JPH05307011A - Spot converging camera device - Google Patents

Spot converging camera device

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Publication number
JPH05307011A
JPH05307011A JP4136071A JP13607192A JPH05307011A JP H05307011 A JPH05307011 A JP H05307011A JP 4136071 A JP4136071 A JP 4136071A JP 13607192 A JP13607192 A JP 13607192A JP H05307011 A JPH05307011 A JP H05307011A
Authority
JP
Japan
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ray
reflector
horizontal
base
rays
Prior art date
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Pending
Application number
JP4136071A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Noda
英男 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Rigaku Denki Co Ltd, Rigaku Corp filed Critical Rigaku Denki Co Ltd
Priority to JP4136071A priority Critical patent/JPH05307011A/en
Publication of JPH05307011A publication Critical patent/JPH05307011A/en
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

PURPOSE:To locate the optical axis of X-rays emitted from an X-ray source of a spot convergence camera device precisely identical to the optical axis of an X-ray optical system. CONSTITUTION:A horizontal reflector 3 is fixed onto a base table 8. On this table 8, an assist base 17 which can rotate, i.e., tilt, in the guide planes P, Q in the form of a circular arc centering on a horizontal axis alpha passing the X-ray reflex surface of this reflector 3, is placed. On the assist base 17 is furnished an X-ray optical system consisting of a vertical reflector 4, diffusion preventive slit 5, specimen 7, and film 6. The assist base 17 is tilted round the axis alphaby adjusting a screw 18 installed at the right end of the assist base 17. Thereby the optical axis of the X-ray optical system on a movable base 13 can be put identical accurately to the optical axis of X-rays reflected by the horizontal reflector 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、反射面が互いに直角の
向きになるように相前後して配置された2つのX線反射
体、すなわちリフレクタを用いてX線を収束させながら
それを試料に入射させ、その試料で回折したX線像をフ
ィルム上に撮像するようにした点収束カメラ装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses two X-ray reflectors, that is, reflectors, which are arranged one behind the other so that their reflecting surfaces are oriented at right angles to each other, while concentrating the X-rays. The present invention relates to a point-focusing camera device in which an X-ray image diffracted by the sample is imaged on a film.

【0002】[0002]

【従来の技術】上記の点収束カメラ装置は既に知られて
おり、生体、天然高分子、金属等といった有機無機結晶
性物質のX線回折像の検出に用いられている。この点収
束カメラ装置は、通常、図2に示すように、X線源1
と、入射側スリット2と、水平リフレクタ3と、垂直リ
フレクタ4と、散乱防止スリット5と、そしてフィルム
6とを有している。測定対象である試料7は、散乱防止
スリット5とフィルム6との間に配置される。
2. Description of the Related Art The above-mentioned point-focusing camera device is already known and is used for detecting an X-ray diffraction image of an organic-inorganic crystalline substance such as a living body, a natural polymer or a metal. This point-focusing camera device is generally used in the X-ray source 1 as shown in FIG.
It has an entrance side slit 2, a horizontal reflector 3, a vertical reflector 4, a scattering prevention slit 5, and a film 6. The sample 7 to be measured is arranged between the anti-scatter slit 5 and the film 6.

【0003】X線源1から出たX線は、水平リフレクタ
3及び垂直リフレクタ4によって、フィルム6上に微小
焦点を結ぶように収束される。この収束されるX線を試
料7に照射し、試料7で回折又は散乱したX線によって
フィルム6を露光する。この露光により、試料7で回折
したX線の2次元回折像がフィルム6上に撮像される。
The X-rays emitted from the X-ray source 1 are focused by the horizontal reflector 3 and the vertical reflector 4 so as to form a fine focus on the film 6. The sample 7 is irradiated with the focused X-rays, and the film 6 is exposed by the X-rays diffracted or scattered by the sample 7. By this exposure, a two-dimensional diffraction image of the X-ray diffracted by the sample 7 is captured on the film 6.

