JPH0536790A - Method and apparatus for burn-in - Google Patents

Method and apparatus for burn-in

Info

Publication number
JPH0536790A
JPH0536790A JP3192307A JP19230791A JPH0536790A JP H0536790 A JPH0536790 A JP H0536790A JP 3192307 A JP3192307 A JP 3192307A JP 19230791 A JP19230791 A JP 19230791A JP H0536790 A JPH0536790 A JP H0536790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
burn
semiconductor chips
semiconductor
test
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3192307A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunori Nishiguchi
勝規 西口
Tatsuya Hashinaga
達也 橋長
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP3192307A priority Critical patent/JPH0536790A/en
Priority to CA002073886A priority patent/CA2073886A1/en
Priority to EP92112264A priority patent/EP0523735B1/en
Priority to AU20335/92A priority patent/AU657976B2/en
Priority to DE69201923T priority patent/DE69201923T2/en
Priority to MYPI92001261A priority patent/MY131275A/en
Priority to US07/914,559 priority patent/US5327075A/en
Priority to KR1019920012833A priority patent/KR960003989B1/en
Publication of JPH0536790A publication Critical patent/JPH0536790A/en
Priority to US08/191,539 priority patent/US5414370A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/2872Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation
    • G01R31/2874Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to temperature
    • G01R31/2877Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to temperature related to cooling

Abstract

PURPOSE:To control the temperature of a plurality of semiconductor chips themselves nearly uniformly by a method wherein temperature sensors are installed at individual semiconductor devices in the semiconductor chips themselves at the inside of the semiconductor devices, the sensors are monitored and a laser irradiation operation is controlled at the individual devices according to monitored results. CONSTITUTION:A plurality of burn-in boards are installed at the inside of a burn-in (high-temperature continuous operation) test container 6; semiconductor devices which are provided with semiconductor chips 71 to 73 at the inside are set on the boards. Integrated circuits 711 to 713 and diodes 721 to 723 for temperature detection use are formed on the semiconductor chips 71 to 73. The electric characteristic of the diodes 72 for temperature detection use is monitored individually by using a temperature detector 92. A control device 93 controls an electricity-feeding amount by an electricity-feeding device 91 on the basis of monitored results by the temperature detector 92 and controls the irradiation direction with a laser beam LTB from a laser source 83. Thereby, the temperature of the semiconductor chips themselves can be controlled with good accuracy and uniformly.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はバーンイン方法および装
置に関し、特に、被試験デバイスたる半導体デバイスに
温度負荷と電気負荷を与えるバーンイン(高温連続動
作)試験に使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a burn-in method and apparatus, and more particularly to a burn-in (high temperature continuous operation) test in which a semiconductor device as a device under test is subjected to a temperature load and an electric load.

【0002】[0002]

【従来の技術】バーンイン試験は、半導体デバイスの寿
命予測やスクリーニング工程における初期故障の検出に
不可欠のものである。一般に、バーンイン試験は次のよ
うにして行なわれる。図6はバーンインボード1の斜視
図である。耐熱性の樹脂等からなるボード2上には、被
試験デバイスたる半導体デバイス(図示せず)がセット
される複数のソケット3が設けられ、ボード2の一端に
は外部と電気接触をとる外部端子4が設けられている。
また、ボード2の他端には、オペレータがバーンインボ
ード1を操作するための取手5が設けられている。そし
て、ソケット3の端子(図示せず)と外部端子4は、ボ
ード2上の配線(一部のみ図示)によって接続される。
2. Description of the Related Art A burn-in test is essential for predicting the life of semiconductor devices and detecting early failures in the screening process. Generally, the burn-in test is performed as follows. FIG. 6 is a perspective view of the burn-in board 1. A plurality of sockets 3 in which semiconductor devices (not shown) to be tested are set are provided on a board 2 made of heat-resistant resin or the like, and one end of the board 2 has an external terminal for making electrical contact with the outside. 4 are provided.
At the other end of the board 2, a handle 5 is provided for an operator to operate the burn-in board 1. The terminals (not shown) of the socket 3 and the external terminals 4 are connected by the wiring (only part of which is shown) on the board 2.

