JPH05327107A - Optical waveguide type optical amplifire and its forming mehtod - Google Patents

Optical waveguide type optical amplifire and its forming mehtod

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JPH05327107A
JPH05327107A JP13044792A JP13044792A JPH05327107A JP H05327107 A JPH05327107 A JP H05327107A JP 13044792 A JP13044792 A JP 13044792A JP 13044792 A JP13044792 A JP 13044792A JP H05327107 A JPH05327107 A JP H05327107A
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oxide
lithium niobate
lithium
erbium
optical waveguide
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Yoshio Sugihara
美穂 杉原
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To enable high concentration uniform doping of many elements, by forming a lithium niobate layer doped with rare earth elements having optical amplification action on a crystal substrate like lithium tantalate, and arranging an optical waveguide on the layer. CONSTITUTION:A lithium niobate crystal layer 12 is formed on a lithium tantalate crystal substrate or a lithium niobate crystal substrate 11 which layer is doped with rare earth element of erbium or neodymium or praseodymium and aluminum or germanium, and an optical waveguide 13 is arranged on the layer 12 by ion milling. Since lithium tantalate has the same crystal as lithium niobate, uniform epitaxial growth on the lithium tantalate crystal substrate 11 is enabled. The diffusion coefficient of element like erbium having optical amplification action is very small, and it is difficult to doped lithium niobate with erbium by thermal diffusion. Uniform doping, however, is enabled by adding raw material at the time of solvent fusing of liquid phase epitaxial.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ通信用のニ
オブ酸リチウム結晶を用いた光導波路型の光増幅器に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide type optical amplifier using a lithium niobate crystal for optical fiber communication.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、光導波路型光増幅器は、ニオブ酸
リチウム単結晶上に、金属エルビウム膜を形成し、結晶
融点近くの約1000℃で、約80時間熱拡散し、その
後、再びチタン膜の光導波路パターンを形成し、約10
00℃、9時間熱拡散する方法によって、ニオブ酸リチ
ウム結晶基板にエルビウムをドーピングした光導波路を
作製することで、実現可能であることが、確認された段
階である。
2. Description of the Related Art At present, in an optical waveguide type optical amplifier, a metal erbium film is formed on a lithium niobate single crystal, and thermal diffusion is carried out at about 1000 ° C. near the crystal melting point for about 80 hours, and then a titanium film is again formed. Forming an optical waveguide pattern of about 10
It has been confirmed that this can be realized by producing an optical waveguide in which a lithium niobate crystal substrate is doped with erbium by a method of thermal diffusion at 00 ° C. for 9 hours.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、熱拡散
法による光導波路型光増幅器は、エルビウムの拡散係数
が非常に小さいため、非常に長時間の高温熱処理を要
し、素子作製が困難である。また、エルビウムのみのド
ーピングでは、増幅できる入射光の波長帯域が非常に狭
いため、光ファイバ通信用の光増幅器の場合、波長帯域
拡大のため、アルミニウムなどを追拡散する必要があ
る。プロセスが複雑な上に、結晶の作製方法に起因する
結晶内部の不安定性、すなわち組成の均一性の問題があ
り、数回の熱拡散処理を施すと、一様な拡散深さの低伝
搬損失の光導波路が再現性よく形成されない。よって、
利得特性等において、安定な光増幅器が実現しない。
However, since the optical waveguide type optical amplifier by the thermal diffusion method has a very small diffusion coefficient of erbium, it requires a high temperature heat treatment for a very long time, and it is difficult to manufacture the device. Further, since the wavelength band of incident light that can be amplified is very narrow with doping only with erbium, in the case of an optical amplifier for optical fiber communication, it is necessary to additionally diffuse aluminum or the like in order to expand the wavelength band. In addition to the complicated process, there is a problem of instability inside the crystal due to the method of manufacturing the crystal, that is, the problem of compositional homogeneity. When thermal diffusion treatment is performed several times, low propagation loss with uniform diffusion depth The optical waveguide is not reproducibly formed. Therefore,
A stable optical amplifier cannot be realized in terms of gain characteristics and the like.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光増幅器及び作製方法では、タンタル酸リ
チウム結晶基板またはニオブ酸リチウム基板上に、光を
増幅する材料であるエルビウム、ネオジウム、またはプ
ラセオジウム等の希土類元素と、増幅波長帯域調整のた
めのアルミニウム、ゲルマニウムと、屈折率を高くする
チタン、鉄、亜鉛、銅、または銀をドープしたニオブ酸
リチウム結晶層を液相エピタキシャル成長させて、その
結晶層を光導波路とし、光増幅器を構成している。
In order to solve the above problems, in the optical amplifier and the manufacturing method of the present invention, erbium and neodymium, which are materials for amplifying light, are provided on a lithium tantalate crystal substrate or a lithium niobate substrate. , Or rare earth elements such as praseodymium, aluminum and germanium for adjusting the amplification wavelength band, and liquid phase epitaxial growth of a lithium niobate crystal layer doped with titanium, iron, zinc, copper, or silver for increasing the refractive index. The crystal layer is used as an optical waveguide to form an optical amplifier.

