JPH05343656A - Image sensor - Google Patents

Image sensor

Info

Publication number
JPH05343656A
JPH05343656A JP4149621A JP14962192A JPH05343656A JP H05343656 A JPH05343656 A JP H05343656A JP 4149621 A JP4149621 A JP 4149621A JP 14962192 A JP14962192 A JP 14962192A JP H05343656 A JPH05343656 A JP H05343656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
light
image pickup
optical black
type semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4149621A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Isao Ihara
功 井原
Kenro Sone
賢朗 曽根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP4149621A priority Critical patent/JPH05343656A/en
Publication of JPH05343656A publication Critical patent/JPH05343656A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To eliminate adverse influence to a video signal due to unnecessary incident light ray such as an infrared ray, etc., without reducing sensitivity. CONSTITUTION:An image sensor has a pixel unit 9, and an optical black part 10, and comprises a filter layer 12 for cutting off light of wavelength near an infrared region on the part 10. The unit 9 is formed of a photodiode having a p<+> type semiconductor layer 4 and an n<-> type semiconductor layer 6, has a photoelectric converter 100 for converting incident light into an electric signal, an n-type semiconductor layer 5 covering with a shield layer 8a and a polysilicon layer 7, and a charge transfer unit 200 for transferring charge of the converter 100. The part 10 has the converter 100 formed of the photodiode, and the unit 200. The converter 100 and the unit 200 are covered with the layer 8a and the layer 12.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、撮像装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image pickup device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、撮像装置に多用されている固体撮
像素子は、急激に高性能化しており、小型化が要求され
る家庭用ムービーや監視用カメラにおいては、従来使用
されていた撮像管に完全にとってかわって使用されてい
る。固体撮像素子は、光線として固体撮像素子に入射さ
れる映像情報を画素と呼ばれるフォトダイオードを使用
して電気信号に変換させるものである。この画素を平面
状に縦横に配列することで、映像信号を取り込んでい
る。映像を高画質化するためには、画素数を増大させる
ことが必要である。
2. Description of the Related Art In recent years, solid-state image pickup devices, which are widely used in image pickup devices, have been rapidly improved in performance, and the image pickup tubes that have been conventionally used in home movies and surveillance cameras, which are required to be downsized. Is used in place of completely. The solid-state image pickup device converts image information, which is incident on the solid-state image pickup device as a light beam, into an electric signal by using a photodiode called a pixel. By arranging these pixels horizontally and vertically, a video signal is captured. In order to improve the image quality of an image, it is necessary to increase the number of pixels.

【0003】入射光量が一定の場合、フォトダイオード
が大きい程、感度は高くなるが、高画質および小型化の
必要性から、あまり大きくすることはできない。そのた
め、微細化技術によって画素の開口率を上げたり、アン
プ構造の最適化を実施したり、高感度化の妨げとなるカ
ラーフィルタ上に集光レンズを設けたりして、高感度化
を図っている。
When the amount of incident light is constant, the larger the photodiode, the higher the sensitivity, but it cannot be increased so much because of the need for high image quality and miniaturization. Therefore, by increasing the aperture ratio of the pixel by miniaturization technology, optimizing the amplifier structure, and providing a condenser lens on the color filter that hinders the high sensitivity, high sensitivity is achieved. There is.

【0004】固体撮像素子のうち、電荷結合素子(以
下、「CCD」という。)は、素子自体の小型化,画素
の高密度化および高感度化が著しく進行している。その
中でも監視用カメラに搭載するCCDには、特に高感度
が要求されるため、カラー化が必要でない場合には、一
般に、高感度化を妨げる傾向のあるカラーフィルタや赤
外線を遮蔽する光学的フィルタを装着していない場合が
多い。
Among the solid-state image pickup devices, the charge-coupled device (hereinafter referred to as "CCD") has been remarkably advanced in miniaturization of the device itself, high density of pixels and high sensitivity. Among them, the CCD mounted on the surveillance camera is required to have a particularly high sensitivity. Therefore, when colorization is not required, a color filter or an optical filter for shielding infrared rays, which tends to hinder the high sensitivity, is generally used. In many cases, it is not attached.

