JPH05262805A - 周期的にテーパーの付いたｓｂｒタイプのコポリマーを連続的に製造するための方法 - Google Patents
周期的にテーパーの付いたｓｂｒタイプのコポリマーを連続的に製造するための方法Info
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- JPH05262805A JPH05262805A JP5032399A JP3239993A JPH05262805A JP H05262805 A JPH05262805 A JP H05262805A JP 5032399 A JP5032399 A JP 5032399A JP 3239993 A JP3239993 A JP 3239993A JP H05262805 A JPH05262805 A JP H05262805A
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- C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 反応容器中に
ａ．溶媒中の共役ジエンモノマーから成る第一流れ、
ｂ．溶媒中のビニル芳香族モノマーから成る第二流れ、
ｃ．触媒的に効果的な量のアニオン開始剤、及び
ｄ．１００ｇのモノマーあたり０〜４００ミリモルのラ
ンダム化改質剤 を連続的に注入することから成る、共役ジエン及びビニ
ル芳香族反応性モノマーの重合によって生成されるテー
パー付きのコポリマーの製造のための連続的な方法であ
って、重合の過程の間、反応容器中に仕込まれる全モノ
マー重量のジエンモノマーの重量％が（１００−Ｘ）％
であり、式中Ｘ％は反応容器中に仕込まれるビニル芳香
族モノマーの重量％を表し、そしてここでＸ％は約０〜
１５％の最小仕込みと約３５〜１００％の最大仕込みと
の間を周期的に変動する方法。 【効果】 本発明の方法は、連鎖長さに沿って連続的に
変化する、好ましくは増加または減少するビニル芳香族
含量及び連続的に変化するまたは安定な１，２−ミクロ
構造（ビニル含量）を有する連続的にテーパーの付いた
コポリマーを提供する。
ンダム化改質剤 を連続的に注入することから成る、共役ジエン及びビニ
ル芳香族反応性モノマーの重合によって生成されるテー
パー付きのコポリマーの製造のための連続的な方法であ
って、重合の過程の間、反応容器中に仕込まれる全モノ
マー重量のジエンモノマーの重量％が（１００−Ｘ）％
であり、式中Ｘ％は反応容器中に仕込まれるビニル芳香
族モノマーの重量％を表し、そしてここでＸ％は約０〜
１５％の最小仕込みと約３５〜１００％の最大仕込みと
の間を周期的に変動する方法。 【効果】 本発明の方法は、連鎖長さに沿って連続的に
変化する、好ましくは増加または減少するビニル芳香族
含量及び連続的に変化するまたは安定な１，２−ミクロ
構造（ビニル含量）を有する連続的にテーパーの付いた
コポリマーを提供する。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、一般的には、特定のＴgを示
さない周期的にテーパーの付いたゴム状ＳＢＲタイプの
コポリマーの混合体を連続的に製造するための方法に、
そしてこのようにして製造されるコポリマー組成物に関
する。
さない周期的にテーパーの付いたゴム状ＳＢＲタイプの
コポリマーの混合体を連続的に製造するための方法に、
そしてこのようにして製造されるコポリマー組成物に関
する。
【０００２】
【発明の背景】インディアナのインディアナポリスで１
９８４年５月８〜１１日に開催されたＡＣＳゴム部会の
春のミーティングに提出された論文中で、Ｄｒ．Ｋ．
Ｈ．Ｎｏｒｄｓｉｅｋは、理想的なタイアトレッドゴム
の開発のためのモデル研究を議論した。タイアトレッド
のために要求された理想的なゴムは、無定形ゴムの特性
を決定するための有用な物理的基準と考えられる特徴的
なガラス転移温度、Ｔgによる記述ができない。その代
