JPH05334900A - Test circuit for programmable read only memory - Google Patents

Test circuit for programmable read only memory

Info

Publication number
JPH05334900A
JPH05334900A JP4163615A JP16361592A JPH05334900A JP H05334900 A JPH05334900 A JP H05334900A JP 4163615 A JP4163615 A JP 4163615A JP 16361592 A JP16361592 A JP 16361592A JP H05334900 A JPH05334900 A JP H05334900A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
address
memory
memory cells
input
test circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4163615A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Akashi
洋一 明石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP4163615A priority Critical patent/JPH05334900A/en
Publication of JPH05334900A publication Critical patent/JPH05334900A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/30Accessing single arrays
    • G11C29/34Accessing multiple bits simultaneously

Abstract

PURPOSE:To shorten a test time by writing the data inverted to each other at one time on the adjacent memory cells at the time of testing a E2PROM. CONSTITUTION:This circuit consists of an X address decoder 1 selecting thirty two kinds of word lines X0-X31 out of the least significant bit A0 and five bits A4-A7 and a Y address decoder 2 selecting eight kinds of data lines Y0-Y7 from three bits of the addresses A1-A3. As to writing in a plaid pattern, when the side A is selected first, then the side B is selected second as inversion of A. Consequently, since writing by every one address is used conventionally, it takes a time of 5msec. multiplied by all addresses. In this method, writing twice, A side and B side, is enough, the test time is shortened by 1/128 with 256 words and by 1/1024 with 2048 words.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プログラマブル・リ−
ド・オンリ−・メモリ(以下、「E2PROM」とい
う。)のテスト回路に関し、特にメモリセル間のデ−タ
抜けテストのため市松にデ−タを書込む時間の短縮を図
るE2PROMのテスト回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a programmable reader.
A test circuit for a read-only memory (hereinafter referred to as "E 2 PROM"), especially an E 2 PROM for reducing the time for writing data to a checkerboard for a data loss test between memory cells Test circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のE2PROMのメモリセルのテス
ト項目としては、全ビットL(チップ・イレ−ス)、全
ビットH(チップ・ライト)、ランダム・デ−タ、市松
(レイアウト上隣合うメモリセルにH、Lを交互に書き
込む)等がある。E2PROMは、1ワ−ド当たり書込
みに5msec程度必要とするため、テスト時間に占め
る書込時間の割合が非常に大きい。このため、テスト時
間を短縮するためのランダム・デ−タの書込は、ワ−ド
数を減らす等簡略化するが、ビット間干渉のチェックの
ため市松の書込は欠かすことができない。
2. Description of the Related Art As test items for a memory cell of a conventional E 2 PROM, all bits L (chip erase), all bits H (chip write), random data, Ichimatsu (adjacent to the layout) (H and L are written alternately in the matching memory cells). Since the E 2 PROM requires about 5 msec for writing per word, the ratio of the writing time to the test time is very large. Therefore, the writing of random data for shortening the test time is simplified by reducing the number of words, but the writing of checkered pattern is indispensable for checking the bit interference.

【0003】市松に書込むためには、全ビットL(消
去)にした後、全ビット(ワ−ド)の半数にHを書込ま
ねばならないが、そのアドレスは1ワ−ド毎に指定して
いた。更に、反転デ−タの書込チェックのため、残りの
アドレスに対しても同様の書込みを行わなければならな
い。従って、書込に必要な時間は5msec×ワ−ド数
となる。
In order to write in a checkered pattern, all bits L (erase) must be set, and then H must be written in half of all bits (words), but the address is specified for each word. Was there. Further, for the write check of the inverted data, the same write must be performed on the remaining addresses. Therefore, the time required for writing is 5 msec × word number.

【0004】従来のE2PROMの回路例を図5に基づ
いて説明すると、通常のN型MOSトランジスタN11
ドレインはデ−タ選択線Y1に、ゲ−トはアドレス選択
線X1に、ソ−スは浮遊ゲ−ト・トランジスタ(メモリ
トランジスタ)N21のドレインに接続され、ゲ−トは信
号CGに、ソ−スは信号CLに接続される。同様に、N12
はY2とX1に、N13はY1とX2に、N14はY2とX2に各
々のドレインとゲ−トが接続され、各々のソ−スにはN
22、N23、N24のドレインが接続される。N22〜N24
ゲ−トとソ−スはN21のゲ−トとソ−スと短絡する。
A circuit example of a conventional E 2 PROM will be described with reference to FIG. 5. The drain of a normal N-type MOS transistor N 11 is a data selection line Y 1 , and the gate is an address selection line X 1 . , The source is connected to the drain of the floating gate transistor (memory transistor) N 21 , the gate is connected to the signal C G , and the source is connected to the signal C L. Similarly, N 12
Is connected to Y 2 and X 1 , N 13 is connected to Y 1 and X 2 , and N 14 is connected to Y 2 and X 2 , respectively.
The drains of 22 , N 23 and N 24 are connected. The gates and sources of N 22 to N 24 are short-circuited with the gates and sources of N 21 .

【0005】図5に示す従来のE2PROMの回路にお
いて、今、CGに高電圧を、CLに接地電圧を印加し、X
1、Y1に正電圧を印加すると、N11は導通し、N21に書
込電圧を与え、N21の浮遊ゲ−トへ電子が蓄積される。
この状態を「論理レベルH」と定義する。一方、信号C
Gに読出し電圧を印加したとき、N21は導通しない。こ
のように、通常の書込では、1ビットのメモリセルのみ
が選択される。
In the conventional E 2 PROM circuit shown in FIG. 5, a high voltage is applied to C G and a ground voltage is applied to C L , and X is applied.
When a positive voltage is applied to 1, Y 1, N 11 conducts and provides a write voltage to N 21, the floating gate of the N 21 - electrons are accumulated in the bets.
This state is defined as "logic level H". On the other hand, signal C
When a read voltage is applied to G , N 21 does not conduct. Thus, in normal writing, only 1-bit memory cells are selected.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来の上記E2PRO
Mでは、通常、1度に1アドレスしか書込むことができ
ないため、市松に書込むためには、5msec×ワ−ド
数の時間が必要であるという問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] The above-mentioned conventional E 2 PRO
In M, usually only one address can be written at a time, so there is a problem in that it takes 5 msec × the number of words to write in the checkered pattern.

【0007】そこで、本発明は、上記問題点を解消する
2PROMのテスト回路を提供することを目的とし、
特に、テスト時間に占める書込時間を削減することがで
きるE2PROMのテスト回路を提供することを目的と
する。
Therefore, an object of the present invention is to provide an E 2 PROM test circuit that solves the above problems.
In particular, it is an object of the present invention to provide an E 2 PROM test circuit capable of reducing the writing time in the test time.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】そして、本発明のE2
ROMのテスト回路は、アドレス入力の最下位ビットが
同じメモリセルの全てを選択するアドレス・デコ−ダ
と、アドレス入力の最下位ビットが同じメモリセルが市
松にレイアウトされたメモリ・セル・ブロックを備えて
おり、レイアウト上隣合うメモリセルに互いに反転した
デ−タを1度に書き込むことを特徴とし、これによって
上記目的を達成したものである。
The E 2 P of the present invention
The ROM test circuit includes an address decoder that selects all memory cells having the same least significant bit of address input and a memory cell block in which memory cells having the same least significant bit of address input are laid out in a checkered pattern. It is characterized in that the mutually inverted data are written at a time to the memory cells adjacent to each other in terms of layout, thereby achieving the above object.

【0009】即ち、本発明は、「nビットのアドレス入
力を変換し、所望のメモリセルを選択するアドレス・デ
コ−ダと、2nワ−ドのメモリセルと、1ワ−ド分の書
込回路を持つ電気的消去可能なE2PROMにおいて、
レイアウト上隣合うメモリセルに互いに反転したデ−タ
を1度に書き込むことを特徴とするE2PROMのテス
ト回路。」を要旨とするものである。
That is, the present invention provides: "An address decoder for converting an n-bit address input to select a desired memory cell, a memory cell for 2 n words, and a writing for one word. In an electrically erasable E 2 PROM with a built-in circuit,
A test circuit for an E 2 PROM, which is characterized in that mutually inverted data are written into adjacent memory cells in a layout at a time. Is the gist.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をより
詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例を示すE2
PROMのテスト回路のブロック図であり、簡単化のた
め、28=256ワ−ドのE2PROMの内1ビット分を
図示したものである。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples of the present invention. FIG. 1 shows an embodiment of E 2 according to the present invention.
It is a block diagram of a test circuit of a PROM, and for simplification, it shows one bit of an E 2 PROM of 2 8 = 256 words.

【0011】所望のメモリセルを選択するアドレス・デ
コ−ダは、図1に示すように、最下位アドレス・ビット
0及びA4〜A7の5ビットからX0〜X31の32通りの
ワ−ド線を選択するXアドレス・デコ−ダ1と、アドレ
スA1〜A3の3ビットからY0〜Y7の8通りのデ−タ線
を選択するYアドレス・デコ−ダ2により構成される。
さらに、全てのメモリセルを選択するTEST1信号と、A
0が等しい全てのメモリセルを選択するTEST2信号とが
X及びYアドレス・デコ−ダ1、2へ入力される。
The address decoder for selecting a desired memory cell is, as shown in FIG. 1, 32 least significant address bits A 0 and 5 bits from A 4 to A 7 to X 0 to X 31 . An X address decoder 1 for selecting a word line and a Y address decoder 2 for selecting eight data lines of Y 0 to Y 7 from 3 bits of addresses A 1 to A 3 Composed.
In addition, the TEST1 signal that selects all memory cells and A
The TEST2 signal, which selects all memory cells equal to 0, is input to the X and Y address decoders 1 and 2.

【0012】Yアドレス・デコ−ダ2で選択したデ−タ
線には、書込・読出回路3が接続される。Xアドレス・
デコ−ダX0〜X31とYアドレス・デコ−ダY0〜Y
7は、通常、A0〜A7のコ−ドにより各々1出力のみH
を出力する。
A write / read circuit 3 is connected to the data line selected by the Y address decoder 2. X address
Decoders X 0 to X 31 and Y address decoders Y 0 to Y
7 is normally only 1 output H due to the code of A 0 to A 7.
Is output.

【0013】今、A0〜A7が全てLのとき、X0とY0
H、X1〜X31とY1〜Y7はLを出力する。これによ
り、左上のメモリセルが選択される。Xアドレス・デコ
−ダ1の出力X0は、メモリセルの制御用トランジスタ
11のゲ−トに接続され、また、Yアドレス・デコ−ダ
2の出力Y0は、同じくN11のドレインに接続される。
11のソ−スは、浮遊ゲ−ト・トランジスタN21のドレ
インに接続される。全てのメモリセルの浮遊ゲ−ト・ト
ランジスタのゲ−トは、信号CGに接続され、同ソ−ス
は信号CLに接続される。
Now, when all of A 0 to A 7 are L, X 0 and Y 0 output H, and X 1 to X 31 and Y 1 to Y 7 output L. As a result, the upper left memory cell is selected. The output X 0 of the X address decoder 1 is connected to the gate of the control transistor N 11 of the memory cell, and the output Y 0 of the Y address decoder 2 is also connected to the drain of N 11 . Connected.
The source of N 11 is connected to the drain of floating gate transistor N 21 . The gates of the floating gate transistors of all memory cells are connected to signal C G and the source is connected to signal C L.

【0014】信号CGに高電圧を、CLに接地電位を印加
し、X0、Y0にHが印加されると、N21の浮遊ゲ−トへ
電子が蓄積される。この状態を「論理レベルH」と定義
し、Hを書き込んだという。一方、読出し電圧をCG
印加すると、N21は導通しない。消去する場合は、TEST
I信号をHとし、全てのメモリ・セルを選択し、CL
高電圧を印加することにより、浮遊ゲ−トに蓄積された
電子を抜く。この状態を「論理レベルL」と定義する。
When a high voltage is applied to signal C G , a ground potential is applied to C L , and H is applied to X 0 and Y 0 , electrons are accumulated in the floating gate of N 21 . This state is defined as "logic level H" and H is written. On the other hand, when a read voltage is applied to C G , N 21 does not conduct. To delete, TEST
The I signal is set to H, all the memory cells are selected, and a high voltage is applied to C L to remove the electrons accumulated in the floating gate. This state is defined as "logical level L".

【0015】ここでX及びYアドレス・デコ−ダ1、2
にTEST2端子を付加している。Xアドレス・デコ−ダ1
は、信号TEST2がH、A0がLのとき、X0、X2、……
30にHを出力し、TEST2及びA0がHのとき、X1、X
3……X31にHを出力する。Yアドレス・デコ−ダ2
は、TEST2がHのとき、Y0〜Y7にHを出力する。
Here, X and Y address decoders 1, 2
The TEST2 terminal is added to. X address decoder 1
When the signal TEST2 is H and A 0 is L, X 0 , X 2 , ...
Outputs H to X 30 , and when TEST2 and A 0 are H, X 1 and X
3 …… Outputs H to X 31 . Y address decoder 2
Outputs H to Y 0 to Y 7 when TEST2 is H.

【0016】メモリ・セルの最上段は、図1の左からX
0、X1、X0、X1、X0、X1、X0、X1に接続され、2
段目は左からX1 、X0、X1、X0、X1、X0、X1、X
0に接続され、3段目はX2、X3、X2、X3、X2
3、X2、X3に接続され、以下同様であり、最下段は
左からX31、X30、X31、X30、X31 、X30、X31
3 0に接続される。また、縦方向のメモリセルは、同一
のデ−タ線に接続され、左端のメモリセルの場合はY0
に接続される。
The top row of memory cells is X from the left in FIG.
0 , X 1 , X 0 , X 1 , X 0 , X 1 , X 0 , X 1 connected to 2
Steps from the left are X 1 , X 0 , X 1 , X 0 , X 1 , X 0 , X 1 , X
0 , and the third stage is X 2 , X 3 , X 2 , X 3 , X 2 ,
Connected to X 3 , X 2 , X 3 , and so on, and the bottom row is from the left, X 31 , X 30 , X 31 , X 30 , X 31 , X 30 , X 31 , X 31 ,
It is connected to the X 3 0. Further, the memory cells in the vertical direction are connected to the same data line, and in the case of the leftmost memory cell, Y 0
Connected to.

【0017】このように隣合うメモリセルは、TEST2信
号がHのとき、アドレス信号のLSBA0に関して互いに反
転したアドレス・デコ−ダの出力に接続される。従っ
て、アドレス入力のLSBがLのメモリセル全てを選択す
るアドレス・デコ−ダと、アドレス入力のLSBが同じメ
モリセルが市松の状態にレイアウトされているので、隣
合うメモリセルに互いに反転したデ−タを1度に書き込
むことができる。
Thus, the adjacent memory cells are connected to the output of the address decoder which is inverted with respect to LSBA 0 of the address signal when the TEST2 signal is H. Therefore, since the address decoder that selects all the memory cells whose LSB of the address input is L and the memory cells whose LSB of the address input is the same are laid out in a checkered state, the decoders which are mutually inverted to the adjacent memory cells are arranged. -Data can be written at once.

【0018】(アドレス・デコ−ダの具体例)上記アド
レス・デコ−ダの一例を図2に基づいて説明する。図2
は、アドレス・デコ−ダ部の具体的回路例を示す図であ
って、Xアドレス・デコ−ダ1は、A0、A4〜A7をデ
コ−ドする32個の5NAND回路と、TEST1+(TEST2・
0)とTEST1+(TEST2・A0バ−)の2つのAND・NOR
回路と、5NAND回路とAND ・NOR回路の出力を入力する3
2個の2NAND回路で構成される。なお、TEST1+(TEST
2・A0)、TEST1+(TEST2・A0バ−)にはそれぞれ
バ−を省略して記載した(以下同じ)。
(Specific Example of Address Decoder) An example of the above address decoder will be described with reference to FIG. Figure 2
FIG. 3 is a diagram showing a concrete circuit example of an address decoder section. The X address decoder 1 includes 32 5NAND circuits for decoding A 0 and A 4 to A 7 , and TEST1 + (TEST2
Two AND / NORs of A 0 ) and TEST1 + (TEST2 ・ A 0 bar)
Circuit, 5NAND circuit and AND-NOR circuit output is input 3
It consists of two 2NAND circuits. In addition, TEST1 + (TEST
2 · A 0), TEST1 + (TEST2 · A 0 bar - each of the) bar - described omitted (hereinafter the same).

【0019】X0、X2……X30は、TEST1+(TEST2・
0バ−)を入力し、X1、X3……X31は、TEST1+(T
EST2・A0)を入力する。一方、Yアドレス・デコ−ダ
2は、A1〜A3をデコ−ドする8個の3NAND回路とTEST
1+TEST2のNOR回路と3NANDと2NORの出力を入力する
8個のNAND回路で構成される。
X 0 , X 2, ... X 30 are TEST1 + (TEST2.
Input A 0 bar), X 1 , X 3 ... X 31 is TEST1 + (T
Enter EST2 · A 0 ). On the other hand, the Y address decoder 2 includes eight 3NAND circuits for decoding A 1 to A 3 and a TEST.
It is composed of a NOR circuit of 1 + TEST2, 8 NAND circuits which inputs the outputs of 3NAND and 2NOR.

【0020】TEST1がHのとき、Xデコ−ダの2つのAN
D-NORとYデコ−ダのNORはLとなり、X0〜X31とY0
7は全てHを出力し、全てのメモリセルが選択され
る。TEST2がHのとき、Xアドレス・デコ−ダ1の2つ
のAND・NORの内一方がHを出力するので、X0〜X31の内
偶数もしくは奇数のデコ−ド出力16個にHが出力され
る。Yデコ−ダはNOR出力がLとなるので、Y0〜Y7
全てがHを出力する。これにより、半数のメモリセル
(ここでは256アドレス中128アドレス)を選択し、同時
に書き込むことが可能となる。
When TEST1 is H, two ANs of X decoder
NOR of D-NOR and Y decoder becomes L, and X 0 to X 31 and Y 0 to
All Y 7 outputs H, and all memory cells are selected. When TEST2 is H, X address Deco - since one of the two the AND-NOR da 1 outputs an H, an inner an even or odd Deco X 0 to X 31 - de output 16 to the H output To be done. Since the NOR output of the Y decoder becomes L, all of Y 0 to Y 7 output H. As a result, half of the memory cells (here, 128 addresses out of 256 addresses) can be selected and written simultaneously.

【0021】前記した図1のメモリセルを実現するマス
ク・レイアウト・パタ−ンは、1つのメモリセルにアド
レス入力のLSBがLのアドレス選択線Aと、アドレス入
力のLSBがHのアドレス選択線Bの2本が存在する。こ
れは、X0とX1、X2とX3、以下同様にX30とX31のペ
アである。このXアドレスデコ−ダ1、Yアドレス・デ
コ−ダ2及びメモリセルA、Bにより、TEST2がH、A
OがLのとき、記号Aを付したメモリセルが選択され、T
EST2及びAOがHのとき、記号Bを付したメモリセルが
選択される(図1参照)。この例によるメモリマップを
図3に示す。
The mask layout pattern for realizing the memory cell shown in FIG. 1 has an address selection line A whose address input LSB is L and an address selection line whose address input LSB is H in one memory cell. There are two of B. This is a pair of X 0 and X 1 , X 2 and X 3 , and so on X 30 and X 31 . This X address decoder 1, Y address decoder 2 and memory cells A, B make TEST2 H, A
When O is L, the memory cell with the symbol A is selected and T
When EST2 and A O are H, the memory cell with the symbol B is selected (see FIG. 1). A memory map according to this example is shown in FIG.

【0022】2本のアドレス選択線A、Bは、レイアウ
トパタ−ン中で交差させることにより、メモリセルの配
置が容易となる。左辺の座標(X1、Y1)に入力する第
一のアドレス選択線Aに浮遊ゲ−トを持つメモリトラン
ジスタを選択する通常のトランジスタ(左上端のメモリ
セルではN11)のゲ−トを接続し、右辺の座標(X2
2)に出力する。
By arranging the two address selection lines A and B in the layout pattern, the memory cells can be easily arranged. The gate of an ordinary transistor (N 11 in the memory cell at the upper left end) for selecting a memory transistor having a floating gate on the first address selection line A input to the coordinates (X 1 , Y 1 ) on the left side is set. Connect and coordinate on the right side (X 2 ,
Output to Y 2 ).

【0023】さらに、第2のアドレス選択線Bは、左辺
の座標(X1、Y2)から入力し、セル内のトランジスタ
へ接続することなしに、右辺の座標(X2、Y1)から出
力する。このレイアウトセルを横方向へ並べることによ
り、有効なアドレス選択線がA、B、A、B……の順に
なる。
Further, the second address selection line B is input from the coordinate (X 1 , Y 2 ) on the left side, and from the coordinate (X 2 , Y 1 ) on the right side without connecting to the transistor in the cell. Output. By arranging these layout cells in the horizontal direction, the effective address selection lines are in the order of A, B, A, B ....

【0024】縦方向に関して1段目と2段目をミラ−反
転して配置した場合は、上側にAを下側にBを入力す
る。同一方向に配置した場合は、1段目が上側にA、下
側にBであれば2段目は上側がB、下側がAを入力す
る。
When the first stage and the second stage are arranged in a mirror-reversed manner in the vertical direction, A is input on the upper side and B is input on the lower side. When arranged in the same direction, if the first stage is A on the upper side and B is on the lower side, B is input on the upper side and A is input on the lower side in the second stage.

【0025】(メモリセルのレイアウトを考慮した回路
例)図4は、本発明のE2PROMの市松に配置するメ
モリセルの一実施例を示す図であって、メモリセルのレ
イアウトを考慮した回路例を示す図である。4ビットの
メモリセルを一単位とし、2本のアドレス選択線X0
1及び2本のデ−タ選択線Y0とY1を入力する。さら
に全てのメモリセルに共通の信号とCGとCLが入力され
る。
(Circuit Example Considering Memory Cell Layout) FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of the memory cells arranged in a checkerboard of the E 2 PROM of the present invention, which is a circuit considering the memory cell layout. It is a figure which shows an example. Two address selection lines X 0 and X 1 and two data selection lines Y 0 and Y 1 are input with a 4-bit memory cell as one unit. Further, signals common to all memory cells and C G and C L are input.

【0026】左上と右下のメモリセルの選択用トランジ
スタN11とN14はX0を、左下と右上のメモリセルの選
択用トランジスタN13とN12はX1を入力する。この例
では、アドレス選択線2本を4ビットのメモリセルで共
有するため、レイアウトセルサイズ縮小の効果を有す
る。
X 0 is input to the selection transistors N 11 and N 14 of the upper left and lower right memory cells, and X 1 is input to the selection transistors N 13 and N 12 of the lower left and upper right memory cells. In this example, two address selection lines are shared by the memory cells of 4 bits, which has the effect of reducing the layout cell size.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明は、以上詳記したとおり、E2
ROMのレイアウト上隣合うメモリセルに互いに反転し
たデ−タを1度に書込むテスト回路を具備することによ
り、テスト時間に占める書込時間を削減する効果を有す
る。そして、本発明において、市松の書込は、1回目に
A側を選択した場合、2回目はその反転としてB側を選
択する。従って、従来であれば1アドレスずつ書込んで
いたので、全アドレス×5msecの時間かかっていた
ものが、本発明ではA側とB側の2回で済み、256ワ−
ドで128分の1、2048ワ−ドであれば1024分の1に短縮で
きる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention, as described above in detail, has a characteristic of E 2 P
Providing a test circuit for writing mutually inverted data to adjacent memory cells in the ROM layout at one time has the effect of reducing the write time in the test time. In the present invention, in the checkered writing, when the A side is selected at the first time, the B side is selected as the inversion at the second time. Therefore, in the prior art, since one address was written at a time, it took a time of all addresses x 5 msec, but in the present invention, it is only required to be performed twice for the A side and the B side.
It can be shortened to 1/128 in the case of 2048 words and 1/1024 in the case of 2048 words.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すブロック図。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】アドレス・デコ−ダ部の具体的回路例を示す
図。
FIG. 2 is a diagram showing a specific circuit example of an address decoder unit.

【図3】メモリマップを示す図。FIG. 3 is a diagram showing a memory map.

【図4】メモリセルのレイアウトを考慮した回路例を示
す図。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a circuit in consideration of a layout of memory cells.

【図5】従来のE2PROMの回路例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a circuit example of a conventional E 2 PROM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 Xアドレスデコ−ダ 2 Yアドレスデコ−ダ 3 書込み、読出回路 N11〜N14 N型MOSトランジスタ N21〜N24 浮遊ゲ−トトランジスタ1 X Address Decoder 2 Y Address Decoder 3 Write / Read Circuit N 11 to N 14 N-type MOS Transistor N 21 to N 24 Floating Gate Transistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/10 491 8728−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 27/10 491 8728-4M

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 nビットのアドレス入力を変換し、所望
のメモリセルを選択するアドレス・デコ−ダと、2n
−ドのメモリセルと、1ワ−ド分の書込回路を持つ電気
的消去可能なプログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモ
リにおいて、レイアウト上隣合うメモリセルに互いに反
転したデ−タを1度に書込むことを特徴とするプログラ
マブル・リ−ド・オンリ−・メモリのテスト回路。
1. An electric circuit having an address decoder for converting an n-bit address input to select a desired memory cell, a memory cell of 2 n words and a writing circuit for 1 word. Erasable programmable read-only memory, in which mutually inverted data are written at once to adjacent memory cells in layout, the programmable read-only memory Test circuit.
【請求項2】 前記アドレス・デコ−ダは、アドレス入
力のLSBがLのメモリセル全てを選択する機能と、ア
ドレス入力のLSBがHのメモリセル全てを選択する機
能とを有し、アドレス入力のLSBが同じメモリセルが
市松にレイアウトされていることを特徴とする請求項1
記載のプログラマブル・リ−ド・オンリ−・メモリのテ
スト回路。
2. The address decoder has a function of selecting all memory cells whose LSB of address input is L and a function of selecting all memory cells whose LSB of address input is H. 2. The memory cells having the same LSB are laid out in a checkered pattern.
A programmable read only memory test circuit as described.
【請求項3】 前記メモリセルは、レイアウトブロック
にアドレス入力のLSBがLのアドレス選択線Aと、ア
ドレス入力のLSBがHのアドレス選択線Bの2本を含
むことを特徴とする請求項1記載のプログラマブル・リ
−ド・オンリ−・メモリのテスト回路。
3. The memory cell includes, in a layout block, an address selection line A having an LSB of L for address input and an address selection line B having an LSB of H for address input. A programmable read only memory test circuit as described.
【請求項4】 前記メモリセルは、レイアウトブロック
の左辺の座標(X1、Y1)に入力する第1のアドレス選
択線に浮遊ゲ−トを持つメモリ・トランジスタを選択す
るトランジスタのゲ−トを接続し、右辺の座標(X2
2)に出力し、更に、第2のアドレス選択線は左辺の
座標(X1、Y2)から入力し、セル内のトランジスタへ
接続することなしに右辺の座標(X2、Y1)から出力す
ることを特徴とする請求項3記載のプログラマブル・リ
−ド・オンリ−・メモリのテスト回路。
4. A gate of a transistor for selecting a memory transistor having a floating gate on a first address selection line input to the coordinates (X 1 , Y 1 ) on the left side of a layout block. , And coordinate on the right side (X 2 ,
Y 2 ), and the second address selection line is input from the left side coordinates (X 1 , Y 2 ), and the right side coordinates (X 2 , Y 1 ) without connecting to the transistor in the cell. 4. The test circuit for the programmable read-only memory according to claim 3, wherein
【請求項5】 前記メモリセルを縦横方向へ複写したレ
イアウト・ブロックにおいて、第1段目と第2段目には
同じ2本のアドレス選択線を入力し、第一段目左端のメ
モリセルがアドレス選択線Aに接続された場合、第2段
目左端のメモリセルはアドレス選択線Bに接続されるこ
とを特徴とする請求項3記載のプログラマブル・リ−ド
・オンリ−・メモリのテスト回路。
5. In a layout block in which the memory cells are copied vertically and horizontally, the same two address selection lines are input to the first and second stages, and the memory cells at the left end of the first stage are 4. A test circuit for a programmable read-only memory according to claim 3, wherein, when connected to the address select line A, the memory cell at the left end of the second stage is connected to the address select line B. ..
【請求項6】 前記メモリセルは、縦横2ビットずつの
4ビットで構成され、左上と右下のメモリセルはアドレ
ス選択線Aが、左下と右上はアドレス選択線Bが接続さ
れることを特徴とする請求項3記載のプログラマブル・
リ−ド・オンリ−・メモリのテスト回路。
6. The memory cell is composed of 4 bits each consisting of 2 bits vertically and horizontally, and an address selection line A is connected to the upper left and lower right memory cells, and an address selection line B is connected to the lower left and upper right. The programmable device according to claim 3.
Read-only memory test circuit.
JP4163615A 1992-05-29 1992-05-29 Test circuit for programmable read only memory Pending JPH05334900A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4163615A JPH05334900A (en) 1992-05-29 1992-05-29 Test circuit for programmable read only memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4163615A JPH05334900A (en) 1992-05-29 1992-05-29 Test circuit for programmable read only memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05334900A true JPH05334900A (en) 1993-12-17

Family

ID=15777297

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4163615A Pending JPH05334900A (en) 1992-05-29 1992-05-29 Test circuit for programmable read only memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05334900A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5742615A (en) * 1995-06-20 1998-04-21 Nec Corporation Non-volatile semiconductor memory
US6009027A (en) * 1997-04-01 1999-12-28 Nec Corporation Test method and circuit for semiconductor memory

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5742615A (en) * 1995-06-20 1998-04-21 Nec Corporation Non-volatile semiconductor memory
US6009027A (en) * 1997-04-01 1999-12-28 Nec Corporation Test method and circuit for semiconductor memory

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6275894B1 (en) Bank selector circuit for a simultaneous operation flash memory device with a flexible bank partition architecture
JPH0810553B2 (en) Memory circuit
JPH0378720B2 (en)
JP2646972B2 (en) Multi-bit memory
US5229971A (en) Semiconductor memory device
JPH0330958B2 (en)
US5280451A (en) Signature circuit for non-volatile memory device
US4074236A (en) Memory device
KR950012952B1 (en) Programmable logic unit circuit and programmable logic circuit
JPS6128198B2 (en)
JPH05334900A (en) Test circuit for programmable read only memory
JPH06310603A (en) Semiconductor memory
US6650578B2 (en) Semiconductor storage device and setting method thereof
KR100269503B1 (en) Mask rom having redundancy function
JPS62165788A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2982902B2 (en) Semiconductor memory
JPS6027120B2 (en) programmable memory
JP3833022B2 (en) Semiconductor device
JPS59162699A (en) Read-only memory
JPS63138599A (en) Semiconductor memory device
JPH02800B2 (en)
JPS59113600A (en) Highly reliable storage circuit device
JP3130598B2 (en) PROM writing circuit
JPH04232700A (en) Semiconductor storage device
JPH04217359A (en) Semiconductor storage device