【0005】以下、従来の撮像装置を図面を参照しなが
ら説明する。従来、撮像装置は、画素部およびオプティ
カルブラック部からなる。図3は撮像装置の画素部の構
成を示す要部断面図である。図3において、1はn型の
半導体基板、2はp- 型の半導体層、3はp型の半導体
層、4はp+ 型の半導体層、5はn型の半導体層、6は
- 型の半導体層、7はポリシリコン層、8はアルミニ
ウムからなる遮光層である。
A conventional image pickup apparatus will be described below with reference to the drawings. Conventionally, an image pickup device includes a pixel unit and an optical black unit. FIG. 3 is a cross-sectional view of essential parts showing the configuration of the pixel portion of the image pickup device. In FIG. 3, 1 is an n-type semiconductor substrate, 2 is a p -type semiconductor layer, 3 is a p-type semiconductor layer, 4 is a p + -type semiconductor layer, 5 is an n-type semiconductor layer, and 6 is n −. A semiconductor layer, a polysilicon layer 7 and a light-shielding layer 8 made of aluminum.

【0006】図3に示すように、画素部9は、半導体基
板1上に、p+ 型の半導体層4およびn- 型の半導体層
6のフォトダイオードからなる光電変換部100と、n
型の半導体層5およびポリシリコン層7からなる電荷転
送部200とを有し、電荷転送部200を遮光層8で覆
ったものである。光電変換部100で入射した光線は電
気信号に変換され、電荷転送部200により転送され
る。電荷転送部200を遮光層8で覆うことで、電荷転
送部200への光線の入射を防止し、光電変換部100
のみに光線を入射するようにしている。
As shown in FIG. 3, the pixel section 9 includes a photoelectric conversion section 100 composed of a photodiode of a p + type semiconductor layer 4 and an n type semiconductor layer 6 on a semiconductor substrate 1, and an n - type photoelectric conversion section.
And a charge transfer section 200 formed of a polysilicon layer 7 of the mold, and the charge transfer section 200 is covered with a light shielding layer 8. The light beam incident on the photoelectric conversion unit 100 is converted into an electric signal and transferred by the charge transfer unit 200. By covering the charge transfer unit 200 with the light-shielding layer 8, it is possible to prevent light rays from entering the charge transfer unit 200, and the photoelectric conversion unit 100 is prevented.
The light rays are made incident on only.

【0007】また、図4は従来の撮像装置のオプティカ
ルブラック部の構成を示す要部断面図である。図4にお
いて、8aはアルミニウムからなる遮光層であり、図3
と同符号の部分は同様の部分を示す。図4に示すよう
に、オプティカルブラック部40は、半導体基板1上
に、p+型の半導体層4およびn- 型の半導体層6のフ
ォトダイオードからなる光電変換部100と、n型の半
導体層5およびポリシリコン層7からなる電荷転送部2
00とを有し、光電変換部100および電荷転送部20
0を遮光層8aで覆うことにより、光線が入射するの防
止したものである。このオプティカルブラック部40
は、暗時出力レベルを測定するためのものであり、この
出力レベルを基準として、映像信号処理回路(図示せ
ず)にて映像信号の黒レベル,輝度信号および色差信号
が処理される。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the main parts showing the structure of the optical black portion of the conventional image pickup apparatus. In FIG. 4, 8a is a light-shielding layer made of aluminum.
The parts having the same reference numerals as those in FIG. As shown in FIG. 4, the optical black portion 40 includes a photoelectric conversion portion 100 including a photodiode of a p + type semiconductor layer 4 and an n type semiconductor layer 6 and an n type semiconductor layer on the semiconductor substrate 1. 5 and charge transfer section 2 composed of polysilicon layer 7
00, and the photoelectric conversion unit 100 and the charge transfer unit 20.
By covering 0 with a light-shielding layer 8a, light rays are prevented from entering. This optical black part 40
Is for measuring the dark output level, and the black level, luminance signal and color difference signal of the video signal are processed by the video signal processing circuit (not shown) with this output level as a reference.

