JPH05303889A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JPH05303889A
JPH05303889A JP4130236A JP13023692A JPH05303889A JP H05303889 A JPH05303889 A JP H05303889A JP 4130236 A JP4130236 A JP 4130236A JP 13023692 A JP13023692 A JP 13023692A JP H05303889 A JPH05303889 A JP H05303889A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
internal voltage
circuit
output
external terminal
internal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4130236A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Ichimura
徹 市村
Takeshi Kajimoto
毅 梶本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4130236A priority Critical patent/JPH05303889A/en
Publication of JPH05303889A publication Critical patent/JPH05303889A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To measure an internal voltage after enclosed by resin in a semiconductor device provided with an internal voltage generation circuit stepping down or boosting a power source and generating an internal source. CONSTITUTION:The internal voltage measuring circuit 10 of a differential amplifier type whose drive is controlled by a control circuit 2 is provided and the internal voltage generation circuit 1 is connected to one side transistor 13 being the differential input of the circuit and a test signal being a comparison signal is inputted to the other transistor 14 and the output of the internal voltage generation circuit 1 is detected by a voltmeter connected to an external terminal 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は装置内部で発生した電
圧を、樹脂封止後に測定できる構造を有する半導体装置
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a structure capable of measuring a voltage generated inside the device after resin sealing.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来の半導体装置の回路構成図で
あり、この図はDRAMの内部電圧発生回路を中心とし
た電位接続の概念図を示し、内部電圧発生回路として、
5V単一の電源電圧VCCを基にしてチップ上で負電圧
(約−3V)の基板バイアス電位VSSを発生させる降圧
回路を備えたものである。図において、50は基板であ
り、該基板上には内部回路52と降圧回路51が形成さ
れ、降圧回路51は該回路に接続された約5Vの電源電
圧VCCを降圧して約−3Vの基板バイアス電位VSSを出
力し、これを基板50に印加するように構成されてい
る。そして内部回路52はこの基板バイアス電位VSSと
電源電位VCCとにより駆動されるようになっている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a conventional semiconductor device. This figure shows a conceptual diagram of potential connection centering on an internal voltage generation circuit of a DRAM.
It is provided with a step-down circuit for generating a substrate bias potential VSS of a negative voltage (about -3V) on the chip based on a single 5V power supply voltage VCC. In the figure, reference numeral 50 denotes a substrate, on which an internal circuit 52 and a step-down circuit 51 are formed. The step-down circuit 51 steps down a power supply voltage Vcc of about 5V connected to the circuit to obtain a substrate of about -3V. The bias potential VSS is output and applied to the substrate 50. The internal circuit 52 is driven by the substrate bias potential VSS and the power source potential VCC.

【0003】以上のような装置は完成後に樹脂等により
封止され実装されるが、樹脂封止した後は、外部より上
記降圧回路51の動作状態を確認することができず、回
路設計時のデバイスシュミレーション時に得られた電位
が実際に出力されているか否かを判定することができ
ず、製品化された後のデバイス解析を行うことができな
かった。
The above-mentioned device is sealed and mounted with resin or the like after completion, but after the resin is sealed, the operating state of the step-down circuit 51 cannot be confirmed from the outside, so that the circuit design is not possible. It was not possible to determine whether or not the potential obtained during device simulation was actually output, and it was not possible to perform device analysis after it was commercialized.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置は以
上のように構成されており、樹脂封止後に、装置内部で
電源電圧から発生させた内部電圧を測定することができ
ないという問題点があった。
The conventional semiconductor device is constructed as described above, and there is a problem that the internal voltage generated from the power supply voltage cannot be measured inside the device after resin sealing. It was

【0005】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、樹脂封止後に装置内部で発生し
た内部電圧を測定することができる半導体装置を得るこ
とを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to obtain a semiconductor device capable of measuring an internal voltage generated inside the device after resin sealing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、内部電圧発生回路の出力を装置外部に出力する内
部電圧出力手段を備えたものである。
A semiconductor device according to the present invention comprises internal voltage output means for outputting the output of an internal voltage generating circuit to the outside of the device.

【0007】また、上記内部電圧出力手段を、内部電圧
発生回路の出力を外部端子に接続するための接続回路
と、該接続回路の接続動作を制御する制御回路とから構
成したものである。
Further, the internal voltage output means comprises a connection circuit for connecting the output of the internal voltage generation circuit to an external terminal and a control circuit for controlling the connection operation of the connection circuit.

