JPH05343497A - Wafer inspecting apparatus - Google Patents

Wafer inspecting apparatus

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JPH05343497A
JPH05343497A JP14523092A JP14523092A JPH05343497A JP H05343497 A JPH05343497 A JP H05343497A JP 14523092 A JP14523092 A JP 14523092A JP 14523092 A JP14523092 A JP 14523092A JP H05343497 A JPH05343497 A JP H05343497A
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wafer
cassette
inspection
wafers
transfer
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Kiyoaki Tsuta
清昭 蔦
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Abstract

PURPOSE:To provide a wafer inspecting apparatus wherein it shortens the inspection and treatment time, per cassette, of a cassette in which many wafers have been housed. CONSTITUTION:Out of four cassettes 36A to 36D which have been stocked in a cassette stock part 14, wafers under test which have been housed in the cassette 36A are taken out one by one from the cassette 36A by means of a self-propelled vehicle 40 in a wafer conveyance apparatus 16. The wafers 56 which have been taken out are conveyed respectively to a plurality of wafer probers 22A to 22H by means of a self-propelled vehicle 30. The wafers whose inspection has been finishes by means of the wafer probers 22A to 22H are sequentially conveyed to, and housed, in the original cassette 36A by means of the self-propeller vehicles 30, 40. In addition, wafers under test are taken out from the cassette 16A and conveyed to the wafer probers 22A to 22H. Thereby, the inspection and treatment time, per cassette, of the title inspection apparatus can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はウエハ検査装置に係り、
特に半導体ウエハ上に多数形成された半導体素子回路の
電気特性を検査するウエハ検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer inspection apparatus,
In particular, the present invention relates to a wafer inspection device for inspecting the electrical characteristics of semiconductor element circuits formed in large numbers on a semiconductor wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハは、その表面に同一の電気
素子回路が多数形成されており、この電気素子回路を各
チップとして切断する前に各電気素子回路の形成品質を
検査すべく、ウエハプローバと称されるウエハ検査装置
で電気素子回路毎にその良・不良が判定される。
2. Description of the Related Art A semiconductor wafer has a large number of identical electric element circuits formed on its surface. A wafer prober is used to inspect the formation quality of each electric element circuit before cutting the electric element circuit into chips. A wafer inspecting device called a “good” or “bad” judgment is made for each electric element circuit.

【0003】前記ウエハ検査装置はカセット収納部、ウ
エハ搬送部、テーブル、及び装置制御部判定部等から構
成される。前記カセット収納部には、検査対象のウエハ
を多数枚収納したカセットが取り付けられており、この
ウエハは前記ウエハ搬送部によってカセットから1枚づ
つ取り出されて前記テーブルまで搬送される。テーブル
は、ウエハを吸着して素子検査時にその素子配列に従っ
たX−Y方向の水平移動と、Z方向の上下移動を行う。
The wafer inspection apparatus is composed of a cassette storage section, a wafer transfer section, a table, an apparatus control section determination section, and the like. A cassette accommodating a large number of wafers to be inspected is attached to the cassette accommodating portion, and the wafers are taken out from the cassette one by one by the wafer conveying portion and conveyed to the table. The table sucks the wafer and horizontally moves in the XY directions and vertically moves in the Z direction according to the element arrangement when the element is inspected.

【0004】前記装置制御部判定部は、プローブステー
ジとテスタ等から構成される。プローブステージには、
検査対象のウエハに対応したプローブカードが取り付け
られており、このプローブカードに設けられたプローブ
ニードルに電気素子回路の各電極パッドを当接させるこ
とによって、各電気素子回路の形成品質が前記テスタに
よって順次検査判定される。
The device control section determination section is composed of a probe stage, a tester and the like. The probe stage has
A probe card corresponding to the wafer to be inspected is attached, and each electrode pad of the electric element circuit is brought into contact with the probe needle provided on the probe card, whereby the formation quality of each electric element circuit is measured by the tester. The inspection is judged sequentially.