わりに、理想的なゴムは、変動するＴg値を有する多数
の異なるブロック構造体の和を代表する。
９８４年５月８〜１１日に開催されたＡＣＳゴム部会の
春のミーティングに提出された論文中で、Ｄｒ．Ｋ．
Ｈ．Ｎｏｒｄｓｉｅｋは、理想的なタイアトレッドゴム
の開発のためのモデル研究を議論した。タイアトレッド
のために要求された理想的なゴムは、無定形ゴムの特性
を決定するための有用な物理的基準と考えられる特徴的
なガラス転移温度、Ｔgによる記述ができない。その代
わりに、理想的なゴムは、変動するＴg値を有する多数
の異なるブロック構造体の和を代表する。
【０００３】アニオン開始剤の存在下での１，３−ブタ
ジエンとスチレンモノマーとのバッチ重合は、これらの
モノマーの反応性における差による少しのテーパーを有
するブロックコポリマーを生成させる。しかしながら、
殆どポリブタジエンブロック及び殆どポリスチレンブロ
ックの両方の生成に伴う２つの鋭いガラス転移温度がま
だ存在する。
ジエンとスチレンモノマーとのバッチ重合は、これらの
モノマーの反応性における差による少しのテーパーを有
するブロックコポリマーを生成させる。しかしながら、
殆どポリブタジエンブロック及び殆どポリスチレンブロ
ックの両方の生成に伴う２つの鋭いガラス転移温度がま
だ存在する。
【０００４】アニオン開始剤及び改質剤の存在下での
１，３−ブタジエンとスチレンモノマーとのバッチ重合
もまた、重合温度が断熱的に上がることを許される時に
は、ブタジエン区分の１，２−ミクロ構造でのテーパー
に導く。しかしながら、スチレン分布はかなり均一であ
り、そしてブタジエンミクロ構造テーパーは、多くの要
因例えば温度の全体の変化、△Ｔ；初期及び最高反応温
度；並びに各々の温度で達成される重合度に依存する。
これらのポリマーに関しては明確なＴgが存在する。そ
れ故、連続的方法においてテーパー付けを正確に制御し
そしてタイアトレッドとしての使用のために要求される
理想的なゴムを製造することが望ましい。それ故、本発
明の目的は、連続的にテーパーの付いた構造を持ちそし
て特定のＴg値を持たないスチレン - ブタジエンタイプ
のコポリマーの製造のための連続的方法を提供すること
である。
１，３−ブタジエンとスチレンモノマーとのバッチ重合
もまた、重合温度が断熱的に上がることを許される時に
は、ブタジエン区分の１，２−ミクロ構造でのテーパー
に導く。しかしながら、スチレン分布はかなり均一であ
り、そしてブタジエンミクロ構造テーパーは、多くの要
因例えば温度の全体の変化、△Ｔ；初期及び最高反応温
度；並びに各々の温度で達成される重合度に依存する。
これらのポリマーに関しては明確なＴgが存在する。そ
れ故、連続的方法においてテーパー付けを正確に制御し
そしてタイアトレッドとしての使用のために要求される
理想的なゴムを製造することが望ましい。それ故、本発
明の目的は、連続的にテーパーの付いた構造を持ちそし
て特定のＴg値を持たないスチレン - ブタジエンタイプ
のコポリマーの製造のための連続的方法を提供すること
である。
【０００５】
【発明の要約】溶媒中でアニオン開始剤及び改質剤の存
在下でジエンモノマー及びビニル芳香族モノマーを連続
的に共重合するための方法が提供される。改質剤対開始
剤の比を方法を通じて調節または維持しながら、ビニル
芳香族モノマー対ジエンモノマーの比を連続的に調節す
ることによって、その連鎖長さに沿って連続的に変化す
る、好ましくは増加または減少するビニル芳香族含量及
び連続的に変化するまたは安定な１，２−ミクロ構造
（ビニル含量）を有する連続的にテーパーの付いたコポ
リマーが製造される。このようにして製造されるコポリ
マーは、連鎖長さに沿って変動する柔軟性を有し、そし
てこのようにして製造されるすべてのコポリマーは、小
さなエネルギー吸収の多重ガラス転移温度を示す、即ち
規定できるガラス転移温度を示さないことによって特徴
付けられる。
在下でジエンモノマー及びビニル芳香族モノマーを連続