【0008】[0008]

【作用】この発明においては、内部電圧出力手段を設け
たから、樹脂等により回路を封止した後でも内部電圧発
生回路の出力を装置外部に出力することができる。
In the present invention, since the internal voltage output means is provided, the output of the internal voltage generating circuit can be output to the outside of the device even after the circuit is sealed with resin or the like.

【0009】また、上記内部電圧出力手段に、内部電圧
発生回路の出力を装置外部に出力する際の出力制御を行
う機能を持たせたから、必要な時にのみ内部電圧発生回
路の出力を装置外部に取り出すことができる。
Further, since the internal voltage output means has a function of controlling the output when the output of the internal voltage generating circuit is output to the outside of the device, the output of the internal voltage generating circuit is output to the outside of the device only when necessary. You can take it out.

【0010】[0010]

【実施例】以下、この発明の一実施例による半導体装置
を図1に基づいて説明する。図1(a) において、10
は、PチャネルMOSトランジスタ11,12及びNチ
ャネルMOSトランジスタ13,14,15で構成され
る差動増幅器型の内部電圧測定回路、1は電源電圧VCC
を入力とし、これを昇圧または降圧して内部電圧VSSと
して出力する内部電圧発生回路、2は図示しない所定の
外部端子に入力される電位レベルに応じて上記内部電圧
測定回路10を駆動制御するための制御回路、3及び4
はチップの外部端子である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 1 (a), 10
Is a differential amplifier type internal voltage measuring circuit composed of P-channel MOS transistors 11, 12 and N-channel MOS transistors 13, 14, 15;
Is used as an input, and an internal voltage generating circuit 2 for stepping up or stepping down this voltage and outputting it as an internal voltage VSS is used to drive and control the internal voltage measuring circuit 10 according to a potential level input to a predetermined external terminal (not shown). Control circuits, 3 and 4
Is an external terminal of the chip.

【0011】次に動作について図1(b) を参照しつつ説
明する。まず端子4に電圧計を接続し、端子3に内部電
圧測定のための比較電圧となる試験信号を印加する。通
常動作時には制御回路2はLレベル信号を出力している
ため、内部電圧測定回路10は活性化されておらず、ト
ランジスタ11,12がオン状態となっており、またト
ランジスタ14にはLレベル信号が印加されてオフして
いるため、外部端子4にはHレベル信号が出力されてい
る。
Next, the operation will be described with reference to FIG. First, a voltmeter is connected to the terminal 4, and a test signal serving as a comparison voltage for measuring the internal voltage is applied to the terminal 3. Since the control circuit 2 outputs an L level signal during normal operation, the internal voltage measuring circuit 10 is not activated, the transistors 11 and 12 are in an ON state, and the transistor 14 has an L level signal. Is applied and turned off, the H level signal is output to the external terminal 4.

【0012】そして制御回路2に接続する外部端子に試
験開始を知らせる開始信号が入力されると、内部電圧測
定状態に移行したことが検知され、該回路2はHレベル
の信号をトランジスタ15に出力する。これにより内部
電圧測定回路10は活性化され、この状態で上記外部端
子3に印加される試験信号の電圧をLレベルから徐々に
Hレベルへと変化させていくとトランジスタ14が徐々
にオンし、上記試験信号の電位が上記内部電圧発生回路
1の出力VSSと同一レベルとなると、出力端子4の電位
がHレベルからLレベルに反転し、この時の上記外部端
子3に印加される試験信号の電位を読み取ることで、内
部電圧発生回路1の出力電位を算出することができる。
When a start signal indicating the start of the test is input to the external terminal connected to the control circuit 2, it is detected that the internal voltage measurement state has been entered, and the circuit 2 outputs an H level signal to the transistor 15. To do. As a result, the internal voltage measuring circuit 10 is activated. In this state, when the voltage of the test signal applied to the external terminal 3 is gradually changed from the L level to the H level, the transistor 14 is gradually turned on, When the potential of the test signal becomes the same level as the output VSS of the internal voltage generating circuit 1, the potential of the output terminal 4 is inverted from H level to L level, and the test signal applied to the external terminal 3 at this time is inverted. By reading the potential, the output potential of the internal voltage generating circuit 1 can be calculated.

