JPH0539594A - メツキ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 設置に必要なスペースを狭くし、連続走行す
る被メッキ材に均一なメッキ厚を施すことができるメッ
キ装置を提供する。 【構成】 メッキ処理槽３内では、前記給電ドラム８か
ら卷回ドラム９に向かう螺旋状の走行経路Ｒの下向き走
行部Ｒｄを走行する線材Ｗは、前記メッキ陽極箱２３と
メッキ陽極箱２５との対応間隔内を通過し、巻回ドラム
９から給電ドラム８へ向かう上向き走行部Ｒｕを走行す
る線材Ｗは、前記メッキ陽極箱２４とメッキ陽極箱２５
との対応間隔内を通過する。メッキ陽極箱２３，２４に
は電流制御回路２６を介して、メッキ陽極箱２５には電
流制御回路２７を介してそれぞれプラス電圧が印加さ
れ、線材Ｗには給電ドラム８によりマイナス電圧が印加
されるから、メッキ陽極箱２３，２４→電解液→線材Ｗ
の電気回路２８と、メッキ陽極箱２５→電解液→線材Ｗ
の電気回路２９とが成立しニッケルメッキが施される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は線材等の長尺材に対する
連続走行メッキ装置に関し、設置に必要なスペースを狭
くして省スペース化を図るとともに、メッキ厚を均一に
できるメッキ装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】線材等のメッキ装置は、供給ロールと巻
取りロールの間に電解酸洗い工程、電解洗浄工程、メッ
キ工程等を直線的にレイアウトしてメッキ処理を施すよ
うにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記線
材等のメッキ装置は供給ロールと巻取りロールの間を直
線状にレイアウトしていることからメッキ装置が長くな
り、メッキ装置設置用の広いスペースが必要となるばか
りでなく、メッキ装置のメインテナンス上も不便である
という問題点がある。また、被メッキ材に施すメッキ厚
を均一にするという品質管理上の要請もある。本発明は
上記問題点を解決するとともに、上記要請に応えるため
になされたものであり、実質上メッキ処理工程の長さを
短縮することなく、設置に必要なスペースを狭くすると
ともに、メッキ陽極の配置位置を改良して連続走行する
被メッキ材に均一なメッキ厚を施すことができるメッキ
装置を提供することを目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の具体的手段として、連続走行する被メッキ材にメッキ
を施すメッキ装置であって、上面を解放したメッキ処理
槽と、該メッキ処理槽内に装架した水平軸に回転自在に
支持した下部ドラムと、前記メッキ処理槽の上方に装架
した水平軸に回転自在に支持して前記下部ドラムに対向
させた上部ドラムと、前記被メッキ材を案内する案内ロ
ールとを設け、該案内ロールにより前記上部ドラムに導
く被メッキ材を、順次前記上部ドラムと前記下部ドラム
とに掛け渡して螺旋状の走行経路を形成するとともに、
該走行経路の両外側と内側とにメッキ陽極を配置し、該
各メッキ陽極の対応間隔内に前記走行経路の下向き走行
部と上向き走行部とを通過させるようにしたことを特徴
とするメッキ装置が提供される。

【０００５】

【作用】上記メッキ装置によれば、連続走行する被メッ
キ材は案内ロールにより上部ドラムに導かれた後、該上
部ドラムとメッキ処理槽内に装架した水平軸に回転自在
に支持した下部ドラムに螺旋状に掛け渡されるととも
に、前記螺旋状の走行経路の両外側と内側とにメッキ陽
極が配置され、各メッキ陽極の対応間隔内に前記走行経
路の下向き走行部と上向き走行部とが通過し、各メッキ
陽極→電解液→被メッキ材の順に電流が流れてメッキ処
理が施される。

【０００６】

【実施例】本発明の１実施例を、被メッキ材にニッケル
メッキを施す態様で以下に説明する。図１は本発明を適
用したニッケルメッキ装置１の一部を切欠した断面図で
ある。基台２上には、上面を解放したメッキ処理槽３を
載置固定する。該メッキ処理槽３内には左右一対の枠板
４ａ、４ｂを垂直に立設してメッキ処理槽３の上方まで
延長し、その延長端を水平板５により連結する。前記枠
板４ａ，４ｂ間には前記メッキ処理槽３の上方とメッキ
処理槽３内の上下２箇所に水平軸６，７をそれぞれ回転
自在に装架する。水平軸６には給電ドラム８を嵌装支持
し、水平軸７には卷回ドラム９を嵌装支持する。また、
前記水平板５上には、駆動モータ１０を固定する。

