JPH05341346A - 空間光変調装置とそのマスクの作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 幅広く応用できる空間光変調装置を提供す
る。 【構成】 この空間光変調装置は、入力を光学像とし、
マスクを透過させてこの光学像に所定の強度分布のラン
ダムな成分を持たせたもので、空間光変調器１０１と、
この空間光変調器１０１の入力側にマスク２０１と、空
間光変調器１０１の出力光学系とで構成される。空間光
変調器１０１には、ＦＬＣ−ＳＬＭを用い、図１（ｂ）
はその要部を示したものである。マスク２０１は、ラン
ダムな位置にランダムな透過率をもつもので、空間光変
調器１０１の入力側に近接配置されている。出力光学系
は、読みだし光Ｐ_R を出力する図示せぬレーザー光源
と、読みだし光Ｐ_R の光軸に対して４５度傾けたハーフ
ミラー３０１とを用いて構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、映像技術及び光情報処
理技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】光コンピュータは、その並列処理性及び
光の高速性などを利用できるという利点があり、現在広
く利用されているノイマン型のコンピュータでは実現で
きない処理や性能を持つものとしてその実現が期待され
ている。光コンピュータを実現するためのハードウェア
的な要素技術として２次元光メモリ特性を持った空間光
変調器があり、これの研究開発が進められている。空間
光変調器としては、例えば、ＦＬＣ−ＳＬＭ（強誘電性
液晶空間光変調器、ＮＴＴ，浜松ホトニクス）、ＳＥＥ
Ｄ（ＮＥＣ）、ＶＳＴＥＰ（ＡＴ＆Ｔ）などが開発され
知られている。これらの空間光変調器は、基本動作が双
安定で２値のメモリ特性を示し、かつ、高速動作である
ので、光コンピュータの実現に好適なものとして期待さ
れている。例えば、ＦＬＣ−ＳＬＭは、１００lp/mm 以
上という人間の目や他の光学素子に比較して非常に高い
解像度を持ち、１０ｋＨｚの高速動作が可能である。

【０００３】一方、近年、映像分野においては、より高
解像度で高画質が求められ、ハイビジョン用の機器が求
められている。それに対応したディスプレイとして強誘
電性液晶を用いたものが提案されている。これらの例と
して、特開平３−１８９６２２，特開平１−３０９８７
４，特開平３−４８８１９，特開平２−１８４８２１な
どがある。これらは強誘電性液晶の高速性を利用しつつ
アナログ動作を持たせようとするものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前述の強誘電性液晶を
用いたディスプレイでは、既存の液晶ディスプレイで表
示を行うため、解像度に応じた画素が必要であり、その
解像度に応じたライン数，カラム数の配線が必要になる
うえ高速動作が要求される。そのため、高解像度で高画
質が求められる用途においては、膨大な画素と配線が必
要であり、既存の技術では対応できるのかという問題が
ある。即ち、現状では、６４０×４００の液晶カラーデ
ィスプレイにおいてさえ歩留まりが悪く、それよりも大
きな画素が必要なハイビジョンでは、歩留まりに加え
て、画面の品質を保てるのかという問題が考えられる。

【０００５】このような問題に対し、前述の空間光変調
器のもつ高速性や解像度を利用して、ハイビジョンプロ
ジェクタなどの高解像度ディスプレイに応用することが
考えられている。また、光コンピュータにおいても、ニ
ューロコンピュータに応用する際にはアナログ的な動作
をすることが望ましく、より高度な光コンピュータを実
現する可能性がある。

【０００６】しかし、前述したように、空間光変調器は
高速性、解像度を持つのであるが、基本動作が双安定で
２値のメモリ特性を示すため、そのままではアナログ的
な動作をさせることはできない。

【０００７】本発明は、上述の問題点に鑑み、空間光変
調器にアナログ的な動作をさせ、幅広く応用できる空間
光変調装置を提供することをその目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の空間光変調装置は、入力（例えば、光学
像、走査された光ビーム、走査された電子ビーム、電気
信号など）に所定の強度分布のランダムな成分を与えて
入力に対応する像を形成する第１の手段と、像が形成さ
れる第１の面と、光学的性質が２の状態で変化する物質
（例えば、強誘電性液晶、多重量子井戸構造（ＭＱＷ）
素子など）を含む第２の面とを有し、像に対応して２の
状態のいずれかの状態として保持する第２の手段（例え
ば、ＦＬＣ−ＳＬＭ，ＳＥＥＤ，ＶＳＴＥＰなどの空間
光変調器を含む双安定型のもの）と、第２の面の物質の
状態から像に対応する出力（例えば、光学像などの光信
号）を取り出す第３の手段とを備える。