【0013】なお上記外部端子3に印加される試験信号
がHレベルから徐々にLレベルに変化する場合には、外
部端子4の電圧がLレベルからHレベルに反転する際の
試験信号の電位レベルを読み取り、内部電圧発生回路1
の出力電位を算出することになる。
When the test signal applied to the external terminal 3 gradually changes from the H level to the L level, the potential level of the test signal when the voltage of the external terminal 4 is inverted from the L level to the H level. Read the internal voltage generation circuit 1
Will be calculated.

【0014】このように本実施例によれば、制御回路2
により駆動制御される、差動増幅器型の内部電圧測定回
路10を設け、差動入力となる一方のトランジスタ13
に内部電圧発生回路を接続し、内部電圧測定状態におい
て、他方のトランジスタ14に外部端子3を介して比較
電圧となる試験信号を入力し、かつ外部端子4に電圧計
を接続し、上記試験信号の電圧を変化させ、外部端子4
の出力電圧がHレベルからLレベル、あるいはLレベル
からHレベルへと変化する点を見つけ、その時の外部端
子3の電圧値から内部電圧を算出するようにしたから、
装置を樹脂封止した後でも、内部電圧発生回路1にて発
生される内部電圧を測定することができ、デバイスシュ
ミレーション時の電圧が実際に出力されているか否かを
容易に確認することができる。また、制御回路2により
内部電圧測定回路10の動作を制御するようにしている
ため、内部電圧測定状態以外の通常の動作時に、外部端
子4から不要な信号が出力されることがなく、従って消
費電流の増大や、ノイズの発生等の問題が生じることが
ない。
As described above, according to this embodiment, the control circuit 2
A differential amplifier type internal voltage measuring circuit 10 driven and controlled by the
Is connected to an internal voltage generation circuit, and in the internal voltage measurement state, a test signal serving as a comparison voltage is input to the other transistor 14 via the external terminal 3, and a voltmeter is connected to the external terminal 4, Change the voltage of the external terminal 4
Since the output voltage of is found to change from the H level to the L level or from the L level to the H level, the internal voltage is calculated from the voltage value of the external terminal 3 at that time,
Even after the device is sealed with resin, the internal voltage generated by the internal voltage generating circuit 1 can be measured, and it can be easily confirmed whether or not the voltage at the time of device simulation is actually output. .. Further, since the control circuit 2 controls the operation of the internal voltage measuring circuit 10, an unnecessary signal is not output from the external terminal 4 during a normal operation other than the internal voltage measuring state, and therefore the consumption is reduced. There are no problems such as an increase in current and generation of noise.

【0015】次に、この発明の第2の実施例による半導
体装置を図2に基づいて説明する。この実施例では、内
部電圧発生回路1の出力を内部電圧測定状態において直
接装置外部にとり出して測定するようにしたものであ
る。すなわち図2において、20は内部電圧測定回路で
あり、内部電圧発生回路1はNチャネルMOSトランジ
スタ21,PチャネルMOSトランジスタ22からなる
トランシュミションゲートを介して外部端子5と接続さ
れており、上記NチャネルMOSトランジスタ21及び
PチャネルMOSトランジスタ22の動作は制御回路2
により制御されるようになっている。なお23は上記P
チャネルMOSトランジスタ22に制御回路2の反転信
号を供給するためのインバータ回路23である。
Next, a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the output of the internal voltage generating circuit 1 is directly taken out of the device and measured in the internal voltage measuring state. That is, in FIG. 2, reference numeral 20 denotes an internal voltage measuring circuit, and the internal voltage generating circuit 1 is connected to the external terminal 5 through a transition gate composed of an N-channel MOS transistor 21 and a P-channel MOS transistor 22. The operation of the channel MOS transistor 21 and the P-channel MOS transistor 22 is controlled by the control circuit 2.
It is controlled by. 23 is the above P
An inverter circuit 23 for supplying an inverted signal of the control circuit 2 to the channel MOS transistor 22.

【0016】次に動作について説明する。内部電圧測定
状態において、外部端子5に電圧計を接続する方法と、
外部端子5に試験信号を入力する方法の2通りの方法が
ある。まず前者の場合は、制御回路2よりHレベル信号
が出力されて内部電圧測定状態とり、トランジスタ2
1,2からなるトランスミションゲートが開放され、内
部電圧発生回路1の出力が外部端子5に出力され、この
外部端子5に出力される電圧を測定することで内部電圧
発生回路1の出力電圧を知ることができる。
Next, the operation will be described. A method of connecting a voltmeter to the external terminal 5 in the internal voltage measurement state,
There are two methods of inputting the test signal to the external terminal 5. First, in the former case, the H level signal is output from the control circuit 2 to take the internal voltage measurement state, and the transistor 2
The output gate of the internal voltage generation circuit 1 is measured by measuring the voltage output to the external terminal 5 by outputting the output of the internal voltage generation circuit 1 to the external gate 5 by opening the transmission gate 1 and 2. I can know.

