JPH05335219A - 電子ビーム露光方法及び装置 - Google Patents
電子ビーム露光方法及び装置Info
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- JPH05335219A JPH05335219A JP4137330A JP13733092A JPH05335219A JP H05335219 A JPH05335219 A JP H05335219A JP 4137330 A JP4137330 A JP 4137330A JP 13733092 A JP13733092 A JP 13733092A JP H05335219 A JPH05335219 A JP H05335219A
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- electromagnetic
- cooling
- cooling medium
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビームＥＢを集束させる電磁レンズ１の
ポールピース１ｃの内側に、電子ビームＥＢを偏向させ
る電磁偏向コイル４を配置して行う電子ビーム露光に関
し、電子ビームＥＢの位置ドリフトを低減させるため
に、電磁偏向コイル４側からの熱輻射線Ｒがポールピー
ス１ｃの温度分布を変動させないようにすることを目的
とする。 【構成】 ポールピース１ｃと電磁偏向コイル４との間
に、電磁偏向コイル４を包囲して電磁偏向コイル４側か
らの熱輻射線Ｒを遮断する絶縁体の隔壁９と、冷却媒体
１１を用いて隔壁９の外周面全域を冷却する冷却機構１
０とを設け、冷却機構１０に温度及び流量が一定の冷却
媒体１１を供給するように構成する。冷却機構１０は、
冷却媒体１１の通路を隔壁９の外周面全域に巻き付けた
絶縁体の冷却管１２で構成する。
ポールピース１ｃの内側に、電子ビームＥＢを偏向させ
る電磁偏向コイル４を配置して行う電子ビーム露光に関
し、電子ビームＥＢの位置ドリフトを低減させるため
に、電磁偏向コイル４側からの熱輻射線Ｒがポールピー
ス１ｃの温度分布を変動させないようにすることを目的
とする。 【構成】 ポールピース１ｃと電磁偏向コイル４との間
に、電磁偏向コイル４を包囲して電磁偏向コイル４側か
らの熱輻射線Ｒを遮断する絶縁体の隔壁９と、冷却媒体
１１を用いて隔壁９の外周面全域を冷却する冷却機構１
０とを設け、冷却機構１０に温度及び流量が一定の冷却
媒体１１を供給するように構成する。冷却機構１０は、
冷却媒体１１の通路を隔壁９の外周面全域に巻き付けた
絶縁体の冷却管１２で構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム露光方法及
び装置に係り、特に、電子ビームを集束させる電磁レン
ズのポールピースの内側に、該電子ビームを偏向させる
電磁偏向コイルを配置して行う電子ビーム露光に関す
る。
び装置に係り、特に、電子ビームを集束させる電磁レン
ズのポールピースの内側に、該電子ビームを偏向させる
電磁偏向コイルを配置して行う電子ビーム露光に関す
る。
【０００２】近年、半導体装置の高集積化に伴い、微細
パターンを露光する電子ビーム露光は、高分解能を実現
するため開口数を大きくする短焦点化が望まれ、電子ビ
ームを集束させる電磁レンズのポールピースの内側に、
該電子ビームを偏向させる電磁偏向コイルを配置したコ
ラム構成とするようになってきた。
パターンを露光する電子ビーム露光は、高分解能を実現
するため開口数を大きくする短焦点化が望まれ、電子ビ
ームを集束させる電磁レンズのポールピースの内側に、
該電子ビームを偏向させる電磁偏向コイルを配置したコ
ラム構成とするようになってきた。
【０００３】このコラム構成では、短焦点化により電磁
偏向コイルの偏向能率が劣化するため、電磁偏向コイル
の電流変化を大きくする必要がある。それに伴い、電磁
偏向コイルの発熱の変化が増大して電磁偏向コイルの部
分や上記ポールピースの温度を一定に保ち難くなり、電
子ビームの位置ドリフトが大きくなるので、この位置ド
リフトを小さくする工夫が必要である。
偏向コイルの偏向能率が劣化するため、電磁偏向コイル
の電流変化を大きくする必要がある。それに伴い、電磁
偏向コイルの発熱の変化が増大して電磁偏向コイルの部
分や上記ポールピースの温度を一定に保ち難くなり、電
子ビームの位置ドリフトが大きくなるので、この位置ド