【０００９】入力が光学像、走査された光ビームなどの
光信号である場合、第１の手段はつぎのような態様を取
り得る。

【００１０】第１の手段は、所定の分布のランダムな透
過率を持ちその透過率に応じて光を透過させるマスク
（例えば、コヒーレント光（例えばレーザ光など、以下
同じ）を照射した粗面からの反射光を撮影して得たフィ
ルムなど）を有し、マスクに光信号を透過させてランダ
ムな成分を与えることを特徴としても良い。

【００１１】第１の手段は、所定の分布のランダムな強
度を持つ光を生成する第４の手段を有し、所定の分布の
ランダムな強度の光を前記光信号に加算してランダムな
成分を与えることを特徴としても良い。

【００１２】ここで、第４の手段は、所定の分布のラン
ダムな光の透過率を持つマスクに光を透過させて前記ラ
ンダムな強度の光を生成することを特徴としても良い。
また、第４の手段は、コヒーレント光を粗面に照射して
ランダムな強度の光を生成することを特徴としても良
い。さらに、第４の手段は、所定の分布が可変の光を生
成することを特徴としても良い。

【００１３】第３の手段は、コヒーレント光を第２の面
に照射し、第２の面からの反射光を検光子を通して出力
信号として取り出すことを特徴としてもよい。

【００１４】また、本発明のマスクを作成する方法は、
所定の強度分布のランダムな成分を有する像を空間光変
調器の入力側に形成し、空間光変調器の出力側に形成さ
れる像を空間光変調器の閾値及び感光量を変化させてフ
ィルムに撮影して所定の関数分布のランダムな光の透過
率を持つマスクを作成することを特徴とする。

【００１５】

【作用】本発明の空間光変調装置では、第１の手段で入
力に所定の強度分布のランダムな成分が与られて入力に
対応する像が第２の手段の第１の面に形成される。第２
の手段では、第１の面に形成された像に対応して第２の
面の物質は２の状態のいずれかとして保持される。この
とき、入力にランダムな成分が与られているため、この
ランダムな成分によって、第２の面の物質の２の状態の
密度分布が入力に対応する像に応じたものになる。ここ
で、所定の強度分布が均一な分布であると、密度分布は
リニアなものになり、強度分布が所定の関数で示される
分布であると、密度分布はその関数に対応したものにな
る。このような密度分布を持つ第２の面の物質の状態が
第３の手段で出力として取り出される。

【００１６】入力が光学像、走査された光ビームなどの
光信号である場合、第１の手段の上記各態様により、光
信号を入力としたものになる。

【００１７】第３の手段の上記態様により、光学像、走
査された光ビームなどの光信号を出力としたものにな
る。

【００１８】また、入力が光学像、走査された光ビーム
などの光信号である場合、入力に所定の強度分布のラン
ダムな成分を与えるためのマスクは、上記方法で製作さ
れる。

【００１９】

【実施例】本発明の第１の実施例を図面を参照して説明
する。図１（ａ）には、第１の実施例に係る空間光変調
装置が示されている。この空間光変調装置は、入力を光
学像とし、マスクを透過させてこの光学像に所定の強度
分布のランダムな成分を持たせたものである。この装置
は、空間光変調器１０１と、この空間光変調器１０１の
入力側にマスク２０１と、空間光変調器１０１の出力光
学系とで構成される。

【００２０】空間光変調器１０１には、前述の強誘電性
液晶空間光変調器（ＦＬＣ−ＳＬＭ）が用られており、
図１（ｂ）はその要部を示したものである。この空間光
変調器１０１は、透明電極１０２ａ，ｂと、この電極の
間にアモルファスシリコン１０３と、ミラー１０５と、
強誘電性液晶１０４とを積層したものである。そして、
透明電極１０２ａ，ｂの間には交流のバイアス電圧Ｅ_B
が与えられている。透明電極１０２ａ，ｂは、透明な電
極材料、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を用い
て構成される。アモルファスシリコン１０３及び強誘電
性液晶１０４は、それぞれ空間光変調器のアドレス材
料、光変調材料として機能するものである。ミラー１０
５は、入力側（図の左）、出力側（図の右）においてそ
れぞれ入射した光をしゃ光又は反射するものである。入
力側からの光は、ほとんどａ−Ｓｉで吸収され、残光が
出力側にもれないようにミラーが働く。