【0003】このようなバーンインボード1は、図7の
ようにバーンイン試験容器6にセットされる。すなわ
ち、バーンイン試験容器6は本体たる筐体61に蓋体6
2がヒンジ機構63によって結合された構造をなし、内
部に設けられたボードコネクタ64の挿入スリット65
にバーンインボード1が差し込まれる。これにより、バ
ーンインボード1の外部端子4とボードコネクタ64の
端子(図示せず)との接続がとられる。この接続を介し
て、半導体デバイスへの通電が図示しない通電装置によ
りなされる。なお、図示しないが、バーンイン試験容器
6には温度調整装置が付設されており、通常は、バーン
イン試験容器6の内部に温風を供給するか、あるいはヒ
ータを設ける構造となっている。
Such a burn-in board 1 is set in a burn-in test container 6 as shown in FIG. That is, the burn-in test container 6 includes a housing 61, which is a main body, and a lid 6
2 has a structure in which they are connected by a hinge mechanism 63, and an insertion slit 65 of a board connector 64 provided inside
Burn-in board 1 is inserted in. As a result, the external terminal 4 of the burn-in board 1 and the terminal (not shown) of the board connector 64 are connected. Through this connection, the semiconductor device is energized by an unillustrated energizing device. Although not shown, the burn-in test container 6 is provided with a temperature adjusting device, and usually has a structure in which hot air is supplied into the burn-in test container 6 or a heater is provided.

【0004】なお、バーンイン試験容器6の内部温度す
なわち被試験デバイスたる半導体デバイスの環境温度T
a は、筐体61の内壁近傍などに設けられた温度センサ
により測定されている。この測定温度をモニタし、温度
調整装置をコントロールすることで、従来はバーンイン
試験を行なっている。
It should be noted that the internal temperature of the burn-in test container 6, that is, the environmental temperature T of the semiconductor device which is the device under test.
“A” is measured by a temperature sensor provided near the inner wall of the housing 61. The burn-in test is conventionally performed by monitoring the measured temperature and controlling the temperature adjusting device.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術では、下記の理由でバーンイン試験を好適に行
なうことができなかった。すなわち、従来技術でリアル
タイムにモニタできるのは被試験デバイスの環境温度T
a であり、これは半導体チップの表面温度、とりわけp
n接合部分、あるいはショットキ接合部分などにおける
ジャンクション温度Tj とは一致しない。半導体デバイ
スの故障は、このジャンクション温度Tj に依存するた
め、従来は、環境温度Taを測定した結果からジャンク
ション温度Tj を推定し、バーンイン試験を行なってい
た。ところが、この環境温度Ta とジャンクション温度
j の関係を調べるのは極めて繁雑な作業を要し、半導
体デバイスのサイズ、形式、仕様などが異なるごとに別
の推定作業が必要になる。このため、簡単かつ精度の良
いバーンイン試験を行なうことが困難であった。また、
環境温度Ta は試験容器6内の位置によって異なり、各
々の半導体デバイスの発熱量も同一でないので、同一条
件下で多数のデバイスのスクリーニングを行なうのは容
易でなかった。
However, in the above-mentioned prior art, the burn-in test could not be suitably performed for the following reasons. That is, it is the environmental temperature T of the device under test that can be monitored in real time by the conventional technique.
a , which is the surface temperature of the semiconductor chip, especially p
It does not match the junction temperature T j at the n-junction portion or the Schottky junction portion. Since the failure of the semiconductor device depends on the junction temperature T j , conventionally, the junction temperature T j is estimated from the result of measuring the environmental temperature Ta and the burn-in test is performed. However, this examine the relationship between the environmental temperature T a and the junction temperature T j requires a very complicated task, the size of semiconductor devices, formats, such as specifications require a separate estimated work each time different. Therefore, it is difficult to perform a simple and accurate burn-in test. Also,
Since the environmental temperature T a differs depending on the position in the test container 6 and the heat generation amount of each semiconductor device is not the same, it is not easy to screen a large number of devices under the same conditions.