【0004】上記点収束カメラ装置において、水平リフ
レクタ3にはX線反射鏡が、そして垂直リフレクタ4に
はX線反射鏡又はモノクロメータが用いられるのが一般
的である。X線反射鏡ではX線が全反射し、モノクロメ
ータではX線が回折反射する。水平リフレクタ3及び垂
直リフレクタ4の両方にX線反射鏡を用いる場合、点収
束カメラ装置のX線光学系は図3に示すように配置され
る。この場合、各要素は非常に微少角のほとんど一直線
上に配列される。一方、水平リフレクタ3としてX線反
射鏡を用い、垂直リフレクタ4としてモノクロメータを
用いた場合は、図4に示すように、モノクロメータ4よ
りもフィルム6側に配置された各要素の光軸がモノクロ
メータ4の回折角度2θに対応して水平面内で傾けられ
る。
In the above point-focusing camera device, it is general that an X-ray reflecting mirror is used for the horizontal reflector 3 and an X-ray reflecting mirror or a monochromator is used for the vertical reflector 4. The X-ray reflecting mirror totally reflects the X-rays, and the monochromator diffracts and reflects the X-rays. When the X-ray reflecting mirrors are used for both the horizontal reflector 3 and the vertical reflector 4, the X-ray optical system of the point-focusing camera device is arranged as shown in FIG. In this case, the elements are arranged in a very small angle on almost a straight line. On the other hand, when an X-ray reflecting mirror is used as the horizontal reflector 3 and a monochromator is used as the vertical reflector 4, the optical axes of the respective elements arranged on the film 6 side of the monochromator 4 are as shown in FIG. It is tilted in the horizontal plane corresponding to the diffraction angle 2θ of the monochromator 4.

【0005】図2に示したX線光学系を支持するため、
従来、図5に示すような支持構造が用いられていた。こ
の構造は平板状の基台8を有しており、この基台8は足
部材9によって床10上に載置されている。基台8の左
部上面には、水平リフレクタ3を支持するための水平リ
フレクタホルダ11が固定されている。また、基台8の
ほぼ中央位置には、垂直ホルダ4を支持するための垂直
リフレクタホルダ12が固定されている。また、基台8
の右部上面には、垂直リフレクタ4の中心軸線ωを中心
として水平面内で回転可能に可動ベース13が設けられ
ている。そして、可動ベース13の上に、散乱防止スリ
ット5を支持するためのスリットボックス14、試料7
を支持するための試料ホルダ15、そしてフィルム6を
担持したフィルムカセット16がそれぞれ固定されてい
る。
In order to support the X-ray optical system shown in FIG.
Conventionally, a support structure as shown in FIG. 5 has been used. This structure has a plate-shaped base 8, and the base 8 is placed on a floor 10 by foot members 9. A horizontal reflector holder 11 for supporting the horizontal reflector 3 is fixed to the upper surface of the left side of the base 8. A vertical reflector holder 12 for supporting the vertical holder 4 is fixed at a substantially central position of the base 8. Also, the base 8
A movable base 13 is provided on the upper surface of the right part of the above so as to be rotatable in the horizontal plane about the central axis ω of the vertical reflector 4. Then, on the movable base 13, a slit box 14 for supporting the anti-scattering slit 5 and the sample 7 are provided.
A sample holder 15 for supporting the film and a film cassette 16 carrying the film 6 are fixed.

