JPH05337460A - 浄水装置 - Google Patents
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- JPH05337460A JPH05337460A JP4149507A JP14950792A JPH05337460A JP H05337460 A JPH05337460 A JP H05337460A JP 4149507 A JP4149507 A JP 4149507A JP 14950792 A JP14950792 A JP 14950792A JP H05337460 A JPH05337460 A JP H05337460A
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Landscapes
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- Catalysts (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
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- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 吸着剤層の吸着能力を回復できる浄水装置を
提供すること。 【構成】 活性炭等から成る吸着剤層５ａを少なくとも
内蔵する浄化槽５を具備した浄水装置において、白金族
系酸化物及び酸化物系セラミックスを主成分とする触媒
層５ｂと、紫外線を照射可能な光源５ｃを浄化槽内に配
置すると共に、所定温度の温水を生成する温水生成槽１
１を浄化槽５に接続しているので、温水生成槽１１から
浄化槽５内に温水を供給し、且つ光源５ｃを点灯させる
ことで、吸着剤層５ａに吸着されていた次亜塩素酸塩や
有機塩素化合物を該温水中に脱離させ、これを触媒及び
紫外線による光触媒反応によって分解できる。
提供すること。 【構成】 活性炭等から成る吸着剤層５ａを少なくとも
内蔵する浄化槽５を具備した浄水装置において、白金族
系酸化物及び酸化物系セラミックスを主成分とする触媒
層５ｂと、紫外線を照射可能な光源５ｃを浄化槽内に配
置すると共に、所定温度の温水を生成する温水生成槽１
１を浄化槽５に接続しているので、温水生成槽１１から
浄化槽５内に温水を供給し、且つ光源５ｃを点灯させる
ことで、吸着剤層５ａに吸着されていた次亜塩素酸塩や
有機塩素化合物を該温水中に脱離させ、これを触媒及び
紫外線による光触媒反応によって分解できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水道水，地下水等の浄
化に有用な浄水装置に関するものである。
化に有用な浄水装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の浄水装置は、フィルタ材から成
る濾過層や活性炭等から成る吸着剤層等を内蔵した浄化
槽を具備しており、該浄化槽に水を通過させることでそ
の不純物及び臭気を取除いている。
る濾過層や活性炭等から成る吸着剤層等を内蔵した浄化
槽を具備しており、該浄化槽に水を通過させることでそ
の不純物及び臭気を取除いている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の吸着剤層には流
通水に含まれる次亜塩素酸塩や有機塩素化合物が臭気と
共に吸着されるが、次亜塩素酸塩においては連続給水を
行なうとその自然分解速度が吸着速度よりも遅くなるた
めその吸着能力が徐々に低下する難点がある。また、有
機塩素化合物は物理的に吸着されるだけであるためその
吸着能力にも自ずと限界がある。
通水に含まれる次亜塩素酸塩や有機塩素化合物が臭気と
共に吸着されるが、次亜塩素酸塩においては連続給水を
行なうとその自然分解速度が吸着速度よりも遅くなるた
めその吸着能力が徐々に低下する難点がある。また、有
機塩素化合物は物理的に吸着されるだけであるためその
吸着能力にも自ずと限界がある。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、吸着剤層の吸着能力を回
復できる浄水装置を提供することにある。
で、その目的とするところは、吸着剤層の吸着能力を回
復できる浄水装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、活性炭等から成る吸着剤層を少なくと
も内蔵する浄化槽を具備した浄水装置において、白金族
系酸化物及び酸化物系セラミックスを主成分とする触媒
層と、紫外線を照射可能な光源を浄化槽内に配置すると
共に、所定温度の温水を生成する温水生成槽を浄化槽に
接続している。
め、本発明では、活性炭等から成る吸着剤層を少なくと
も内蔵する浄化槽を具備した浄水装置において、白金族
系酸化物及び酸化物系セラミックスを主成分とする触媒