【0006】そこで本発明は、バーンイン試験が同時に
施される複数の被試験デバイス中のチップ自体の温度
を、精度よくコントロールできるバーンイン方法および
装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a burn-in method and apparatus capable of accurately controlling the temperature of the chip itself in a plurality of devices under test to which a burn-in test is simultaneously performed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、半導体チップ
を内部に有する被試験デバイスとしての複数の半導体デ
バイスを試験容器内の所定温度の環境下に置き、複数の
半導体チップに通電することで試験を行なうバーンイン
方法において、複数の半導体チップのそれぞれに温度セ
ンサをあらかじめ形成しておき、試験中に複数の温度セ
ンサの電気特性を検出することにより複数の半導体チッ
プの温度をそれぞれ測定し、温度の測定結果にもとづ
き、複数の半導体デバイスの温度が略同一となるよう複
数の半導体デバイスに選択的にレーザビームを照射する
ことを特徴とする。
According to the present invention, a plurality of semiconductor devices as devices under test having semiconductor chips therein are placed in an environment of a predetermined temperature in a test container, and the plurality of semiconductor chips are energized. In the burn-in method of performing a test, a temperature sensor is formed in advance on each of a plurality of semiconductor chips, and the temperature of each of the plurality of semiconductor chips is measured by detecting the electrical characteristics of the plurality of temperature sensors during the test. Based on the measurement result of 1., the plurality of semiconductor devices are selectively irradiated with the laser beam so that the temperatures of the plurality of semiconductor devices are substantially the same.

【0008】また、本発明は、複数の半導体デバイスが
収容される試験容器と、複数の半導体チップに電力を供
給する通電手段とを備えるバーンイン装置において、複
数の半導体デバイスにレーザビームを照射するレーザ光
源と、複数の半導体チップのそれぞれにあらかじめ形成
された温度センサの電気特性を試験中に検出することに
より、当該複数の半導体チップの温度をそれぞれ測定す
る測定手段と、この測定手段の出力にもとづき、複数の
半導体チップの温度が略同一となるよう、複数の半導体
デバイスへのレーザビーム照射を制御する制御手段とを
備えることを特徴とする。
Further, according to the present invention, in a burn-in apparatus comprising a test container accommodating a plurality of semiconductor devices and an energizing means for supplying electric power to a plurality of semiconductor chips, a laser for irradiating a laser beam to the plurality of semiconductor devices A light source and measuring means for measuring the temperature of each of the plurality of semiconductor chips by detecting the electrical characteristics of the temperature sensor formed in advance in each of the plurality of semiconductor chips during the test, and based on the output of this measuring means. A control means for controlling laser beam irradiation to the plurality of semiconductor devices is provided so that the temperatures of the plurality of semiconductor chips are substantially the same.

【0009】[0009]

【作用】本発明のバーンイン方法によれば、半導体デバ
イス内部の半導体チップ自体に温度センサが各デバイス
ごとに設けられ、これをモニタし、その結果に応じてデ
バイスごとにレーザビーム照射が制御されているため、
複数の半導体チップ自体の温度を精度よく略均一にコン
トロールできる。
According to the burn-in method of the present invention, the temperature sensor is provided for each device on the semiconductor chip itself inside the semiconductor device, the temperature sensor is monitored, and the laser beam irradiation is controlled for each device according to the result. Because
The temperatures of the plurality of semiconductor chips themselves can be controlled accurately and substantially uniformly.

【0010】また、本発明のバーンイン装置では、測定
手段によって半導体チップに設けられた温度センサをモ
ニタし、その結果にもとづいてレーザ光源がコントロー
ルされてデバイスごとにレーザビーム照射がされる。し
たがって、制御手段にレーザビーム照射によって温度を
均一にコントロールするためのプログラムを設定してお
くことで、自動的に精度よく略均一の温度コントロール
ができることになる。
Further, in the burn-in apparatus of the present invention, the temperature sensor provided on the semiconductor chip is monitored by the measuring means, and the laser light source is controlled based on the result to irradiate the laser beam to each device. Therefore, by setting a program for uniformly controlling the temperature by laser beam irradiation in the control means, it is possible to automatically and substantially accurately control the temperature.

