JPH05326668A - 縦型拡散・ｃｖｄ装置のボート昇降速度制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】縦型拡散・ＣＶＤ装置に於いて、ボート装入、
取出しの無駄な時間を可及的に短縮させ縦型拡散・ＣＶ
Ｄ装置のスループットを向上させる。 【構成】反応炉１へのボート５の装入取出しの全行程
を、ウェーハ１１に熱影響を与えない区間と、熱影響を
与える行程を含む区間とに区分し、前記熱影響を与えな
い区間は高速で昇降させる様に作動に於ける無駄な時間
を極力減少させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置の１つ
である縦型拡散・ＣＶＤ装置に於いて、ウェーハを水平
姿勢で多段に保持するボートを縦型拡散・ＣＶＤ装置の
反応炉内に装入、取出しを行う場合のボート昇降速度制
御方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】縦型拡散・ＣＶＤ装置はシリコン基板で
あるウェーハの表面に不純物の拡散、或は化学気相蒸着
（ＣＶＤ）を行うもので、気密な反応炉の内部にボート
を介して水平多段に保持したウェーハを、反応ガスを供
給しつつ加熱するものである。

【０００３】斯かる縦型拡散・ＣＶＤ装置に於いて、加
熱状態にある反応炉内にボートを装入、取出しを行う
際、ウェーハに急激な熱変化を与えると発生する熱歪み
の為結晶間に辷りを生じ、品質の劣化を生ずることがあ
る。この為、従来よりボートの反応炉内への装入、取出
しはウェーハへ急激な熱変化を与えない様、全行程に亘
ってゆっくりとした速度で行っていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述した様に、従来の
ボート装入、取出しは、全行程に亘って同一速度でゆっ
くりと行っているので、ボートの待機位置から炉口近傍
迄等の様に、ウェーハが熱影響を受けない範囲について
も同様にゆっくりした速度で昇降している。

【０００５】この為、ボート装入、取出しに不要な時間
を要することになり、スループットを低下させる要因と
なっていた。

【０００６】本発明は斯かる実情に鑑み、ボート装入、
取出しの無駄な時間を可及的に短縮させ縦型拡散・ＣＶ
Ｄ装置のスループットを向上させようとするものであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、反応炉へのボ
ートの装入取出しの全行程を、ウェーハに熱影響を与え
ない区間と、熱影響を与える行程を含む区間とに区分
し、前記熱影響を与えない区間は高速で昇降させる様に
したことを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】ウェーハに熱影響を与えない区間についてボー
トを高速で昇降させることで、作動に於ける無駄な時間
を極力省いて、スループットを向上させる。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。

【００１０】図１中、１は反応炉であり、該反応炉１の
下方にボート装入装置２が設けられている。

【００１１】垂直姿勢で回転自在に設けられたスクリュ
ーロッド３にボート受台４が螺合しており、該ボート受
台４にボート５が載置されている。前記スクリューロッ
ド３はモータ６により回転され、該モータ６の回転はエ
ンコーダ７によって検出される様になっている。前記モ
ータ６はモータ制御器８により駆動され、該モータ制御
器８には主制御装置９より予め設定されたシーケンスに
従って指令信号が発せられる。又、該主制御装置９には
作動条件の指示、作動の開始等を指示する為の操作部１
０が接続されている。図中、１１はウェーハである。

【００１２】以下、作動を説明する。

【００１３】本実施例では、ボート５の昇降動作の内、
熱影響の無い部分は早く動作させ、熱影響を受ける部分
は、遅く動作させようとするものであり、実施するに当
り準備として、全行程Ａ〜Ｄの内、熱影響の無い部分、
下死点近傍のＡ〜Ｂ区間、上死点近傍のＣ〜Ｄ区間を実
験等を繰返して発見し、更に前記Ａ〜Ｂ区間を高速で昇
降させ、Ｂ〜Ｃ区間を低速で昇降させ、又Ｃ〜Ｄ区間を
高速で昇降させる為の最適昇降速度を求める。

【００１４】前記実験等により求めた各区間より、速度
変更位置Ｂ、速度変更位置Ｃ、及び各区間の最適昇降速
度を前記操作部１０より前記主制御装置９に入力する。

【００１５】前記操作部１０より作動開始の指令が発せ
られることにより、或は予め設定されたシーケンスの指
令により作動が開始する。先ず、装入動作、即ち上昇動
作について説明する。

【００１６】前記主制御装置９より前記モータ制御器８
に駆動指令が発せられモータ６が駆動される。該モータ
６の駆動によって前記スクリューロッド３が回転され、
前記ボート受台４が下死点位置より上昇を開始する。こ
の上昇初期の前記Ａ〜Ｂ区間は前記モータ６が高速で回
転され、ボート５は高速で上昇する。

【００１７】前記モータ６の回転量は、前記エンコーダ
７によって検出され前記モータ制御器８にフィードバッ
クされる。前記ボート５の位置が速度変更位置Ｂに達し
たことが検出されると、前記モータ６の駆動速度が変更
され、前記ボート５が速度変更位置Ｃに達する迄低速で
上昇する。速度変更位置Ｃに達したかどうかは、前記エ
ンコーダ７の検出結果から判断され、速度変更位置Ｃに
達すると、Ｃ〜Ｄ区間は高速で駆動される。

【００１８】取出し動作、即ち下降動作も上述した上昇
動作と同様に行われる。

【００１９】而して、熱影響のあるＢ〜Ｃ区間はウェー
ハ１１の急激な温度変化が避けられる様に低速で前記ボ
ート５が昇降し、熱影響の無いＡ〜Ｂ区間、Ｃ〜Ｄ区間
は高速で昇降される。従って、ウェーハの品質低下を招
くことなく無駄な時間が大幅に減少する。

【００２０】尚、上記実施例では３区間に分けて、速度
を変更したが、４区間以上に分けて、速度を順次高速
に、或は順次低速にしてもよく、上記実施例の区分でも
速度設定によりＡ〜Ｂ区間を高速に、又Ｂ〜Ｃ区間、Ｃ
〜Ｄ区間を低速にしてもよい。更に、区間の長さ、速度
については、処理の違いにより、最適な条件を設定すれ
ばよい。

【００２１】

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、処理品
質を低下させることなく、スループットを向上させ得、
縦型拡散・ＣＶＤ装置の実質稼働率の向上、生産性の向
上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 反応炉 ２ ボート装入装置 ５ ボート ６ モータ １１ ウェーハ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反応炉へのボートの装入取出しの全行程
   を、ウェーハに熱影響を与えない区間と、熱影響を与え
   る行程を含む区間とに区分し、前記熱影響を与えない区
   間は高速で昇降させる様にしたことを特徴とする縦型拡
   散・ＣＶＤ装置のボート昇降速度制御方法。