層と、紫外線を照射可能な光源を浄化槽内に配置すると
共に、所定温度の温水を生成する温水生成槽を浄化槽に
接続している。
【０００６】
【作用】本発明に係る浄水装置では、給水停止時に光源
を点灯させ、且つ温水生成槽から浄化槽内に温水を送り
込むと、吸着剤層に吸着されていた次亜塩素酸塩や有機
塩素化合物が温水中に脱離し、これらが触媒層に接触し
紫外線による光触媒反応によって分解される。
を点灯させ、且つ温水生成槽から浄化槽内に温水を送り
込むと、吸着剤層に吸着されていた次亜塩素酸塩や有機
塩素化合物が温水中に脱離し、これらが触媒層に接触し
紫外線による光触媒反応によって分解される。
【０００７】つまり、吸水停止時に必要に応じて上記の
操作を行なえば、吸着剤層に吸着されている次亜塩素酸
塩や有機塩素化合物を脱離，分解して、吸着剤の吸着能
力を回復できる。
操作を行なえば、吸着剤層に吸着されている次亜塩素酸
塩や有機塩素化合物を脱離，分解して、吸着剤の吸着能
力を回復できる。
【０００８】
【実施例】図１乃至図４は本発明の一実施例を示すもの
で、図１は浄水装置の構成図、図２は制御回路図、図３
及び図４は浄水制御のフロ−チャ−トである。
で、図１は浄水装置の構成図、図２は制御回路図、図３
及び図４は浄水制御のフロ−チャ−トである。
【０００９】まず、図１を参照して浄水装置の全体構成
を説明する。同図において１は常閉の第１電磁弁、２は
プレフィルタ、３は定圧弁、４は常閉の第２電磁弁、５
は浄化槽、６は常閉の第３電磁弁、７は殺菌槽、８は圧
力検知器であり、これらは給水管路を通じて順に接続さ
れている。
を説明する。同図において１は常閉の第１電磁弁、２は
プレフィルタ、３は定圧弁、４は常閉の第２電磁弁、５
は浄化槽、６は常閉の第３電磁弁、７は殺菌槽、８は圧
力検知器であり、これらは給水管路を通じて順に接続さ
れている。
【００１０】上記浄化槽５は入口及び出口を上下に有し
ており、入口寄り位置に粒状，粉末状或いは繊維状の活
性炭から成る吸着剤層５ａを有している。また、吸着剤
層５ａの上側には有底筒状の触媒層５ｂが設けられ、ま
たその中央には紫外線ランプ５ｃが配置されている。本
例の触媒層５ｂは、吸着剤の一種であるゼオライトを有
底筒状に成形し、その表面に白金族系酸化物と酸化物系
セラミックスの複合物（触媒）を担持させて形成したも
のであり、その周面には多数の穴（図示省略）が設けら
れている。白金族系酸化物としてはＰｔ，Ｐｄ，Ｒｕ等
の酸化物が、また酸化物系セラミックスとしてはルチル
型やアナタ−ゼ型の酸化チタン等が使用できる。
ており、入口寄り位置に粒状，粉末状或いは繊維状の活
性炭から成る吸着剤層５ａを有している。また、吸着剤
層５ａの上側には有底筒状の触媒層５ｂが設けられ、ま
たその中央には紫外線ランプ５ｃが配置されている。本
例の触媒層５ｂは、吸着剤の一種であるゼオライトを有
底筒状に成形し、その表面に白金族系酸化物と酸化物系
セラミックスの複合物（触媒）を担持させて形成したも
のであり、その周面には多数の穴（図示省略）が設けら
れている。白金族系酸化物としてはＰｔ，Ｐｄ，Ｒｕ等
の酸化物が、また酸化物系セラミックスとしてはルチル
型やアナタ−ゼ型の酸化チタン等が使用できる。
【００１１】上記殺菌槽７は入口及び出口を上下に有し
ており、入口寄り位置に周縁孔を有する案内板７ａを有
している。また、案内板７ａ上には繊維状活性炭から成
る殺菌筒７ｂが配置され、その内側には多孔質の中空糸
膜７ｃが付設されている。さらに、殺菌筒７ｂの上端に
は棒状と平板状の一対の電極７ｄが配置され、平板状電
極は殺菌筒７ｂと間隔をおいて対峙し、また棒状電極は
殺菌筒７ｂの上面に差込まれている。
ており、入口寄り位置に周縁孔を有する案内板７ａを有
している。また、案内板７ａ上には繊維状活性炭から成
る殺菌筒７ｂが配置され、その内側には多孔質の中空糸
膜７ｃが付設されている。さらに、殺菌筒７ｂの上端に
は棒状と平板状の一対の電極７ｄが配置され、平板状電
極は殺菌筒７ｂと間隔をおいて対峙し、また棒状電極は
殺菌筒７ｂの上面に差込まれている。
【００１２】９は上記第２電磁弁４と浄化槽５の入口と
の間の給水管路から分岐したドレン管路で、該ドレン管
路９には常閉の第４電磁弁１０が介装されている。
の間の給水管路から分岐したドレン管路で、該ドレン管
路９には常閉の第４電磁弁１０が介装されている。
【００１３】１１は入口及び出口を上下に有する温水生
成槽で、その周面にはパネル状の電熱ヒ−タ１１ａが付
設されている。また、温水生成槽１１の上面には該生成
槽１１内の水温を検知するサ−ミスタ等の温度センサ１
１ｂが付設され、またその内部には水位を検知するフロ
−トスイッチ１１ｃが配置されている。
成槽で、その周面にはパネル状の電熱ヒ−タ１１ａが付
設されている。また、温水生成槽１１の上面には該生成
槽１１内の水温を検知するサ−ミスタ等の温度センサ１
１ｂが付設され、またその内部には水位を検知するフロ