【0017】一方、後者の場合には、外部端子5に供給
される試験信号の電圧を変化させ、この電圧が内部電圧
発生回路1の出力に等しくなった時に、外部端子5にお
ける電流値が零になることを利用し、このときの試験信
号の電圧を読み取ることで内部電圧発生回路1の出力電
圧を知ることができる。このようにすることで簡単な回
路構成で内部電圧を測定することができる。
On the other hand, in the latter case, the voltage of the test signal supplied to the external terminal 5 is changed, and when this voltage becomes equal to the output of the internal voltage generating circuit 1, the current value at the external terminal 5 becomes zero. It is possible to know the output voltage of the internal voltage generating circuit 1 by reading the voltage of the test signal at this time. By doing so, the internal voltage can be measured with a simple circuit configuration.

【0018】次に、この発明の第3の実施例による半導
体装置を図3に基づいて説明する。図3に示すように、
内部電圧測定回路30は、内部信号発生回路1の出力を
NチャネルMOSトランジスタ31のソースに接続し、
該トランジスタ31のゲート及びドレインを外部端子6
に接続するようにしたものである。
Next, a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG.
The internal voltage measuring circuit 30 connects the output of the internal signal generating circuit 1 to the source of the N-channel MOS transistor 31,
The gate and drain of the transistor 31 are connected to the external terminal 6
It is designed to be connected to.

【0019】次に動作について説明する。内部電圧測定
状態において、例えば、外部端子6にトランジスタ31
のスレッシュホールド電圧値よりも高い電圧を有する試
験信号を供給し、徐々に電圧を降下させていき、電流値
が零になる点を見つけ、その時の試験信号の電圧値から
トランジスタ31のスレッシュホールド電圧値を減じた
値を算出することで、内部電圧発生回路1の出力電圧を
知ることができる。
Next, the operation will be described. In the internal voltage measurement state, for example, the transistor 31 is connected to the external terminal 6.
The test signal having a voltage higher than the threshold voltage value of is supplied, the voltage is gradually dropped, the point where the current value becomes zero is found, and the threshold voltage of the transistor 31 is determined from the voltage value of the test signal at that time. The output voltage of the internal voltage generation circuit 1 can be known by calculating the value obtained by subtracting the value.

【0020】このようにすることで、外部端子6に印加
される試験信号により内部電圧測定回路30の駆動制御
を同時に行うことができ、さらに簡単な回路構成で内部
電圧を測定することができる。
By doing so, the drive control of the internal voltage measuring circuit 30 can be simultaneously performed by the test signal applied to the external terminal 6, and the internal voltage can be measured with a simpler circuit configuration.

【0021】次に、この発明の第4の実施例による半導
体装置を図4に基づいて説明する。図4に示すように、
内部電圧測定回路40は、内部信号発生回路1の出力を
NチャネルMOSトランジスタ41のゲートに接続し、
該トランジスタ41のソースに電源VCCを接続し、また
ドレインに外部端子7を接続するようにしたものであ
る。
Next, a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG.
The internal voltage measuring circuit 40 connects the output of the internal signal generating circuit 1 to the gate of the N-channel MOS transistor 41,
The power source Vcc is connected to the source of the transistor 41, and the external terminal 7 is connected to the drain.

【0022】次に動作について説明する。内部電圧測定
状態において、外部端子7に電圧計を接続して出力電圧
を測定する。この電圧値にトランジスタ41のスレッシ
ュホールド電圧値を加えた値を算出することで、内部電
圧発生回路1の出力電圧を知ることができる。
Next, the operation will be described. In the internal voltage measuring state, a voltmeter is connected to the external terminal 7 to measure the output voltage. By calculating the value obtained by adding the threshold voltage value of the transistor 41 to this voltage value, the output voltage of the internal voltage generation circuit 1 can be known.