【0005】尚、検査終了したウエハは、ウエハ搬送部
によってテーブルからカセットまで搬送されてカセット
の元の棚に収納される。
The inspected wafer is transferred from the table to the cassette by the wafer transfer unit and stored in the original shelf of the cassette.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ウエハ検査装置では、1カセットに収納した多数枚のウ
エハを1台のウエハ検査装置で処理しているので、1カ
セット当たりの検査時間が長くなるという欠点がある。
また、複数台のウエハ検査装置を配設すると共に、ウエ
ハストック部にウエハ検査装置の台数に対応したカセッ
トを収納し、ウエハ搬送装置で前記カセットからウエハ
を取り出して、そのウエハに対応したウエハ検査装置に
順次搬送するというウエハ検査装置があるが、このウエ
ハ検査装置も前述したように、1カセット当たりの検査
時間が長くなるという欠点がある。
However, in the conventional wafer inspection apparatus, since a large number of wafers stored in one cassette are processed by one wafer inspection apparatus, the inspection time per cassette becomes long. There is a drawback.
In addition, a plurality of wafer inspection devices are arranged, a cassette corresponding to the number of wafer inspection devices is stored in the wafer stock unit, the wafer is taken out from the cassette by the wafer transfer device, and the wafer inspection corresponding to the wafer is performed. Although there is a wafer inspection apparatus that sequentially conveys the wafer to the apparatus, this wafer inspection apparatus also has a drawback that the inspection time per cassette becomes long as described above.

【0007】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、1カセット当たりの検査処理時間を短縮するウ
エハ検査装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a wafer inspection apparatus that shortens the inspection processing time per cassette.

【0008】[0008]

【課題を解決する為の手段】本発明は、前記目的を達成
する為に、所定の間隔をもって配置された複数台のウエ
ハ検査部と、検査対象のウエハが多数枚収納されたカセ
ットを多数本ストック可能なカセットストック部と、カ
セットストック部の所定のカセットに収納された前記ウ
エハを、該カセットから1枚づつ取り出して複数の前記
ウエハ検査部にそれぞれ搬送すると共に、ウエハ検査部
で検査終了したウエハを元のカセットまで搬送して該カ
セットに収納するウエハ搬送手段と、から成ることを特
徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a plurality of wafer inspection parts arranged at a predetermined interval and a large number of cassettes containing a large number of wafers to be inspected. The stockable cassette stock unit and the wafers stored in a predetermined cassette of the cassette stock unit are taken out from the cassette one by one and conveyed to the plurality of wafer inspection units, respectively, and the inspection is completed by the wafer inspection unit. Wafer transfer means for transferring the wafer to the original cassette and storing it in the cassette.

【0009】[0009]

【作用】本発明によれば、先ず、カセットストック部に
ストックされた複数本のカセットのうち、第1のカセッ
トに収納された検査対象ウエハを、ウエハ搬送手段によ
って該カセットから1枚づつ取り出して複数台のウエハ
検査部にそれぞれ搬送する。次に、前記複数台のウエハ
検査部で検査終了したウエハから順番に、前記ウエハ搬
送手段によって元のカセットまで搬送して収納し、更に
検査対象ウエハをカセットから取り出して検査終了した
ウエハ検査部に搬送する。
According to the present invention, first, of the plurality of cassettes stocked in the cassette stock section, the inspection target wafers stored in the first cassette are taken out one by one from the cassette by the wafer transfer means. The wafers are transferred to a plurality of wafer inspection units. Next, the wafers that have been inspected by the plurality of wafer inspection units are sequentially transferred to the original cassette by the wafer transfer means and stored therein, and the wafers to be inspected are taken out from the cassettes and transferred to the wafer inspection units that have been inspected. Transport.