−トスイッチ１１ｃが配置されている。
【００１４】上記温水生成槽１１は、定圧弁４と第２電
磁弁４との間の給水管路から浄化槽５の上部に至る分岐
管路の途中に介装されており、該分岐管路の分岐部分と
温水生成槽１１の入口との間には常閉の第５電磁弁１２
と逆止弁１３が順に介装されている。
磁弁４との間の給水管路から浄化槽５の上部に至る分岐
管路の途中に介装されており、該分岐管路の分岐部分と
温水生成槽１１の入口との間には常閉の第５電磁弁１２
と逆止弁１３が順に介装されている。
【００１５】次に、図２を参照して上記浄水装置の制御
構成を説明する。同図において１３はマイクロコンピュ
−タ構成の制御部、１４は運転スイッチ、１５はラン
プ，ブザ−等の警報器、１６は電磁弁駆動部、１７はラ
ンプ駆動部、１８はヒ−タ駆動部、１９は警報器駆動
部、２０は殺菌電圧部である。また、８は圧力検知器、
１１ｂは温度センサ、１１ｃはフロ−トスイッチ、１，
４，６，１０，１２は第１乃至第５電磁弁、５ｃは紫外
線ランプ、１１ａは電熱ヒ−タ、７ｄは電極であり、何
れも先に説明したものである。
構成を説明する。同図において１３はマイクロコンピュ
−タ構成の制御部、１４は運転スイッチ、１５はラン
プ，ブザ−等の警報器、１６は電磁弁駆動部、１７はラ
ンプ駆動部、１８はヒ−タ駆動部、１９は警報器駆動
部、２０は殺菌電圧部である。また、８は圧力検知器、
１１ｂは温度センサ、１１ｃはフロ−トスイッチ、１，
４，６，１０，１２は第１乃至第５電磁弁、５ｃは紫外
線ランプ、１１ａは電熱ヒ−タ、７ｄは電極であり、何
れも先に説明したものである。
【００１６】上記制御部１３は後述する制御プログラム
をメモリに格納しており、運転スイッチの操作信号と、
圧力検知器８，温度センサ１１ｂ及びフロ−トスイッチ
１１ｃの検知信号に基づいて、第１乃至第５電磁弁１，
４，６，１０，１２と、紫外線ランプ５ｃと、電熱ヒ−
タ１１ａと、電極７ｄを夫々制御する。
をメモリに格納しており、運転スイッチの操作信号と、
圧力検知器８，温度センサ１１ｂ及びフロ−トスイッチ
１１ｃの検知信号に基づいて、第１乃至第５電磁弁１，
４，６，１０，１２と、紫外線ランプ５ｃと、電熱ヒ−
タ１１ａと、電極７ｄを夫々制御する。
【００１７】ここで、図３及び図４を参照して図１に示
した浄水装置の動作を説明する。電源投入後は殺菌槽７
内の殺菌筒７ｂに電極７ｄから設定電圧、例えば１Ｖ前
後の電圧が印加され待機状態に入る（図３のＳ１）。こ
の待機状態で運転スイッチ１４がオン操作されると、浄
化槽５内の紫外線ランプ５ｃが点灯され、これと同時に
第１乃至第３電磁弁１，４，６が開放される（図３のＳ
２乃至Ｓ４）。
した浄水装置の動作を説明する。電源投入後は殺菌槽７
内の殺菌筒７ｂに電極７ｄから設定電圧、例えば１Ｖ前
後の電圧が印加され待機状態に入る（図３のＳ１）。こ
の待機状態で運転スイッチ１４がオン操作されると、浄
化槽５内の紫外線ランプ５ｃが点灯され、これと同時に
第１乃至第３電磁弁１，４，６が開放される（図３のＳ
２乃至Ｓ４）。
【００１８】これにより、水道水や地下水等の原水は第
１電磁弁１を通過後、プレフィルタ２で不純物を取り除
かれ、定圧弁３でその圧力を調整された後、第２電磁弁
４を介して浄化槽５内に送り込まれる。浄化槽５内に送
り込まれた水は、吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂを通過す
る過程で臭気の他に次亜塩素酸塩や有機塩素化合物等を
取除かれ、また紫外線照射によって液中の大腸菌やバク
テリア等を死滅されて、第３電磁弁６を介して殺菌槽７
内に送り込まれる。
１電磁弁１を通過後、プレフィルタ２で不純物を取り除
かれ、定圧弁３でその圧力を調整された後、第２電磁弁
４を介して浄化槽５内に送り込まれる。浄化槽５内に送
り込まれた水は、吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂを通過す
る過程で臭気の他に次亜塩素酸塩や有機塩素化合物等を
取除かれ、また紫外線照射によって液中の大腸菌やバク
テリア等を死滅されて、第３電磁弁６を介して殺菌槽７
内に送り込まれる。
【００１９】殺菌槽７内に送り込まれた水は、殺菌筒７
ｂ及び中空糸膜７ｃを外側から中央に向かって通過す
る。殺菌筒７ｂには電極７ｄから電圧が印加されている
ので、殺菌筒７ｂに付着した大腸菌やバクテリア等はそ
の生体代謝を抑制されてその繁殖を停止される。また、
殺菌筒７ｂを通過した大腸菌，バクテリア等や微細な不
純物は中空糸膜７ｃで取り除かれ、圧力検知器８を介し
て蛇口等の給水口に送り込まれる。
ｂ及び中空糸膜７ｃを外側から中央に向かって通過す
る。殺菌筒７ｂには電極７ｄから電圧が印加されている
ので、殺菌筒７ｂに付着した大腸菌やバクテリア等はそ
の生体代謝を抑制されてその繁殖を停止される。また、
殺菌筒７ｂを通過した大腸菌，バクテリア等や微細な不
純物は中空糸膜７ｃで取り除かれ、圧力検知器８を介し