【0006】垂直リフレクタ4として用いる要素がX線
反射鏡であるか、モノクロメータであるかによってX線
光学系の配列態様が図3又は図4のように変化すること
は既述の通りであるが、このような配列態様の変更は、
可動ベース13を中心軸線ωを中心として適宜の角度だ
け回転させることによって行われる。
As described above, the arrangement mode of the X-ray optical system changes as shown in FIG. 3 or 4 depending on whether the element used as the vertical reflector 4 is an X-ray reflecting mirror or a monochromator. However, such a change of the arrangement mode is
This is performed by rotating the movable base 13 by an appropriate angle about the central axis ω.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】一般に、点収束カメラ
装置においては、X線源1に対する水平リフレクタ3の
高さ位置を調節する必要がある。また、水平リフレクタ
3で反射したX線の光軸と、垂直リフレクタ4からフィ
ルム6に至るX線光学系の光軸とを正確に一致させる必
要がある。図5に示した従来の点収束カメラ装置におい
ては、それら2つ調節、すなわち水平リフレクタ3の高
さ調節及び水平リフレクタ3で反射するX線の光軸調節
を、基台8に備えられた足部材9の高さを調節すること
によって行っていた。
Generally, in a point-focusing camera device, it is necessary to adjust the height position of the horizontal reflector 3 with respect to the X-ray source 1. Further, the optical axis of the X-ray reflected by the horizontal reflector 3 and the optical axis of the X-ray optical system extending from the vertical reflector 4 to the film 6 must be exactly aligned. In the conventional point-focusing camera device shown in FIG. 5, those two adjustments, that is, the height adjustment of the horizontal reflector 3 and the optical axis adjustment of the X-ray reflected by the horizontal reflector 3, are provided on the base 8. This is done by adjusting the height of the member 9.

【0008】しかしながら、各足部材9を調節するだけ
では、可動ベース13上のX線光学系と水平リフレクタ
3とが一体になって移動してしまうので、水平リフレク
タからの反射X線は、スリット、試料、フィルムに対し
て垂直ではなく、ある角度を持つことになり、高さ調節
を正確に行うことができなかった。
However, simply adjusting each foot member 9 causes the X-ray optical system on the movable base 13 and the horizontal reflector 3 to move integrally, so that the reflected X-rays from the horizontal reflector are slit. However, it was not perpendicular to the sample and film, but had an angle, and the height could not be adjusted accurately.

【0009】本発明は、従来の点収束カメラ装置におけ
る上記の問題点を解決するためになされたものであっ
て、X線源に対する水平リフレクタの高さ調節及び水平
リフレクタで反射したX線の光軸と水平リフレクタの後
流側に配置されるX線光学系の光軸とを一致させる調節
の2種類の調節を正確に行うことのできる点収束カメラ
装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems in the conventional point-focusing camera device, and adjusts the height of the horizontal reflector with respect to the X-ray source and the light of the X-ray reflected by the horizontal reflector. It is an object of the present invention to provide a point-focusing camera device capable of accurately performing two types of adjustments, that is, adjusting the axis and the optical axis of the X-ray optical system arranged on the downstream side of the horizontal reflector to coincide with each other.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係る点収束カメラ装置は、断面点状のX線
を放射するX線源と、水平面内に配置されていてX線源
から放射されたX線を反射する水平リフレクタと、垂直
面内に配置されていて水平リフレクタで反射したX線を
反射する垂直リフレクタと、X線の進行方向に関して垂
直リフレクタの後流位置に配置されていて散乱X線の通
過を防止する散乱防止スリットと、そのスリットの後流
位置に配置されていて測定対象である試料を支持する試
料ホルダと、試料の後流位置に配設されたフィルムとを
有する点収束カメラ装置において、水平リフレクタのX
線反射面上を通る水平軸線を中心として回転可能な補助
ベースを設け、上記垂直リフレクタ、スリット、試料ホ
ルダ及びフィルムの各要素をその補助ベース上に載置し
たことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a point-focusing camera device according to the present invention is provided with an X-ray source which emits X-rays having a cross-sectional point shape, and an X-ray which is arranged in a horizontal plane. A horizontal reflector that reflects the X-rays emitted from the source, a vertical reflector that is arranged in a vertical plane and that reflects the X-rays that are reflected by the horizontal reflector, and a downstream position of the vertical reflector with respect to the traveling direction of the X-rays. Scattering prevention slit for preventing the passage of scattered X-rays, a sample holder arranged at the downstream position of the slit for supporting a sample to be measured, and a film arranged at the downstream position of the sample In a point-focusing camera device having
It is characterized in that an auxiliary base rotatable about a horizontal axis passing on the line reflection surface is provided, and each element of the vertical reflector, slit, sample holder and film is placed on the auxiliary base.