【0023】この場合、内部電圧発生回路1の出力はト
ランジスタ41のスレッシュホールド電圧値以上で、か
つ電源電圧Vcc〜0Vの間に位置する必要がある。
In this case, the output of the internal voltage generating circuit 1 must be above the threshold voltage value of the transistor 41 and located between the power supply voltage Vcc and 0V.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体装
置によれば、内部電圧測定回路を付加し、その出力を外
部端子に接続するように構成したので、樹脂封止後に装
置内部で電源電圧より発生した内部電圧を測定すること
ができ、プロセス解析に適した半導体装置を得ることが
できる効果がある。
As described above, according to the semiconductor device of the present invention, since the internal voltage measuring circuit is added and the output thereof is connected to the external terminal, the power supply is provided inside the device after the resin sealing. The internal voltage generated from the voltage can be measured, and a semiconductor device suitable for process analysis can be obtained.

【0025】また、制御回路により上記内部電圧測定回
路の動作を制御するようにしたから、測定時以外の通常
動作時に不要な信号が外部端子から出力されることがな
く、ノイズの発生や消費電流の増大を防ぐことができる
という効果がある。
Further, since the control circuit controls the operation of the internal voltage measuring circuit, an unnecessary signal is not output from the external terminal during the normal operation other than the measurement, and the noise and current consumption are reduced. There is an effect that it is possible to prevent the increase of.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第1の実施例による半導体装置の内
部電圧測定回路及び動作波形を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing an internal voltage measuring circuit and an operation waveform of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第2の実施例による半導体装置の内
部電圧測定回路を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing an internal voltage measuring circuit of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第3の実施例による半導体装置の内
部電圧測定回路を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an internal voltage measuring circuit of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】この発明の第4の実施例による半導体装置の内
部電圧測定回路を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an internal voltage measuring circuit of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体装置の内部電圧発生回路を中心と
した電位接続を説明するための図。
FIG. 5 is a diagram for explaining potential connection centering on an internal voltage generation circuit of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内部電圧発生回路 2 内部電圧測定回路用制御回路 3〜7 外部端子 10 内部電圧測定回路 20 内部電圧測定回路 30 内部電圧測定回路 40 内部電圧測定回路 11 PチャネルMOSトランジスタ 12 PチャネルMOSトランジスタ 22 PチャネルMOSトランジスタ 13 NチャネルMOSトランジスタ 14 NチャネルMOSトランジスタ 15 NチャネルMOSトランジスタ 21 NチャネルMOSトランジスタ 31 NチャネルMOSトランジスタ 41 NチャネルMOSトランジスタ 23 インバータ回路 VCC 電源電位 VSS 内部電位 1 Internal Voltage Generation Circuit 2 Control Circuit for Internal Voltage Measurement Circuit 3 to 7 External Terminal 10 Internal Voltage Measurement Circuit 20 Internal Voltage Measurement Circuit 30 Internal Voltage Measurement Circuit 40 Internal Voltage Measurement Circuit 11 P-Channel MOS Transistor 12 P-Channel MOS Transistor 22 P Channel MOS transistor 13 N-channel MOS transistor 14 N-channel MOS transistor 15 N-channel MOS transistor 21 N-channel MOS transistor 31 N-channel MOS transistor 41 N-channel MOS transistor 23 Inverter circuit VCC Power supply potential VSS Internal potential

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年10月22日[Submission date] October 22, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0002[Name of item to be corrected] 0002

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は従来の半導体装置の回路構成図で
あり、この図はDRAMの内部電圧発生回路を中心とし
た電位接続の概念図を示し、内部電圧発生回路として、
5V単一の電源電圧VCCを基にしてチップ上で負電圧
3Vの内部降圧電源電圧INT.VCCを発生させる降圧
回路を備えたものである。図において、50は基板であ
り、該基板上には内部回路52と降圧回路51が形成さ
れ、降圧回路51は該回路に接続された約5Vの電源電
圧VCCを降圧して約3Vの内部降圧電源電圧INT.V
CCを出力し、これを内部回路52に印加するように構成
されている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a conventional semiconductor device. This figure shows a conceptual diagram of potential connection centering on an internal voltage generation circuit of a DRAM.
Negative voltage of approx. 5V on the chip based on a single power supply voltage VCC
3V internal step-down power supply voltage INT. It is provided with a step-down circuit for generating VCC . In the figure, 50 is a substrate, is on the substrate internal circuit 52 and the step-down circuit 51 is formed, the step-down circuit 51 is the internal step-down of about 3V by lowering the power supply voltage VCC of about 5V connected to the circuit Power supply voltage INT. V
Outputs CC, that is configured to apply it to the internal circuit 52.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0010[Correction target item name] 0010