て蛇口等の給水口に送り込まれる。
【００２０】上述の給水中に運転スイッチ１４がオフ操
作されると、浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが消灯さ
れ、これと同時に第１乃至第３電磁弁１，４，６が閉鎖
される（図３のＳ５乃至Ｓ７）。
作されると、浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが消灯さ
れ、これと同時に第１乃至第３電磁弁１，４，６が閉鎖
される（図３のＳ５乃至Ｓ７）。
【００２１】そして、第１電磁弁１と第５電磁弁１２が
開放され、給水管路から分岐管路に流れ込んだ水が第５
電磁弁１２及び逆止弁１３を順に介して温水生成槽１１
に送り込まれる（図４のＳ８）。温水生成槽１１内の水
位が上昇しフロ−トスイッチ１１ｃが上限水位を検知す
ると、第１電磁弁１と第５電磁弁１２が閉鎖され、電熱
ヒ−タ１１ａへの通電が開始される（図４のＳ９乃至Ｓ
１１）。
開放され、給水管路から分岐管路に流れ込んだ水が第５
電磁弁１２及び逆止弁１３を順に介して温水生成槽１１
に送り込まれる（図４のＳ８）。温水生成槽１１内の水
位が上昇しフロ−トスイッチ１１ｃが上限水位を検知す
ると、第１電磁弁１と第５電磁弁１２が閉鎖され、電熱
ヒ−タ１１ａへの通電が開始される（図４のＳ９乃至Ｓ
１１）。
【００２２】電熱ヒ−タ１１ａの加熱により温度センサ
１１ｂで検知される温水生成槽１１内の水温Ｔが設定温
度Ｔｓ、例えば７０℃に上昇すると、電熱ヒ−タ１１ａ
への通電が停止する（図４のＳ１２，Ｓ１３）。そし
て、設定時間ｔｓ、例えば１５秒間だけ第４電磁弁１０
が開放され、且つ浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが点灯
される（図４のＳ１４乃至Ｓ１９）。
１１ｂで検知される温水生成槽１１内の水温Ｔが設定温
度Ｔｓ、例えば７０℃に上昇すると、電熱ヒ−タ１１ａ
への通電が停止する（図４のＳ１２，Ｓ１３）。そし
て、設定時間ｔｓ、例えば１５秒間だけ第４電磁弁１０
が開放され、且つ浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが点灯
される（図４のＳ１４乃至Ｓ１９）。
【００２３】これにより、浄化槽５内の貯留水が第４電
磁弁１０を介してドレン管路９から排出され、この時の
内圧低下により温水生成槽１１内の温水が排出量に比例
して浄化槽５内に送り込まれる。この温水の送り込みに
より吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂに吸着されていた次亜
塩素酸塩や有機塩素化合物が該温水中に脱離し、これら
が触媒層５ｂの触媒に接触し紫外線による光触媒反応に
よって分解する。
磁弁１０を介してドレン管路９から排出され、この時の
内圧低下により温水生成槽１１内の温水が排出量に比例
して浄化槽５内に送り込まれる。この温水の送り込みに
より吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂに吸着されていた次亜
塩素酸塩や有機塩素化合物が該温水中に脱離し、これら
が触媒層５ｂの触媒に接触し紫外線による光触媒反応に
よって分解する。
【００２４】給水停止時に再び運転スイッチ１４がオン
操作された場合には、ステップ３に移行し上記と同様の
給水が行なわれる。また、給水中はその水圧Ｐが圧力検
知器８によって検知されており、該水圧Ｐが規定圧力よ
りも低い設定水圧Ｐｓまで低下した際には、浄化槽５内
の紫外線ランプ５ｃが消灯され（図３のＳ２０，Ｓ２
１）、これと同時に第１乃至第３電磁弁１，４，６が閉
鎖され、そして警報器１５が作動して光や音で警報が発
せられる（図３のＳ２２，Ｓ２３）。
操作された場合には、ステップ３に移行し上記と同様の
給水が行なわれる。また、給水中はその水圧Ｐが圧力検
知器８によって検知されており、該水圧Ｐが規定圧力よ
りも低い設定水圧Ｐｓまで低下した際には、浄化槽５内
の紫外線ランプ５ｃが消灯され（図３のＳ２０，Ｓ２
１）、これと同時に第１乃至第３電磁弁１，４，６が閉
鎖され、そして警報器１５が作動して光や音で警報が発
せられる（図３のＳ２２，Ｓ２３）。
【００２５】上述の浄水装置によれば、給水中に運転ス
イッチ１４がオフ操作されたときに、浄化槽５内の紫外
線ランプ５ｃを点灯させ、また温水生成槽１１から浄化
槽５内に温水を供給することで、吸着剤層５ａ及び触媒
層５ｂに吸着されていた次亜塩素酸塩や有機塩素化合物
を該温水中に脱離させ、これを触媒及び紫外線による光
触媒反応によって分解することができる。
イッチ１４がオフ操作されたときに、浄化槽５内の紫外
線ランプ５ｃを点灯させ、また温水生成槽１１から浄化
槽５内に温水を供給することで、吸着剤層５ａ及び触媒
層５ｂに吸着されていた次亜塩素酸塩や有機塩素化合物
を該温水中に脱離させ、これを触媒及び紫外線による光