【0005】[0005]

【作用】この構成によって、光の増幅効果を持つエルビ
ウム等の元素は、拡散係数が非常に小さく、熱拡散では
ニオブ酸リチウムへのドーピングが困難であったが、液
相エピタキシャルの溶媒溶融時に原料に添加すること
で、複数の元素でも、容易にドーピング可能になる。ま
た、非常にコンパクトな光ファイバ通信用の光導波路型
光増幅器の実現が可能となる。
With this configuration, elements such as erbium, which has a light amplification effect, have a very small diffusion coefficient, and it was difficult to dope lithium niobate by thermal diffusion. By adding to the above, even a plurality of elements can be easily doped. Further, it becomes possible to realize a very compact optical waveguide type optical amplifier for optical fiber communication.

【0006】[0006]

【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0007】図1は、本発明の実施例における光増幅器
の構成図である。11は、タンタル酸リチウムの結晶基
板を示す。結晶基板11上には、エルビウムとアルミニ
ウムをドーピングしたニオブ酸リチウム結晶層12が形
成されている。ニオブ酸リチウム結晶層12上には、イ
オンミリングにより光導波路13が設けられている。そ
の素子の端面には、反射率90%以上の反射膜16が施
され、入・出力用に光ファイバ14、15が取り付けら
れている。
FIG. 1 is a block diagram of an optical amplifier according to an embodiment of the present invention. Reference numeral 11 denotes a crystal substrate of lithium tantalate. On the crystal substrate 11, a lithium niobate crystal layer 12 doped with erbium and aluminum is formed. An optical waveguide 13 is provided on the lithium niobate crystal layer 12 by ion milling. A reflection film 16 having a reflectance of 90% or more is applied to the end face of the element, and optical fibers 14 and 15 are attached for input and output.

【0008】以上のように構成された光増幅器の動作を
説明すると、波長1.55μmの光信号は、光ファイバ
14から、光導波路13に導かれる。その際、波長1.
48μmの励起光は信号光と同時に入力用光ファイバ1
4に入射する。増幅された信号光と励起光の分離は、出
力用ファイバ15からフィルタを通して取り出す。
The operation of the optical amplifier configured as described above will be described. An optical signal having a wavelength of 1.55 μm is guided from the optical fiber 14 to the optical waveguide 13. At that time, the wavelength 1.
The excitation light of 48 μm is the input optical fiber 1 at the same time as the signal light.
It is incident on 4. Separation of the amplified signal light and pumping light is extracted from the output fiber 15 through a filter.

【0009】本発明の光増幅器は、液相エピタキシャル
成長法によって、成長させたニオブ酸リチウム結晶層1
2上に光導波路13を作製したことを特徴としている。
The optical amplifier of the present invention comprises a lithium niobate crystal layer 1 grown by a liquid phase epitaxial growth method.
It is characterized in that the optical waveguide 13 is formed on the surface 2.

