JPH05304364A - 多層配線板の製造方法 - Google Patents

多層配線板の製造方法

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JPH05304364A
JPH05304364A JP13201892A JP13201892A JPH05304364A JP H05304364 A JPH05304364 A JP H05304364A JP 13201892 A JP13201892 A JP 13201892A JP 13201892 A JP13201892 A JP 13201892A JP H05304364 A JPH05304364 A JP H05304364A
Authority
JP
Japan
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layer
plating
roughening
nickel
catalyst
Prior art date
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Pending
Application number
JP13201892A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Nakamura
康宏 中村
Koichi Noguchi
浩一 野口
Hiroyoshi Yokoyama
博義 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi AIC Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi AIC Inc filed Critical Hitachi AIC Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 多層配線板の絶縁抵抗を向上し、絶縁不良を
防止すること。 【構成】 内層回路2を設けた基板1の表面に絶縁層3
及び接着剤層4を積層する。次に基板1を貫通する孔5
を設ける。そしてめっき触媒を付着する。付着後、接着
剤層4の表面に付着しためっき触媒をベルトサンダー等
により力を加えて除去する。除去後、孔5の内壁面6に
ニッケル層7を形成する。この後、接着剤層4を粗化す
る。粗化後、無電解めっき処理をして接着剤層4表面に
外層回路9を形成するとともにニッケル層7の表面にめ
っき層10を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多層配線板の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】多層配線板は、例えば次の通りに無電解
めっき処理をして製造する。先ず、表面に内層回路を形
成したガラスエポキシ樹脂積層板等を用い、この積層板
に絶縁層と接着剤層とを積層する。積層後、貫通する孔
を設ける。孔を設けた後、積層板を粗化液中に浸漬して
接着剤層の表面を粗化する。粗化液としては、例えば、
硼弗化水素酸溶液やクロム硫酸系溶液等を用いる。粗化
後、無電解めっき用の触媒を接着剤層の表面や孔内壁面
に付着する。触媒を付着後、無電解めっき処理をして外
層回路を設けるとともに、孔内壁にめっき層を設ける。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、粗化液中に積
層板を浸漬すると、孔内壁面から露出している、積層板
の材料のガラスクロスや樹脂等が浸食を受ける。この状
態で無電解めっき処理をすると、めっき液がガラスクロ
ス等の間に染込む。そのために、積層板の絶縁性が低下
する欠点がある。また、回路間に電圧を印加すると、よ
り絶縁抵抗が低下し、短絡を生じ易くなる欠点がある。
【0004】本発明は、以下の欠点を改良し、絶縁抵抗
を向上して絶縁不良を防止できる多層配線板の製造方法
を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、内層回路を設けた基板の表面に絶縁層
及び接着剤層を積層し、貫通する孔を設け、めっき触媒
を付着し、接着剤層を粗化し、無電解めっき処理をする
多層配線板の製造方法において、めっき触媒を付着後に
接着剤層表面のこのめっき触媒を力を加えて除去する工
程と、この工程後に孔内壁面にニッケル層を形成する工
程とを行うことを特徴とする多層配線板の製造方法を提
供するものである。
【0006】めっき触媒を力を加えて除去するにはベル
トサンダーやバフ等を用いて、研磨する。
【0007】