【0011】[0011]

【作用】水平リフレクタ上の軸線を中心として補助ベー
スを回転、すなわち傾動させることにより、その補助ベ
ース上に載置されたX線光学系の光軸を水平リフレクタ
を中心として傾動させることができる。この光軸の傾動
により、水平リフレクタよりも後流側のX線光学系の光
軸を水平リフレクタで反射したX線の光軸に正確に一致
させることができる。
By rotating or tilting the auxiliary base about the axis of the horizontal reflector, the optical axis of the X-ray optical system mounted on the auxiliary base can be tilted about the horizontal reflector. By this tilting of the optical axis, the optical axis of the X-ray optical system on the downstream side of the horizontal reflector can be accurately matched with the optical axis of the X-ray reflected by the horizontal reflector.

【0012】[0012]

【実施例】図1は、本発明に係る点収束カメラ装置の一
実施例を示している。この装置は、3つの足部材9によ
って3点支持されて床10の上に載置された基台8を有
している。3つの足部材9のうちの右側の1つは、基台
8の奥側に隠れていて見えない状態となっている。基台
8の左部上面には、水平リフレクタ3を支持する円柱又
は角柱状の部材である水平リフレクタホルダ11が固定
して設けられている。この水平リフレクタ3は反射点を
中心として回転し、水平に入る入射X線を受けられるよ
うに調節される。また、その水平リフレクタホルダ11
の根元部分のまわりには、水平リフレクタ3のX線反射
面上において紙面垂直方向に延びる軸線αを中心とする
円弧形状のガイド面Pが形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of a point-converging camera device according to the present invention. This device has a base 8 supported on three points by three foot members 9 and placed on a floor 10. One of the three foot members 9 on the right side is hidden behind the base 8 and is invisible. A horizontal reflector holder 11 that is a columnar or prismatic member that supports the horizontal reflector 3 is fixedly provided on the upper surface of the left side of the base 8. The horizontal reflector 3 rotates about a reflection point and is adjusted so as to receive an incident X-ray entering horizontally. In addition, the horizontal reflector holder 11
An arc-shaped guide surface P is formed around the root portion of the horizontal reflector 3 on the X-ray reflecting surface of the horizontal reflector 3 with the axis α extending in the direction perpendicular to the paper surface as the center.

【0013】基台8の上には補助ベース17が配設され
ている。この補助ベース17の左部下面には、基台8の
ガイド面Pと同じ曲率半径を有するガイド面Qが形成さ
れている。補助ベース17のガイド面Qと基台8のガイ
ド面Pとは、互いに離れることなく、しかし相対的に滑
り移動できるように接合されている。上記の水平リフレ
クタホルダ11は補助ベース17を貫通しており、そし
て水平リフレクタホルダ11と補助ベース17との間に
は、補助ベース17が自由に傾動できる程度の十分な間
隔が設けられている。
An auxiliary base 17 is arranged on the base 8. A guide surface Q having the same radius of curvature as the guide surface P of the base 8 is formed on the lower surface of the left side of the auxiliary base 17. The guide surface Q of the auxiliary base 17 and the guide surface P of the base 8 are joined so as not to separate from each other but to allow relative sliding movement. The horizontal reflector holder 11 passes through the auxiliary base 17, and a sufficient space is provided between the horizontal reflector holder 11 and the auxiliary base 17 so that the auxiliary base 17 can freely tilt.