【0010】ニオブ酸リチウム結晶層12をエピタキシ
ャル成長させるには、図2に示す液相エピタキシャル装
置を用いて作製する。21はフラックス溶融用白金ルツ
ボ、22は基板結晶回転シャフトを示す。シャフトに
は、結晶基板を爪で固定する基板ホルダー23と撹はん
板24が取り付けられ、回転と同時に上下に移動可能な
構造となっている。25は白金ルツボ加熱用の電気炉、
26は断熱材を示す。
In order to epitaxially grow the lithium niobate crystal layer 12, it is produced by using the liquid phase epitaxial device shown in FIG. 21 is a platinum crucible for flux melting, and 22 is a substrate crystal rotation shaft. A substrate holder 23 for fixing the crystal substrate with claws and a stirring plate 24 are attached to the shaft, and the structure is such that it can move up and down simultaneously with rotation. 25 is an electric furnace for heating the platinum crucible,
Reference numeral 26 indicates a heat insulating material.

【0011】作製原理は、白金ルツボ22内に、酸化
鉛、酸化ビスマス、酸化ホウ素等の溶融フラックスをい
れ、フラックスの溶融温度以上にしておき、そのフラッ
クスに結晶原料となる、酸化ニオブ、炭酸リチウム及び
ドーパントとなる、酸化エルビウム、酸化ネオジウム、
または酸化プラセオジウムを固溶させる。さらに、増幅
する光の波長帯域を広げるためには、酸化アルミニウ
ム、酸化ゲルマニウム、また、屈折率を増加させるため
には、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化銅、または
酸化銀等の酸化物を固溶させ、融液27をつくる。溶融
後、その融液27を、通常600〜800℃程度に温度
を下げて、過冷却状態にしておき、その中に結晶基板を
ディップすると、過冷却融液のなかのニオブ酸リチウム
が結晶基板の表面にエピタキシャル成長する。成長膜厚
は、溶液の温度とディップ時間によって、コントロール
する。結晶成長の際に、成長を均一にするために、結晶
基板を一定速度で回転させる。最後に、フラックスを取
り去るために、結晶基板をフラックスから取り出し高速
回転をさせ、フラクッスを遠心力で吹き飛ばす。その
後、結晶基板を除冷し、取り出す。
The production principle is as follows. A molten flux of lead oxide, bismuth oxide, boron oxide, etc. is put in the platinum crucible 22 and kept above the melting temperature of the flux. And erbium oxide, neodymium oxide, which is a dopant,
Alternatively, praseodymium oxide is dissolved. Further, in order to broaden the wavelength band of light to be amplified, aluminum oxide, germanium oxide, and to increase the refractive index, oxides such as titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, copper oxide, or silver oxide. To form a melt 27. After the melting, the melt 27 is usually cooled to about 600 to 800 ° C. to be in a supercooled state, and a crystal substrate is dipped in the melt, so that lithium niobate in the supercooled melt melts into the crystal substrate. Epitaxially grows on the surface of. The grown film thickness is controlled by the temperature of the solution and the dipping time. During crystal growth, the crystal substrate is rotated at a constant speed in order to make the growth uniform. Finally, in order to remove the flux, the crystal substrate is taken out from the flux and rotated at high speed, and the flux is blown off by centrifugal force. Then, the crystal substrate is cooled and taken out.

【0012】本実施例では、タンタル酸リチウムはニオ
ブ酸リチウムと同一結晶構造を有するため、タンタル酸
リチウム結晶基板上へのエピタキシャル成長が可能とな
っている。ニオブ酸リチウム結晶層は、エルビウム濃度
750ppm、アルミニウム濃度4000ppmでドー
プされ、膜厚5μmである。
In this embodiment, lithium tantalate has the same crystal structure as lithium niobate, so that epitaxial growth is possible on a lithium tantalate crystal substrate. The lithium niobate crystal layer is doped with an erbium concentration of 750 ppm and an aluminum concentration of 4000 ppm and has a film thickness of 5 μm.