リフトを小さくする工夫が必要である。
【０００４】本発明は、この位置ドリフトを小さくする
方策の一環として、特に上記ポールピースの温度の一定
化を図ろうとするものである。
方策の一環として、特に上記ポールピースの温度の一定
化を図ろうとするものである。
【０００５】
【従来の技術】上述した位置ドリフトを小さくする方策
に関して、本発明者らは、先に特願平４−００４１９５
号により提案を出した。その要点は、電磁偏向コイルの
近傍に熱源を配置し、電磁偏向コイルに流す電流によっ
て発生する熱の変化を前記熱源の発生する熱の変化によ
って補償して、両者の発生する熱の和が常に一定となる
ようにし、電磁偏向コイルの部分や電磁レンズポールピ
ースの温度の一定化を図るものである。
に関して、本発明者らは、先に特願平４−００４１９５
号により提案を出した。その要点は、電磁偏向コイルの
近傍に熱源を配置し、電磁偏向コイルに流す電流によっ
て発生する熱の変化を前記熱源の発生する熱の変化によ
って補償して、両者の発生する熱の和が常に一定となる
ようにし、電磁偏向コイルの部分や電磁レンズポールピ
ースの温度の一定化を図るものである。
【０００６】図４は上記提案を折り込んだ従来例による
コラム構成の断面図である。同図において、光軸Ｏに沿
って上方から入射する電子ビームＥＢを下方の試料ウエ
ーハＷ上に集束させる電磁レンズ１は、光軸Ｏを中心に
したリング状をなし、電磁レンズコイル１ａとそれを囲
む鉄のヨーク１ｂとその先端に結合して光軸Ｏに対向す
るフエライトのポールピース１ｃとを有している。電磁
レンズコイル１ａの発熱が約５０Ｗであるで、ヨーク１
ｂの外周や内部及びポールピース１ｃの内部などを通し
た冷却管２を配置し、その冷却管２に冷却媒体となる水
３を流して電磁レンズ１を冷却する。その際、水３の供
給温度と流量を一定にして電磁レンズ１の温度が変動し
ないようにする。
コラム構成の断面図である。同図において、光軸Ｏに沿
って上方から入射する電子ビームＥＢを下方の試料ウエ
ーハＷ上に集束させる電磁レンズ１は、光軸Ｏを中心に
したリング状をなし、電磁レンズコイル１ａとそれを囲
む鉄のヨーク１ｂとその先端に結合して光軸Ｏに対向す
るフエライトのポールピース１ｃとを有している。電磁
レンズコイル１ａの発熱が約５０Ｗであるで、ヨーク１
ｂの外周や内部及びポールピース１ｃの内部などを通し
た冷却管２を配置し、その冷却管２に冷却媒体となる水
３を流して電磁レンズ１を冷却する。その際、水３の供
給温度と流量を一定にして電磁レンズ１の温度が変動し
ないようにする。
【０００７】上記電子ビームＥＢを偏向させる電磁偏向
コイル４は、Ｘ方向偏向用のコイル（内側の３組）とＹ
方向偏向用のコイル（外側の３組）とを含み、石英ガラ
ス製で２重構造になるコイル支持部５ａ，５ｂの間隙内
に支持されて全体としてポールピース１ｃの内側に配置
されている。電磁偏向コイル４の発熱は、露光で行う最
大偏向時に約１２Ｗである。なお、コイル支持部５ａの
内側には微小偏向用の静電偏向電極６が配置されている
が、これは発熱に関係ないものである。
コイル４は、Ｘ方向偏向用のコイル（内側の３組）とＹ
方向偏向用のコイル（外側の３組）とを含み、石英ガラ
ス製で２重構造になるコイル支持部５ａ，５ｂの間隙内
に支持されて全体としてポールピース１ｃの内側に配置
されている。電磁偏向コイル４の発熱は、露光で行う最
大偏向時に約１２Ｗである。なお、コイル支持部５ａの
内側には微小偏向用の静電偏向電極６が配置されている
が、これは発熱に関係ないものである。
【０００８】コイル支持部５ａ，５ｂの間隙内には、電
磁偏向コイル４の近傍に発熱体７（特願平４−００４１
９５号で提案した熱源）を配置してある。発熱体７は、
インダクタンスを持たない電気抵抗であって２組に分け
てあり、２組のそれぞれが個別に発熱を制御できるき
る。そして、発熱体７の発熱は、電磁偏向コイル４の発
熱の変化を補償して、両者の発熱の和が常に一定となる
ようにうに制御する。この両者の発熱の和が１５Ｗ程度
となるので、コイル支持部５ａ，５ｂの間隙内に冷却媒
体となる空気８を供給して電磁偏向コイル４，発熱体６
及びその近傍を冷却する。その際、空気８の供給温度と
流量を一定にして冷却部分の温度が変動しないようにす
る。
磁偏向コイル４の近傍に発熱体７（特願平４−００４１
９５号で提案した熱源）を配置してある。発熱体７は、
インダクタンスを持たない電気抵抗であって２組に分け
てあり、２組のそれぞれが個別に発熱を制御できるき
る。そして、発熱体７の発熱は、電磁偏向コイル４の発