的に共重合するための方法が提供される。改質剤対開始
剤の比を方法を通じて調節または維持しながら、ビニル
芳香族モノマー対ジエンモノマーの比を連続的に調節す
ることによって、その連鎖長さに沿って連続的に変化す
る、好ましくは増加または減少するビニル芳香族含量及
び連続的に変化するまたは安定な１，２−ミクロ構造
（ビニル含量）を有する連続的にテーパーの付いたコポ
リマーが製造される。このようにして製造されるコポリ
マーは、連鎖長さに沿って変動する柔軟性を有し、そし
てこのようにして製造されるすべてのコポリマーは、小
さなエネルギー吸収の多重ガラス転移温度を示す、即ち
規定できるガラス転移温度を示さないことによって特徴
付けられる。
【０００６】
【好ましい実施態様の詳細な説明】本発明の方法は、以
下の計量された流れを撹拌された反応器中に連続的に仕
込む：（１）溶媒中のジエン、好ましくはヘキサン中の
１，３−ブタジエン；（２）溶媒中のビニル芳香族モノ
マー、好ましくはヘキサン中のスチレン；（３）必要に
応じた溶媒流れ、好ましくはヘキサン；（４）アニオン
開始剤、好ましくはヘキサン中のｎ−ブチルリチウム；
及び（５）改質剤／溶媒ブレンド、好ましくはヘキサン
中のＯＯＰＳ。好ましくは、アニオン開始剤及び改質剤
／溶媒流れは、反応器中への仕込みに先立って合わせら
れる。その代わりに、溶媒流れを反応物とは独立に仕込
むこともできる。
下の計量された流れを撹拌された反応器中に連続的に仕
込む：（１）溶媒中のジエン、好ましくはヘキサン中の
１，３−ブタジエン；（２）溶媒中のビニル芳香族モノ
マー、好ましくはヘキサン中のスチレン；（３）必要に
応じた溶媒流れ、好ましくはヘキサン；（４）アニオン
開始剤、好ましくはヘキサン中のｎ−ブチルリチウム；
及び（５）改質剤／溶媒ブレンド、好ましくはヘキサン
中のＯＯＰＳ。好ましくは、アニオン開始剤及び改質剤
／溶媒流れは、反応器中への仕込みに先立って合わせら
れる。その代わりに、溶媒流れを反応物とは独立に仕込
むこともできる。
【０００７】反応性モノマー、溶媒、アニオン開始剤及
び改質剤は、２以上、好ましくは３以上の流れによって
反応器中に仕込むことができる。何らかの早過ぎるライ
ン内反応を防止するために、アニオン開始剤及び改質剤
をモノマー供給流れから分離した１または２の供給流れ
中に添加することが望ましい。
び改質剤は、２以上、好ましくは３以上の流れによって
反応器中に仕込むことができる。何らかの早過ぎるライ
ン内反応を防止するために、アニオン開始剤及び改質剤
をモノマー供給流れから分離した１または２の供給流れ
中に添加することが望ましい。
【０００８】本発明に従って製造されるテーパー付きの
コポリマーは、共役ジエンモノマー及びビニル置換芳香
族モノマーの共重合によって製造される。本発明のテー
パー付きのコポリマーの製造において用いることができ
る重合可能な１，３−ジエンモノマーは、１分子あたり
４〜１２（両端を含む）の炭素原子を含む１以上の１，
３−共役ジエンである。例としてのモノマーは、１，３
−ブタジエン；イソプレン；２，３−ジメチル−１，３
−ブタジエン；１，３−ペンタジエン（ピペリレン）；
２−メチル−３−エチル−１，３−ブタジエン；３−メ
チル−１，３−ペンタジエン；１，３−ヘキサジエン；
２−メチル−１，３−ヘキサジエン；３−ブチル−１，
３−オクタジエン等を含む。ジアルキル−１，３−ブタ
ジエンの中では、アルキル基が１〜３の炭素原子を含む
ことが好ましい。本発明の方法における使用のための好
ましい１，３−ジエンモノマーは１，３−ブタジエンで
ある。共役ジエンは、ある瞬間の全モノマー供給の０〜
１００重量％の範囲の量、好ましくは周期的に変動する
量で適切な希釈剤中で連続的に反応器中に仕込まれる。
コポリマーは、共役ジエンモノマー及びビニル置換芳香
族モノマーの共重合によって製造される。本発明のテー
パー付きのコポリマーの製造において用いることができ
る重合可能な１，３−ジエンモノマーは、１分子あたり