【0014】補助ベース17の水平リフレクタ3に隣接
した所に、垂直リフレクタ4を支持した円柱状の垂直リ
フレクタホルダ12が固定して設けられている。さら
に、補助ベース17の右部上面に、垂直リフレクタ4の
X線反射点ωを中心として水平面内で回転可能な可動ベ
ース13が載置されている。そしてこの可動ベース13
の上に、散乱防止スリット5を支持したスリットボック
ス14、試料7を支持した試料ホルダ15及びフィルム
6を担持したフィルムカセット16が固定されている。
補助ベース17の右端には、高さ調節ネジ18がネジ結
合されている。この調節ネジ18の下端は基台8の右部
上面に接触している。
A cylindrical vertical reflector holder 12 that supports the vertical reflector 4 is fixedly provided at a position adjacent to the horizontal reflector 3 of the auxiliary base 17. Further, on the upper surface of the right portion of the auxiliary base 17, a movable base 13 which is rotatable in the horizontal plane about the X-ray reflection point ω of the vertical reflector 4 is placed. And this movable base 13
A slit box 14 supporting the anti-scattering slit 5, a sample holder 15 supporting the sample 7, and a film cassette 16 supporting the film 6 are fixed thereon.
A height adjusting screw 18 is screwed to the right end of the auxiliary base 17. The lower end of the adjusting screw 18 is in contact with the upper surface of the right portion of the base 8.

【0015】以下、上記構成よりなる点収束カメラ装置
の動作について説明する。
The operation of the point-converging camera device having the above structure will be described below.

【0016】(X線回折像の撮像処理)可動ベース13
の軸線ωまわりの角度位置を、図3に示した反射鏡対応
位置又は図4に示したモノクロメータ対応位置のいずれ
かに設定する。その状態でX線源1からX線を放射す
る。この場合、X線源1からは微小焦点、例えば0.1
mm×0.1mm程度の大きさの焦点からX線が放射さ
れる。放射された微小断面径のX線は、入射側スリット
2によって断面形状を制限された状態で、水平リフレク
タ3で反射し、さらに垂直リフレクタ4で反射又は回折
反射する。
(Image pickup processing of X-ray diffraction image) Movable base 13
The angular position around the axis ω of is set to either the reflecting mirror corresponding position shown in FIG. 3 or the monochromator corresponding position shown in FIG. In that state, the X-ray source 1 emits X-rays. In this case, from the X-ray source 1, a minute focus, for example, 0.1
X-rays are emitted from a focal point having a size of about mm × 0.1 mm. The emitted X-ray having a minute cross-sectional diameter is reflected by the horizontal reflector 3 and further reflected or diffracted by the vertical reflector 4 in a state where the cross-sectional shape is restricted by the entrance slit 2.

【0017】垂直リフレクタ4で反射又は回折反射した
X線は、散乱防止スリット5を通過して試料7に入射す
る。試料7に入射したX線と試料7内の結晶格子面との
間で所定の回折条件が満足されると、試料7においてX
線の回折が生じる。この回折X線は、フィルム6に結像
し、そのフィルム6を露光し、この露光によりフィルム
6上に目的とする回折X線像が得られる。
The X-rays reflected or diffracted by the vertical reflector 4 pass through the anti-scatter slit 5 and enter the sample 7. When a predetermined diffraction condition is satisfied between the X-rays incident on the sample 7 and the crystal lattice planes in the sample 7, X
Line diffraction occurs. The diffracted X-rays are imaged on the film 6, and the film 6 is exposed to light, whereby a desired diffracted X-ray image is obtained on the film 6.

【0018】本点収束カメラ装置では、水平リフレクタ
3及び垂直リフレクタ4の両リフレクタによってX線を
フィルム6上に収束させるようにしている。この収束す
るX線を試料7に照射するようにしてあるので、高分解
能で、しかもバックグラウンドの低い2次元回折像、特
に小角度領域内での回折像をフィルム6上に得ることが
できる。
In this point-focusing camera device, the X-rays are focused on the film 6 by both the horizontal reflector 3 and the vertical reflector 4. Since the sample 7 is irradiated with the converged X-rays, it is possible to obtain a two-dimensional diffraction image with a high resolution and a low background, particularly a diffraction image in a small angle region on the film 6.