【0008】このように構成された画素部9およびオプ
ティカルブラック部40を有する撮像素子から出力され
た映像信号は、映像信号処理回路(図示せず)により、
輝度信号と色差信号という2種類の信号によって表現さ
れて処理される。輝度信号は撮像素子に入射する光線の
強さを示し、色差信号は赤および青等の可視光線の波長
や色の濃さを示している。これら輝度信号および色差信
号の基準レベルとして、図4に示したオプティカルブラ
ック部40の出力レベルが用いられて処理されている。
A video signal output from an image pickup device having the pixel portion 9 and the optical black portion 40 having the above-described structure is processed by a video signal processing circuit (not shown).
It is expressed and processed by two types of signals, a luminance signal and a color difference signal. The luminance signal indicates the intensity of the light ray incident on the image pickup element, and the color difference signal indicates the wavelength and color density of visible light rays such as red and blue. The output level of the optical black section 40 shown in FIG. 4 is used as the reference level of the luminance signal and the color difference signal for processing.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
撮像装置において、光線を透過させない役割を担ってい
るアルミニウムからなる遮光層8,8aは、約800
〔nm〕以上の赤外線付近の波長の光線を若干透過させ
る欠点がある。赤外線付近の波長の光線が遮光層を透過
し、オプティカルブラック部40の光電変換部100や
画素部9の光電変換部100以外の部分に入射すると、
不要電荷が蓄積される。この不要電荷は、正常な映像信
号にノイズとして悪影響を与える。特に、オプティカル
ブラック部40で生じる不要電荷は、暗時出力ノイズと
して、前述の輝度信号および色差信号の基準レベルを変
動させたり、暗電流のばらつきを発生させて撮像画面に
固定パターンノイズを発生させるという問題がある。
However, in the conventional image pickup device, the light shielding layers 8 and 8a made of aluminum, which have a role of not transmitting light rays, are about 800.
It has a drawback that it slightly transmits light having a wavelength near infrared rays of [nm] or more. When a light ray having a wavelength near infrared rays passes through the light-shielding layer and is incident on a portion other than the photoelectric conversion portion 100 of the optical black portion 40 or the photoelectric conversion portion 100 of the pixel portion 9,
Unwanted charges are accumulated. The unnecessary charges adversely affect the normal video signal as noise. In particular, the unnecessary charges generated in the optical black portion 40 change the reference level of the above-described luminance signal and color difference signal as dark output noise, or cause dark current variations to generate fixed pattern noise on the imaging screen. There is a problem.

【0010】従来の撮像装置では、上述のような赤外線
の入射を防ぐために、固体撮像素子の全面に赤外線を透
過させない光学的フィルタ(図示せず)を装着してい
た。しかし、光学的フィルタを装着した場合には、赤外
線以外に可視光線も若干遮蔽されてしまうこととなる。
従来の撮像装置における光学的フィルタは、オプティカ
ルブラック部40はもちろん、画素部9をも覆ってしま
うため、画素部9に入射する光量が光学的フィルタによ
って減少し、撮像装置の感度低下につながるという問題
があった。このような感度低下をもたらす光学的フィル
タは、特に高感度が要求される監視カメラへの適用は好
ましくない。
In the conventional image pickup apparatus, an optical filter (not shown) which does not transmit infrared rays is mounted on the entire surface of the solid-state image pickup element in order to prevent the above infrared rays from entering. However, when an optical filter is attached, visible light is blocked in addition to infrared light.
Since the optical filter in the conventional image pickup device covers not only the optical black portion 40 but also the pixel portion 9, the amount of light incident on the pixel portion 9 is reduced by the optical filter, which leads to a reduction in the sensitivity of the image pickup device. There was a problem. An optical filter that causes such a decrease in sensitivity is not suitable for application to a surveillance camera that requires particularly high sensitivity.