【００２１】マスク２０１は、図２（ａ）に示すような
ランダムな位置にランダムな透過率をもつもので、空間
光変調器１０１の入力側に近接配置されている。マスク
２０１は、光学像の光入力Ｐ_inを透過率に応じて透過し
て空間光変調器１０１に与える。図２（ｂ）は、ある透
過率分布をもつマスク２０１の作成方法を示したもので
ある。粗面を持つ物体にレーザ光をあてるとランダムな
模様のいわゆるスペックルパターンが生じる。このスペ
ックルパターンをカメラで撮影していわゆるスペックル
写真を作成する。このフィルムをマスク２０１として用
いる。スペックルパターンは、通常図１５のようなｅｘ
ｐ（−Ｉ）の強度分布を持つため、このマスクの透過率
分布はｅｘｐ（−Ｉ）となる（Ｉは光強度）。

【００２２】出力光学系は、コヒーレントな読みだし光
Ｐ_R を出力する図示せぬレーザー光源と、読みだし光Ｐ
_R の光軸に対して４５度傾けたハーフミラー３０１と検
光子４０１を用いて構成される。この出力光学系は、通
常の空間光変調器でなされるものと同等であり、「読み
だし光Ｐ_R を空間光変調器１０１の出力側全面にあて、
偏波面の変調された信号から、検光子（４０１）を通
し、光出力Ｐ_OUT を得る。」という構成になっている。

【００２３】このため、空間光変調器が位相型の時は、
読みだし光Ｐ_R を１０１の出力側全面にあて、その反射
光と参照平行光との干渉により光出力Ｐ_OUT を得ること
ができる。

【００２４】図３は、光入力Ｐ_inの光学像の明るさ即ち
空間光変調器１０１への入射光強度に応じて、光入力Ｐ
_inの光学像，マスク２０１のパターン，透明電極１０２
ａの表面上の光学像Ｐ₁ ，強誘電性液晶１０４の状態分
布（光出力Ｐ_OUT の像）の関係を示したものである。こ
の図において（ａ）〜（ｃ）の順に暗くなっている。こ
れを用いてこの装置の動作について説明する。

【００２５】光入力Ｐ_inはマスク２０１を透過し、空間
光変調器１０１の入力側の透明電極１０２ａの表面上に
光学像Ｐ₁ ができる。光学像Ｐ₁ は、光入力Ｐ_inの光学
像とマスク２０１の透過率を乗算したものになってい
る。空間光変調器１０１では、アモルファスシリコン１
０３は、各部分への入射光強度に応じてその導電率が変
化し、強誘電性液晶１０４に与えられる電圧が変化す
る。光学像Ｐ₁ は透明電極１０２ａの表面上の位置に応
じてその光強度が異なるため、強誘電性液晶１０４に与
えられる電圧はその位置に応じて異なったものになる。
この電圧が強誘電性液晶１０４の状態を変化させるレベ
ルより大きいときに、強誘電性液晶１０４の状態が変化
し、強誘電性液晶１０４の状態分布は光学像Ｐ₁ を２値
化したものになる。

【００２６】この強誘電性液晶１０４の状態分布が出力
光学系で読みだされ光出力Ｐ_OUT として出力される。即
ち読みだし光Ｐ_R を空間光変調器１０１の入力側に照射
すると、強誘電性液晶１０４の状態によってその反射光
の偏波面が９０°異なる。その反射光を検光子を通過さ
せると、光出力Ｐ_OUT の強弱の差となって出力される。

【００２７】ここで、マスク２０１の透過率分布が図４
（ａ）に示すような平均的な分布を持っている場合の入
出力特性を与える。マスク２０１を通過した光入力Ｐ_in
の光量はランダムに変調される。強誘電性液晶１０４の
閾値よりも大きい光量の微小な部分（ドット）の状態だ
けが変化し、強誘電性液晶１０４の状態分布は、光入力
Ｐ_inの像の光量に応じた分布になる。光出力Ｐ_OUT は、
通常、所定の大きさの領域（画素）で平均化若しくは積
分されるので、光入力Ｐ_inと光出力Ｐ_OUT との関係はお
よそ図４（ｂ）のような比例したものになる。このよう
に、入出力光強度の関係はマスク２０１の透過率分布を
積分したもので表されることになる。