【0019】(光軸調節処理)上述したX線回折像の撮
像処理は、X線源1からでるX線の光軸と、基台8上の
X線光学系の光軸とが正確に一致した状態において、初
めて正確に行われる。この光軸調節は、次のようにして
行われる。
(Optical Axis Adjustment Processing) In the above-described X-ray diffraction image pickup processing, the optical axis of the X-ray emitted from the X-ray source 1 and the optical axis of the X-ray optical system on the base 8 are exactly matched. It will be done correctly only in the state where it did. This optical axis adjustment is performed as follows.

【0020】まず、基台8に付設した3つの足部材9の
それぞれの高さ調節を行って、水平リフレクタ3の鏡面
をX線源1に対する所定の高さ位置に正確に一致させ
る。具体的には、水平リフレクタ3で反射するX線を蛍
光板又はX線カウンタによって受け取り、その受け取っ
たX線の強度が最大になるように水平リフレクタ3の高
さ位置を設定する。
First, the height of each of the three foot members 9 attached to the base 8 is adjusted so that the mirror surface of the horizontal reflector 3 is exactly aligned with a predetermined height position with respect to the X-ray source 1. Specifically, the X-ray reflected by the horizontal reflector 3 is received by a fluorescent screen or an X-ray counter, and the height position of the horizontal reflector 3 is set so that the intensity of the received X-ray becomes maximum.

【0021】次いで、可動ベース13上のX線光学系の
光軸を、水平リフレクタ3で反射して進行するX線の光
軸に正確に一致させる。具体的には、補助ベース高さ調
節ネジ18を締め込み、あるいは緩めて、補助ベース1
7をガイド面P及びQに沿って適宜の角度だけ回転させ
る。この回転により、補助ベース17は水平リフレクタ
3のX線反射面上の軸線αを中心として傾動する。この
とき、ホルダ11に支持された水平リフレクタ3は不動
のままである。補助ベース17が傾動するとそれと一体
である可動ベース13も一体になって傾動し、その結
果、可動ベース13上に載置された垂直リフレクタ4か
らフィルム6に至るX線光学系の光軸がネジ18の調節
量に見合った角度だけ傾動する。この傾動により、その
光学系の光軸と水平リフレクタ3で反射するX線の光軸
とを正確に一致させることができる。
Next, the optical axis of the X-ray optical system on the movable base 13 is exactly matched with the optical axis of the X-ray reflected by the horizontal reflector 3 and traveling. Specifically, tighten or loosen the auxiliary base height adjusting screw 18 to remove the auxiliary base 1
7 is rotated by an appropriate angle along the guide surfaces P and Q. By this rotation, the auxiliary base 17 tilts about the axis α on the X-ray reflection surface of the horizontal reflector 3. At this time, the horizontal reflector 3 supported by the holder 11 remains stationary. When the auxiliary base 17 tilts, the movable base 13 which is integral with the auxiliary base 17 also tilts, and as a result, the optical axis of the X-ray optical system from the vertical reflector 4 mounted on the movable base 13 to the film 6 is screwed. Tilt by an angle corresponding to the adjustment amount of 18. Due to this tilting, the optical axis of the optical system and the optical axis of the X-ray reflected by the horizontal reflector 3 can be accurately matched.

【0022】このようにX線と光学系の光軸とを正確に
一致させることにより、きわめて分解能の高いX線回折
像を得ることが可能となる。すなわち、容易に識別でき
る鮮明な黒化像をフィルム6上に得ることが可能とな
る。
By accurately matching the X-ray and the optical axis of the optical system in this way, it is possible to obtain an X-ray diffraction image with extremely high resolution. That is, a clear blackened image that can be easily identified can be obtained on the film 6.