【0011】この発明の目的は上記従来の問題点を解決
するもので、感度を低下させることなく、赤外線等の不
要な光線の入射による映像信号への悪影響をなくした撮
像装置を提供することである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and to provide an image pickup apparatus which does not adversely affect the video signal due to the incidence of unnecessary light rays such as infrared rays without lowering the sensitivity. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明の撮像装置は、
オプティカルブラック部の光電変換部を特定波長の光線
を遮蔽するフィルタ層で覆ったものである。
The image pickup apparatus of the present invention comprises:
The photoelectric conversion part of the optical black part is covered with a filter layer that blocks light rays of a specific wavelength.

【0013】[0013]

【作用】この発明の構成によれば、オプティカルブラッ
ク部の光電変換部を特定波長の光線を遮蔽するフィルタ
層で覆うことで、オプティカルブラック部の光電変換部
への赤外線等の不要な光線の入射を防止することによ
り、オプティカルブラック部における不要電荷の発生を
なくすことができる。
According to the structure of the present invention, by covering the photoelectric conversion portion of the optical black portion with the filter layer for blocking the light rays of the specific wavelength, unnecessary light rays such as infrared rays are incident on the photoelectric conversion portion of the optical black portion. By preventing this, it is possible to eliminate the generation of unnecessary charges in the optical black portion.

【0014】また、フィルタ層をオプティカルブラック
部のみに設けることで、画素部の光電変換部に入射する
光量は低下することがなく、よって感度を低下させるこ
とがない。
Further, by providing the filter layer only on the optical black portion, the amount of light incident on the photoelectric conversion portion of the pixel portion does not decrease, and therefore the sensitivity does not decrease.

【0015】[0015]

【実施例】以下、この発明の一実施例について、図面を
参照しながら説明する。図1はこの発明の一実施例の撮
像装置の構成を示す概略図である。なお、図1(a) はこ
の発明の一実施例の撮像装置の構成を示す外観斜視図、
図1(b) は同撮像装置のA−B線における断面図、図1
(c)は同撮像装置のオプティカルブラック部の構成を示
す部分断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing the arrangement of an image pickup apparatus according to an embodiment of the present invention. 1 (a) is an external perspective view showing the configuration of an image pickup apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line AB of the image pickup apparatus in FIG.
FIG. 3C is a partial cross-sectional view showing the configuration of the optical black portion of the imaging device.

【0016】図1において、1はn型の半導体基板、2
はp- 型の半導体層、3はp型の半導体層、4はp+
の半導体層、5はn型の半導体層、6はn- 型の半導体
層、7はポリシリコン層、8aはアルミニウムからなる
遮光層、9は画素部、10はオプティカルブラック部、
12はフィルタ層、100は光電変換部、200は電荷
転送部である。
In FIG. 1, 1 is an n-type semiconductor substrate, 2
Is ap type semiconductor layer, 3 is ap type semiconductor layer, 4 is ap + type semiconductor layer, 5 is an n type semiconductor layer, 6 is an n type semiconductor layer, 7 is a polysilicon layer, and 8a is A light shielding layer made of aluminum, 9 is a pixel portion, 10 is an optical black portion,
12 is a filter layer, 100 is a photoelectric conversion unit, and 200 is a charge transfer unit.