熱の変化を補償して、両者の発熱の和が常に一定となる
ようにうに制御する。この両者の発熱の和が１５Ｗ程度
となるので、コイル支持部５ａ，５ｂの間隙内に冷却媒
体となる空気８を供給して電磁偏向コイル４，発熱体６
及びその近傍を冷却する。その際、空気８の供給温度と
流量を一定にして冷却部分の温度が変動しないようにす
る。
【０００９】図５は上述した従来例によるオフセットド
リフト特性図である。同図において、条件Ａ，Ｂの曲線
は、偏向制御により電子ビームＥＢの集束点を他から図
の座標原点に瞬時に移動させて偏向制御を固定した際
に、その移動後に経時的に生ずる集束点の座標原点から
のずれ（オフセットドリフト）を示し、経過時間が１分
〜４分のところにそれぞれ〜を添書してある。条件
ＡとＢの差は、発熱体７の２組に分けたそれぞれへの発
熱配分の相違によるものであり、条件Ａの方が優れてい
る。そのドリフトは０．１〜０．１５μm 程度であり発
熱体５を設けない場合の半分以下となっている。
リフト特性図である。同図において、条件Ａ，Ｂの曲線
は、偏向制御により電子ビームＥＢの集束点を他から図
の座標原点に瞬時に移動させて偏向制御を固定した際
に、その移動後に経時的に生ずる集束点の座標原点から
のずれ（オフセットドリフト）を示し、経過時間が１分
〜４分のところにそれぞれ〜を添書してある。条件
ＡとＢの差は、発熱体７の２組に分けたそれぞれへの発
熱配分の相違によるものであり、条件Ａの方が優れてい
る。そのドリフトは０．１〜０．１５μm 程度であり発
熱体５を設けない場合の半分以下となっている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高度に
微細化されたパターンの露光の場合には、上記ドリフト
を更に小さくすることが望まれる。
微細化されたパターンの露光の場合には、上記ドリフト
を更に小さくすることが望まれる。
【００１１】上述した０．１〜０．１５μm 程度のドリ
フトが生ずる原因を検討したところ、ａ）電磁偏向コイ
ル４と発熱体７からの熱輻射線がコイル支持部５ｂを透
過してポールピース１ｃを加熱している、ｂ）電磁偏向
コイル４と発熱体７は配設位置が異なる、ｃ）電磁偏向
コイル４と発熱体７の発熱変化が互いに大小逆の関係に
ある、ことにより、上記熱輻射線によるポールピース１
ｃの加熱度合いが偏向制御に伴い局部的に変化して、ボ
ールピース１ｃの温度分布が変動することに起因すると
判断された。
フトが生ずる原因を検討したところ、ａ）電磁偏向コイ
ル４と発熱体７からの熱輻射線がコイル支持部５ｂを透
過してポールピース１ｃを加熱している、ｂ）電磁偏向
コイル４と発熱体７は配設位置が異なる、ｃ）電磁偏向
コイル４と発熱体７の発熱変化が互いに大小逆の関係に
ある、ことにより、上記熱輻射線によるポールピース１
ｃの加熱度合いが偏向制御に伴い局部的に変化して、ボ
ールピース１ｃの温度分布が変動することに起因すると
判断された。
【００１２】そこで本発明は、電子ビームを集束させる
電磁レンズのポールピースの内側に、該電子ビームを偏
向させる電磁偏向コイルを配置して行う電子ビーム露光
に関し、電子ビームの位置ドリフトを低減させるため
に、電磁偏向コイル側からの熱輻射線が上記ポールピー
スの温度分布を変動させないようにする電子ビーム露光
方法及び装置の提供を目的とする。
電磁レンズのポールピースの内側に、該電子ビームを偏
向させる電磁偏向コイルを配置して行う電子ビーム露光
に関し、電子ビームの位置ドリフトを低減させるため
に、電磁偏向コイル側からの熱輻射線が上記ポールピー
スの温度分布を変動させないようにする電子ビーム露光
方法及び装置の提供を目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の原理説明図である図１を参照して、本発明
による電子ビーム露光方法は、電子ビームＥＢを集束さ
せる電磁レンズ１のポールピース１ｃの内側に、電子ビ
ームＥＢを偏向させる電磁偏向コイル４を配置して行う
電子ビーム露光方法であって、ポールピース１ｃと電磁
偏向コイル４との間に、電磁偏向コイル４を包囲して電
磁偏向コイル４からの熱輻射線Ｒを遮断する絶縁体の隔
壁９と、冷却媒体１１を用いて隔壁９の外周面全域を冷
却する冷却機構１０とを設け、冷却機構１０に温度及び
流量が一定の冷却媒体１１を供給することを特徴として
いる。
に、本発明の原理説明図である図１を参照して、本発明
による電子ビーム露光方法は、電子ビームＥＢを集束さ