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0010】[0010]

【実施例】以下、この発明の一実施例による半導体装置
を図1に基づいて説明する。図1(a) において、10
は、PチャネルMOSトランジスタ11,12,16
びNチャネルMOSトランジスタ13,14,15とイ
ンバータ回路17とで構成される差動増幅器型の内部電
圧測定回路、1は電源電圧VCCを入力とし、これを昇圧
または降圧して内部電圧VXXとして出力する内部電圧発
生回路、2は図示しない所定の外部端子に入力される電
位レベルに応じて上記内部電圧測定回路10を駆動制御
するための制御回路、3及び4はチップの外部端子であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 1 (a), 10
Are connected to the P-channel MOS transistors 11 , 12 and 16 and the N-channel MOS transistors 13 , 14 and 15.
A differential amplifier type internal voltage measuring circuit composed of an inverter circuit 17 ; 1 is an internal voltage generating circuit which receives the power supply voltage Vcc as an input and which steps up or down to output it as an internal voltage V XX ; Control circuits 3 and 4 for driving and controlling the internal voltage measuring circuit 10 according to a potential level input to a predetermined external terminal are external terminals of the chip.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0011】次に動作について図1(b) を参照しつつ説
明する。まず端子4に電圧計を接続し、端子3に内部電
圧測定のための比較電圧となる試験信号を印加する。通
常動作時には制御回路2はLレベル信号を出力している
ため、内部電圧測定回路10は活性化されておらず、外
部端子4には信号が出力されない
Next, the operation will be described with reference to FIG. First, a voltmeter is connected to the terminal 4, and a test signal serving as a comparison voltage for measuring the internal voltage is applied to the terminal 3. Because during normal operation the control circuit 2 outputs the L level signal, the internal voltage measuring circuit 10 has not been activated, the outer <br/> unit terminal 4 not output signals.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0012[Correction target item name] 0012

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0012】そして制御回路2に接続する外部端子に試
験開始を知らせる開始信号が入力されると、内部電圧測
定状態に移行したことが検知され、該回路2はHレベル
の信号をトランジスタ15に出力する。これにより内部
電圧測定回路10は活性化され、この状態で上記外部端
子3に印加される試験信号の電圧をLレベルから徐々に
Hレベルへと変化させていくとトランジスタ14が徐々
にオンし、上記試験信号の電位が上記内部電圧発生回路
1の出力VXXと同一レベルとなると、出力端子4の電位
がHレベルからLレベルに反転し、この時の上記外部端
子3に印加される試験信号の電位を読み取ることで、内
部電圧発生回路1の出力電位を算出することができる。
When a start signal indicating the start of the test is input to the external terminal connected to the control circuit 2, it is detected that the internal voltage measurement state has been entered, and the circuit 2 outputs an H level signal to the transistor 15. To do. As a result, the internal voltage measuring circuit 10 is activated. In this state, when the voltage of the test signal applied to the external terminal 3 is gradually changed from the L level to the H level, the transistor 14 is gradually turned on, When the potential of the test signal becomes the same level as the output V XX of the internal voltage generating circuit 1, the potential of the output terminal 4 is inverted from the H level to the L level, and the test signal applied to the external terminal 3 at this time. The output potential of the internal voltage generating circuit 1 can be calculated by reading the potential.

【手続補正5】[Procedure Amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Correction target item name] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0015】次に、この発明の第2の実施例による半導
体装置を図2に基づいて説明する。この実施例では、内
部電圧発生回路1の出力を内部電圧測定状態において直
接装置外部にとり出して測定するようにしたものであ
る。すなわち図2において、20は内部電圧測定回路で
あり、内部電圧発生回路1はNチャネルMOSトランジ
スタ21,PチャネルMOSトランジスタ22からなる
トランシュミションゲートを介して外部端子5と接続さ
れており、上記NチャネルMOSトランジスタ21及び
PチャネルMOSトランジスタ22の動作は制御回路2
により制御されるようになっている。なお23は上記P
チャネルMOSトランジスタ22に制御回路2の反転信
号を供給するためのインバータ回路である。
Next, a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the output of the internal voltage generating circuit 1 is directly taken out of the device and measured in the internal voltage measuring state. That is, in FIG. 2, reference numeral 20 denotes an internal voltage measuring circuit, and the internal voltage generating circuit 1 is connected to the external terminal 5 via a transition gate composed of an N-channel MOS transistor 21 and a P-channel MOS transistor 22. The operation of the channel MOS transistor 21 and the P-channel MOS transistor 22 is controlled by the control circuit 2.
It is controlled by. 23 is the above P
An inverter circuitry for supplying an inverted signal of the control circuit 2 to the channel MOS transistor 22.