４〜１２（両端を含む）の炭素原子を含む１以上の１，
３−共役ジエンである。例としてのモノマーは、１，３
−ブタジエン；イソプレン；２，３−ジメチル−１，３
−ブタジエン；１，３−ペンタジエン（ピペリレン）；
２−メチル−３−エチル−１，３−ブタジエン；３−メ
チル−１，３−ペンタジエン；１，３−ヘキサジエン；
２−メチル−１，３−ヘキサジエン；３−ブチル−１，
３−オクタジエン等を含む。ジアルキル−１，３−ブタ
ジエンの中では、アルキル基が１〜３の炭素原子を含む
ことが好ましい。本発明の方法における使用のための好
ましい１，３−ジエンモノマーは１，３−ブタジエンで
ある。共役ジエンは、ある瞬間の全モノマー供給の０〜
１００重量％の範囲の量、好ましくは周期的に変動する
量で適切な希釈剤中で連続的に反応器中に仕込まれる。
【０００９】上で記述した共役ジエンに加えて、１以上
の共重合可能なモノマー例えばビニル置換芳香族モノマ
ー、本明細書中では以後ビニル芳香族モノマーの、ある
瞬間の全モノマー供給の０〜１００重量％の範囲の逆に
変動する量が、適切な希釈剤中で重合反応器中に連続的
に計り込まれる。本発明でのテーパー付きのコポリマー
の製造における使用のための適切な共重合可能なモノマ
ーの例は、スチレン；α−メチルスチレン；１−ビニル
ナフタレン；２−ビニルナフタレン；１−α−メチルビ
ニル−ナフタレン；２−α−メチルビニルナフタレン；
及びこれらの混合物並びに、合わせた炭化水素中の炭素
原子の全数が一般的に１２より大きくないそれらのアル
キル、シクロアルキル、アリール、アルクアリール及び
アラルキル誘導体を含む。これらの後者の化合物の例
は、４−メチルスチレン；ビニルトルエン；３，５−ジ
エチルスチレン；２−エチル−４−ベンジルスチレン；
４−フェニルスチレン；４−ｐ−トリルスチレン；及び
４，５−ジメチル−１−ビニルナフタレンを含む。時
折、モノ−ビニル芳香族モノマーに加えて、ジ−及びト
リ−ビニル芳香族モノマーが小量で使用される。好まし
いビニル芳香族モノマーはスチレンである。
の共重合可能なモノマー例えばビニル置換芳香族モノマ
ー、本明細書中では以後ビニル芳香族モノマーの、ある
瞬間の全モノマー供給の０〜１００重量％の範囲の逆に
変動する量が、適切な希釈剤中で重合反応器中に連続的
に計り込まれる。本発明でのテーパー付きのコポリマー
の製造における使用のための適切な共重合可能なモノマ
ーの例は、スチレン；α−メチルスチレン；１−ビニル
ナフタレン；２−ビニルナフタレン；１−α−メチルビ
ニル−ナフタレン；２−α−メチルビニルナフタレン；
及びこれらの混合物並びに、合わせた炭化水素中の炭素
原子の全数が一般的に１２より大きくないそれらのアル
キル、シクロアルキル、アリール、アルクアリール及び
アラルキル誘導体を含む。これらの後者の化合物の例
は、４−メチルスチレン；ビニルトルエン；３，５−ジ
エチルスチレン；２−エチル−４−ベンジルスチレン；
４−フェニルスチレン；４−ｐ−トリルスチレン；及び
４，５−ジメチル−１−ビニルナフタレンを含む。時
折、モノ−ビニル芳香族モノマーに加えて、ジ−及びト
リ−ビニル芳香族モノマーが小量で使用される。好まし
いビニル芳香族モノマーはスチレンである。
【００１０】これらのモノマーは、適切な不活性有機希
釈剤中で反応容器中に連続的に仕込まれる。多くの適切
な不活性希釈剤が、当該技術において知られている。好
ましい希釈剤は、一般にはアルカン及びシクロ−アルカ
ンを含む。適切な希釈剤は、エタン、プロパン、イソ−
及びｎ−ブタン、イソ−及びｎ−ペンタン、イソ−及び
ｎ−ヘキサン、イソ−及びｎ−ヘプタン、イソ−及びｎ
−オクタン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、シクロヘプタン並びにシクロオクタンを含むが
これらに限定されない。好ましい希釈剤は、イソ−及び
ｎ−ヘキサンである。これらの希釈剤は、単独でまたは
混合してのどちらかで用いることができる。希釈剤中の