せる電磁レンズ１のポールピース１ｃの内側に、電子ビ
ームＥＢを偏向させる電磁偏向コイル４を配置して行う
電子ビーム露光方法であって、ポールピース１ｃと電磁
偏向コイル４との間に、電磁偏向コイル４を包囲して電
磁偏向コイル４からの熱輻射線Ｒを遮断する絶縁体の隔
壁９と、冷却媒体１１を用いて隔壁９の外周面全域を冷
却する冷却機構１０とを設け、冷却機構１０に温度及び
流量が一定の冷却媒体１１を供給することを特徴として
いる。
【００１４】その際、冷却機構１０は、冷却媒体１１の
通路を隔壁９の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却管
１２で構成することが望ましく、また、温度及び流量が
一定の冷却媒体により電磁レンズ１を冷却する場合に
は、電磁レンズ１を冷却した後の冷却媒体を冷却媒体１
１として冷却機構１０に供給しても良い。
通路を隔壁９の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却管
１２で構成することが望ましく、また、温度及び流量が
一定の冷却媒体により電磁レンズ１を冷却する場合に
は、電磁レンズ１を冷却した後の冷却媒体を冷却媒体１
１として冷却機構１０に供給しても良い。
【００１５】そして、電子ビーム露光装置は、電子ビー
ムＥＢを集束させる電磁レンズ１と、電磁レンズ１のポ
ールピース１ｃの内側に配置されて電子ビームＥＢを偏
向させる電磁偏向コイル４とを有し、ポールピース１ｃ
と電磁偏向コイル４との間に、電磁偏向コイル４を包囲
して電磁偏向コイル４からの熱輻射線Ｒを遮断する絶縁
体の隔壁９と、冷却媒体１１を用いて隔壁９の外周面全
域を冷却する冷却機構１０とを設けてあり、冷却機構１
０に温度及び流量が一定の冷却媒体１１を供給するよう
にしたことを特徴としている。
ムＥＢを集束させる電磁レンズ１と、電磁レンズ１のポ
ールピース１ｃの内側に配置されて電子ビームＥＢを偏
向させる電磁偏向コイル４とを有し、ポールピース１ｃ
と電磁偏向コイル４との間に、電磁偏向コイル４を包囲
して電磁偏向コイル４からの熱輻射線Ｒを遮断する絶縁
体の隔壁９と、冷却媒体１１を用いて隔壁９の外周面全
域を冷却する冷却機構１０とを設けてあり、冷却機構１
０に温度及び流量が一定の冷却媒体１１を供給するよう
にしたことを特徴としている。
【００１６】その場合、冷却機構１０は、冷却媒体１１
の通路が隔壁９の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却
管１２で構成されることが望ましい。
の通路が隔壁９の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却
管１２で構成されることが望ましい。
【００１７】
【作用】電磁偏向コイル４からの熱輻射線Ｒは隔壁９に
より遮断されてポールピース１ｃに達しなくなる。然
し、従来例で説明したポールピース１ｃにおける温度分
布の変動と同様な温度分布の変動が隔壁９に生じて、隔
壁９からの熱輻射線がポールピース１ｃの温度分布を変
動させる恐れがある。この点に対しては、温度及び流量
が一定の冷却媒体１１を供給する冷却機構１０が隔壁９
の外周面全域を冷却するので、隔壁９の外周面は温度分
布の変動が緩和されて、ポールピース１ｃの温度分布を
変動させないようになる。従って、電子ビームＥＢの位
置ドリフトを低減させることができる。隔壁９を絶縁体
にするのは、電磁偏向コイル４による偏向磁場を擾乱さ
せる渦電流が隔壁９に生じないようにするためである。
より遮断されてポールピース１ｃに達しなくなる。然
し、従来例で説明したポールピース１ｃにおける温度分
布の変動と同様な温度分布の変動が隔壁９に生じて、隔
壁９からの熱輻射線がポールピース１ｃの温度分布を変
動させる恐れがある。この点に対しては、温度及び流量
が一定の冷却媒体１１を供給する冷却機構１０が隔壁９
の外周面全域を冷却するので、隔壁９の外周面は温度分
布の変動が緩和されて、ポールピース１ｃの温度分布を
変動させないようになる。従って、電子ビームＥＢの位
置ドリフトを低減させることができる。隔壁９を絶縁体
にするのは、電磁偏向コイル４による偏向磁場を擾乱さ
せる渦電流が隔壁９に生じないようにするためである。
【００１８】冷却機構１０は、上記冷却管１２で構成す
ることにより隔壁９の外周面に均一な冷却効果を与える
ことができる。冷却管１２を絶縁体にするのは、隔壁９
を絶縁体にするのと同じ理由である。また、上記のよう