【0013】さらに、ニオブ酸リチウム結晶層12上に
は、光導波路13を作製しなければならない。タンタル
酸リチウム結晶基板上に、ニオブ酸リチウム結晶層を成
長させる構成では、基板厚さ方向の屈折率変化が大きい
ため、横方向のみの屈折率変化をもたせる構造を取れば
よい。そこで、光導波路の作製法として、最も簡単な方
法である、イオンミリング法により作製した。イオンミ
リング法は、ニオブ酸リチウム結晶層の表面に、光導波
路パターンを作成し、アルゴン、酸素イオン等を加速し
て、不要部を取り去るもので、100〜200℃の比較
的室温に近い温度で作製可能である。作製された光変調
器の断面図を図3に示す。
Furthermore, the optical waveguide 13 must be formed on the lithium niobate crystal layer 12. In the structure in which the lithium niobate crystal layer is grown on the lithium tantalate crystal substrate, the change in the refractive index in the substrate thickness direction is large. Therefore, a structure that allows the change in the refractive index only in the lateral direction may be adopted. Therefore, the simplest method for producing the optical waveguide is the ion milling method. In the ion milling method, an optical waveguide pattern is formed on the surface of a lithium niobate crystal layer, and unnecessary parts are removed by accelerating argon, oxygen ions and the like, and at a temperature relatively close to room temperature of 100 to 200 ° C. It can be made. A cross-sectional view of the manufactured optical modulator is shown in FIG.

【0014】31はタンタル酸リチウムの結晶基板、3
2はエルビウムとアルミニウムをドーピングしたニオブ
酸リチウム結晶層、33は光導波路をそれぞれ示す。こ
の方法によって、光導波路33内の屈折率が均一とな
り、光導波路の下方向及び左右方向の屈折率変化を大き
く取ることが可能となるため、光の閉じこめ効果が大き
くなり、光の伝搬損失を減少させることができる。ま
た、エピタキシャル成長で作製される結晶はディスロケ
ーションが小さくかつ結晶の組成変化等が小さいため
に、その点でも光の伝搬損失を小さくする事が可能とな
る。
31 is a crystal substrate of lithium tantalate, 3
Reference numeral 2 is a lithium niobate crystal layer doped with erbium and aluminum, and 33 is an optical waveguide. By this method, the refractive index in the optical waveguide 33 is made uniform, and it is possible to make a large change in the refractive index in the downward direction and the lateral direction of the optical waveguide. Therefore, the light confinement effect is increased and the propagation loss of light is reduced. Can be reduced. In addition, since the crystal produced by epitaxial growth has a small dislocation and a small composition change of the crystal, it is possible to reduce the propagation loss of light in that respect as well.

【0015】また、基板結晶に、ニオブ酸リチウム結晶
を用いると、タンタル酸リチウムに比べ、エピタキシャ
ル結晶層とのミスマッチが低減する。この場合、基板よ
りも屈折率の高い光導波路を作製するには、従来の金属
の熱拡散法による作製も可能である。エルビウムをドー
ピングしたニオブ酸リチウム結晶層を作製後、屈折率を
高くするチタン、鉄、亜鉛、銅、または銀膜の光導波路
パターンを作製、熱拡散方法によってをドーピングす
る。実施例を記すと、チタンを500A蒸着して、10
50℃で9時間酸素雰囲気中で熱処理することによっ
て、光導波路を作製することができる。ただし、その際
には、熱応力には、十分な注意を要する。
Further, when a lithium niobate crystal is used for the substrate crystal, the mismatch with the epitaxial crystal layer is reduced as compared with lithium tantalate crystal. In this case, in order to manufacture an optical waveguide having a refractive index higher than that of the substrate, it is possible to manufacture it by a conventional metal thermal diffusion method. After forming the erbium-doped lithium niobate crystal layer, an optical waveguide pattern of titanium, iron, zinc, copper, or silver film for increasing the refractive index is formed, and is doped by a thermal diffusion method. As an example, titanium was vapor-deposited at 500 A to obtain 10
An optical waveguide can be produced by heat treatment at 50 ° C. for 9 hours in an oxygen atmosphere. However, in that case, sufficient attention must be paid to the thermal stress.