触媒反応によって分解することができる。
【００２６】従って、連続給水を行なった後でも次亜塩
素酸塩や有機塩素化合物が分解されないまま残留するよ
うなことがなく、これらの分解を確実に行なって吸着剤
層５ａ及び触媒層５ｂの吸着能力を回復させ、所期の吸
着作用を発揮させることができる。
素酸塩や有機塩素化合物が分解されないまま残留するよ
うなことがなく、これらの分解を確実に行なって吸着剤
層５ａ及び触媒層５ｂの吸着能力を回復させ、所期の吸
着作用を発揮させることができる。
【００２７】また、浄化槽５内に送り込まれる温水の温
度を温水生成槽１１で管理できるので、上記の脱離を適
切に、且つ効率よく行なえる。
度を温水生成槽１１で管理できるので、上記の脱離を適
切に、且つ効率よく行なえる。
【００２８】さらに、浄化槽５内への温水の供給を該浄
化槽５内の貯留水がドレン管路９から排出される際の内
圧低下に基づいて行なっているので、温水供給のために
ポンプ等の手段を必要としない。
化槽５内の貯留水がドレン管路９から排出される際の内
圧低下に基づいて行なっているので、温水供給のために
ポンプ等の手段を必要としない。
【００２９】さらにまた、給水圧が異常に低下した際に
は警報を発し浄化装置の作動を停止できるので、目詰り
等を的確に把握でき、また浄化槽５及び殺菌槽７等の故
障を未然に防止できる。
は警報を発し浄化装置の作動を停止できるので、目詰り
等を的確に把握でき、また浄化槽５及び殺菌槽７等の故
障を未然に防止できる。
【００３０】さらにまた、殺菌槽７内の殺菌筒７ｂに設
定電圧を常時印加するようにしているので、給水時は勿
論のこと給水停止時にも殺菌作用を発揮させて殺菌を確
実に行なえる。
定電圧を常時印加するようにしているので、給水時は勿
論のこと給水停止時にも殺菌作用を発揮させて殺菌を確
実に行なえる。
【００３１】図５乃至図８は本発明の他の実施例を示す
もので、図５は浄水装置の構成図、図６は制御回路図、
図７及び図８は浄水制御のフロ−チャ−トである。
もので、図５は浄水装置の構成図、図６は制御回路図、
図７及び図８は浄水制御のフロ−チャ−トである。
【００３２】上記実施例とは図５において、第２電磁弁
４と第４電磁弁１０を３方切換えの切換電磁弁２１で兼
用させ、出口の１つにドレン管路２２を接続した点と、
温水生成槽１１からフロ−トスイッチ１１ｃを排除した
点と、温水生成槽１１内にミネラル溶出器２２を配置し
た点で異なる。ミネラル溶出器２２は、多孔質ケ−ス内
にコ−ラルサンド等のミネラル溶出物質を収容して構成
されている。
４と第４電磁弁１０を３方切換えの切換電磁弁２１で兼
用させ、出口の１つにドレン管路２２を接続した点と、
温水生成槽１１からフロ−トスイッチ１１ｃを排除した
点と、温水生成槽１１内にミネラル溶出器２２を配置し
た点で異なる。ミネラル溶出器２２は、多孔質ケ−ス内
にコ−ラルサンド等のミネラル溶出物質を収容して構成
されている。
【００３３】また、図６において、フロ−トスイッチ１
１ｃを排除した点と、切換電磁弁２１専用の駆動部２３
を設けた点と、制御部１３のメモリに格納される制御プ
ログラムを変更した点で異なる。
１ｃを排除した点と、切換電磁弁２１専用の駆動部２３
を設けた点と、制御部１３のメモリに格納される制御プ
ログラムを変更した点で異なる。
【００３４】ここで、図７及び図８を参照して図５に示
した浄水装置の動作を説明する。電源投入後は殺菌槽７
内の殺菌筒７ｂに電極７ｄから設定電圧、例えば１Ｖ前
後の電圧が印加して待機状態に入る（図７のＳＴ１）。
この待機状態で運転スイッチ１４がオン操作されると、
浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが点灯され、これと同時
に第１，第３，第５電磁弁１，６，１２が開放され、電
磁弁２１が浄化槽５側に切換えられる（図７のＳＴ２乃
至ＳＴ５）。
した浄水装置の動作を説明する。電源投入後は殺菌槽７
内の殺菌筒７ｂに電極７ｄから設定電圧、例えば１Ｖ前
後の電圧が印加して待機状態に入る（図７のＳＴ１）。
この待機状態で運転スイッチ１４がオン操作されると、
浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが点灯され、これと同時
に第１，第３，第５電磁弁１，６，１２が開放され、電
磁弁２１が浄化槽５側に切換えられる（図７のＳＴ２乃
至ＳＴ５）。
【００３５】これにより、水道水や地下水等の原水は第
１電磁弁１を通過後、プレフィルタ２で不純物を取り除
かれ、定圧弁３でその圧力を調整された後、切換電磁弁
２１を介して浄化槽５内に送り込まれる。浄化槽５内に
送り込まれた水は、吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂを通過
する過程で臭気の他に次亜塩素酸塩や有機塩素化合物等
を取除かれ、また紫外線照射によって液中の大腸菌やバ
クテリア等を死滅される。