に冷却媒体により電磁レンズ１を冷却する場合は、電磁
レンズ１を冷却した後の冷却媒体が温度も流量も一定で
あるので、その冷却媒体を冷却媒体１１として利用して
も一向に支障ない。
ることにより隔壁９の外周面に均一な冷却効果を与える
ことができる。冷却管１２を絶縁体にするのは、隔壁９
を絶縁体にするのと同じ理由である。また、上記のよう
に冷却媒体により電磁レンズ１を冷却する場合は、電磁
レンズ１を冷却した後の冷却媒体が温度も流量も一定で
あるので、その冷却媒体を冷却媒体１１として利用して
も一向に支障ない。
【００１９】
【実施例】以下本発明の実施例について図２及び図３を
用いて説明する。図２は実施例によるコラム構成の断面
図、図３は実施例によるオフセットドリフト特性図、で
あり、全図を通し同一符号は同一対象物を示す。
用いて説明する。図２は実施例によるコラム構成の断面
図、図３は実施例によるオフセットドリフト特性図、で
あり、全図を通し同一符号は同一対象物を示す。
【００２０】図２において、このコラム構成は、図４で
説明した従来例のコラム構成の一部を変更したものであ
り、図４のコラム構成からコイル支持部５ｂが隔壁９に
変わって冷却機構１０が付加されている。
説明した従来例のコラム構成の一部を変更したものであ
り、図４のコラム構成からコイル支持部５ｂが隔壁９に
変わって冷却機構１０が付加されている。
【００２１】隔壁９は、コイル支持部５ｂと同様な構造
であり、コイル支持部５ａと一緒になって電磁偏向コイ
ル４及び発熱体７を支持すると共に空気８の通路を構成
するが、材料がコイル支持部５ｂと異なり熱輻射線を遮
断する炭化珪素（ＳｉＣ）である。これにより、電磁偏
向コイル４及び発熱体７からの熱輻射線Ｒは隔壁９に吸
収されてポールピース１ｃに達しなくなる。この炭化珪
素には絶縁性のものを用いて先に述べた渦電流が生じな
いようにしてある。この材料は、絶縁体で熱輻射線を遮
断するものであれば良く、炭化珪素に限定されない。
であり、コイル支持部５ａと一緒になって電磁偏向コイ
ル４及び発熱体７を支持すると共に空気８の通路を構成
するが、材料がコイル支持部５ｂと異なり熱輻射線を遮
断する炭化珪素（ＳｉＣ）である。これにより、電磁偏
向コイル４及び発熱体７からの熱輻射線Ｒは隔壁９に吸
収されてポールピース１ｃに達しなくなる。この炭化珪
素には絶縁性のものを用いて先に述べた渦電流が生じな
いようにしてある。この材料は、絶縁体で熱輻射線を遮
断するものであれば良く、炭化珪素に限定されない。
【００２２】冷却機構１０は、水またはヘリウムなどの
冷却媒体１１（ここでは水）を用いて隔壁９の外周面全
域を冷却するものであり、冷却媒体１０の通路が隔壁９
の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却管１２で構成さ
れて、温度及び流量を一定にした冷却媒体１１が供給さ
れる。冷却管１２は絶縁体が良くその材料には適宜なプ
ラスチックを用いることができる。冷却媒体１１には電
磁レンズ１を冷却した後の水３を充当している。電磁レ
ンズ１の冷却に供給する水３が温度と流量を一定にして
あり、電磁レンズ１の発熱が一定であることから、電磁
レンズ１を冷却した後の水３は温度と流量が一定になっ
ているので上記充当が可能である。いうまでもなく、水
３と冷却媒体１１を分離して別のものにしても良い。ま
た、冷却管１２は複数本を並列にして巻いて並列接続に
しても良い。
冷却媒体１１（ここでは水）を用いて隔壁９の外周面全
域を冷却するものであり、冷却媒体１０の通路が隔壁９
の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却管１２で構成さ
れて、温度及び流量を一定にした冷却媒体１１が供給さ
れる。冷却管１２は絶縁体が良くその材料には適宜なプ
ラスチックを用いることができる。冷却媒体１１には電
磁レンズ１を冷却した後の水３を充当している。電磁レ
ンズ１の冷却に供給する水３が温度と流量を一定にして
あり、電磁レンズ１の発熱が一定であることから、電磁
レンズ１を冷却した後の水３は温度と流量が一定になっ
ているので上記充当が可能である。いうまでもなく、水
３と冷却媒体１１を分離して別のものにしても良い。ま
た、冷却管１２は複数本を並列にして巻いて並列接続に
しても良い。
【００２３】上記熱輻射線Ｒの吸収により隔壁９に温度
分布の変動が生じても、冷却機構１０が隔壁９の外周面
で上記変動を吸収して緩和させるので、従来例で説明し
たポールピース１ｃに生ずる温度分布の変動が抑えられ
る。これにより、電子ビームＥＢの位置ドリフトが従来
例から更に低減する。
分布の変動が生じても、冷却機構１０が隔壁９の外周面
で上記変動を吸収して緩和させるので、従来例で説明し
たポールピース１ｃに生ずる温度分布の変動が抑えられ
る。これにより、電子ビームＥＢの位置ドリフトが従来
例から更に低減する。
【００２４】図３は上述した実施例によるオフセットド
リフト特性を示し、従来例のそれを示す図５に対応させ
てあり条件Ａの場合のものである。そのドリフトは、従
来例の０．１〜０．１５μm 程度に対し０．０４μm 以
下に収まっており、高度に微細化されたパターンの露光
に対して十分に対応し得るものである。
リフト特性を示し、従来例のそれを示す図５に対応させ
てあり条件Ａの場合のものである。そのドリフトは、従
来例の０．１〜０．１５μm 程度に対し０．０４μm 以
下に収まっており、高度に微細化されたパターンの露光
に対して十分に対応し得るものである。
【００２５】なお、上述の実施例は電磁偏向コイル４の
発熱の変化を発熱体７により補償した場合であるが、発
熱体７が無い場合は勿論のこと、隔壁９の内側に何らか
の策を講じたとしてもそこに温度分布の変動が生ずる限
りにおいて、本発明による隔壁９及び冷却機構１０の配
設が電子ビームＥＢの位置ドリフトの低減策として有効
であることは、上述の説明から理解されよう。
発熱の変化を発熱体７により補償した場合であるが、発
熱体７が無い場合は勿論のこと、隔壁９の内側に何らか
の策を講じたとしてもそこに温度分布の変動が生ずる限
りにおいて、本発明による隔壁９及び冷却機構１０の配
設が電子ビームＥＢの位置ドリフトの低減策として有効
であることは、上述の説明から理解されよう。
【００２６】また、冷却機構１０は、上記実施例の構成
に限られず他の適宜な構成することも当業者によって可
能である。
に限られず他の適宜な構成することも当業者によって可
能である。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
子ビームを集束させる電磁レンズのポールピースの内側
に、該電子ビームを偏向させる電磁偏向コイルを配置し
て行う電子ビーム露光に関し、電磁偏向コイル側からの
熱輻射線が上記ポールピースの温度分布を変動させない
ようにする電子ビーム露光方法及び装置が提供されて、
電子ビームの位置ドリフトの低減による露光の分解能向
上を可能にさせる効果がある。
子ビームを集束させる電磁レンズのポールピースの内側
に、該電子ビームを偏向させる電磁偏向コイルを配置し
て行う電子ビーム露光に関し、電磁偏向コイル側からの
熱輻射線が上記ポールピースの温度分布を変動させない
ようにする電子ビーム露光方法及び装置が提供されて、
電子ビームの位置ドリフトの低減による露光の分解能向
上を可能にさせる効果がある。
【図１】 本発明の原理説明図
【図２】 実施例によるコラム構成の断面図
【図３】 実施例によるオフセットドリフト特性図
【図４】 従来例によるコラム構成の断面図
【図５】 従来例によるオフセットドリフト特性図
１ 電磁レンズ １ａ 電磁レンズコイル １ｂ ヨーク １ｃ ポールピース ２ 冷却管 ３ 水（冷却媒体） ４ 電磁偏向コイル ５ａ，５ｂ コイル支持部 ６ 静電偏向電極 ７ 発熱体 ８ 空気（冷却媒体） ９ 隔壁 １０ 冷却機構 １１ 冷却媒体 １２ 冷却管 ＥＢ 電子ビーム Ｏ 光軸 Ｗ 試料ウエーハ Ｒ 熱輻射線 〜 経過時間（１分毎）
Claims (5)
- 【請求項１】 電子ビームを集束させる電磁レンズのポ
ールピースの内側に、該電子ビームを偏向させる電磁偏
向コイルを配置して行う電子ビーム露光方法であって、 該ポールピースと該電磁偏向コイルとの間に、該電磁偏
向コイルを包囲して該電磁偏向コイルからの熱輻射線を
遮断する絶縁体の隔壁と、冷却媒体を用いて該隔壁の外
周面全域を冷却する冷却機構とを設け、 該冷却機構に温度及び流量が一定の冷却媒体を供給する
ことを特徴とする電子ビーム露光方法。 - 【請求項２】 前記冷却機構は、前記冷却媒体の通路を
前記隔壁の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却管で構
成することを特徴とする請求項１記載の電子ビーム露光
方法。 - 【請求項３】 温度及び流量が一定の冷却媒体により前
記電磁レンズを冷却し、該電磁レンズを冷却した後の冷
却媒体を前記冷却機構に供給することを特徴とする請求
項１または２記載の電子ビーム露光方法。 - 【請求項４】 電子ビームを集束させる電磁レンズと、
該電磁レンズのポールピースの内側に配置されて該電子
ビームを偏向させる電磁偏向コイルとを有し、 該ポールピースと該電磁偏向コイルとの間に、該電磁偏
向コイルを包囲して該電磁偏向コイルからの熱輻射線を
遮断する絶縁体の隔壁と、冷却媒体を用いて該隔壁の外
周面全域を冷却する冷却機構とを設けてあり、 該冷却機構に温度及び流量が一定の冷却媒体を供給する
ようにしたことを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 【請求項５】 前記冷却機構は、前記冷却媒体の通路が
前記隔壁の外周面全域に巻き付けた絶縁体の冷却管で構
成されることを特徴とする請求項４記載の電子ビーム露
光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4137330A JP2760213B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 電子ビーム露光方法及び装置 |
| US08/067,108 US5338939A (en) | 1992-01-13 | 1993-05-26 | Charged particle beam exposure including a heat blocking partition positioned near deflecting coils |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4137330A JP2760213B2 (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | 電子ビーム露光方法及び装置 |
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|---|---|
| JPH05335219A true JPH05335219A (ja) | 1993-12-17 |
| JP2760213B2 JP2760213B2 (ja) | 1998-05-28 |
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ID=15196147
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| JP4137330A Expired - Fee Related JP2760213B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-05-29 | 電子ビーム露光方法及び装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2389225A (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-03 | Leica Microsys Lithography Ltd | Ceramic coil former for an electron beam deflection system |
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| EP1970935A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-17 | ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik Mbh | Lens coil cooling of a magnetic lens |
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| JP2015517732A (ja) * | 2012-05-09 | 2015-06-22 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP4137330A patent/JP2760213B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JP2760213B2 (ja) | 1998-05-28 |
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