【0010】これにより、1カセット当たりの検査処理
時間をウエハ検査部の台数分だけ短縮することができ
る。例えば、ウエハ検査部を8台設置すれば、ウエハ検
査部1台で1カセットを検査処理する従来のウエハ検査
装置と比較して、検査処理時間を1/8に短縮できる。
尚、前記第1のカセットに収納された全てのウエハの検
査が終了すると、カセットストック部の第2のカッセッ
トに収納されたウエハの検査を開始する。そして、第1
のカセットをカセットストック部から取り出して、検査
対象ウエハが収納された新しいカッセトと交換する。こ
のように、ウエハの検査が終了したカセットから順番
に、新しいカッセトと交換して後工程に順次送る。
As a result, the inspection processing time per cassette can be shortened by the number of wafer inspection units. For example, if eight wafer inspection units are installed, the inspection processing time can be shortened to 1/8 as compared with the conventional wafer inspection apparatus in which one wafer inspection unit inspects one cassette.
When all the wafers stored in the first cassette have been inspected, the inspection of the wafers stored in the second cassette of the cassette stock unit is started. And the first
The cassette is removed from the cassette stock section and replaced with a new cassette containing the wafer to be inspected. In this way, the cassette after the inspection of the wafer is sequentially replaced with a new cassette, and the cassettes are sequentially sent to the subsequent process.

【0011】[0011]

【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るウエハ検
査装置の好ましい実施例について詳説する。図1には、
本発明に係るウエハ検査装置10の実施例を示す上面図
が示され、このウエハ検査装置10はウエハ検査部1
2、カセットストック部14、ウエハ搬送装置16、及
びコントローラ部18から構成される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of a wafer inspection apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. In Figure 1,
A top view showing an embodiment of a wafer inspection device 10 according to the present invention is shown. The wafer inspection device 10 includes a wafer inspection unit 1
2, a cassette stock unit 14, a wafer transfer device 16, and a controller unit 18.

【0012】〔ウエハ検査部12〕ウエハ検査部12
は、ウエハ搬送装置16の搬送レール20を挟んで一方
側(図中上方向)に4台のウエハプローバ22A、22
B、22C、22Dが、また他方側(図中下方向)に4
台のウエハプローバ22E、22F、22G、22Hが
所定の間隔で、且つ対向して並列に配置される。また、
4台のテスタ24A、24B、24C、24Dが、ウエ
ハプローバ22A乃至22Hに1台に2台の割合で接続
されている。
[Wafer Inspection Section 12] Wafer Inspection Section 12
Is the four wafer probers 22A and 22A on one side (upward in the figure) with the carrier rail 20 of the wafer carrier 16 interposed therebetween.
B, 22C, 22D, and 4 on the other side (downward in the figure)
Wafer probers 22E, 22F, 22G, and 22H on the table are arranged in parallel at a predetermined interval and facing each other. Also,
The four testers 24A, 24B, 24C and 24D are connected to the wafer probers 22A to 22H at a ratio of two to one.

【0013】前記ウエハプローバ22Aは、第1のウエ
ハ搬送部26、及びプローブステージ28等を備えてい
る。ウエハ搬送部26は、前記ウエハ搬送装置16の後
述する自走台車30で搬送されたウエハを供給部26a
で受け取ると、前記プローブステージ28の下方に配設
された図示しないテーブルまで搬送する。テーブルは、
前記ウエハを吸着して素子検査時に、その素子配列に従
ったX−Y方向の水平移動と、Z方向の上下移動を行う
ことができる。
The wafer prober 22A includes a first wafer transfer section 26, a probe stage 28, and the like. The wafer transfer unit 26 supplies a wafer transferred by a self-propelled carriage 30 of the wafer transfer device 16 described later to the supply unit 26a.
When it is received in step 1, it is conveyed to a table (not shown) arranged below the probe stage 28. The table is
When the element is inspected by sucking the wafer, horizontal movement in the XY direction and vertical movement in the Z direction can be performed according to the element arrangement.