【0016】しかし、液相エピタキシャル法で作製する
ニオブ酸リチウム結晶層の大きな特徴は、原料のニオブ
酸リチウムの構成元素の一部を置換する分量の元素を添
加することで、元素のドーピングが容易に行えることで
ある。結晶原料に、ドーパントとして、酸化エルビウム
や酸化アルミニウム等と共に、酸化チタン、酸化鉄、酸
化亜鉛、酸化銅、酸化鉛、または酸化銀等の酸化物を添
加し、チタン、鉄、亜鉛、銅、鉛、または銀をドーピン
グしたニオブ酸リチウム結晶層を成長させることで、基
板より屈折率の高い光導波路を作製できる。一実施例を
示すとエルビウム濃度750ppm、アルミニウム濃度
4000ppm、チタン濃度1%をドープしたニオブ酸
リチウム結晶層を成長させると、光導波路内の屈折率が
均一となり、光導波路の下方向の屈折率変化を大きく取
ることが可能となる。
However, a major feature of the lithium niobate crystal layer produced by the liquid phase epitaxial method is that doping of the element is facilitated by adding an amount of the element that replaces a part of the constituent elements of the lithium niobate as a raw material. That is what you can do. As a dopant, erbium oxide, aluminum oxide, and other oxides such as titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, copper oxide, lead oxide, or silver oxide are added to the crystal raw material, and titanium, iron, zinc, copper, or lead is added. Alternatively, an optical waveguide having a higher refractive index than the substrate can be manufactured by growing a lithium niobate crystal layer doped with silver or silver. As one example, when a lithium niobate crystal layer doped with an erbium concentration of 750 ppm, an aluminum concentration of 4000 ppm, and a titanium concentration of 1% is grown, the refractive index in the optical waveguide becomes uniform, and the refractive index changes downward in the optical waveguide. It is possible to take large.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上のように本発明は、タンタル酸リチ
ウム結晶あるいはニオブ酸リチウム結晶上に液相エピタ
キシャル法により、光増幅作用のあるエルビウム、ネオ
ジウム、プラセオジウム等の希土類をドーピングしたニ
オブ酸リチウム結晶層を作製し、光導波路にする。液相
エピタキシャル法で作製するニオブ酸リチウム結晶の大
きな特徴は、結晶原料に添加することで、多元素のドー
ピングが、高濃度で、均質に、容易に行えることであ
る。よって、入力光帯域の広い、利得の高い光増幅器が
作製され、より応用範囲の多い光増幅器並びに光ICの
実現を可能にするものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention provides a lithium niobate crystal doped with a rare earth element such as erbium, neodymium or praseodymium having a light amplification effect on a lithium tantalate crystal or a lithium niobate crystal by a liquid phase epitaxial method. A layer is prepared to be an optical waveguide. A major feature of the lithium niobate crystal produced by the liquid phase epitaxial method is that by adding it to a crystal raw material, multi-element doping can be easily performed at a high concentration and uniformly. Therefore, an optical amplifier having a wide input light band and a high gain is manufactured, and an optical amplifier and an optical IC having a wider range of applications can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例における光増幅器の構成図FIG. 1 is a configuration diagram of an optical amplifier according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例における液相エピタキシャル装置の構
成図
FIG. 2 is a configuration diagram of a liquid phase epitaxial device in the example.

【図3】同実施例におけるイオンミリング法で作製した
光導波路の断面図
FIG. 3 is a sectional view of an optical waveguide manufactured by an ion milling method in the example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 結晶基板 12 ニオブ酸リチウム結晶層 13 光導波路 14 光入力用の光ファイバ 15 光出力用の光ファイバ 16 反射膜 21 フラックス加熱用白金ルツボ 22 基板結晶回転シャフト 23 基板ホルダー 24 撹はん板 25 白金ルツボ加熱用の電気炉 26 断熱材 27 融液 31 結晶基板 32 エルビウムとアルミニウムをドーピングしたニオ
ブ酸リチウム結晶層 33 光導波路
11 Crystal Substrate 12 Lithium Niobate Crystal Layer 13 Optical Waveguide 14 Optical Fiber for Optical Input 15 Optical Fiber for Optical Output 16 Reflective Film 21 Platinum Crucible for Flux Heating 22 Substrate Crystal Rotating Shaft 23 Substrate Holder 24 Stirring Plate 25 Platinum Electric furnace for heating crucible 26 Heat insulating material 27 Melt 31 Crystal substrate 32 Lithium niobate crystal layer doped with erbium and aluminum 33 Optical waveguide

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01S 3/094 3/10 Z 8934−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01S 3/094 3/10 Z 8934-4M