【0017】図1(a) ,(b) に示すように、撮像装置
は、画素部9と、オプティカルブラック部10とを有し
たものであり、オプティカルブラック部10上にはフィ
ルタ層12を設けたものである。画素部9は、図3に示
したものと同様であり、p+ 型の半導体層4およびn-
型の半導体層6のフォトダイオードからなり、入射した
光線を電気信号に変換する光電変換部100と、n型の
半導体層5およびポリシリコン層7からなり、光電変換
部100の電荷を転送する電荷転送部200とを有した
ものである。この画素部9の電荷転送部200は、遮光
層8に覆われたものである。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the image pickup device has a pixel portion 9 and an optical black portion 10, and a filter layer 12 is provided on the optical black portion 10. It is a thing. The pixel portion 9 is similar to that shown in FIG. 3, and the p + type semiconductor layer 4 and n − are formed.
A photoelectric conversion part 100 which is made up of a photodiode of a semiconductor layer 6 of the n-type and which converts an incident light beam into an electric signal, and an electric charge which is made up of an n-type semiconductor layer 5 and a polysilicon layer 7 and which transfers charges of the photoelectric conversion part 100. The transfer unit 200 is included. The charge transfer section 200 of the pixel section 9 is covered with the light shielding layer 8.

【0018】オプティカルブラック部10は、図1(c)
に示すように、フォトダイオードからなる光電変換部1
00と、電荷転送部200とを有したものであり、この
光電変換部100および電荷転送部200は、遮蔽層8
aおよびフィルタ層12で覆ったものである。フィルタ
層12は、図2に示すように、約800〔nm〕以上の
赤外線領域付近の光線をほとんど透過させない特性を有
するものである。なお、図2において、横軸はフィルタ
層12に入射させる光線の各波長〔nm〕を示し、縦軸
はフィルタ層12に入射する光線量を100〔%〕とし
た場合にフィルタ層12を透過する光線の透過率〔%〕
を示す。
The optical black portion 10 is shown in FIG.
As shown in, the photoelectric conversion unit 1 including a photodiode
00 and the charge transfer unit 200. The photoelectric conversion unit 100 and the charge transfer unit 200 are provided with the shielding layer 8
It is covered with a and the filter layer 12. As shown in FIG. 2, the filter layer 12 has a property of hardly transmitting a light ray in the infrared region of about 800 nm or more. In addition, in FIG. 2, the horizontal axis represents each wavelength [nm] of the light beam incident on the filter layer 12, and the vertical axis transmits the filter layer 12 when the amount of the light beam incident on the filter layer 12 is 100%. Transmitting light ray [%]
Indicates.

【0019】このように構成した撮像装置では、オプテ
ィカルブラック部10上に赤外線領域付近の光線をほと
んど透過させない特性を有するフィルタ層12を設けた
ことで、オプティカルブラック部10の光電変換部10
0への赤外線の入射を防止することにより、オプティカ
ルブラック部10における不要電荷の発生をなくすこと
ができる。
In the image pickup device having such a configuration, the photoelectric conversion portion 10 of the optical black portion 10 is provided by providing the filter layer 12 having a characteristic of hardly transmitting light rays in the infrared region in the optical black portion 10.
By preventing infrared rays from entering 0, generation of unnecessary charges in the optical black portion 10 can be eliminated.

【0020】また、フィルタ層12をオプティカルブラ
ック部10のみに設けたため、画素部9の光電変換部1
00に入射する光量は低下することがなく、よって感度
を低下させることがない。したがって、感度を低下させ
ることなく、赤外線の入射により映像信号に与える悪影
響、すなわち映像信号のノイズ発生および基準レベルの
変動等をなくした撮像装置を得ることができる。
Since the filter layer 12 is provided only in the optical black portion 10, the photoelectric conversion portion 1 of the pixel portion 9 is provided.
The amount of light incident on 00 does not decrease, and thus the sensitivity does not decrease. Therefore, it is possible to obtain an image pickup apparatus without adversely affecting the video signal due to the incidence of infrared rays, that is, noise generation of the video signal, fluctuation of the reference level, etc.