【0014】また、プローブステージ28には、検査対
象のウエハに対応した図示しないプローブカードが取り
付けられており、このプローブカードに設けられたプロ
ーブニードルに前記電気素子回路の各電極パッドを当接
させることによって、各電気素子回路の形成品質が前記
テスタ24Aによって順次検査判定される。検査終了し
たウエハは、前記第1のウエハ搬送部26によって供給
部26aまで搬送される。ウエハが前記供給部26aに
搬送されると、その搬送終了を示す信号が前記コントロ
ーラ部18に出力される。
Further, a probe card (not shown) corresponding to the wafer to be inspected is attached to the probe stage 28, and each electrode pad of the electric element circuit is brought into contact with a probe needle provided on this probe card. As a result, the formation quality of each electric element circuit is sequentially inspected and determined by the tester 24A. The inspected wafer is transferred to the supply section 26a by the first wafer transfer section 26. When the wafer is transferred to the supply unit 26a, a signal indicating the end of the transfer is output to the controller unit 18.

【0015】ウエハプローバ22Aには、カセット収納
部32が設けられる。このカセット収納部32には、検
査対象のウエハが多数枚収納されたカセット34が取り
付けられる。このウエハは、ウエハプローバ22Aに設
けられた図示しない第2のウエハ搬送部によってカセッ
ト34から1枚づつ取り出されて前記テーブルまで搬送
される。
The wafer prober 22A is provided with a cassette housing 32. A cassette 34 in which a large number of wafers to be inspected are stored is attached to the cassette storage section 32. The wafers are taken out one by one from the cassette 34 by a second wafer transfer unit (not shown) provided in the wafer prober 22A and transferred to the table.

【0016】尚、ウエハプローバ22B乃至22Hの構
成は、前述したウエハプローバ22Aの構成と同一なの
で、その説明は省略する。 〔カセットストック部14〕カセットストック部14
は、検査対象のウエハが多数枚収納された4本のカセッ
ト36A、36B、36C、36Dが、図中奥行き方向
に所定の間隔で配置される。これらのカセット36A乃
至36Dは、カセットストック部14に設けられた図示
しない昇降装置によって図中奥行き方向に昇降移動可能
となっている。
Since the wafer probers 22B to 22H have the same structure as the wafer prober 22A, the description thereof will be omitted. [Cassette stock section 14] Cassette stock section 14
The four cassettes 36A, 36B, 36C, and 36D that store a large number of wafers to be inspected are arranged at predetermined intervals in the depth direction in the drawing. These cassettes 36A to 36D can be moved up and down in the depth direction in the drawing by an elevator device (not shown) provided in the cassette stock section 14.

【0017】尚、前記昇降装置は、前述したコントロー
ラ部18によって駆動制御されている。 〔ウエハ搬送装置16〕ウエハ搬送装置16は、図中X
方向に配設された搬送レール20と、この搬送レール2
0に対して直交する図中Y方向に配設された搬送レール
38とを有しており、搬送レール20には自走台車30
が、また搬送レール38には自走台車40がそれぞれ走
行移動可能に配置されている。更に、自走台車40の近
傍には、ウエハの中継用チャック41が配設されてい
る。
The elevating device is drive-controlled by the controller section 18 described above. [Wafer Transfer Device 16] The wafer transfer device 16 is indicated by X in the drawing.
Transport rails 20 arranged in the same direction, and the transport rails 2
And a carrier rail 38 arranged in the Y direction in the drawing orthogonal to 0, and the carrier rail 20 has a self-propelled carriage 30.
However, self-propelled carriages 40 are arranged on the transport rails 38 so as to be movable. Further, a wafer relay chuck 41 is disposed near the self-propelled carriage 40.