【0011】[0011]

【実施例】以下、添付図面により本発明の実施例を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0012】図1は実施例に係るバーンイン装置の概念
図である。バーンイン試験容器6の内部には複数のバー
ンインボード(図示せず)が設けられ、これには半導体
チップ71 〜73 を内部に有する半導体デバイス(図示
せず)がソケット(図示せず)によってセットされ、こ
の半導体チップ71 〜73 には集積回路711 〜713
と、温度センサとしての温度検出用ダイオード721
723 が形成されている。バーンイン試験容器6には温
度調整装置8が付設され、温風の供給がされるようにな
っている。
FIG. 1 is a conceptual diagram of a burn-in system according to an embodiment. A plurality of burn-in boards (not shown) are provided inside the burn-in test container 6, and semiconductor devices (not shown) having semiconductor chips 7 1 to 7 3 therein are provided by sockets (not shown). The integrated circuits 71 1 to 71 3 are set in the semiconductor chips 7 1 to 7 3
And a temperature detection diode 72 1 as a temperature sensor
72 3 is formed. A temperature adjusting device 8 is attached to the burn-in test container 6 to supply hot air.

【0013】また、バーンイン試験装置6にはレーザ照
射装置83が付設され、ここからのレーザビームLBが
個別かつ選択的に複数の半導体デバイスに照射されるよ
うになっている。半導体チップ7の集積回路71には通
電装置91から独立に電気負荷が与えられるようになっ
ており、温度検出用ダイオード72の電気特性(特に立
ち上がり電圧VF の変化)は温度検出器92で個別にモ
ニタされ、ジャンクション温度Tj がデバイスごとに測
定されるようになっている。
A laser irradiation device 83 is attached to the burn-in test device 6 so that a plurality of semiconductor devices are irradiated with the laser beam LB from the laser irradiation device 83 individually and selectively. An electric load is applied to the integrated circuit 71 of the semiconductor chip 7 independently of the energization device 91, and the electric characteristics (especially the change of the rising voltage V F ) of the temperature detecting diode 72 are individually detected by the temperature detector 92. The junction temperature T j is measured for each device.

【0014】制御装置93は温度検出器92のモニタ結
果にもとづき、通電装置91による通電量を制御し、か
つレーザ光源83からのレーザビームLBの照射方向
を、ミラー(図示せず)等を介してコントロールしてい
る。このために、制御装置93にはバーンイン試験にお
けるジャンクション温度Tj の許容範囲が記憶され、モ
ニタ結果と対比して通電装置91とレーザ光源83から
のレーザビームの照射方向とをコントロールするよう、
あらかじめプログラムされている。
The control device 93 controls the energization amount by the energization device 91 based on the monitoring result of the temperature detector 92, and the irradiation direction of the laser beam LB from the laser light source 83 is passed through a mirror (not shown) or the like. Control. Therefore, the control device 93 stores the allowable range of the junction temperature T j in the burn-in test, and controls the energization device 91 and the irradiation direction of the laser beam from the laser light source 83 in comparison with the monitor result.
Pre-programmed.

【0015】図2は上記実施例における半導体チップ7
の斜視構成(同図(a)参照)と、温度検出用ダイオー
ド72のI−V特性(同図(b)参照)を示している。
図示の通り、半導体チップ7には集積回路71と温度検
出用ダイオード72が形成されると共に、集積回路71
に接続された通電用パッド73と、温度検出用ダイオー
ド72のアノードおよびカソードに接続されたモニタ用
パッド74が設けられている。このような半導体チップ
7はフラットパッケージとして、あるいはリードレスチ
ップキャリア(LCC)としてパッケージングされ、被
試験デバイスとしての半導体デバイスが構成される。こ
のような半導体チップ7における温度モニタは、温度検
出用ダイオード72のI−V特性の観測によりなされ
る。すなわち、図2(a)に示すI−V特性の立ち上が
り電圧VF は、温度によってリニアに変化するので、こ
の立ち上がり電圧VF の変化からジャンクション温度T
j を正確に求めることができる。
FIG. 2 shows the semiconductor chip 7 in the above embodiment.
And the IV characteristic of the temperature detecting diode 72 (see FIG. 11B).
As shown, an integrated circuit 71 and a temperature detection diode 72 are formed on the semiconductor chip 7, and the integrated circuit 71
A current-carrying pad 73 connected to and a monitoring pad 74 connected to the anode and cathode of the temperature detecting diode 72 are provided. Such a semiconductor chip 7 is packaged as a flat package or a leadless chip carrier (LCC) to form a semiconductor device as a device under test. Such temperature monitoring in the semiconductor chip 7 is performed by observing the IV characteristic of the temperature detecting diode 72. That is, since the rising voltage V F of the IV characteristic shown in FIG. 2A changes linearly with temperature, the change in the rising voltage V F causes the junction temperature T F to change.
j can be accurately determined.