【作用】ニッケルは比較的に粗化液等の薬品に浸食され
難く、粗化処理をしても、粗化液によって基板が孔内壁
面から浸食を受けないですむ。
【0008】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
基板としてガラスエポキシ樹脂積層板を用いる。そして
図1(イ)に示す通り、この基板1に内層回路2を設け
る。また、基板1の表面に絶縁層3及び接着剤層4を順
次積層する。次に、図1(ロ)に示す通り、ドリルを用
いて基板1を貫通する孔5を形成する。孔5を形成後、
基板1を無水クロム酸溶液中に浸漬してスミア処理す
る。スミア処理後、基板1をめっき触媒溶液中に浸漬
し、接着剤層4の表面及び孔5の内壁面6にめっき触媒
を付着する。めっき触媒を付着後、ベルトサンダーやバ
フ等を用いて接着剤層4表面のめっき触媒を除去する。
めっき触媒を除去後、基板1を温度60〜90℃の無電
解ニッケルめっき溶液中に5〜20分間浸漬し、図1
(ハ)に示す通り、孔5の内壁面6に厚さ2〜5μmの
ニッケル層7を形成する。この場合、無電解ニッケルめ
っき溶液の温度が60℃より低いとニッケルが析出し難
くなり、90℃より高いと液が分解し易くなり好ましく
ない。ニッケル層7を成形後、図1(ニ)に示す通り、
接着剤層4の表面にめっきレジストを印刷して、めっき
レジスト層8を形成する。めっきレジスト層8を形成
後、基板1をクロム硫酸系粗化液中に浸漬して、図1
(ホ)に示す通り、接着剤層4を粗化する。粗化処理
後、基板1を無電解銅めっき溶液中に浸漬して、図1
(ヘ)に示す通り、接着剤層4の表面に外層回路9を形
成するとともに、ニッケル層7の表面に銅めっき層10
を形成する。
【0009】次に、本発明の実施例と従来例とについ
て、無電解銅めっき液が孔内壁面からしみ込む深さと、
絶縁抵抗とを測定し、その結果を表1に示した。なお、
前者は孔の断面を顕微鏡(倍率400倍)によって観察
して測定する。そして後者は距離0.4mmの孔の間にD
C50Vを印加したまま、基板全体を温度85℃湿度8
5%RHの雰囲気中に1000時間放置した後の孔間の
絶縁抵抗とする。また、実施例と従来例の製造条件は次
の通りとする。 実施例1: イ)めっき触媒付着処理 基板をめっき触媒(日立化成工業株式会社製HS−10
1B)の溶液中に10分間浸漬する。 ロ)無電解ニッケルめっき処理 基板を温度70℃の無電解ニッケルめっき液(日本カニ
ゼン株式会社製ブルーシューマー)中に20分間浸漬す
る。 実施例2:実施例1において、無電解ニッケルめっき液
の温度を80℃、浸漬時間を10分間とする以外は同一
条件とする。 実施例3:実施例1において、無電解ニッケルめっき液
の温度を90℃、浸漬時間を5分間とする以外は同一条
件とする。 従来例:実施例1において、無電解ニッケルめっき処理
を省略する以外は同一条件とする。
【0010】
【表1】
【0011】表1から明らかな通り、実施例1〜実施例
3によれば無電解銅めっき液のしみ込みを完全に防止で
きる。これに対して従来例は35μmしみ込んでいた。
また、絶縁抵抗についても実施例1〜実施例3は、従来
例の約1.5×102〜6.0×102 倍になる。
【0012】
【発明の効果】以上の通り、本発明の製造方法によれ
ば、めっき触媒を付着後に接着剤層表面のめっき触媒を
ベルトサンダー等により力を加えて除去し、その後、孔
内壁面にニッケル層を形成し、粗化処理しているため
に、絶縁抵抗を向上でき、短絡等の絶縁不良を防止でき
る多層配線板が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の工程図を示す。
【符号の説明】
1…基板、 2…内層回路、 3…絶縁層、 4…接着
剤層、 5…孔、6…孔内壁面、 7…ニッケル層、
9…外層回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内層回路を設けた基板の表面に絶縁層及
    び接着剤層を積層し、貫通する孔を設け、めっき触媒を
    付着し、接着剤層を粗化し、無電解めっき処理をする多
    層配線板の製造方法において、めっき触媒を付着後に接
    着剤層表面のこのめっき触媒を力を加えて除去する工程
    と、この工程後に孔内壁面にニッケル層を形成する工程
    とを行うことを特徴とする多層配線板の製造方法。
JP13201892A 1992-04-24 1992-04-24 多層配線板の製造方法 Pending JPH05304364A (ja)

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