【0018】前記自走車台30は図2に示すように、車
台本体42とロボット部44とから構成される。車台本
体42は、搬送レール20に移動可能に取り付けられて
おり、車台本体42に内設された正逆転可能な駆動モー
タに連結された車輪を回転させることにより、搬送レー
ル20に沿って走行移動することができる。一方、前記
ロボット部44は、チャッキング移送部46と吸着部4
8とから構成される。チャッキング移送部46は、前記
車台本体42上に固着された駆動モータ50を有し、こ
の駆動モータ50には移送治具52が連結されている。
移送治具52は、駆動モータ52が駆動することによっ
て図中矢印方向に移動しながら180度反転することが
できる。また、前記移送治具52にはウエハチャッキン
グアーム54が固着される。ウエハチャッキングアーム
54は、ウエハ56を保持して前記吸着部48の受け渡
しチャック58上に載置することができる。
As shown in FIG. 2, the self-propelled chassis 30 is composed of a chassis body 42 and a robot section 44. The chassis main body 42 is movably attached to the transport rail 20, and travels along the transport rail 20 by rotating a wheel connected to a forward / reverse drive motor provided in the chassis main body 42. can do. Meanwhile, the robot unit 44 includes a chucking transfer unit 46 and a suction unit 4.
8 and. The chucking transfer unit 46 has a drive motor 50 fixed on the chassis main body 42, and a transfer jig 52 is connected to the drive motor 50.
The transfer jig 52 can be turned 180 degrees while being moved by the drive motor 52 while moving in the direction of the arrow in the figure. A wafer chucking arm 54 is fixed to the transfer jig 52. The wafer chucking arm 54 can hold the wafer 56 and place it on the transfer chuck 58 of the suction unit 48.

【0019】前記受け渡しチャック58に載置されたウ
エハ56は、載置されると同時に受け渡しチャック58
に吸着されて下降し、皿部60に安定して保持される。
尚、前記自走車台40の構成は、前述した車台本体42
とチャッキング移送部46とから成っているので、その
説明は省略する。また、前記自走車台30、40の走行
方向、走行距離、駆動モータ50、及び受け渡しチャッ
ク58の昇降移動は、前記コントローラ部18によって
制御されている。
The wafer 56 placed on the delivery chuck 58 is placed on the delivery chuck 58 at the same time as it is placed.
Is adsorbed on the tray 60 and descends, and is stably held by the dish 60.
The structure of the self-propelled chassis 40 is the chassis body 42 described above.
Since it is composed of the chucking transfer section 46, the description thereof will be omitted. The controller unit 18 controls the traveling direction and traveling distance of the self-propelled chassis 30, 40, the drive motor 50, and the vertical movement of the transfer chuck 58.

【0020】次に、前記の如く構成されたウエハ検査装
置10のコントローラ部18による制御方法について説
明する。先ず、自走車台40を図1に示した位置に移動
させる。次に、自走車台40のロボット部44と、カセ
ット36Aの昇降装置を制御して、カセット36Aに収
納された検査対象ウエハ56を、ウエハチャッキングア
ーム54でカセット36Aから1枚づつ取り出し、移送
治具52を180°回転させて中継用チャック41に載
置する。
Next, a control method by the controller section 18 of the wafer inspection apparatus 10 configured as described above will be described. First, the self-propelled carriage 40 is moved to the position shown in FIG. Next, the robot unit 44 of the self-propelled carriage 40 and the elevating device of the cassette 36A are controlled to take out the inspection target wafers 56 stored in the cassette 36A one by one from the cassette 36A by the wafer chucking arm 54 and transfer them. The jig 52 is rotated 180 ° and placed on the relay chuck 41.

【0021】次に、自走車台30を図1中右端に移動さ
せる。そして、自走車台30のロボット部44と吸着部
48とを制御して、前記中継用チャック41に載置され
たウエハ56を、自走車台30のウエハチャッキングア
ーム54で保持し、移送治具52を180°回転させて
受け渡しチャック58に載置すると共に受け渡しチャッ
ク58で吸着し、受け渡しチャック58を下降させて皿
部60に保持する。
Next, the self-propelled chassis 30 is moved to the right end in FIG. Then, the robot section 44 and the suction section 48 of the self-propelled vehicle platform 30 are controlled to hold the wafer 56 placed on the relay chuck 41 by the wafer chucking arm 54 of the self-propelled vehicle platform 30 and transfer the wafer 56. The tool 52 is rotated by 180 ° and placed on the transfer chuck 58, adsorbed by the transfer chuck 58, lowered, and held on the tray 60.