【0023】以上、一つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、補助ベース17を水平リフレクタ3上の軸
線αを中心として回転させるための機構は、円弧状に形
成したガイド面P及びQに限られず、他の任意の構成と
することができる。
Although the present invention has been described with reference to one embodiment, the present invention is not limited to this embodiment. For example, the mechanism for rotating the auxiliary base 17 about the axis α on the horizontal reflector 3 is not limited to the guide surfaces P and Q formed in an arc shape, but may be any other configuration.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、補助ベースを回転、す
なわち傾動させることにより、水平リフレクタよりも後
流側にあるX線光学系の光軸をその水平リフレクタに対
して傾動させることができるようになった。これによ
り、水平リフレクタの後流側に設置された、垂直リフレ
クタからフィルムに至るX線光学系の光軸を水平リフレ
クタで反射するX線の光軸に正確に一致させることがで
きるようになり、従って、点収束カメラ装置によるきわ
めて分解能の高いX線回折測定ができるようになった。
According to the present invention, the optical axis of the X-ray optical system on the downstream side of the horizontal reflector can be tilted with respect to the horizontal reflector by rotating, that is, tilting the auxiliary base. It became so. As a result, the optical axis of the X-ray optical system, which is installed on the downstream side of the horizontal reflector and extends from the vertical reflector to the film, can be accurately matched with the optical axis of the X-ray reflected by the horizontal reflector. Therefore, it has become possible to perform X-ray diffraction measurement with extremely high resolution using the point-focusing camera device.

【0025】[0025]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る点収束カメラ装置の一実施例を示
す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a point converging camera device according to the present invention.

【図2】点収束カメラ装置における一般的なX線光学系
を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a general X-ray optical system in a point-focusing camera device.

【図3】垂直リフレクタとしてX線反射鏡を用いた場合
のX線光学系の配置態様を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an arrangement mode of an X-ray optical system when an X-ray reflecting mirror is used as a vertical reflector.

【図4】垂直リフレクタとしてモノクロメータを用いた
場合のX線光学系の配置態様を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing an arrangement mode of an X-ray optical system when a monochromator is used as a vertical reflector.

【図5】従来の点収束カメラ装置の一例を示す正面図で
ある。
FIG. 5 is a front view showing an example of a conventional point-focusing camera device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 X線源 3 水平リフレクタ 4 垂直リフレクタ 5 散乱防止スリット 6 フィルム 7 試料 15 試料ホルダ 17 補助ベース α 補助ベースの回転軸線 1 X-ray source 3 Horizontal reflector 4 Vertical reflector 5 Anti-scatter slit 6 Film 7 Sample 15 Sample holder 17 Auxiliary base α Axial axis of auxiliary base

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 断面点状のX線を放射する微小焦点のX
線源と、水平面内に配置されていてX線源から放射され
たX線を反射する水平リフレクタと、垂直面内に配置さ
れていて水平リフレクタで反射したX線を反射する垂直
リフレクタと、X線の進行方向に関して垂直リフレクタ
の後流位置に配置されていて散乱X線の通過を防止する
散乱防止スリットと、X線の進行方向に関して散乱防止
スリットの後流位置に配置されていて測定対象である試
料を支持する試料ホルダと、X線進行方向に関して試料
の後流位置に配設されたフィルムとを有する点収束カメ
ラ装置において、 水平リフレクタのX線反射面上を通る水平軸線を中心と
して回転可能な補助ベースを有しており、上記垂直リフ
レクタ、散乱防止スリット、試料ホルダ及びフィルムが
その補助ベース上に載置されていることを特徴とする点
収束カメラ装置。
1. A micro focus X which emits an X-ray having a point-like cross section.
A radiation source, a horizontal reflector arranged in a horizontal plane for reflecting X-rays emitted from the X-ray source, a vertical reflector arranged in a vertical plane for reflecting X-rays reflected by the horizontal reflector, and X The anti-scattering slit, which is arranged at the wake position of the vertical reflector in the traveling direction of the X-rays and prevents the passage of scattered X-rays, and the wake position of the anti-scattering slit, which is arranged at the wake position of the X-ray traveling direction, In a point-focusing camera device having a sample holder supporting a certain sample and a film arranged at a position downstream of the sample with respect to the X-ray traveling direction, rotating around a horizontal axis passing through the X-ray reflecting surface of the horizontal reflector. It has a possible auxiliary base and is characterized in that the vertical reflector, the anti-scatter slit, the sample holder and the film are mounted on the auxiliary base. Converging camera device.
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