【0021】なお、この実施例のフィルタ層12は、特
に約800〔nm〕以上の赤外線領域付近の光線をほと
んど透過させない特性を有するものであるが、映像信号
処理装置の輝度信号および色差信号の基準レベルおよび
撮像する映像情報に対する映像信号に悪影響を及ぼさな
い程度であれば、透過させない光線の波長の種類は任意
である。また、フィルタ層12の種類は、特に限定され
ず、干渉フィルタまたは金属層でも良い。
Although the filter layer 12 of this embodiment has a characteristic that it hardly transmits light rays in the infrared region of about 800 nm or more, it does not transmit the luminance signal and the color difference signal of the video signal processing device. The type of wavelength of the light beam that is not transmitted is arbitrary as long as it does not adversely affect the image signal with respect to the reference level and the image information to be imaged. The type of the filter layer 12 is not particularly limited, and may be an interference filter or a metal layer.

【0022】また、この実施例のフィルタ層12は、遮
光層8a上に保護層を介して形成したものであるが、オ
プティカルブラック部10の光電変換部100への光線
の入射を防止できる位置であれば、どの位置に形成して
も良く、同様の効果を得ることができる。また、フィル
タ層12を設ける撮像装置は、特に限定されず、カラ
ー,白黒等の用途および特性の相違による撮像素子の種
類には関係なく、どのような撮像素子のオプティカルブ
ラック部にフィルタ層を設けても構わない。
Further, although the filter layer 12 of this embodiment is formed on the light shielding layer 8a via a protective layer, it is provided at a position where the light rays can be prevented from entering the photoelectric conversion portion 100 of the optical black portion 10. If it exists, it may be formed at any position and the same effect can be obtained. The image pickup device provided with the filter layer 12 is not particularly limited, and the filter layer is provided in the optical black portion of any image pickup device regardless of the type of the image pickup device due to the difference in use such as color and black and white and the characteristics. It doesn't matter.

【0023】[0023]

【発明の効果】この発明の撮像装置によれば、オプティ
カルブラック部の光電変換部を特定波長の光線を遮蔽す
るフィルタ層で覆うことで、オプティカルブラック部の
光電変換部への赤外線等の不要な光線の入射を防止する
ことにより、オプティカルブラック部における不要電荷
の発生をなくすことができる。
According to the image pickup device of the present invention, by covering the photoelectric conversion portion of the optical black portion with the filter layer that shields the light of a specific wavelength, infrared rays or the like to the photoelectric conversion portion of the optical black portion can be eliminated. By preventing the incidence of light rays, it is possible to eliminate the generation of unnecessary charges in the optical black portion.

【0024】また、フィルタ層をオプティカルブラック
部のみに設けることで、画素部の光電変換部に入射する
光量は低下することがなく、よって感度を低下させるこ
とがない。その結果、感度を低下させることなく、赤外
線等の不要な光線の入射による映像信号への悪影響をな
くした撮像装置を得ることができる。
Further, by providing the filter layer only on the optical black portion, the amount of light incident on the photoelectric conversion portion of the pixel portion does not decrease, and therefore the sensitivity does not decrease. As a result, it is possible to obtain an imaging device in which the adverse effect on the video signal due to the incidence of unnecessary light rays such as infrared rays is eliminated without lowering the sensitivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例の撮像装置の構成を示す概
略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of an image pickup apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】各波長の光線と、この光線のフィルタ層12へ
の透過率との関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a light ray of each wavelength and a transmittance of the light ray to the filter layer 12.

【図3】撮像装置の画素部の構成を示す要部断面図であ
る。
FIG. 3 is a main-portion cross-sectional view showing the structure of a pixel portion of an imaging device.