【0022】次いで、自走車台30を図1中左方向に走
行させて、ウエハプローバ22Aのウエハ搬送部26の
位置で停止させる。そして、受け渡しチャック58を上
昇させてウエハ56を皿部60から離脱させると共に、
ウエハチャッキングアーム54でこのウエハ56を保持
した後、移送治具52を時計回り方向に90°回転させ
て、ウエハ搬送部26の供給部26aに載置する。供給
部26aに載置されたウエハ56は、ウエハ搬送部26
でテーブルまで搬送されて検査される。
Next, the self-propelled carriage 30 is moved to the left in FIG. 1 and stopped at the position of the wafer transfer section 26 of the wafer prober 22A. Then, the transfer chuck 58 is lifted to separate the wafer 56 from the dish 60, and
After holding the wafer 56 by the wafer chucking arm 54, the transfer jig 52 is rotated clockwise by 90 ° and placed on the supply unit 26 a of the wafer transfer unit 26. The wafer 56 placed on the supply unit 26 a is transferred to the wafer transfer unit 26.
Is transported to the table and inspected.

【0023】このようにして、残りのウエハプローバ2
2B乃至22Hについても、カセット36Aのウエハ5
6、56…をそれぞれ搬送し、各ウエハプローバ22B
乃至22Hで検査を開始する。次に、前記ウエハプロー
バ22A乃至22Hのうち検査終了したウエハ56が、
そのウエハプローバ22A乃至22Hの供給部26aま
で搬送されると、検査終了したウエハ56から順番に、
前記ウエハ搬送装置16によってカセット36Aまで搬
送されて収納される。ウエハ搬送装置16によるウエハ
収納手順は、前述したウエハ搬送手順の逆工程なので、
その説明は省略する。
In this way, the remaining wafer prober 2
Wafer 5 of cassette 36A for 2B to 22H
6, 56 ... Are respectively transferred to each wafer prober 22B.
The inspection is started from 22H to 22H. Next, among the wafer probers 22A to 22H, the inspected wafer 56 is
When the wafers are transferred to the supply units 26a of the wafer probers 22A to 22H, the wafers 56 that have been inspected are sequentially processed.
The wafer transfer device 16 transfers and stores the wafer up to the cassette 36A. Since the wafer storage procedure by the wafer transfer device 16 is the reverse step of the wafer transfer procedure described above,
The description is omitted.

【0024】そして、ウエハ56の搬送と収納を繰り返
した後、カセット36Aの全てのウエハ56、56…の
検査が終了すると、カッセット36Bに収納されたウエ
ハ56の検査を開始する。そして、カセット36Aをカ
セットストック部14から取り出して、検査対象ウエハ
が収納された新しいカッセトと交換する。このように、
ウエハの検査が終了したカセットから順番に、新しいカ
ッセトと交換して後工程に順次送る。
When the inspection of all the wafers 56, 56 ... In the cassette 36A is completed after repeating the transfer and storage of the wafers 56, the inspection of the wafers 56 stored in the cassette 36B is started. Then, the cassette 36A is taken out from the cassette stock unit 14 and replaced with a new cassette containing the wafer to be inspected. in this way,
The cassette after the wafer inspection is completed is replaced with a new cassette, and the wafers are sequentially sent to the subsequent process.

【0025】これにより、本実施例では、1カセット当
たりの検査処理時間をウエハ検査部の台数分だけ短縮す
ることができる。例えば、本実施例のように、ウエハプ
ローバ22A乃至22Hを8台設置すれば、ウエハプロ
ーバ1台で1カセットを検査処理する従来のウエハ検査
装置と比較して、検査処理時間を1/8に短縮できる。
As a result, in this embodiment, the inspection processing time per cassette can be reduced by the number of wafer inspection units. For example, if eight wafer probers 22A to 22H are installed as in the present embodiment, the inspection processing time is reduced to 1/8 as compared with the conventional wafer inspection apparatus in which one wafer prober inspects one cassette. Can be shortened.