【手続補正6】[Procedure Amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0016[Correction target item name] 0016

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0016】次に動作について説明する。内部電圧測定
状態において、外部端子5に電圧計を接続する方法と、
外部端子5に試験信号を入力する方法の2通りの方法が
ある。まず前者の場合は、制御回路2よりHレベル信号
が出力されて内部電圧測定状態とり、トランジスタ2
1,2からなるトランスミションゲートが開放され、内
部電圧発生回路1の出力が外部端子5に出力され、この
外部端子5に出力される電圧を測定することで内部電圧
発生回路1の出力電圧を知ることができる。
Next, the operation will be described. A method of connecting a voltmeter to the external terminal 5 in the internal voltage measurement state,
There are two methods of inputting the test signal to the external terminal 5. First the former case, Ri Do internal voltage measurement state is output control circuit 2 from the H-level signal, the transistor 2
The output gate of the internal voltage generation circuit 1 is measured by measuring the voltage output to the external terminal 5 by outputting the output of the internal voltage generation circuit 1 to the external gate 5 by opening the transmission gate 1 and 2. I can know.

【手続補正7】[Procedure Amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Name of item to be corrected] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0023】[0023]

【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体装
置によれば、内部電圧測定回路を付加し、その出力を外
部端子に接続するように構成したので、樹脂封止後に装
置内部で電源電圧より発生した内部電圧を測定すること
ができ、プロセス解析に適した 半導体装置を得ることが
できる効果がある。
As described above, the semiconductor device according to the present invention is used.
According to U.S.A., an internal voltage measurement circuit is added and its output is
Since it is configured to be connected to the terminal,
Measuring the internal voltage generated from the power supply voltage inside the equipment
And obtain a semiconductor device suitable for process analysis.
There is an effect that can be done.

【手続補正8】[Procedure Amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0024】また、制御回路により上記内部電圧測定回
路の動作を制御するようにしたから、測定時以外の通常
動作時に不要な信号が外部端子から出力されることがな
く、ノイズの発生や消費電流の増大を防ぐことができる
という効果がある。
Further , the internal voltage measurement time is controlled by the control circuit.
Since the operation of the road is controlled, it is normally used except when measuring.
Do not output unnecessary signals from external terminals during operation.
It is possible to prevent noise and increase in current consumption.
There is an effect.

【手続補正9】[Procedure Amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of code

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【符号の説明】 1 内部電圧発生回路 2 内部電圧測定回路用制御回路 3〜7 外部端子 10 内部電圧測定回路 20 内部電圧測定回路 30 内部電圧測定回路 40 内部電圧測定回路 11 PチャネルMOSトランジスタ 12 PチャネルMOSトランジスタ 22 PチャネルMOSトランジスタ 13 NチャネルMOSトランジスタ 14 NチャネルMOSトランジスタ 15 NチャネルMOSトランジスタ 21 NチャネルMOSトランジスタ 31 NチャネルMOSトランジスタ 41 NチャネルMOSトランジスタ 23 インバータ回路 VCC 電源電位INT.VCC 内部降圧電源電圧 16 PチャネルMOSトランジスタ 17 インバータ回路 [Explanation of symbols] 1 internal voltage generating circuit 2 control circuit for internal voltage measuring circuit 3 to 7 external terminal 10 internal voltage measuring circuit 20 internal voltage measuring circuit 30 internal voltage measuring circuit 40 internal voltage measuring circuit 11 P-channel MOS transistor 12 P Channel MOS transistor 22 P-channel MOS transistor 13 N-channel MOS transistor 14 N-channel MOS transistor 15 N-channel MOS transistor 21 N-channel MOS transistor 31 N-channel MOS transistor 41 N-channel MOS transistor 23 Inverter circuit VCC power supply potential INT. VCC Internal step-down power supply voltage 16 P-channel MOS transistor 17 Inverter circuit