【００２８】例えば、マスク２０１の透過率分布を図５
（ａ）に示すような比例した分布とした場合、光出力Ｐ
_OUT が所定の画素で平均化されると、入出力光強度の関
係は図５（ｂ）に示すような２次関数的なものになる。
さらに、図６は、マスク２０１の透過率分布を分数関数
的な分布（図６（ａ））とした場合のもので、入出力光
強度の関係は図６（ｂ）に示すような２次関数的なもの
になる。また、マスク２０１を前述した方法で作成した
場合には、強度分布は図２（ｃ）に示すようにｅｘｐ
（−Ｉ）で表されるため、これを積分した｛−ｅｘｐ
（−Ｉ）｝の関係が入出力関数となる。

【００２９】このように、ＦＬＣ−ＳＬＭなどの強誘電
性液晶空間光変調器は画像を２値化して処理することし
かできなかったが、上記実施例ではアナログ的な動作を
可能するうえに、マスク２０１の透過率分布にて画像処
理をすることを可能にしている。

【００３０】図７は、所定の関数の透過率分布をもつマ
スク２０１の作成方法を示したものである。空間光変調
器１０１はその駆動電圧Ｅ_B 及びその駆動波形を可変に
して強誘電性液晶１０４の状態遷移の閾値光量を可変と
し、空間光変調器１０１の入力側に所定の分布でランダ
ムな光量を持つ光を発生するパターン発生器７５０を設
ける。例えば、パターン発生器７５０は、粗面７０３に
レーザー光Ｐ_L をあててスペックルパターンを発生する
ような前述の図２（ｂ）に示したものと同様なものを用
いてる。出力光学系は、前述に装置と同様の構成である
が、光量可変器７２１を設けて空間光変調器１０１の読
みだし光量を調節するようにしている。光量可変器７２
１にかえてカメラ７１１の絞りで調節するようにしても
良い。パターン発生器７５０から光を空間光変調器１０
１で２値化してカメラ７１１で多重に撮影しマスク２０
１を作成するものである。

【００３１】パターン発生器７５０からの光即ちスペッ
クルパターン（図１２）の光強度は添付図１３に示すよ
うな分布を持っている。閾値光量をさげてゆくと、強誘
電性液晶１０４の状態遷移の頻度は多くなる即ち光強度
の分布が得られることになる。添付図１４の下に、しき
い値を変えた３つのランダムパターンを示す。一方、読
みだし光量を小さくしてゆくとフィルムの感光量が減少
して行くことになる。つまり、ある透過率のランダムパ
ターンが任意のＯＮ／ＯＦＦ比で作成でき、これを多重
露光することで、任意の透過率分布のマスクとなる。例
えば、図４に示すようなフラットな透過率分布のマスク
を作成するためには、読みだし光量をゼロから徐々に上
げていき、それと比例して強誘電性液晶のしきい値を下
げていくことにより得ることができる。光量の上げ方及
びしきい値の下げ方は、透過率分布によって決まるが、
フィルムの感度特性やしきい値の制御が線形でない場合
には結果をフィードバックさせることにより、より正確
なマスクの作成が可能となる。このように、強誘電性液
晶１０４のしきい値及び読みだし光量又はカメラ７１１
の露光量を適度に変えることで、様々な関数の分布の透
過率を持つマスクが得られる。

【００３２】この場合では、パターン発生器７５０は、
前述の図２（ｂ）と同様なものにしたが、図２（ｂ）で
撮影したようなフィルムによるマスクを用いて構成して
も同等である。

【００３３】図８は、第２の実施例に係る空間光変調装
置を示したものである。この空間光変調装置は、所定の
透過率分布を持つマスクを透過した光を入力の光学像に
加算して所定の強度分布の成分を持たせたものである。
この装置は、前述の実施例（図１（ａ））と比較して、
空間光変調器１０１の入力側が、ハーフミラー３１１と
図示せぬ光源からの光を透過するマスク２０１とによ
り、ランダムな強度分布のバイアスパターンの光Ｐ_B を
光入力Ｐ_inに与える構成になっている点に特徴を有す
る。マスク２０１には上記第１の実施例のものと同等の
ものが用いられる。