【0026】尚、本実施例では、1品種のウエハ56の
検査処理について説明したが、これに限られるのもでは
なく、カセット36A乃至36D毎に品種の異なるウエ
ハが収納されている場合には、ウエハプローバ22A乃
至22Hをテスタ24A乃至24D毎に分けてウエハの
品種に対応するように設定すれば良い。また、ウエハ5
6の検査終了後、ウエハ搬送装置16から新しいウエハ
56が搬送されてくるのに時間がかかる場合は、各ウエ
ハプローバ22A乃至22Hに装着したカセット34か
らウエハを取り出して検査するようにすれば良い。これ
により、効率良くウエハの検査処理を行うことができ
る。
In the present embodiment, the inspection process of one type of wafer 56 has been described, but the present invention is not limited to this, and when different types of wafers are stored in each of the cassettes 36A to 36D. The wafer probers 22A to 22H may be divided into testers 24A to 24D and set so as to correspond to the type of wafer. Also, the wafer 5
If it takes time for the new wafer 56 to be transferred from the wafer transfer device 16 after the inspection of step 6, the wafer may be taken out from the cassette 34 mounted on each of the wafer probers 22A to 22H and inspected. .. As a result, the wafer inspection process can be performed efficiently.

【0027】更に、各ウエハプローバ22A乃至22H
にウエハチャッキングアームを設け、このウエハチャッ
キングアームで受け渡しチャック58に吸着されたウエ
ハ56をウエハプローバ22A乃至22Hに移送するよ
うにしても良い。
Further, each wafer prober 22A to 22H
Alternatively, a wafer chucking arm may be provided to transfer the wafer 56 attracted by the transfer chuck 58 by the wafer chucking arm to the wafer probers 22A to 22H.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウエハ
検査装置によれば、カセットストック部にストックされ
た複数本のカセットのうち、所定のカセットに収納され
た検査対象ウエハを、ウエハ搬送手段によって該カセッ
トから1枚づつ取り出して複数台のウエハ検査部にそれ
ぞれ搬送すると共に、複数台のウエハ検査部で検査終了
したウエハから順番に元のカセットまで搬送して収納す
るようにした。これにより、ウエハ検査部1台で1カセ
ットを検査処理する従来のウエハ検査装置と比較して、
1カセット当たりの検査処理時間を大幅に短縮できる。
As described above, according to the wafer inspection apparatus of the present invention, the wafer to be inspected stored in a predetermined cassette among the plurality of cassettes stocked in the cassette stock section is transferred to the wafer transfer means. The wafers are taken out from the cassette one by one and transported to a plurality of wafer inspection units, respectively, and the wafers inspected by the plurality of wafer inspection units are sequentially transported to the original cassette for storage. As a result, in comparison with the conventional wafer inspection apparatus in which one wafer inspection unit inspects one cassette,
The inspection processing time per cassette can be greatly shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るウエハ検査装置の実施例を示す上
面図
FIG. 1 is a top view showing an embodiment of a wafer inspection apparatus according to the present invention.

【図2】本発明に係るウエハ検査装置に適用されたウエ
ハ搬送台車の正面図
FIG. 2 is a front view of a wafer transfer carriage applied to a wafer inspection apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ウエハ検査装置 12…ウエハ検査部 14…カセットストック部 16…ウエハ搬送装置 18…コントローラ部 22A、22B、22C、22D、22E、22F、2
2G、22H…ウエハプローバ 30、40…自走台車 36A、36B、36C、36D…カセット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Wafer inspecting apparatus 12 ... Wafer inspecting section 14 ... Cassette stock section 16 ... Wafer carrying apparatus 18 ... Controller section 22A, 22B, 22C, 22D, 22E, 22F, 2
2G, 22H ... Wafer prober 30, 40 ... Self-propelled carriage 36A, 36B, 36C, 36D ... Cassette