【0016】図3および図4は、上記実施例のバーンイ
ン装置において、被試験デバイスたる半導体デバイス7
0をソケット3にマウントする様子を示し、図2は斜視
図、図3は断面図である。ソケット3は基体31と蓋体
32を有し、これらはヒンジ33により開閉自在に結合
され、レバー34とフック35の係合により閉じられ
る。基体31の中央部には貫通口36が形成されると上
に、上面から十字状の凹部37が形成され、ここに端子
38が設けられる。そして、端子38の一端は基体31
の下面に突出し、バーンインボード1上の配線に接続さ
れている。また、蓋体32の中央部には開口が形成さ
れ、ここにレーザ照射窓39が設けられている。一方、
半導体デバイス70の底面には端子76が設けられ、ソ
ケット3にマウントされることでソケット3の端子38
と接触する。半導体デバイス70を凹部37にマウント
し、蓋体32を閉じると、蓋体32底面の開口周辺が半
導体デバイス70の上面に接触し、半導体デバイス70
へのレーザビームの照射が可能にされる。なお、放熱部
材(図示せず)を別に設けて、放熱の効率化を図っても
よい。
3 and 4 show a semiconductor device 7 which is a device under test in the burn-in apparatus of the above embodiment.
0 is mounted on the socket 3, FIG. 2 is a perspective view, and FIG. 3 is a sectional view. The socket 3 has a base 31 and a lid 32, which are openably and closably coupled by a hinge 33 and closed by engagement of a lever 34 and a hook 35. When the through hole 36 is formed in the central portion of the base 31, a cross-shaped recess 37 is formed from the upper surface, and the terminal 38 is provided therein. Then, one end of the terminal 38 has the base 31
Of the burn-in board 1 and is connected to the wiring on the burn-in board 1. Further, an opening is formed in the center of the lid 32, and a laser irradiation window 39 is provided therein. on the other hand,
Terminals 76 are provided on the bottom surface of the semiconductor device 70, and the terminals 76 of the socket 3 are mounted by being mounted on the socket 3.
Contact with. When the semiconductor device 70 is mounted in the recess 37 and the lid 32 is closed, the periphery of the opening on the bottom of the lid 32 contacts the upper surface of the semiconductor device 70, and the semiconductor device 70
Irradiation of a laser beam onto the laser is enabled. A heat dissipation member (not shown) may be separately provided to improve the efficiency of heat dissipation.

【0017】上記実施例によれば、半導体チップ7自体
の温度を、複数のチップのいずれについても極めて精度
よくモニタできる。すなわち、この半導体チップ7自体
の温度は、試験装置内部の位置によって異なる環境温度
a に依存するだけでなく、集積回路71における発熱
と外部への放熱にも依存し、この発熱量および放熱量は
装着状態等によるバラツキが極めて大きい。ところが、
本実施例では、半導体チップ7に設けた温度検出用ダイ
オード72のジャンクション温度Tj を個別にモニタし
ているので、全ての半導体チップ7の温度の直接測定が
できる。
According to the above-described embodiment, the temperature of the semiconductor chip 7 itself can be monitored with extremely high accuracy for any of the plurality of chips. That is, the temperature of the semiconductor chip 7 itself is not only dependent on the different environmental temperature T a by the position of the internal test apparatus is also dependent on the heat dissipation of the heating and the external in the integrated circuit 71, the heating value and heat radiation amount Has a large variation due to the mounting condition. However,
In this embodiment, since the junction temperatures T j of the temperature detecting diodes 72 provided on the semiconductor chips 7 are individually monitored, the temperatures of all the semiconductor chips 7 can be directly measured.