【０００７】前記水平軸６の枠板４ａ，４ｂからの左右
突出端には、それぞれ連動プーリ１１と従動プーリ１２
とを嵌装し、水平軸７の枠板４ａからの突出端には連動
プーリ１３を嵌装する。従動プーリ１２と前記駆動モー
タ１０に設けた駆動プーリ１４とにベルト１５を掛け渡
して、給電ドラム８を回転駆動させる。また、連動プー
リ１１と１３とにベルト１６を掛け渡して、給電ドラム
８と卷回ドラム９とを連動回転させる。給電ドラム８の
両側面８ａ，８ｂには、給電リング板１７，１８を固定
する(図２参照)。該給電リング板１７，１８には、前記
枠板４ａ，４ｂに固定した給電ブラシ１９，２０を摺接
させる。さらに、給電ドラム８と卷回ドラム９の円周面
には、一定ピッチで多数の案内環溝２１，２２を形成す
る。

【０００８】また、メッキ処理槽３内には、前記巻回ド
ラム９の両側にメッキ陽極箱２３，２４を平行に設置す
るとともに、巻回ドラム９の直上にメッキ陽極箱２５を
配置しその両端を、前記枠板４ａ，４ｂに固定した支持
アーム２５ａ，２５ｂにより支持する。メッキ陽極箱２
３，２４及び２５には、それぞれ電解液供給用の配管
(図示せず)を接続するとともに、多数の連通孔(図示せ
ず)を形成する。そして、前記配管により供給される電
解液をメッキ陽極箱２３，２４及び２５の連通孔からメ
ッキ処理槽３内へ循環的に流出させる。メッキ陽極箱２
３，２４及び２５内にはそれぞれニッケルチップを充填
する。前記卷回ドラム９、メッキ陽極箱２３，２４及び
２５はメッキ処理槽３に電解液を満たしたとき、その水
面下に没する。また、前記メッキ処理槽３には、オーバ
フロードレン(図示しない)が設けられている。

【０００９】前記基板２の四隅からは、案内ロール固定
用の支柱３１ａ〜３１ｄを立設する。支柱３１ｄには下
方案内ロール３２と上方案内ロール３３及び前記枠板４
ａの向こう側に上方水平案内ロール３４を配設する。ま
た、支柱３１ｂには上方水平案内ロール３５と上方案内
ロール３６とを配設し、上方水平案内ロール３５を前記
枠板４ｂの手前側に位置させる。そして、支柱３１ｃに
下方案内ロール３７を配設する。

【００１０】前記メッキ陽極箱２３，２４は、電流制御
回路２６及び直流電源Ｂを介して、前記給電ドラム８の
給電リング板１７，１８に接続され、メッキ陽極箱２５
は電流制御回路２７と直流電源Ｂを介して、前記給電ド
ラム８の給電リング板１７，１８に接続される(図３)。

【００１１】上記構成を有するニッケルメッキ装置１の
作動について以下に説明する。ニッケルメッキ装置１
は、何れも図示を省略しているが供給ロールから連続し
て繰り出され走行機構により走行する線材Ｗに対して、
その走行経路の途中で順次電解脱脂、電解酸洗、高圧洗
浄、活性化処理、ニッケルストライク処理を施す各工程
を設けている。前記各処理工程を経た線材Ｗは図４に示
すように、前記基台２の上面に沿って走行し下方案内ロ
ール３２に案内されて略真上の上方案内ロール３３に向
かう。そして、線材Ｗは該上方案内ロール３３により水
平に卷回され、前記枠板４ａの後ろ側に配設された上方
水平案内ロール３４に案内され、Ｕターンして給電ドラ
ム８に導かれる。

【００１２】給電ドラム８に導かれた線材Ｗは、該給電
ドラム８の円周面に形成された案内環溝２１に嵌装さ
れ、直下方に案内されてメッキ処理槽３に入る。そし
て、卷回ドラム９の円周面に形成された案内環溝２２に
嵌装されて卷回し、直上方へＵターンしメッキ処理槽３
から出て、再び給電ドラム８に導かれ前記案内環溝２１
の右隣りの案内環溝２１に嵌装される。順次をこれを繰
り返すことにより線材Ｗは、給電ドラム８と卷回ドラム
９とに掛け渡され、螺旋状の走行経路Ｒを形成する。