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】タンタル酸リチウム結晶基板、あるいはニ
オブ酸リチウム結晶基板上に、光を増幅するために、エ
ルビウム、ネオジウム、またはプラセオジウムの希土類
元素と、増幅波長帯域調整のためのアルミニウム、また
はゲルマニウムをドーピングしたニオブ酸リチウムのエ
ピタキシャル結晶層を設け、前記結晶層上に設けた光導
波路を備えたことを特徴とする光増幅器。
1. A rare earth element such as erbium, neodymium, or praseodymium for amplifying light and aluminum or germanium for adjusting an amplification wavelength band are provided on a lithium tantalate crystal substrate or a lithium niobate crystal substrate. An optical amplifier comprising an epitaxial crystal layer of doped lithium niobate and an optical waveguide provided on the crystal layer.
【請求項2】タンタル酸リチウム結晶基板、あるいはニ
オブ酸リチウム結晶基板上に、光を増幅するために、エ
ルビウム、ネオジウム、またはプラセオジウムの希土類
元素と、増幅波長帯域調整のためのアルミニウム、また
はゲルマニウムと、屈折率を高くする元素であるチタ
ン、鉄、亜鉛、銅、または銀をドーピングしたニオブ酸
リチウムのエピタキシャル結晶層を設け、前記結晶層に
設けた光導波路を備えたことを特徴とする光増幅器。
2. A rare earth element of erbium, neodymium, or praseodymium for amplifying light and aluminum or germanium for adjusting an amplification wavelength band on a lithium tantalate crystal substrate or a lithium niobate crystal substrate. An optical amplifier comprising an epitaxial crystal layer of lithium niobate doped with titanium, iron, zinc, copper, or silver that is an element for increasing the refractive index, and an optical waveguide provided in the crystal layer. ..
【請求項3】請求項1または請求項2記載の光増幅器に
おいて、液相エピタキシャル結晶原料の酸化ニオブ、炭
酸リチウムと共に、光を増幅する材料である酸化エルビ
ウム、酸化ネオジウム、または酸化プラセオジウムと、
増幅波長帯域調整のための酸化アルミニウム、酸化ゲル
マニウムと、屈折率を高くする酸化チタン、酸化鉄、酸
化亜鉛、酸化銅、または酸化銀を溶かし、エルビウム、
ネオジウム、またはプラセオジウムと、チタン、鉄、亜
鉛、銅、または銀をドーピングしたニオブ酸リチム結晶
層を液相溶媒溶融法でエピタキシャル結晶成長させたこ
とを特徴とする光増幅器の作製方法。
3. The optical amplifier according to claim 1 or 2, together with niobium oxide and lithium carbonate which are liquid phase epitaxial crystal raw materials, and erbium oxide, neodymium oxide or praseodymium oxide which is a material for amplifying light.
Aluminum oxide, germanium oxide for adjusting the amplification wavelength band and titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, copper oxide, or silver oxide for increasing the refractive index are dissolved, and erbium,
A method for manufacturing an optical amplifier, characterized in that neodymium or praseodymium and a lithium, niobate crystal layer doped with titanium, iron, zinc, copper or silver are epitaxially grown by a liquid phase solvent melting method.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2399340A (en) * 2003-03-13 2004-09-15 Acoustical Tech Sg Pte Ltd Preparing Rare Earth Doped LiNbO3 and LiTaO3 Films and Powders
JP2008089873A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Oki Electric Ind Co Ltd Wavelength conversion element
JP2015014716A (en) * 2013-07-05 2015-01-22 Tdk株式会社 Optical waveguide and electro-optic device
CN104765219A (en) * 2015-04-07 2015-07-08 山东大学 Preparation method of erbium-doped lithium niobate optical waveguide amplifier

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2399340A (en) * 2003-03-13 2004-09-15 Acoustical Tech Sg Pte Ltd Preparing Rare Earth Doped LiNbO3 and LiTaO3 Films and Powders
JP2008089873A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Oki Electric Ind Co Ltd Wavelength conversion element
JP4715706B2 (en) * 2006-09-29 2011-07-06 沖電気工業株式会社 Wavelength conversion element
JP2015014716A (en) * 2013-07-05 2015-01-22 Tdk株式会社 Optical waveguide and electro-optic device
CN104765219A (en) * 2015-04-07 2015-07-08 山东大学 Preparation method of erbium-doped lithium niobate optical waveguide amplifier

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