【図4】従来の撮像装置のオプティカルブラック部の構
成を示す要部断面図である。
FIG. 4 is a main-portion cross-sectional view showing a configuration of an optical black portion of a conventional imaging device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 光電変換部 8 遮光層 8a 遮光層 200 電荷転送部 9 画素部 10 オプティカルブラック部 12 フィルタ層 100 Photoelectric conversion part 8 Light-shielding layer 8a Light-shielding layer 200 Charge transfer part 9 Pixel part 10 Optical black part 12 Filter layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電荷転送部を遮光層で覆った画素部と、
光電変換部および電荷転送部を遮光層で覆ったオプティ
カルブラック部とを備えた撮像装置であって、 前記オプティカルブラック部の光電変換部を特定波長の
光線を遮蔽するフィルタ層で覆ったことを特徴とする撮
像装置。
1. A pixel portion in which a charge transfer portion is covered with a light shielding layer,
An image pickup device comprising: an optical black part in which a photoelectric conversion part and a charge transfer part are covered with a light-shielding layer, wherein the photoelectric conversion part of the optical black part is covered with a filter layer for shielding light rays of a specific wavelength. Image pickup device.
JP4149621A 1992-06-09 1992-06-09 Image sensor Pending JPH05343656A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4149621A JPH05343656A (en) 1992-06-09 1992-06-09 Image sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4149621A JPH05343656A (en) 1992-06-09 1992-06-09 Image sensor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05343656A true JPH05343656A (en) 1993-12-24

Family

ID=15479225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4149621A Pending JPH05343656A (en) 1992-06-09 1992-06-09 Image sensor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05343656A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6914314B2 (en) * 2003-01-31 2005-07-05 Foveon, Inc. Vertical color filter sensor group including semiconductor other than crystalline silicon and method for fabricating same
US7547573B2 (en) 2006-08-01 2009-06-16 United Microelectronics Corp. Image sensor and method of manufacturing the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5870685A (en) * 1981-10-22 1983-04-27 Nec Corp Solid-state image pickup device
JPH04364779A (en) * 1991-06-12 1992-12-17 Sharp Corp Solid state image sensor

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5870685A (en) * 1981-10-22 1983-04-27 Nec Corp Solid-state image pickup device
JPH04364779A (en) * 1991-06-12 1992-12-17 Sharp Corp Solid state image sensor

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6914314B2 (en) * 2003-01-31 2005-07-05 Foveon, Inc. Vertical color filter sensor group including semiconductor other than crystalline silicon and method for fabricating same
US7547573B2 (en) 2006-08-01 2009-06-16 United Microelectronics Corp. Image sensor and method of manufacturing the same
US7737479B2 (en) 2006-08-01 2010-06-15 United Microelectronics Corp. Image sensor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI499045B (en) Solid-state image capture device and image capture apparatus
WO2022088311A1 (en) Image processing method, camera assembly and mobile terminal
US8619143B2 (en) Image sensor including color and infrared pixels
CN110784634B (en) Image sensor, control method, camera assembly and mobile terminal
JP2012074763A (en) Solid-state imaging apparatus, and imaging apparatus
US20180295336A1 (en) IMAGING SYSTEM FOR SENSING 3D image
US8339488B2 (en) Solid-state image pickup device having laminated color filters, manufacturing method thereof, and electronic apparatus incorporating same
WO2022036817A1 (en) Image processing method, image processing system, electronic device, and readable storage medium
US7138663B2 (en) Color separation device of solid-state image sensor
WO2021159944A1 (en) Image sensor, camera assembly, and mobile terminal
JP2001210812A (en) Solid-state image pickup device and solid-state image pickup system provided with the same
JP2008252397A (en) Imaging data processing method and imaging device
JPH05343656A (en) Image sensor
EP4246959A1 (en) Image sensor and imaging apparatus
CN111031297B (en) Image sensor, control method, camera assembly and mobile terminal
JP6970595B2 (en) Solid-state image sensor, manufacturing method of solid-state image sensor, and electronic equipment
JP4815124B2 (en) Imaging apparatus, signal processing method of solid-state imaging device, digital camera, and control method thereof
JPH0794694A (en) Solid state image sensor
JP2009049524A (en) Imaging apparatus and method for processing signal
JPS63147365A (en) Solid-state image sensing device
JP7455945B1 (en) Solid-state imaging device, solid-state imaging device manufacturing method, and electronic equipment
JP7404447B1 (en) Solid-state imaging device, solid-state imaging device manufacturing method, and electronic equipment
JPH0488781A (en) Image pickup element
KR19990037528U (en) Structure of Solid State Imaging Device
JP2836299B2 (en) Infrared solid-state imaging device