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の間隔をもって配置された複数台の
ウエハ検査部と、 検査対象のウエハが多数枚収納されたカセットを多数本
ストック可能なカセットストック部と、 カセットストック部の所定のカセットに収納された前記
ウエハを、該カセットから1枚づつ取り出して複数の前
記ウエハ検査部にそれぞれ搬送すると共に、ウエハ検査
部で検査終了したウエハを元のカセットまで搬送して該
カセットに収納するウエハ搬送手段と、 から成ることを特徴とするウエハ検査装置。
1. A plurality of wafer inspection units arranged at a predetermined interval, a cassette stock unit capable of stocking a large number of cassettes containing a large number of wafers to be inspected, and a predetermined cassette of the cassette stock unit. Wafer transfer in which the stored wafers are taken out from the cassette one by one and transferred to the plurality of wafer inspection units, respectively, and the wafers inspected by the wafer inspection unit are transferred to the original cassette and stored in the cassette. A wafer inspection apparatus comprising:
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5798651A (en) * 1995-06-08 1998-08-25 Tokyo Electron Limited Probe system
US6638779B2 (en) 2001-03-16 2003-10-28 Hitachi, Ltd. Fabrication method of semiconductor integrated circuit device and testing method
US6788996B2 (en) 2001-04-19 2004-09-07 Renesas Technology Corp. Fabrication method of semiconductor integrated circuit device
JP2005093998A (en) * 2003-08-28 2005-04-07 Suss Microtec Test Systems Gmbh Equipment and method of inspecting substrate under load
KR100701893B1 (en) * 2000-02-24 2007-03-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Apparatus of Inspecting Liquid Crystal Display Device in In-line
KR100788734B1 (en) * 2005-12-05 2008-01-02 에버테크노 주식회사 Polarizing Film Inspecting Apparatus and Method
JP2010210645A (en) * 2010-06-23 2010-09-24 Renesas Electronics Corp Manufacturing method of semiconductor device
US7819080B2 (en) 2004-01-16 2010-10-26 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2013221945A (en) * 2012-04-18 2013-10-28 Mire Kk Semiconductor element handling system
US8726748B2 (en) 2009-11-06 2014-05-20 Tokyo Electron Limited Probe apparatus and substrate transfer method
US20180231582A1 (en) 2016-02-26 2018-08-16 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Transfer unit and prober
JP2021119638A (en) * 2017-07-19 2021-08-12 東京エレクトロン株式会社 Inspection system
JP2021121872A (en) * 2016-08-24 2021-08-26 株式会社ニコン Measurement system and substrate processing system, and device manufacturing method

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5798651A (en) * 1995-06-08 1998-08-25 Tokyo Electron Limited Probe system
KR100701893B1 (en) * 2000-02-24 2007-03-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Apparatus of Inspecting Liquid Crystal Display Device in In-line
US6638779B2 (en) 2001-03-16 2003-10-28 Hitachi, Ltd. Fabrication method of semiconductor integrated circuit device and testing method
US6974710B2 (en) 2001-03-16 2005-12-13 Renesas Technology Corp. Fabrication method of semiconductor integrated circuit device and testing method
US6788996B2 (en) 2001-04-19 2004-09-07 Renesas Technology Corp. Fabrication method of semiconductor integrated circuit device
JP2005093998A (en) * 2003-08-28 2005-04-07 Suss Microtec Test Systems Gmbh Equipment and method of inspecting substrate under load
US7819080B2 (en) 2004-01-16 2010-10-26 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and substrate processing method
US8268384B2 (en) 2004-01-16 2012-09-18 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR100788734B1 (en) * 2005-12-05 2008-01-02 에버테크노 주식회사 Polarizing Film Inspecting Apparatus and Method
US8726748B2 (en) 2009-11-06 2014-05-20 Tokyo Electron Limited Probe apparatus and substrate transfer method
JP2010210645A (en) * 2010-06-23 2010-09-24 Renesas Electronics Corp Manufacturing method of semiconductor device
JP2013221945A (en) * 2012-04-18 2013-10-28 Mire Kk Semiconductor element handling system
US20180231582A1 (en) 2016-02-26 2018-08-16 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Transfer unit and prober
US10605829B2 (en) 2016-02-26 2020-03-31 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Transfer unit and prober
JP2021121872A (en) * 2016-08-24 2021-08-26 株式会社ニコン Measurement system and substrate processing system, and device manufacturing method
JP2023022066A (en) * 2016-08-24 2023-02-14 株式会社ニコン measurement system
JP2021119638A (en) * 2017-07-19 2021-08-12 東京エレクトロン株式会社 Inspection system

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