モノマーの濃度は、５〜６０重量％またはそれ以上の範
囲を取ることができ、そして一般的には経済及び反応条
件を制御するそしてポリマー溶液を取り扱う能力に依存
する。
釈剤中で反応容器中に連続的に仕込まれる。多くの適切
な不活性希釈剤が、当該技術において知られている。好
ましい希釈剤は、一般にはアルカン及びシクロ−アルカ
ンを含む。適切な希釈剤は、エタン、プロパン、イソ−
及びｎ−ブタン、イソ−及びｎ−ペンタン、イソ−及び
ｎ−ヘキサン、イソ−及びｎ−ヘプタン、イソ−及びｎ
−オクタン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、シクロヘプタン並びにシクロオクタンを含むが
これらに限定されない。好ましい希釈剤は、イソ−及び
ｎ−ヘキサンである。これらの希釈剤は、単独でまたは
混合してのどちらかで用いることができる。希釈剤中の
モノマーの濃度は、５〜６０重量％またはそれ以上の範
囲を取ることができ、そして一般的には経済及び反応条
件を制御するそしてポリマー溶液を取り扱う能力に依存
する。
【００１１】ジエンモノマーとビニル芳香族モノマーと
の共重合において有用であるとして当該技術において知
られている任意のアニオン開始剤を、本発明の方法にお
いて用いることができる。適切な有機リチウム触媒は、
式Ｒ（Ｌｉ）x［式中、Ｒは１つのＲ基あたり１〜２
０、好ましくは２〜８の炭素原子のヒドロカルビル基を
表し、そしてｘは１〜４の整数である］を有するリチウ
ム化合物を含む。典型的なＲ基は、脂肪族基及び脂環式
基、例えばアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル
アルキル、アルキルシクロアルキル、アリール及びアル
キルアリール基を含む。上の式における置換のためのＲ
基の特定の例は、第一、第二及び第三基例えばメチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ｎ−
ヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、シクロペンチル
メチル、シクロヘキシル−エチル、シクロペンチル−エ
チル、メチルシクロペンチルエチル、シクロペンチル、
ジメチルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、メチ
ルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシ
クロヘキシル、イソプロピルシクロヘキシル等を含む。
の共重合において有用であるとして当該技術において知
られている任意のアニオン開始剤を、本発明の方法にお
いて用いることができる。適切な有機リチウム触媒は、
式Ｒ（Ｌｉ）x［式中、Ｒは１つのＲ基あたり１〜２
０、好ましくは２〜８の炭素原子のヒドロカルビル基を
表し、そしてｘは１〜４の整数である］を有するリチウ
ム化合物を含む。典型的なＲ基は、脂肪族基及び脂環式
基、例えばアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル
アルキル、アルキルシクロアルキル、アリール及びアル
キルアリール基を含む。上の式における置換のためのＲ
基の特定の例は、第一、第二及び第三基例えばメチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ｎ−
ヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、シクロペンチル
メチル、シクロヘキシル−エチル、シクロペンチル−エ
チル、メチルシクロペンチルエチル、シクロペンチル、
ジメチルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、メチ
ルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシ
クロヘキシル、イソプロピルシクロヘキシル等を含む。