【００３４】この実施例では、バイアスパターンの光Ｐ
_B によってランダムな強度分布の成分を与える点が上記
第１の実施例と異なっており、空間光変調器１０１のし
きい値レベルをそれに応じたものに調節しておく必要が
ある。しかし、そのほかの点については上記第１の実施
例と同等であり、同様の動作になる。

【００３５】図９は、第３の実施例に係る空間光変調装
置を示したものである。この空間光変調装置は、第２の
実施例のマスク２０１に代えて、パターン発生器７５０
にてバイアスパターンの光Ｐ_B を与えるようにしたもの
である。パターン発生器７５０は図７に示したものと同
じもので粗面にレーザー光をあててスペックルパターン
を発生させてバイアスパターンの光Ｐ_B としている。こ
の空間光変調装置の動作も上記第２の実施例と同等であ
る。

【００３６】図１０は、第４の実施例に係る空間光変調
装置を示したものである。この空間光変調装置は、第２
の実施例のマスク２０１に代えて、パターン発生器７０
０として図７の装置全体を用いたものである。図７の装
置は様々なマスクを作成するための装置であり、この装
置を用いることで多様なバイアスパターンの光Ｐ_B を発
生するようにしたものである。また、リアルタイムで入
出力光強度の関係をかえることを可能にしている。

【００３７】図１１は、空間光変調装置１０１ａの動作
（Ｗ：書き込み，Ｒ：読み出し），パターン発生器７０
０の空間光変調器１０１ｂの閾値の変化，レーザー光Ｐ
_L1の強度の関係を示したものである。

【００３８】時刻ｔ₀ 〜ｔ₁ においては、空間光変調器
１０１ｂの閾値は時間に比例して大きくし閾値光量をさ
げ、また、レーザー光Ｐ_L2の強度を上げてゆくと、空間
光変調器１０１ｂの強誘電性液晶の状態遷移の頻度は少
なくなる。このように変化する強誘電性液晶の状態が読
み出されてパターン発生器７００からバイアスパターン
の光Ｐ_B として出力される。光入力Ｐ_inはパターン発生
器７００からの光Ｐ_Bとが加算され、空間光変調装置１
０１ａの読み出しがされないで、空間光変調装置１０１
ａへの書き込みが行われる。これは、図７の説明におい
て「カメラ７１１のシャッターを開放状態で撮影する」
に相当し、空間光変調装置１０１ａで等価的に積分され
ることになる。即ちパターン発生器７００からの光Ｐ_B
が等価的に積分され、マスクに光を通過させてバイアス
パターンの光Ｐ_B を生成するのと等価なものになる。

【００３９】時刻ｔ₁ 〜ｔ₂ において空間光変調装置１
０１ａの強誘電性液晶の状態が読み出されて光出力Ｐ
_OUT として出力される。時刻ｔ₂ 〜ｔ₃ 及びｔ₄ 〜ｔ₅
では、それぞれ、空間光変調器１０１ｂの閾値及びレー
ザー光Ｐ_L2の強度を時刻ｔ₀ 〜ｔ₁ とは異なった変化に
している。これによって等価的に異なったバイアスパタ
ーンの光Ｐ_B を発生させ、リアルタイムで入出力光強度
の関係をかえている。

【００４０】このように、リアルタイムで入出力光強度
の関係をかえることにより、光入力Ｐ_inの状態に応じた
処理が可能になる。

【００４１】本発明は前述の実施例に限らず様々な変形
が可能である。

【００４２】例えば、空間光変調器にＦＬＣ−ＳＬＭに
限られず、他のタイプの空間光変調器を用い得る。上記
実施例では、ＦＬＣ−ＳＬＭを用いたので光学像を入力
とした例を示したが、空間光変調器には様々なタイプの
ものがあり、走査された光ビームを入力とすることも可
能である。また、電気信号または電子ビームを入力する
タイプのものも用い得る。この場合において、ランダム
な成分についてはマスクやスペックルパターンに代え
て、例えばホワイトノイズにてランダムな成分を与える
ことで実現する。

【００４３】また、光学出力系にレーザーを用い光学像
を出力とした例を示したが、走査されたレーザービーム
を用いることも可能であるし、また、光センサを出力に
設けて電気信号として取り出しても良い。

