM1,HM2……ハーフミラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 入力する掃引電気信号に対応して周波数掃引
した光を出力する可変波長レーザとこの可変波長
レーザの掃引周波数に対応し所定の周波数のみで
マーカ光を出力する或いは通常マーカ光を出力し
ておき所定の周波数のみでマーカ光を出力しない
マーカ光源とこのマーカ光源からの出力光を入射
して電気信号に変換する受光素子とを備えたマー
カ付き可変波長光源部と、 このマーカ付き可変波長光源部の出力光と被測
定光に関連する光を入射しその周波数の差に対応
する周波数の電気信号を出力する光ヘテロダイン
検波部と、 この光ヘテロダイン検波部の電気出力を入力す
るフイルタ部と、 このフイルタ部の電気出力を入力する検波部
と、前記受光素子からの電気信号をマーカ信号入
力とし前記検波部の電気出力を光パワー入力とし
前記掃引電気信号に関連する電気信号を周波数軸
入力とする信号処理・表示部とを具備し、 信号処理・表示部が前記被測定光の光周波数ス
ペクトルをマーカとともに出力することを特徴と
する光周波数スペクトラム・アナライザ。 2 パルス光を被測定光とし、前記パルス光に同
期した掃引電気信号により可変波長レーザの出力
周波数をステツプ状に掃引することにより、パル
ス光の光周波数スペクトルを測定する特許請求の
範囲第1項記載の光周波数スペクトラム・アナラ
イザ。 3 マーカ光源が標準物質を封入した吸収セルを
備え、可変波長レーザの出力光を前記吸収セルに
入射して前記標準物質に対応する特定の波長で吸
収を受けた透過光をマーカ光として出力する特許
請求の範囲第1項記載の光周波数スペクトラム・
アナライザ。 4 マーカ光源が可変波長レーザ光源の出力光を
入力するフアブリ・ペロー共振器を備え、前記フ
アブリ・ペロー共振器の出力光をマーカ光として
出力する特許請求の範囲第1項記載の光周波数ス
ペクトラム・アナライザ。 5 フアブリ・ペロー共振器内に電気光学素子を
備え、電気信号により等価的な共振器間隔を変え
るように構成した特許請求の範囲第4項記載の光
周波数スペクトラム・アナライザ。 6 可変波長レーザがレーザ共振器内に超音波変
調器を備えた特許請求の範囲第1項記載の光周波
数スペクトラム・アナライザ。 7 可変波長レーザがレーザ共振器内に電気光学
素子を備えた特許請求の範囲第1項記載の光周波
数スペクトラム・アナライザ。 8 マーカ付き可変波長光源部が一定波長の光を
出力する基準波長レーザ光源を備えた特許請求の
範囲第1項記載の光周波数スペクトラム・アナラ
イザ。 9 基準波長レーザ光源として原子の吸収スペク
トルにレーザダイオードの発振波長を制御するも
のを用いる特許請求の範囲第8項記載の光周波数
スペクトラム・アナライザ。 10 被測定光の偏光面を制御する偏光制御部
と、この偏光制御部の出力光を増幅する光増幅部
とを備え、光ヘテロダイン検波部がマーカ付き可
変波長光源部の出力光と前記光増幅部の出力光の
周波数の差に対応する周波数の電気信号を出力す
る特許請求の範囲第1項記載の光周波数スペクト
ラム・アナライザ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61189944A JPS6345515A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 光周波数スペクトラム・アナライザ |
US06/943,670 US4856899A (en) | 1985-12-20 | 1986-12-18 | Optical frequency analyzer using a local oscillator heterodyne detection of incident light |
GB8630375A GB2185567B (en) | 1985-12-20 | 1986-12-19 | Optical frequency analyzer |
DE3643569A DE3643569C2 (de) | 1985-12-20 | 1986-12-19 | Analysator für optische Frequenzen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61189944A JPS6345515A (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 | 光周波数スペクトラム・アナライザ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6345515A JPS6345515A (ja) | 1988-02-26 |
JPH0549055B2 true JPH0549055B2 (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=16249818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61189944A Granted JPS6345515A (ja) | 1985-12-20 | 1986-08-13 | 光周波数スペクトラム・アナライザ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6345515A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4270718B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2009-06-03 | 株式会社アドバンテスト | 基準波長光発生装置 |
JP4608528B2 (ja) * | 2007-08-24 | 2011-01-12 | アンリツ株式会社 | 光スペクトルモニタ |
JP5023094B2 (ja) * | 2009-03-11 | 2012-09-12 | アンリツ株式会社 | 光ヘテロダインスペクトラムアナライザ |
-
1986
- 1986-08-13 JP JP61189944A patent/JPS6345515A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6345515A (ja) | 1988-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4856899A (en) | Optical frequency analyzer using a local oscillator heterodyne detection of incident light | |
US4893353A (en) | Optical frequency synthesizer/sweeper | |
US9711932B2 (en) | Optical signal processing with modelocked lasers | |
Jones et al. | Stabilization of femtosecond lasers for optical frequency metrology and direct optical to radio frequency synthesis | |
EP1116012B1 (en) | Optical phase detector | |
EP0401799B1 (en) | Length measuring apparatus | |
AU2007302314B2 (en) | Method and device for generating a synthetic wavelength | |
US4817100A (en) | Monitoring and controlling source stability | |
CN102005693B (zh) | 用于精密计量的激光频率稳定方法及装置 | |
Onae et al. | Toward an accurate frequency standard at 1.5/spl mu/m based on the acetylene overtone band transition | |
Ye et al. | Ultrastable optical frequency reference at 1.064/spl mu/m using a C/sub 2/HD molecular overtone transition | |
JPH0549055B2 (ja) | ||
Guccione-Gush et al. | Doppler-free two-photon absorption of N H 3 using a C O 2 and diode laser | |
de Angelis et al. | Tunable frequency-controlled laser source in the near ultraviolet based on doubling of a semiconductor diode laser | |
JP2583410B2 (ja) | 光周波数スペクトラム・アナライザ | |
JPH0626264B2 (ja) | 可変波長光源 | |
JPH0531930B2 (ja) | ||
JPH0521496B2 (ja) | ||
JP3254477B2 (ja) | 高精度干渉距離計 | |
JP7376917B2 (ja) | 光周波数掃引レーザ光源 | |
JP3694379B2 (ja) | 波長可変レーザー装置 | |
JPH0523613B2 (ja) | ||
Weksler et al. | Measurement of a very high displacement sensitivity of the beat frequency in an He-Ne laser | |
JPS62198723A (ja) | 可変波長光源 | |
Peuse | New developments in CW dye lasers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |