JPH05345435A - サーマルヘッドの製造方法 - Google Patents

サーマルヘッドの製造方法

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JPH05345435A
JPH05345435A JP15491592A JP15491592A JPH05345435A JP H05345435 A JPH05345435 A JP H05345435A JP 15491592 A JP15491592 A JP 15491592A JP 15491592 A JP15491592 A JP 15491592A JP H05345435 A JPH05345435 A JP H05345435A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
thermal head
overglaze
height
heating resistor
Prior art date
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Pending
Application number
JP15491592A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiro Mitsunabe
治郎 三鍋
Tsutomu Ishii
努 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録媒体への印字圧力が均一として高画質の
印字を可能としたサーマルヘッドを提供する。 【構成】 オーバーグレーズ層5上に感光性レジストを
塗布,乾燥して、発熱抵抗体の上方に、発熱抵抗体4の
高さより高く、オーバーグレーズ層5の上面の高さより
低い残留レジストによるレジスト開口7を形成する工程
と、残留レジスト層6をストッパーとしてオーバーグレ
ーズ層5を残留レジスト層6の高さに研磨除去する工程
と,前記残留レジスト層6を除去する工程とを含む。 【効果】 オーバーグレーズ層の上面が均一となり、濃
度むらの発生はない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ファクシミリ装置やプ
リンター、その他の各種情報処理装置の印刷出力手段と
して使用される感熱記録装置におけるサーマルヘッドの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の感熱記録装置は、印刷時の動作
騒音が小さく、また電子写真方式の記録装置のように現
像工程や定着工程が不要なことから従来から広く採用さ
れている。図4は従来技術による個別対向型サーマルヘ
ッドの概略構造を説明する部分破断した上面図であっ
て、特に厚膜サーマルヘッドの構造を示し、01はガラ
スあるいはセラミックス等の絶縁基板、02はガラス材
料からなる蓄熱層、03aは共通電極、03bは個別電
極、04は発熱抵抗体、05はガラス材料からなるオー
バーグレーズ層である。なお、ここでは上記オーバーグ
レーズ層5が下層オーバーグレーズ層05aと上層オー
バーグレーズ層05bの2層からなるものとして示して
あるが、このオーバーグレーズ層5は1層のみとしたも
のもある。
【0003】また、図5は図4のA−A断面図、図6は
同じくB−B断面図であって、図4と同一符号は同一部
分に対応する。図4〜図6に示したように、従来のこの
種のサーマルヘッドは、絶縁基板01の上にガラスの層
からなる蓄熱層02を形成し、この上に共通電極03a
と個別電極03bとを設け、これら共通電極03aと個
別電極03bとを橋絡して発熱抵抗体04を形成し、さ
らにその上層にガラス薄膜のオーバーグレーズ層05
(05a,05b)を形成してなるものである。
【0004】そして、個別電極03bを印字データによ
り選択通電して対応する発熱抵抗体04を発熱させて感
熱紙、またはインクドナーフィルムを介した普通紙等の
記録媒体上に文字あるいは図形を印字し記録するもので
ある。ここで、特にオーバーグレーズ層05に着目する
と、このオーバーグレーズ層05は記録媒体との接触磨
耗に対処する耐磨耗層としての役目を果たし、一般には
軟化点が800°C以下のガラス粉体(鉛ホウ珪酸等)
を原材料としたペーストを印刷・焼成することで形成さ
れる。
【0005】なお、厚膜サーマルヘッドに関する従来技
術を開示したものとしては、例えば特公昭63−972
8号公報を挙げることができる。また、サーマルヘッド
としては、上記した厚膜サーマルヘッド以外に薄膜サー
マルヘッドも知られている。薄膜サーマルヘッドは、そ
の基本的構造は上記した厚膜形サーマルヘッドと同様で
あり、各構成層を所謂薄膜成膜技術で形成してなるもの
である。
【0006】そして、上記のサーマルヘッドはその電極
構成が発熱抵抗体ごとに対向配置された所謂個別対向型
サーマルヘッドであるが、共通電極と個別電極を主走査
方向に互い違いに配列し、発熱抵抗体を主走査方向に連
続した帯状、あるいは画素ごとに独立した構成とした所
謂櫛歯型サーマルヘッドも既知である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のサーマルヘ
ッドにおいては、オーバーグレーズ層05を形成するた
めのガラスペーストの印刷,塗布の際に発生する塗布膜
の不均一性や発熱抵抗体04に起因する凹凸の存在のた
め、当該オーバーグレーズ層にうねりが残る。このオー
バーグレーズ層のうねりの存在によって記録媒体への印
字圧力が不均一となり、濃度むら等の問題を発生させる
という欠点があった。
【0008】上記うねりは、図6に例示したように、オ
ーバーグレーズ層05を下層オーバーグレーズ層05a
の1層のみとした場合、発熱抵抗体04の最大厚みを約
5μm,蓄熱層02から下層オーバーグレーズ層05a
の上面までの厚みを約8μmとしたとき、発熱抵抗体0
4相互間の落ち込み量は約2μmとなり、大きな凸凹が
残る。これを低減するために、さらに上層オーバーグレ
ーズ層05bを被覆した場合、蓄熱層02から下層オー
バーグレーズ層05bの上面までの厚みを約10μmと
したとき、発熱抵抗体04相互間の落ち込み量は約1μ
mと小さくなる。
【0009】しかし、依然として上記凸凹の存在は印字
濃度むらの原因となる。図7,図8および図9はサーマ
ルヘッドのオーバーグレーズ層のうねりを説明する表面
計測グラフ図であって、サーマルヘッドの一端を起点と
して図7の左端→図8→図9の右端と連続した計測値を
示す。上記各図において、横軸はサーマルヘッドの主走
査方向寸法(mm)、縦軸はオーバーグレーズ層の凹凸
とうねりの大きさ寸法(μm)である。
【0010】図示されたように、オーバーグレーズ層は
発熱抵抗体04の存在による短周期の凹凸と前記ガラス
ペーストの印刷,塗布の際に発生する塗布膜の不均一性
に起因する略々±1μmの幅の大きなうねりをもって
る。このままのサーマルヘッドを用いて印字すると、ド
ット(画素)ごとの濃度むらと主走査周期中での濃度む
らが起こり、印字品質が大きく低下するという問題があ
る。
【0011】このような問題を解決しようとして、オー
バーグレーズ層の表面をラッピング処理などにより研磨
することで表面の平滑化を試みた。しかし、このラッピ
ング処理はうねりや凹凸に沿って行われるために、大幅
な改善には至らなかった。本発明の目的は、上記従来技
術の問題点を解消し、記録媒体への印字圧力が均一な高
画質の印字を可能としたサーマルヘッドを提供すること
にある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、絶縁基板1上に、蓄熱層2,共通電極3
aと個別電極3b,発熱抵抗体4,およびオーバーグレ
ーズ層5をこの順で積層してなり、前記発熱抵抗体4に
選択的に通電し発熱させることにより印字を行うサーマ
ルヘッドの製造方法において、絶縁基板1上に蓄熱層
2,共通電極3aと個別電極3b,発熱抵抗体4,およ
びオーバーグレーズ層5を積層する工程と、前記オーバ
ーグレーズ層5上に感光性レジストを塗布,乾燥し、マ
スクを介して露光,現像することにより前記発熱抵抗体
の上方に、残留レジスト層6の上面が前記発熱抵抗体4
の前記積層方向の高さより高く、前記オーバーグレーズ
層5の上面の高さより低い高さをもつレジスト開口7を
形成する工程と、前記残留レジスト層6をストッパーと
して前記オーバーグレーズ層5を前記残留レジスト層6
の高さに研磨除去する工程と,前記残留レジスト層6を
除去する工程とを含むことを特徴とする。
【0013】
【作用】絶縁基板1上に蓄熱層2,共通電極3aと個別
電極3b,発熱抵抗体4,およびオーバーグレーズ層5
の各構成層を積層する工程は、蓄熱層2を被着した絶縁
基板1上に,各構成層となる材料ペーストをスクリーン
印刷等により塗布し、これを乾燥し、フォトリソエッチ
ング技法でパターニングする,所謂厚膜技術を用いるの
を好適とする。
【0014】残留レジスト層は、オーバーグレーズ層5
上に感光性レジストを塗布,乾燥し、所定の開口を有す
る光学マスクを介して露光,現像して発熱抵抗体の上方
に、残留レジスト層6の上面が前記発熱抵抗体4の前記
積層方向の高さより高く、前記オーバーグレーズ層5の
上面の高さより低い高さをもつレジスト開口7を形成し
てなる。
【0015】オーバーグレーズ層5は上記レジスト開口
に当該開口から突出して露呈しており、この残留レジス
ト層6をストッパーとして適宜の研磨方法を用いて研磨
を施し、オーバーグレーズ層5を前記残留レジスト層6
の高さにまで除去する。これにより、各オーバーグレー
ズ層5はそのレジスト開口部の高さが残留レジストの高
さに均一に研磨される。
【0016】すなわち、本発明の製造方法により、残留
性レジストの高さにあわせてオーバーグレーズ層5の表
面形状が平らに揃えられ、オーバーグレーズ層表面の前
記凹凸およびうねりをなくすことができ、記録媒体への
印字圧力を全ての発熱抵抗体について均一となり、濃度
むらのない高画質の印字が可能となる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。図1は本発明によるサーマルヘッド
の製造方法の1実施例を説明する残留レジスト形成後の
サーマルヘッドの要部概略断面図であって、1は絶縁基
板、2は蓄熱層、3aは共通電極、3bは個別電極、4
は発熱抵抗体、5はオーバーグレーズ層、6は残留レジ
スト層、7は開口部である。
【0018】同図において、蓄熱層2を被着した絶縁基
板1上に、まず共通電極3aと個別電極3bとなる金属
有機物ペーストをスクリーン印刷等で塗布し、これをフ
ォトリソエッチング技法でパターニングし、焼成するこ
とにより所要の共通電極3aと個別電極3bを形成す
る。この共通電極3aと個別電極3bは1画素ごとに対
向して配置され、それぞれの対向部に橋絡するように発
熱抵抗体4を形成する。この発熱抵抗体4の形成も上記
電極と同様に厚膜材料の抵抗体ペーストを塗布してパタ
ーニングする厚膜技術を用いる。
【0019】そして、発熱抵抗体4の上層にガラスペー
ストを塗布し、焼成してオーバーグレーズ層5を被覆す
る。このようにして得たサーマルヘッド構成層の上に感
光性レジストを塗布,乾燥し、所定のパターンを有する
光学マスクを介して露光し、現像することにより発熱抵
抗体4の上方に開口部7を形成した残留レジスト層6を
形成する。
【0020】この残留レジスト層6は、その厚みすなわ
ち高さHr が発熱抵抗体4の高さH H より高く、かつオ
ーバーグレーズ層5の最大高さHg より低い、図中Tで
示す範囲となるように形成する。すなわち、オーバーグ
レーズ層5は上記レジスト開口部7から残留レジスト層
6よりも上方に突出して露呈することになり、この残留
レジスト層6をストッパーとして適宜の研磨方法を用い
て研磨を施し、オーバーグレーズ層5を前記残留レジス
ト層6の高さHr まで除去する。なお、このとき、残留
レジスト層6も多少研磨されてその高さが減少するが、
この減少量は発熱抵抗体4の高さHH 以上の高さを保つ
ようにする。
【0021】各層の具体的な膜厚は、製造すべきサーマ
ルヘッドによるが、例えば、蓄熱層2の厚さが50μm
で、電極(共通電極3a,個別電極3b)の厚さが0.
5μm、発熱抵抗体4の厚さが5μm、オーバーグレー
ズ層5の厚さが10μmとすると、残留レジスト6の厚
さは約50μm程度が最適値となる。所望の設定膜厚に
なるように感光性レジスト(例えば、東京応化工業
(株)製のPMER N−HC−600:商品名)を塗
布し、フォトマスクにより露光・現像して図示のような
開口部7を形成する。
【0022】図2はオーバーグレーズ層を開口部の高さ
と等しくなるように除去したところを示すサーマルヘッ
ドの要部概略断面図である。このオーバーグレーズ層5
の除去は、例えば、ノリタケカンパニーリミテッド
(株)製のNP7240(商品名)、または住友金属鉱
山社製のI9449(商品名)で形成したオーバーグレ
ーズ層5をラッピング処理することで可能である。
【0023】このように、残留レジスト層6がラッピン
グ処理時のストッパーとなって開口部の高さに揃えるこ
とができるため、オーバーグレーズ層5のうねりや凹凸
に影響されずに精度良く均一に研磨することができる。
なお、オーバーグレーズ層5には、ラッピング処理が可
能で、なおかつ使用条件に耐えうる耐磨耗性が要求され
るが、通常の使用であれば上記の材料で十分である。し
かし、より高い硬度が要求されるサーマルヘッドを製造
する場合には、オーバーグレーズ層5を前記図5,図6
に示したように二層とし、下層オーバーグレーズ層にア
ルミナ粉体等のセラミックス粉体を混合したガラスペー
スト(例えば、田中マッセイ社製のLS201、または
ESL社製の4903H :何れも商品名)を用いると
効果的である。
【0024】図3は残留レジストを剥離したところを示
すサーマルヘッドの要部概略断面図である。同図に示し
たように、オーバーグレーズ層5は図示しない全ての画
素部分のオーバーグレーズ層と同一平面に上面すなわち
記録媒体当接面が整列する均一な平面に形成されるた
め、このサーマルヘッドを用いれば濃度むらの生じない
高品質の印字を達成できる。
【0025】残留レジスト層6の除去工程は、当該残留
レジスト層6を形成する感光性レジストとしてアクリル
系樹脂を用いることにより、弱アルカリ溶液によって容
易に剥離することができる。また、400°C〜600
°Cで完全に分解焼成が完了するので、オーバーグレー
ズ層層5を形成するグレーズガラスの軟化点以下での熱
処理によっても剥離は可能である。
【0026】以上の工程によって、オーバーグレーズ層
5の表面のうねりや凹凸を精度よく除去することが可能
となる。なお、上記実施例は発熱抵抗体層4をドット
(画素)ごとに独立した形式の厚膜型サーマルヘッドを
例としているが、抵抗体層を主走査方向に帯状に配置し
た交互電極型サーマルヘッドやその他の形式にとらわれ
ることなく、既存の各種厚膜型サーマルヘッドに適用で
きるものである。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
オーバーグレーズ層形成時におけるガラスペーストの印
刷塗布に起因する表面の長周期的不均一性すなわちうね
りや、発熱抵抗体形状に起因する短周期的な凹凸を、感
光性レジストのパターニングで形成した残留レジストを
ストッパーとして研磨除去することによって、オーバー
グレーズ層をサーマルヘッドの全面にわたって均一な平
面となし、上記うねりや凹凸をなくして平面性を向上す
ることが可能となる。
【0028】したがって、記録媒体への印字圧力を均一
とすることができ、印字圧力むらによる記録濃度むらを
低減した優れた機能のサーマルヘッドを容易に製造する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によるサーマルヘッドの製造方法の1
実施例を説明する残留レジスト形成後のサーマルヘッド
の要部概略断面図である。
【図2】 オーバーグレーズ層を開口部の高さと等しく
なるように除去したところを示すサーマルヘッドの要部
概略断面図である。
【図3】 残留レジストを剥離したところを示すサーマ
ルヘッドの要部概略断面図である。
【図4】 従来技術による個別対向型サーマルヘッドの
概略構造を説明する部分破断した上面図である。
【図5】 従来技術による個別対向型サーマルヘッドの
概略構造を説明する図4のA−A断面図である。
【図6】 従来技術による個別対向型サーマルヘッドの
概略構造を説明する図4のB−B断面図である。
【図7】 サーマルヘッドのオーバーグレーズ層のうね
りを説明する表面計測グラフの部分図である。
【図8】 サーマルヘッドのオーバーグレーズ層のうね
りを説明する表面計測グラフの部分図である。
【図9】 サーマルヘッドのオーバーグレーズ層のうね
りを説明する表面計測グラフの部分図である。
【符号の説明】
1・・・・・絶縁基板 2・・・・・蓄熱層 3a・・
・・・共通電極 3b・・・・・個別電極 4・・・・
・発熱抵抗体 5・・・・・オーバーグレーズ層 6・
・・・・残留レジスト 7・・・・・レジスト開口。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基板上に、蓄熱層,共通電極と個別
    電極,発熱抵抗体,およびオーバーグレーズ層をこの順
    で積層してなり、前記発熱抵抗体に選択的に通電し発熱
    させることにより印字を行うサーマルヘッドの製造方法
    において、 絶縁基板上に蓄熱層,共通電極と個別電極,発熱抵抗
    体,およびオーバーグレーズ層を積層する工程と、 前記オーバーグレーズ層上に感光性レジストを塗布,乾
    燥し、マスクを介して露光,現像することにより前記発
    熱抵抗体の上方に、残留レジスト層の上面が前記発熱抵
    抗体の前記積層方向の高さより高く、前記オーバーグレ
    ーズ層の上面の高さより低い高さをもつレジスト開口を
    形成する工程と、 前記残留レジスト層をストッパーとして前記オーバーグ
    レーズ層を前記残留レジスト層の高さに研磨除去する工
    程と、前記残留レジスト層を除去する工程とを含むこと
    を特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
JP15491592A 1992-06-15 1992-06-15 サーマルヘッドの製造方法 Pending JPH05345435A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7278897B2 (en) 2003-01-23 2007-10-09 Kawasaki Microelectronics, Inc. Method of manufacturing display device having columnar spacers
JP2008254423A (ja) * 2007-03-13 2008-10-23 Tdk Corp サーマルヘッド、印画装置、およびサーマルヘッドの製造方法
WO2013094877A1 (ko) * 2011-12-22 2013-06-27 지멕주식회사 감열 기록 소자 및 감열 기록 소자의 제조 방법
KR101390153B1 (ko) * 2011-12-22 2014-04-29 지멕주식회사 감열 기록 소자 및 감열 기록 소자의 제조 방법

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