１電磁弁１を通過後、プレフィルタ２で不純物を取り除
かれ、定圧弁３でその圧力を調整された後、切換電磁弁
２１を介して浄化槽５内に送り込まれる。浄化槽５内に
送り込まれた水は、吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂを通過
する過程で臭気の他に次亜塩素酸塩や有機塩素化合物等
を取除かれ、また紫外線照射によって液中の大腸菌やバ
クテリア等を死滅される。
【００３６】一方、給水管路から分岐管路に分流した水
は、第５電磁弁１２及び逆止弁１３を順に介して温水生
成槽１１に送り込まれ、ミネラル溶出器２２から溶出す
るミネラル分を混合されて浄化槽５内の上部に送り込ま
れる。つまり、浄化槽５からは臭気等を取り除かれ、且
つミネラル分が含有された水が第３電磁弁６を介して殺
菌槽７内に送り込まれる。
は、第５電磁弁１２及び逆止弁１３を順に介して温水生
成槽１１に送り込まれ、ミネラル溶出器２２から溶出す
るミネラル分を混合されて浄化槽５内の上部に送り込ま
れる。つまり、浄化槽５からは臭気等を取り除かれ、且
つミネラル分が含有された水が第３電磁弁６を介して殺
菌槽７内に送り込まれる。
【００３７】殺菌槽７内に送り込まれた水は、殺菌筒７
ｂ及び中空糸膜７ｃを外側から中央に向かって通過す
る。殺菌筒７ｂには電極７ｄから電圧が印加されている
ので、殺菌筒７ｂに付着した大腸菌やバクテリア等はそ
の生体代謝を抑制されてその繁殖を停止される。また、
殺菌筒７ｂを通過した大腸菌，バクテリア等や微細な不
純物は中空糸膜７ｃで取り除かれ、圧力検知器８を介し
て蛇口等の給水口に送り込まれる。
ｂ及び中空糸膜７ｃを外側から中央に向かって通過す
る。殺菌筒７ｂには電極７ｄから電圧が印加されている
ので、殺菌筒７ｂに付着した大腸菌やバクテリア等はそ
の生体代謝を抑制されてその繁殖を停止される。また、
殺菌筒７ｂを通過した大腸菌，バクテリア等や微細な不
純物は中空糸膜７ｃで取り除かれ、圧力検知器８を介し
て蛇口等の給水口に送り込まれる。
【００３８】上述の給水中に運転スイッチ１４がオフ操
作されると、浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが消灯さ
れ、これと同時に第１，第３，第５電磁弁１，６，１２
が閉鎖され、電熱ヒ−タ１１ａへの通電が開始される
（図７のＳＴ６乃至ＳＴ９）。
作されると、浄化槽５内の紫外線ランプ５ｃが消灯さ
れ、これと同時に第１，第３，第５電磁弁１，６，１２
が閉鎖され、電熱ヒ−タ１１ａへの通電が開始される
（図７のＳＴ６乃至ＳＴ９）。
【００３９】電熱ヒ−タ１１ａの加熱により温度センサ
１１ｂで検知される温水生成槽１１内の水温Ｔが設定温
度Ｔｓ、例えば７０℃に上昇すると、電熱ヒ−タ１１ａ
への通電が停止する（図８のＳＴ１０，ＳＴ１１）。そ
して、設定時間ｔｓ、例えば１５秒間だけ切換電磁弁２
１がドレン管路２２側に切換えられ、且つ浄化槽５内の
紫外線ランプ５ｃが点灯される（図８のＳＴ１２乃至Ｓ
Ｔ１７）。
１１ｂで検知される温水生成槽１１内の水温Ｔが設定温
度Ｔｓ、例えば７０℃に上昇すると、電熱ヒ−タ１１ａ
への通電が停止する（図８のＳＴ１０，ＳＴ１１）。そ
して、設定時間ｔｓ、例えば１５秒間だけ切換電磁弁２
１がドレン管路２２側に切換えられ、且つ浄化槽５内の
紫外線ランプ５ｃが点灯される（図８のＳＴ１２乃至Ｓ
Ｔ１７）。
【００４０】これにより、浄化槽５内の貯留水が切換電
磁弁２１を介してドレン管路２２から排出され、この時
の内圧低下により温水生成槽１１内の温水が排出量に比
例して浄化槽５内に送り込まれる。この温水の送り込み
により吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂに吸着されていた次
亜塩素酸塩や有機塩素化合物が該温水中に脱離し、これ
らが触媒層５ｂの触媒に接触し紫外線による光触媒反応
によって分解する。
磁弁２１を介してドレン管路２２から排出され、この時
の内圧低下により温水生成槽１１内の温水が排出量に比
例して浄化槽５内に送り込まれる。この温水の送り込み
により吸着剤層５ａ及び触媒層５ｂに吸着されていた次
亜塩素酸塩や有機塩素化合物が該温水中に脱離し、これ
らが触媒層５ｂの触媒に接触し紫外線による光触媒反応
によって分解する。
【００４１】給水停止時に再び運転スイッチ１４がオン
操作された場合には、ステップ３に移行し上記と同様の
給水が行なわれる。また、給水中はその水圧Ｐが圧力検
知器８によって検知されており、該水圧Ｐが規定圧力よ
りも低い設定水圧Ｐｓまで低下した際には、浄化槽５内
の紫外線ランプ５ｃが消灯され（図７のＳＴ１８，ＳＴ
１９）、これと同時に第１乃至第３電磁弁１，４，６が
閉鎖され、そして警報器１５が作動して光や音で警報が
発せられる（図７のＳＴ２０，Ｓ２１）。
操作された場合には、ステップ３に移行し上記と同様の
給水が行なわれる。また、給水中はその水圧Ｐが圧力検