【0018】したがって、このモニタ結果を用いること
により、レーザビームの照射を半導体デバイス70ごと
に独立にコントロールして、全体の半導体チップ7の表
面温度(ジャンクション温度Tj )を精度よく均一にコ
ントロールできる。すなわち、温度の低いデバイスに対
して選択的にレーザビーム照射することにより、温度の
均一化が図られる。具体的には、低温のデバイスがある
ときは、これにレーザビームを照射し、温度が適正値に
なったら照射をやめればよい。これにより、スクリーニ
ングの正確化と、歩留りの向上を同時に実現できる。
Therefore, by using this monitoring result, the irradiation of the laser beam can be controlled independently for each semiconductor device 70, and the surface temperature (junction temperature T j ) of the entire semiconductor chip 7 can be accurately and uniformly controlled. . That is, the temperature is made uniform by selectively irradiating the device having the low temperature with the laser beam. Specifically, if there is a low-temperature device, the device may be irradiated with a laser beam, and irradiation may be stopped when the temperature reaches an appropriate value. As a result, it is possible to realize the accuracy of screening and the improvement of the yield at the same time.

【0019】例えば50W発熱の多数の半導体デバイス
のスクリーニングで、温度抵抗θja=2℃/Wであると
きには、ジャンクション温度Tj=150℃にしたいと
きは環境温度Ta =50℃に設定すればよい。そして、
あるデバイスの温度が140℃になったときは、これに
レーザビームを照射して温度が150℃に戻ったら、レ
ーザビームの照射を停止すればよい。
For example, in screening a large number of semiconductor devices that generate heat of 50 W, when the temperature resistance θ ja = 2 ° C./W, the junction temperature Tj = 150 ° C., the environmental temperature T a = 50 ° C. may be set. . And
When the temperature of a certain device reaches 140 ° C., it is irradiated with a laser beam, and when the temperature returns to 150 ° C., irradiation of the laser beam may be stopped.

【0020】なお、本発明における温度センサとして
は、集積回路71とは別に半導体チップに形成された温
度検出用ダイオードに限定されず、集積回路の内部のダ
イオードを利用してもよく、またトランジスタとしても
よい。また、NiCr系の金属薄膜抵抗を半導体チップ
に形成してもよい。さらに、実施例ではレーザ照射窓3
9を介して半導体デバイスにレーザ照射しているが、蓋
体32の開口にレーザ光吸収性の部材を埋め込み、これ
を加熱することで半導体デバイスを加熱してもよい。ま
た、この部材に放熱の役割を持たせてもよい。
The temperature sensor according to the present invention is not limited to the temperature detecting diode formed on the semiconductor chip separately from the integrated circuit 71, but a diode inside the integrated circuit may be used, or as a transistor. Good. Also, a NiCr-based metal thin film resistor may be formed on the semiconductor chip. Further, in the embodiment, the laser irradiation window 3
Although the semiconductor device is irradiated with the laser beam via 9, the semiconductor device may be heated by embedding a laser beam absorbing member in the opening of the lid 32 and heating the member. Further, this member may have a role of heat dissipation.

【0021】図5はレーザビーム照射の切り替えの一例
を示している。図示の通り、バーンイン試験装置6の内
部には3枚のバーンインボード1a〜1cが設けられ、
外部にはこれに対応して3つのレーザ光源83a〜83
cが設けられている。レーザビームはバーンイン試験装
置61に入射すると、ガルバノメーターミラー84a〜
84cでそれぞれ反射され、所望の(モニタ温度の低
い)半導体デバイス70に照射される。これにより、多
数の半導体デバイスの温度均一化のコントロールが可能
になる。
FIG. 5 shows an example of switching the laser beam irradiation. As shown, three burn-in boards 1a to 1c are provided inside the burn-in test device 6,
Correspondingly to this, three laser light sources 83a to 83 are externally provided.
c is provided. When the laser beam enters the burn-in test equipment 61, the galvanometer mirrors 84a ...
Each of the light beams is reflected by 84c and is irradiated onto a desired (low monitor temperature) semiconductor device 70. This makes it possible to control the temperature uniformity of many semiconductor devices.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上の通り本発明のバーンイン方法によ
れば、半導体デバイス内部の半導体チップ自体に温度セ
ンサが設けられ、これをモニタし、これによってレーザ
ビームを選択的に照射しているため、半導体チップ自体
の温度を精度よく均一にコントロールできる。このた
め、高歩留りであって、簡単かつ精度の良いバーンイン
試験を行なうことが可能になる。
As described above, according to the burn-in method of the present invention, the temperature sensor is provided on the semiconductor chip itself inside the semiconductor device, and the temperature sensor is monitored and the laser beam is selectively irradiated by the temperature sensor. The temperature of the semiconductor chip itself can be controlled accurately and uniformly. Therefore, it is possible to perform a burn-in test with high yield and with high accuracy.