【００１３】メッキ処理槽３内では、前記給電ドラム８
から卷回ドラム９に向かう螺旋状の走行経路Ｒの下向き
走行部Ｒｄを走行する線材Ｗは、前記メッキ陽極箱２３
とメッキ陽極箱２５との対応間隔内を通過し、巻回ドラ
ム９から給電ドラム８へ向かう上向き走行部Ｒｕを走行
する線材Ｗは、前記メッキ陽極箱２４とメッキ陽極箱２
５との対応間隔内を通過する。このとき、メッキ陽極箱
２３，２４には電流制御回路２６を介して、またメッキ
陽極箱２５には電流制御回路２７を介してそれぞれプラ
ス電圧が印加され、線材Ｗには給電ドラム８によりマイ
ナス電圧が印加されているから、メッキ陽極箱２３，２
４→電解液→線材Ｗの電気回路２８と、メッキ陽極箱２
５→電解液→線材Ｗの電気回路２９とが成立し、線材Ｗ
に対してニッケルメッキが施される。このとき、電流制
御回路２６及び２７により、前記電気回路２８及び２９
に流れる電流を格別に調整する。

【００１４】給電ドラム８の右端の案内環溝２１に嵌装
された線材Ｗは、上方案内ロール３５により図１の手前
側に水平に案内された後、Ｕターンして上方案内ロール
３６により直下方に案内される。そして、下方案内ロー
ル３７に案内され前記基台２の上面に沿って走行する線
材Ｗは、図示しない水洗、湯洗、乾燥の各処理工程を経
て巻取りロールに巻取られる。

【００１５】上記実施例は、メッキ陽極箱２３と２５に
より螺旋状の走行経路Ｒの下向き走行部Ｒｄを走行する
線材Ｗを挟むように、メッキ陽極箱２５と２４により上
向き走行部Ｒｕを走行する線材Ｗを挟むように配置し
て、線材Ｗに流れる電流密度を略均一にできるから、線
材Ｗの半径方向でのニッケルメッキ厚のばらつきを少な
くできる。具体的には、メッキ陽極箱２３，２４のみを
配置した場合には、直径方向のメッキ厚の差が最大２．
４３μｍあったのが、本実施例の場合０．３７μｍに減
少することができた。また、それぞれ電流制御回路２
６，２７を設けて電気回路２８，２９に流れる電流量を
格別に制御することにより、電流量を加減して線材Ｗに
施すニッケルメッキ厚を任意に変更することができる。

【００１６】

【発明の効果】本発明は上記構成を有し、連続走行する
被メッキ材は案内ロールにより上部ドラムに導かれた
後、該上部ドラムとメッキ処理槽内に装架した水平軸に
回転自在に支持した下部ドラムとに螺旋状に掛け渡され
て走行し、間欠的にメッキ処理槽内を通過してメッキ処
理を施されるから、メッキ処理工程を一直線に配置する
のに比して、メッキ装置のレイアウトに必要な面積を少
なくして省スペースを図ることができ、保守点検作業等
のメインテナンス上も便利となる。また、前記螺旋状の
走行経路の両外側と内側とにメッキ陽極が配置され、各
メッキ陽極の対応間隔内に前記走行経路の下向き走行部
と上向き走行部とが通過するから、被メッキ材に流れる
電流密度が略均一となりメッキ厚の均一化を実現できる
効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】メッキ装置の一部を切欠した断面図である。

【図２】給電ドラムの一部を切欠した側面図である。

【図３】メッキ陽極箱の電気的接続を示した概略電気回
路図である。

【図４】走行経路及びメッキ陽極箱の配置を示す説明図
である。

【符号の説明】 ３...メッキ処理槽、 ６，７...水平軸、 ８...上部
ドラム(給電ドラム)、９...下部ドラム(卷回ドラム)、
２３，２４，２５...メッキ陽極箱、 ３２，３７...下
方案内ロール、 ３３，３６...上方案内ロール、 ３
４，３５...上方水平案内ロール、 Ｗ...被メッキ材
(線材)、 Ｒ...螺旋状の走行経路、 Ｒｄ...下向き走
行部、 Ｒｕ...上向き走行部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 連続走行する被メッキ材にメッキを施す
   メッキ装置であって、上面を解放したメッキ処理槽と、
   該メッキ処理槽内に装架した水平軸に回転自在に支持し
   た下部ドラムと、前記メッキ処理槽の上方に装架した水
   平軸に回転自在に支持して前記下部ドラムに対向させた
   上部ドラムと、前記被メッキ材を案内する案内ロールと
   を設け、該案内ロールにより前記上部ドラムに導く被メ
   ッキ材を、順次前記上部ドラムと前記下部ドラムとに掛
   け渡して螺旋状の走行経路を形成するとともに、該走行
   経路の両外側と内側とにメッキ陽極を配置し、該各メッ
   キ陽極の対応間隔内に前記走行経路の下向き走行部と上
   向き走行部とを通過させるようにしたことを特徴とする
   メッキ装置。