【手続補正10】[Procedure Amendment 10]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図1[Name of item to be corrected] Figure 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図1】 [Figure 1]

【手続補正11】[Procedure Amendment 11]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図5[Name of item to be corrected] Figure 5

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図5】 [Figure 5]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電源電圧を所定電位に昇圧または降圧す
る内部電圧発生回路を備え、回路形成後に樹脂封止して
なる半導体装置において、 上記内部電圧発生回路の出力を装置外部に出力する内部
電圧出力手段を備えたことを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising an internal voltage generating circuit for boosting or lowering a power supply voltage to a predetermined potential, which is resin-sealed after the circuit is formed, wherein an internal voltage for outputting the output of the internal voltage generating circuit to the outside of the device. A semiconductor device comprising output means.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、 上記内部電圧出力手段は、 上記内部電圧発生回路の出力を外部端子に接続するため
の接続回路と、 該接続回路の接続動作を制御する制御回路とから構成さ
れていることを特徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the internal voltage output means includes a connection circuit for connecting an output of the internal voltage generation circuit to an external terminal, and a control for controlling a connection operation of the connection circuit. A semiconductor device comprising a circuit.
JP4130236A 1992-04-22 1992-04-22 Semiconductor device Pending JPH05303889A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4130236A JPH05303889A (en) 1992-04-22 1992-04-22 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4130236A JPH05303889A (en) 1992-04-22 1992-04-22 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05303889A true JPH05303889A (en) 1993-11-16

Family

ID=15029373

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4130236A Pending JPH05303889A (en) 1992-04-22 1992-04-22 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05303889A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003217282A (en) * 2001-11-02 2003-07-31 Hynix Semiconductor Inc Semiconductor memory device having monitoring circuit
KR100838389B1 (en) * 2005-09-29 2008-06-13 주식회사 하이닉스반도체 Measure circuit for inside-power voltage of memory device
US7577050B2 (en) 2005-09-29 2009-08-18 Hynix Semiconductor, Inc. Semiconductor memory device for measuring internal voltage
JP2017037687A (en) * 2015-08-07 2017-02-16 力晶科技股▲ふん▼有限公司 Semiconductor device, tester device, and tester system

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003217282A (en) * 2001-11-02 2003-07-31 Hynix Semiconductor Inc Semiconductor memory device having monitoring circuit
JP4486777B2 (en) * 2001-11-02 2010-06-23 株式会社ハイニックスセミコンダクター Semiconductor memory device having a monitoring circuit
KR100838389B1 (en) * 2005-09-29 2008-06-13 주식회사 하이닉스반도체 Measure circuit for inside-power voltage of memory device
US7577050B2 (en) 2005-09-29 2009-08-18 Hynix Semiconductor, Inc. Semiconductor memory device for measuring internal voltage
JP2017037687A (en) * 2015-08-07 2017-02-16 力晶科技股▲ふん▼有限公司 Semiconductor device, tester device, and tester system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100292728B1 (en) Semiconductor integrated circuit and method of measuring current when stopping the semiconductor integrated circuit
JPH05303889A (en) Semiconductor device
US6420936B1 (en) Power controller and power controlling method
JP4042069B2 (en) Integral input type input circuit and test method thereof
US4099264A (en) Non-destructive interrogation control circuit for a variable threshold FET memory
US11327112B2 (en) Semiconductor device for detecting characteristics of semiconductor element and operating method thereof
US6229296B1 (en) Circuit and method for measuring and forcing an internal voltage of an integrated circuit
JP2830799B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP3661983B2 (en) Semiconductor memory device
JP3225528B2 (en) Register circuit
US6946863B1 (en) Circuit and method for measuring and forcing an internal voltage of an integrated circuit
JPH0656719B2 (en) Semiconductor memory device
JP3052312B2 (en) Output buffer circuit
JPS60245141A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0254546A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH02119426A (en) Output driving circuit
JPH0553542A (en) Semiconductor integrated circuit
KR100244510B1 (en) Semiconductor test apparatus
JPS63228087A (en) Electronic equipment with voltage detecting circuit
JPH0982895A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0582652A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP3132635B2 (en) Test method for semiconductor integrated circuit
JPS63266693A (en) Semiconductor integrated circuit device
KR100252895B1 (en) Vpp generator
JP2701780B2 (en) Semiconductor integrated circuit