知器８によって検知されており、該水圧Ｐが規定圧力よ
りも低い設定水圧Ｐｓまで低下した際には、浄化槽５内
の紫外線ランプ５ｃが消灯され（図７のＳＴ１８，ＳＴ
１９）、これと同時に第１乃至第３電磁弁１，４，６が
閉鎖され、そして警報器１５が作動して光や音で警報が
発せられる（図７のＳＴ２０，Ｓ２１）。
【００４２】上述の浄水装置によれば、給水時に浄化槽
５に送り込まれる水の一部を分岐管路を通じて温水生成
槽１１に送り込み、ここでミネラル分を混合させて浄化
槽５内に合流できるので、給水時に使用されない温水生
成槽１１をミネラル供給槽として利用して、ミネラル分
を混合した水を給水できる利点がある。他の作用，効果
は上記実施例と同様である。
５に送り込まれる水の一部を分岐管路を通じて温水生成
槽１１に送り込み、ここでミネラル分を混合させて浄化
槽５内に合流できるので、給水時に使用されない温水生
成槽１１をミネラル供給槽として利用して、ミネラル分
を混合した水を給水できる利点がある。他の作用，効果
は上記実施例と同様である。
【００４３】尚、各実施例では、浄化槽内への温水の供
給を該浄化槽内の貯留水がドレン管路から排出される際
の内圧低下に基づいて行なうようにしたものを示した
が、温水生成槽の出口側にポンプを介装して該ポンプを
利用して強制的に温水供給を行なうようにしてもよい。
給を該浄化槽内の貯留水がドレン管路から排出される際
の内圧低下に基づいて行なうようにしたものを示した
が、温水生成槽の出口側にポンプを介装して該ポンプを
利用して強制的に温水供給を行なうようにしてもよい。
【００４４】また、触媒層の一部を吸着剤で形成したも
のを示したが、該触媒層を触媒のみで形成してもよく、
図示例以外の形状のもので代用してもよい。
のを示したが、該触媒層を触媒のみで形成してもよく、
図示例以外の形状のもので代用してもよい。
【００４５】さらに、紫外線ランプは紫外線を照射可能
な他の光源で代用してもよく、また温水生成槽の電熱ヒ
−タは槽内に配置されていてもよい。
な他の光源で代用してもよく、また温水生成槽の電熱ヒ
−タは槽内に配置されていてもよい。
【００４６】さらにまた、給水時に紫外線ランプを継続
して点灯させるようにしたものを示したが、該給水時に
おける紫外線ランプの点灯を所定時間毎に決められた時
間だけ繰り返し行なうようにしてもよく、また実施例の
ように殺菌槽が別にある場合には給水時に消灯しておい
てもよい。
して点灯させるようにしたものを示したが、該給水時に
おける紫外線ランプの点灯を所定時間毎に決められた時
間だけ繰り返し行なうようにしてもよく、また実施例の
ように殺菌槽が別にある場合には給水時に消灯しておい
てもよい。
【００４７】さらにまた、吸着能力の回復に係わる動作
は給水停止時間が長い場合に所定時間毎に繰り返し行な
うようにしてもよく、また吸着能力に回復に係わる電磁
弁等の操作を必要に応じて手動で行なえるようにしても
よい。
は給水停止時間が長い場合に所定時間毎に繰り返し行な
うようにしてもよく、また吸着能力に回復に係わる電磁
弁等の操作を必要に応じて手動で行なえるようにしても
よい。
【００４８】さらにまた、殺菌槽の殺菌筒に常時電圧を
印加して殺菌を行なうようにしたものを示したが、該殺
菌電圧の印加は給水停止時のみ行なうようにしてもよ
い。
印加して殺菌を行なうようにしたものを示したが、該殺
菌電圧の印加は給水停止時のみ行なうようにしてもよ
い。
【００４９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
温水生成槽から浄化槽内に温水を供給し、且つ光源を点
灯させることで、吸着剤層に吸着されていた次亜塩素酸
塩や有機塩素化合物を該温水中に脱離させ、これを触媒
及び紫外線による光触媒反応によって分解することがで
きるので、連続給水を行なった後でも次亜塩素酸塩や有
機塩素化合物が分解されないまま残留するようなことが
なく、これらの分解を確実に行なって吸着剤層の吸着能
力を回復させ、所期の吸着作用を発揮させることができ
る。
温水生成槽から浄化槽内に温水を供給し、且つ光源を点
灯させることで、吸着剤層に吸着されていた次亜塩素酸
塩や有機塩素化合物を該温水中に脱離させ、これを触媒
及び紫外線による光触媒反応によって分解することがで
きるので、連続給水を行なった後でも次亜塩素酸塩や有
機塩素化合物が分解されないまま残留するようなことが
なく、これらの分解を確実に行なって吸着剤層の吸着能
力を回復させ、所期の吸着作用を発揮させることができ
る。
【図１】本発明の一実施例を示す浄水装置の構成図
【図２】制御回路図
【図３】浄水制御のフロ−チャ−ト
【図４】浄水制御のフロ−チャ−ト
【図５】本発明の他の実施例を示す浄水装置の構成図
【図６】制御回路図
【図７】浄水制御のフロ−チャ−ト
【図８】浄水制御のフロ−チャ−ト
５…浄化槽、５ａ…吸着剤層、５ｂ…触媒層、５ｃ…紫
外線ランプ、１１…温水生成槽、１１ａ…電熱ヒ−タ。