【００１２】その他の適切なリチウム触媒の特定の例
は、ｐ−トリルリチウム、４−フェニルブチル−リチウ
ム、４−ブチルシクロヘキシルリチウム、４−シクロヘ
キシルブチル−リチウム、リチウムジアルキルアミン、
リチウムジアルキルホスフィン、リチウムアルキルアリ
ールホスフィン、リチウムジアリールホスフィン等を含
む。
は、ｐ−トリルリチウム、４−フェニルブチル−リチウ
ム、４−ブチルシクロヘキシルリチウム、４−シクロヘ
キシルブチル−リチウム、リチウムジアルキルアミン、
リチウムジアルキルホスフィン、リチウムアルキルアリ
ールホスフィン、リチウムジアリールホスフィン等を含
む。
【００１３】その他の適切なアニオン開始剤は、アルカ
リ金属トリヒドロカルビルマグネシアート、好ましくは
構造式：
リ金属トリヒドロカルビルマグネシアート、好ましくは
構造式：
【００１４】
【化１】 ＭＲ1Ｒ2Ｒ3Ｍｇ ［式中、Ｍは、Ｌｉ、ＮａまたはＫであり、そして
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、Ｃ2〜Ｃ14の炭化水素オルガノ基から
成る群から独立に選ばれる］によって表されるリチウ
ム、ナトリウムまたはカリウムトリヒドロカルビルマグ
ネシアート化合物を含む。これらのＣ2〜Ｃ14オルガノ
基は、アルキル、アリール、シクロアルキル、シクロア
ルケニル−アルキル、アリール−アルキル、アリール−
シクロアルキル、シクロアルキルアリール、またはエチ
レン性不飽和オルガノ基例えばビニル、アリル及びプロ
ペニルで良い。本発明において用いることができる好ま
しいオルガノ基、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、ｎ−ヘキシル、
ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、２−エチルヘキシル及びｎ−
オクチルである。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、Ｃ2〜Ｃ14の炭化水素オルガノ基から
成る群から独立に選ばれる］によって表されるリチウ
ム、ナトリウムまたはカリウムトリヒドロカルビルマグ
ネシアート化合物を含む。これらのＣ2〜Ｃ14オルガノ
基は、アルキル、アリール、シクロアルキル、シクロア
ルケニル−アルキル、アリール−アルキル、アリール−
シクロアルキル、シクロアルキルアリール、またはエチ
レン性不飽和オルガノ基例えばビニル、アリル及びプロ
ペニルで良い。本発明において用いることができる好ま
しいオルガノ基、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、ｎ−ヘキシル、
ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、２−エチルヘキシル及びｎ−
オクチルである。
【００１５】本発明における使用のための好ましいＭＲ
1Ｒ2Ｒ3Ｍｇ化合物は、ナトリウムトリ−ｎ−ヘキシル
マグネシアート、ナトリウムトリブチルマグネシアー
ト、ナトリウムジブチルヘキシルマグネシアート、及び
ナトリウムブチルオクチル−２−エチルヘキシルマグネ
シアートを含む。異なるナトリウムまたはカリウムトリ
ヒドロカルビルマグネシアートの混合物も、アニオン開
始システムにおいて用いることができる。アルカリ金属
トリヒドロカルビルマグネシアートの使用は、ブタジエ
ンが寄与する単位中で一定のビニル含量、典型的には１
２％〜３０％を維持しながら、１，３−ブタジエンタイ
プのモノマーとの共重合の間、スチレンをランダム化す
るのに役に立つ。
1Ｒ2Ｒ3Ｍｇ化合物は、ナトリウムトリ−ｎ−ヘキシル
マグネシアート、ナトリウムトリブチルマグネシアー
ト、ナトリウムジブチルヘキシルマグネシアート、及び
ナトリウムブチルオクチル−２−エチルヘキシルマグネ
シアートを含む。異なるナトリウムまたはカリウムトリ