【0023】また、本発明のバーンイン装置では、測定
手段によって複数の半導体チップの個々に設けられた温
度センサをモニタし、その結果にもとづいてレーザビー
ム光源がコントロールされ、選択的にレーザビームが照
射される。したがって、制御手段にレーザビーム制御の
プログラムを設定しておくことで、自動的に精度よく均
一な温度コントロールができることになる。
Further, in the burn-in device of the present invention, the temperature sensor provided in each of the plurality of semiconductor chips is monitored by the measuring means, the laser beam light source is controlled based on the result, and the laser beam is selectively irradiated. To be done. Therefore, by setting a laser beam control program in the control means, it is possible to automatically and accurately perform uniform temperature control.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例に係るバーンイン装置の概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram of a burn-in device according to an embodiment.

【図2】実施例における半導体チップ7の構成と温度検
出用ダイオード72の特性を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a semiconductor chip 7 and characteristics of a temperature detecting diode 72 in the example.

【図3】実施例におけるソケット3の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a socket 3 in the embodiment.

【図4】実施例におけるソケット3の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of the socket 3 in the embodiment.

【図5】レーザビーム照射の切り替えの一例を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing an example of switching laser beam irradiation.

【図6】バーンインボード1の構成を示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of a burn-in board 1.

【図7】バーンイン試験容器6の斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of a burn-in test container 6.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…バーンインボード 2…ボード 3…ソケット 31…基体 32…蓋体 34…レバー 35…フック 38…端子 39…レーザ照射窓 6…バーンイン試験容器 7…半導体チップ 70…半導体デバイス 71…集積回路 72…温度検出用ダイオード 83…レーザ照射装置(レーザ光源) 91…通電装置 92…温度検出器 93…制御装置 1 ... Burn-in board 2 ... Board 3 ... Socket 31 ... Base 32 ... Lid 34 ... lever 35 ... Hook 38 ... Terminal 39 ... Laser irradiation window 6 ... Burn-in test container 7 ... Semiconductor chip 70 ... Semiconductor device 71 ... Integrated circuit 72 ... Diode for temperature detection 83 ... Laser irradiation device (laser light source) 91 ... energizing device 92 ... Temperature detector 93 ... Control device