外線ランプ、１１…温水生成槽、１１ａ…電熱ヒ−タ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０２Ｆ 1/44 Ｈ 8014−4Ｄ 9/00 Ｚ 7446−4Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】 活性炭等から成る吸着剤層を少なくとも
内蔵する浄化槽を具備した浄水装置において、 白金族系酸化物及び酸化物系セラミックスを主成分とす
る触媒層と、紫外線を照射可能な光源を浄化槽内に配置
すると共に、 所定温度の温水を生成する温水生成槽を浄化槽に接続し
た、 ことを特徴とする浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14950792A JP3215715B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 浄水装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14950792A JP3215715B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 浄水装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337460A true JPH05337460A (ja) | 1993-12-21 |
| JP3215715B2 JP3215715B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=15476657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14950792A Expired - Fee Related JP3215715B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 浄水装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3215715B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996000190A1 (en) * | 1994-06-27 | 1996-01-04 | Ronald William Arthur | Method and apparatus for photocatalytic oxidation of water-borne chemical species |
| JP2009518176A (ja) * | 2005-12-12 | 2009-05-07 | ニコライ，ライオネル | 給水用ウイルスろ過・除去システム |
| CN102701546A (zh) * | 2012-07-02 | 2012-10-03 | 苏州大学 | 用于废/污水处理的光反应器和废/污水处理一体化装置 |
| WO2014034009A1 (ja) * | 2012-08-30 | 2014-03-06 | パナソニック株式会社 | 電解水生成装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100868698B1 (ko) | 2007-01-23 | 2008-11-13 | 주식회사 건양기술공사 건축사사무소 | 세라믹필터와 자외선램프를 이용한 여과장치 |
-
1992
- 1992-06-09 JP JP14950792A patent/JP3215715B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996000190A1 (en) * | 1994-06-27 | 1996-01-04 | Ronald William Arthur | Method and apparatus for photocatalytic oxidation of water-borne chemical species |
| JP2009518176A (ja) * | 2005-12-12 | 2009-05-07 | ニコライ，ライオネル | 給水用ウイルスろ過・除去システム |
| CN102701546A (zh) * | 2012-07-02 | 2012-10-03 | 苏州大学 | 用于废/污水处理的光反应器和废/污水处理一体化装置 |
| WO2014034009A1 (ja) * | 2012-08-30 | 2014-03-06 | パナソニック株式会社 | 電解水生成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3215715B2 (ja) | 2001-10-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |