JPH05330957A - 精密鋳造用中子 - Google Patents

精密鋳造用中子

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JPH05330957A
JPH05330957A JP16023092A JP16023092A JPH05330957A JP H05330957 A JPH05330957 A JP H05330957A JP 16023092 A JP16023092 A JP 16023092A JP 16023092 A JP16023092 A JP 16023092A JP H05330957 A JPH05330957 A JP H05330957A
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JP
Japan
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core
metal layer
precision casting
ceramic core
alloy
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP16023092A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Mihashi
章 三橋
Shinichi Miyamoto
伸一 宮本
Tateaki Sahira
健彰 佐平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 湯回り不良が生ずることのない精密鋳造用中
子を提供する。 【構成】 細孔、細溝、スリットなどの凹部を有するセ
ラミックス中子本体の少なくとも細孔、細溝またはスリ
ットなどの凹部表面に金属層が形成されている精密鋳造
用中子。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複雑形状中空部分を
有する各種耐熱機械部品を超合金などの高融点金属を用
いて精密鋳造する際に使用する湯回り不良が発生するこ
とのない金属層被覆セラミックス製精密鋳造用中子に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、タービンブレードやベーンに
は、使用中に過度の高温にならないように中心部に空気
を流し冷却するための中空部分が設けられており、その
強度を向上させるために上記中空部分に細い支柱が設け
られている。かかる中空部分に細い支柱を有するタービ
ンブレードやベーンは、中空部分と同一形状を有し表面
から裏面に貫通する細孔を設けたセラミックス製中子を
鋳型の中心部にセットし、鋳型とセラミックス製中子で
構成されるキャビティに耐熱合金溶湯を鋳込み、ついで
上記セラミックス製中子を水酸化カリウム溶液などの苛
性液体で浸出除去することにより製造されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、タービンブレ
ードを製造するための耐熱合金は高融点でありしかもセ
ラミックスに対するぬれ性が悪いために、上記セラミッ
クス製中子に口径:1mm以下の細孔またはVノッチ細
溝があると上記細孔またはVノッチ細溝先端まで十分に
湯が回らないことがあった。例えば、図4は従来のセラ
ミックス製中子を用いて、中空部分とその中空部分に細
い支柱が設けられている構造のタービンブレードを鋳造
した状態を示す断面図であるが、図4に示されるよう
に、鋳型2の中心部に細孔3を有するセラミックス製中
子1をセットし、鋳型2とセラミックス製中子1とで構
成されるキャビティ4に超合金などの耐熱合金5を鋳込
むと、細孔3に湯回り不良が発生し、切れた支柱6が形
成される。かかる切れた支柱6が生ずるとブレードの強
度低下をもたらし、破損などの事故につながる恐れがあ
る。
【0004】したがって、かかる不良品タービンブレー
ドが生じると破棄されるために歩留りの低下をもたら
し、その分コスト高となっている。
【0005】かかる湯回り不良は、図5に示されるよう
なVノッチ細溝7を有するセラミックス製中子1を使用
した時の鋳造時にも発生する。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
かかる細孔、細溝またはスリットなどの凹部を有するセ
ラミックス製中子の湯回り不良を改善すべく研究を行っ
た結果、細孔、細溝、スリットなどの凹部を有するセラ
ミックス製中子を本体とし、その表面に金属層を被覆す
ると、ぬれ性が改善され、上記細孔、細溝、スリットな
どの凹部にも十分に湯が回り、上述のような湯回り不良
が発生することがないという知見を得たのである。
【0007】この発明は、かかる知見にもとづいてなさ
れたものであって、細孔、、細溝またはスリットなどの
凹部を有するセラミックス製中子本体の少なくとも細
孔、細溝またはスリットなどの凹部表面に金属層が形成
されている精密鋳造用中子に特徴を有するものである。
【0008】この発明の精密鋳造用中子を図面にもとづ
いてさらに具体的に説明する。
【0009】図1〜図3は、この発明の精密鋳造用中子
の断面図であり、図1には細孔3を有するセラミックス
製中子1の表面に金属層8が形成されており、図2には
Vノッチ細溝7を有するセラミックス製中子1の表面に
金属層8が形成されている。さらに図3には細孔3の表
面にのみ金属層8を有するこの発明の精密鋳造用中子の
断面図が示されている。
【0010】上記金属層8は、Ni,Co,Al,T
a,Re,Mo,W,Cr,Nb,Pt,Fe,Hfな
どの純金属またはこれらの合金層であり、特に鋳造する
合金と同一組成の合金層であれば一層好ましい。上記金
属層8の厚さは0.05〜10μmの範囲内にあること
が好ましく、0.05μm未満ではセラミックス製中子
の表面に被覆されない部分が生じるなどしてぬれ性向上
に十分な効果が得られず、一方、10μmを越えると細
孔3またはVノッチ細溝7を閉塞することがあるので好
ましくない。上記金属層8は、真空蒸着、スパッタリン
グまたは無電解メッキなどで成形することができる。
【0011】
【実施例】
実施例1 平均粒径:25μmのSiO2 粉末に、20容量%のシ
リコン樹脂を添加し、混練したのちプレス成形し、長
さ:65mm、幅:25mm、厚さ:5mmの寸法を有
する成形体を作製し、この成形体の中央部に厚さ方向に
貫通する直径:0.7mmの貫通孔を20個ドリルで形
成し、ついで焼成することによりセラミックス製中子本
体を作製した。
【0012】このセラミックス製中子本体の貫通孔内面
および本体の全表面に、真空蒸着により平均厚さ:0.
5μmのNi金属層を形成し、本発明精密鋳造用中子を
作製した。一方、上記セラミックス製中子本体をそのま
ま従来精密鋳造用中子とした。
【0013】上記本発明精密鋳造用中子および従来精密
鋳造用中子をそれぞれ鋳型中心部にセットし、鋳型の湯
口からCo:10%、Cr:10%、Mo:5%、W:
5%、Al:3%、Ti:3%、Hf:1%、Nb:1
%を含有し、残りがNiからなる成分組成を有し、温
度;1450℃のNi基超合金溶湯を鋳込んだのち放冷
した。得られたNi基超合金鋳物を鋳型からはずし、さ
らに上記中子を含む鋳物を水酸化カリウム水溶液中に浸
漬し、中子を浸出除去し、貫通孔の湯流れ不良により生
じた欠損支柱の数を測定したところ、本発明精密鋳造用
中子を用いた場合には貫通孔における湯流れ不良は全く
なく、欠損支柱の数は0であったが、従来精密鋳造用中
子を用いた場合、5個の欠損支柱があり、貫通孔の一部
に湯流れ不良が発生していることがわかった。
【0014】実施例2 実施例1で作製した成形体に、幅:2mm、深さ:5m
mのVノッチ溝を20個形成し、ついて焼成することに
よりセラミックス製中子本体を作製した。このセラミッ
クス製中子本体のVノッチ状溝の内面および本体全表面
に、スパッタリングにより平均厚さ:2.5μmのCo
金属層を形成し、本発明精密鋳造用中子を作製し、一
方、上記セラミックス製中子本体をそのまま従来精密鋳
造用中子として使用した。
【0015】上記本発明精密鋳造用中子および従来精密
鋳造用中子をそれぞれ鋳型中心部にセットし、鋳型の湯
口から、Ni:8%、Fe:2%、Cr:25%、W:
5%、Mo:5%、Mn+Si:2%、Nb+Ta:5
%を含有し、残りがCoからなる組成を有し、温度:1
500℃のCo基超合金溶湯を鋳込み放冷した。得られ
たCo基超合金鋳物の中子を実施例1と全く同様にして
浸出除去し、Co基超合金溶湯が中子のVノッチ溝の先
端まで到達しているか否かを観察したところ、本発明精
密鋳造用中子を用いた場合には、すべてのVノッチ溝の
先端まで溶湯が到達していたが、従来精密鋳造用中子を
用いた場合にはVノッチ溝の先端まで溶湯が到達せず、
稜線のない突起列が7本見られた。
【0016】
【発明の効果】この発明の精密鋳造用中子を使用すると
細孔し、細溝に対する湯回り不良を生ずることなく複雑
な中空形状を有する耐熱合金鋳物を歩留りよく製造する
ことができ、産業上すぐれた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の精密鋳造用中子の断面図である。
【図2】この発明の精密鋳造用中子の断面図である。
【図3】この発明の精密鋳造用中子の断面図である。
【図4】従来の細孔を有する精密鋳造用中子を用いてタ
ービンブレードを鋳造した状態を示す断面図である。
【図5】従来のVノッチ細溝を有する精密鋳造用中子を
用いて鋳造した状態を示す断面図である。
【符号の説明】
1 中子 2 鋳型 3 細孔 4 キャビティ 5 耐熱合金 6 切れた支柱 7 Vノッチ細溝 8 金属層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミックス製中子本体の表面に金属層
    を形成してなることを特徴とする精密鋳造用中子。
  2. 【請求項2】 細孔、細溝またはスリットなどの凹部を
    有するセラミックス製中子本体の少なくとも細孔、細溝
    またはスリットなどの凹部表面に金属層が形成されてい
    ることを特徴とする精密鋳造用中子。
JP16023092A 1992-05-27 1992-05-27 精密鋳造用中子 Withdrawn JPH05330957A (ja)

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