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップを内部に有する被試験デバ
イスとしての複数の半導体デバイスを試験容器内の所定
温度の環境下に置き、前記複数の半導体チップに通電す
ることで試験を行なうバーンイン方法において、 前記複数の半導体チップのそれぞれに温度センサをあら
かじめ形成しておき、 試験中に前記複数の温度センサの電気特性を検出するこ
とにより前記複数の半導体チップの温度をそれぞれ測定
し、 前記温度の測定結果にもとづき、前記複数の半導体デバ
イスの温度が略同一となるよう前記複数の半導体デバイ
スに選択的にレーザビームを照射することを特徴とする
バーンイン方法。
1. A burn-in method for conducting a test by placing a plurality of semiconductor devices as devices under test having semiconductor chips therein under an environment of a predetermined temperature in a test container and energizing the plurality of semiconductor chips. A temperature sensor is formed in advance on each of the plurality of semiconductor chips, and the temperature of each of the plurality of semiconductor chips is measured by detecting the electrical characteristics of the plurality of temperature sensors during a test. Based on the above, the burn-in method is characterized in that the plurality of semiconductor devices are selectively irradiated with a laser beam so that the temperatures of the plurality of semiconductor devices are substantially the same.
【請求項2】 半導体チップを内部に有する被試験デバ
イスとしての複数の半導体デバイスが収容される試験容
器と、前記複数の半導体チップに電力を供給する通電手
段とを備えるバーンイン装置において、 前記複数の半導体デバイスにレーザビームを照射するレ
ーザ光源と、 前記複数の半導体チップのそれぞれにあらかじめ形成さ
れた温度センサの電気特性を試験中に検出することによ
り、当該複数の半導体チップの温度をそれぞれ測定する
測定手段と、 この測定手段の出力にもとづき、前記複数の半導体チッ
プの温度が略同一となるよう、前記複数の半導体デバイ
スへのレーザビーム照射を制御する制御手段とを備える
ことを特徴とするバーンイン装置。
2. A burn-in apparatus comprising: a test container in which a plurality of semiconductor devices as devices under test having semiconductor chips are housed; and energizing means for supplying electric power to the plurality of semiconductor chips. A laser light source for irradiating a semiconductor device with a laser beam, and a measurement for measuring the temperature of each of the plurality of semiconductor chips by detecting the electrical characteristics of a temperature sensor formed in advance in each of the plurality of semiconductor chips during a test. Means and a control means for controlling the laser beam irradiation to the plurality of semiconductor devices so that the temperatures of the plurality of semiconductor chips are substantially the same based on the output of the measuring means. .
JP3192307A 1991-07-19 1991-07-31 Method and apparatus for burn-in Pending JPH0536790A (en)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3192307A JPH0536790A (en) 1991-07-31 1991-07-31 Method and apparatus for burn-in
CA002073886A CA2073886A1 (en) 1991-07-19 1992-07-15 Burn-in apparatus and method
EP92112264A EP0523735B1 (en) 1991-07-19 1992-07-17 Burn-in apparatus and method
AU20335/92A AU657976B2 (en) 1991-07-19 1992-07-17 Burn-in apparatus and method
DE69201923T DE69201923T2 (en) 1991-07-19 1992-07-17 Burning apparatus and method.
MYPI92001261A MY131275A (en) 1991-07-19 1992-07-17 Burn-in apparatus and method
US07/914,559 US5327075A (en) 1991-07-19 1992-07-17 Burn-in apparatus and method for semiconductor devices
KR1019920012833A KR960003989B1 (en) 1991-07-19 1992-07-18 Burn-in apparatus and method
US08/191,539 US5414370A (en) 1991-07-19 1994-02-04 Burn-in apparatus and method which individually controls the temperature of a plurality of semiconductor devices

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3192307A JPH0536790A (en) 1991-07-31 1991-07-31 Method and apparatus for burn-in

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0536790A true JPH0536790A (en) 1993-02-12

Family

ID=16289099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3192307A Pending JPH0536790A (en) 1991-07-19 1991-07-31 Method and apparatus for burn-in

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0536790A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115793743A (en) * 2023-02-09 2023-03-14 杭州长川科技股份有限公司 Electronic component test temperature control method and system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115793743A (en) * 2023-02-09 2023-03-14 杭州长川科技股份有限公司 Electronic component test temperature control method and system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0523735B1 (en) Burn-in apparatus and method
KR960003987B1 (en) Burn-in apparatus and mehtod
JP2850816B2 (en) Bump bonding inspection apparatus and inspection method
US5359285A (en) Method and apparatus for varying temperature and electronic load conditions of a semiconductor device in a burn-in test chamber while performing a burn-in test
US20060164111A1 (en) Temperature sensing and prediction in IC sockets
US6593761B1 (en) Test handler for semiconductor device
JPH0536793A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536790A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536791A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536778A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0529417A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536773A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536783A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536789A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536784A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536792A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536786A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536781A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536787A (en) Method and apparatus for burn-in
JPH0536779A (en) Method and apparatus for burn-in
KR20070070769A (en) Test socket apparatus for semiconductor package
JPH1144727A (en) Circuit board inspecting device
JPH0536782A (en) Method and apparatus for burn-in
JP6313131B2 (en) Humidity sensor inspection device
JPH0536785A (en) Method and apparatus for burn-in