【００４４】このように、入力または出力にビームをも
ちいることで、シリアルイン−パラレルアウト，パラレ
ルイン−シリアルアウトのいずれも構成可能であるし、
また、電気信号とのインターフェイスもとれることか
ら、映像機器，光コンピュータなど幅広い応用が可能に
なる。

【００４５】

【発明の効果】以上の通り本発明の空間光変調装置によ
れば、入力に所定の強度分布のランダムな成分を与える
ことで、入力に対応する像を第２の面の物質の２の状態
の密度分布として保持することが可能になり、これによ
って、入力に対応する像を強度分布に応じた出力として
得ることができる。

【００４６】また、本発明のマスクの作成方法によれ
ば、光信号に所定の強度分布のランダムな成分を与えう
るマスクを製作し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施例の構成図。

【図２】マスク及びその作成方法を示す図。

【図３】光入力Ｐ_inの光学像，マスク２０１のパター
ン，透明電極１０２ａの表面上の光学像Ｐ₁ ，強誘電性
液晶１０４の状態分布（光出力Ｐ_OUT の像）の関係図。

【図４】マスクと入出力光強度の関係を示す図。

【図５】マスクと入出力光強度の関係を示す図。

【図６】マスクと入出力光強度の関係を示す図。

【図７】所定の関数の透過率分布をもつマスク２０１の
作成方法を示した図。

【図８】第２の実施例の構成図。

【図９】第３の実施例の構成図。

【図１０】第４の実施例の構成図。

【図１１】空間光変調装置１０１ａの動作，パターン発
生器７００の空間光変調器１０１ｂの閾値の変化，レー
ザー光Ｐ_L1の強度の関係を示した図。

【図１２】スペックルパターンを示す図。

【図１３】スペックルパターンの光強度を示す図。

【図１４】スペックルパターンの例を示す図。

【図１５】スペックルパターンの強度分布を示す図

【符号の説明】

１０１，１０１ａ，１０１ｂ…空間光変調装置、２０１
…マスク、３０１…ハーフミラー、７００，７５０…パ
ターン発生器、Ｐ_in…光入力、Ｐ_OUT …光出力。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入力に所定の強度分布のランダムな成分
   を与えて前記入力に対応する像を形成する第１の手段
   と、 前記像が形成される第１の面と、光学的性質が２の状態
   で変化する物質を含む第２の面とを有し、前記像に対応
   して前記２の状態のいずれかの状態として保持する第２
   の手段と、 前記第２の面の物質の状態から前記像に対応する出力を
   取り出す第３の手段とを備えた空間光変調装置。
2. 【請求項２】 前記入力は、光信号であり、前記第１の
   手段は、所定の分布のランダムな透過率を持つマスクを
   有し、前記マスクに前記光信号を透過させて前記ランダ
   ムな成分を与えることを特徴とする請求項１記載の空間
   光変調装置。
3. 【請求項３】 前記入力は、光信号であり、前記第１の
   手段は、所定の分布のランダムな強度を持つ光を生成す
   る第４の手段を有し、前記所定の分布のランダムな強度
   の光を前記光信号に加算して前記ランダムな成分を与え
   ることを特徴とする請求項２記載の空間光変調装置。
4. 【請求項４】 前記第４の手段は、所定の分布のランダ
   ムな光の透過率を持つマスクに光を透過させて前記ラン
   ダムな強度の光を生成することを特徴とする請求項３記
   載の空間光変調装置。
5. 【請求項５】 前記第４の手段は、コヒーレント光を粗
   面に照射して前記ランダムな強度の光を生成することを
   特徴とする請求項３記載の空間光変調装置。
6. 【請求項６】 前記第４の手段は、前記所定の分布が可
   変の光を生成することを特徴とする請求項３記載の空間
   光変調装置。
7. 【請求項７】 前記第３の手段は、コヒーレント光を前
   記第２の面に照射し、前記第２の面からの反射光を検光
   子を通して出力信号として取り出すことを特徴とする請
   求項１記載の空間光変調装置。
8. 【請求項８】 所定の強度分布のランダムな成分を有す
   る像を空間光変調器の入力側に形成し、 前記空間光変調器の出力側に形成される像を前記空間光
   変調器の閾値及び感光量を変化させてフィルムに撮影し
   て所定の関数分布のランダムな光の透過率を持つマスク
   を作成することを特徴とするマスクの作成方法。