ヒドロカルビルマグネシアートの混合物も、アニオン開
始システムにおいて用いることができる。アルカリ金属
トリヒドロカルビルマグネシアートの使用は、ブタジエ
ンが寄与する単位中で一定のビニル含量、典型的には１
２％〜３０％を維持しながら、１，３−ブタジエンタイ
プのモノマーとの共重合の間、スチレンをランダム化す
るのに役に立つ。
【００１６】リチウムベースの及びマグネシアートのア
ニオン開始剤の混合物もまた用いることができる。本発
明における使用のための好ましい触媒は、ｎ−ブチルリ
チウム及びナトリウムｎ−ブチル−ｎ−オクチル−２−
エチル−ヘキシルマグネシアート及びこれらの混合物で
ある。
ニオン開始剤の混合物もまた用いることができる。本発
明における使用のための好ましい触媒は、ｎ−ブチルリ
チウム及びナトリウムｎ−ブチル−ｎ−オクチル−２−
エチル−ヘキシルマグネシアート及びこれらの混合物で
ある。
【００１７】アニオン開始剤は、本発明のテーパー付き
のブロックコポリマーの製造において用いられるモノマ
ーの重量に対するアニオン開始剤のミリモルの比で、反
応器中にその時仕込まれている全モノマーの１００ｇあ
たり０．２０〜２０．０ミリモルのアニオン開始剤の範
囲の触媒的に効果的な量で連続的に反応器中に仕込まれ
る。
のブロックコポリマーの製造において用いられるモノマ
ーの重量に対するアニオン開始剤のミリモルの比で、反
応器中にその時仕込まれている全モノマーの１００ｇあ
たり０．２０〜２０．０ミリモルのアニオン開始剤の範
囲の触媒的に効果的な量で連続的に反応器中に仕込まれ
る。
【００１８】１，２−ミクロ構造制御剤またはランダム
化改質剤は、好ましくは、ジエンモノマー寄与単位中の
１，２−ミクロ構造を制御するためにそしてゴム状相中
にジエンモノマーと共に組み込まれるビニル芳香族モノ
マー、例えばスチレンの量をランダム化するために使用
される。適切な改質剤は、テトラメチルエチレンジアミ
ン（ＴＭＥＤＡ）、オリゴマー状オキソラニルプロパン
（ＯＯＰＳ）、２，２−ビス−（４−メチルジオキサ
ン）（ＢＭＤ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ビス
テトラヒドロフリルプロパン等を含むがこれらに限定さ
れない。１以上のランダム化改質剤を使用することがで
きる。反応器中に連続的に計り込まれるモノマーの重量
に対する改質剤の量は、モノマー仕込みの各々のサイク
ルの間に、反応器中にその時仕込まれているモノマーの
１００ｇあたり０ほど低い最小から４００ミリモルほど
多い最大まで、好ましくは０．０１〜３００．０ミリモ
ルの改質剤の範囲で変動して良い。改質剤の仕込みが増
すにつれて、ジエンモノマー寄与単位中の１，２−ミク
ロ構造の％が増す。反応器中へのモノマー供給の重量に
対する改質剤の比は、その時重合されているテーパー付
きのコポリマーの１，２−ミクロ構造を増すまたは減ら
すために連続的に調節することができる。
化改質剤は、好ましくは、ジエンモノマー寄与単位中の
１，２−ミクロ構造を制御するためにそしてゴム状相中
にジエンモノマーと共に組み込まれるビニル芳香族モノ
マー、例えばスチレンの量をランダム化するために使用
される。適切な改質剤は、テトラメチルエチレンジアミ
ン（ＴＭＥＤＡ）、オリゴマー状オキソラニルプロパン
（ＯＯＰＳ）、２，２−ビス−（４−メチルジオキサ
ン）（ＢＭＤ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ビス
テトラヒドロフリルプロパン等を含むがこれらに限定さ
れない。１以上のランダム化改質剤を使用することがで
きる。反応器中に連続的に計り込まれるモノマーの重量
に対する改質剤の量は、モノマー仕込みの各々のサイク
ルの間に、反応器中にその時仕込まれているモノマーの
１００ｇあたり０ほど低い最小から４００ミリモルほど
多い最大まで、好ましくは０．０１〜３００．０ミリモ
ルの改質剤の範囲で変動して良い。改質剤の仕込みが増
すにつれて、ジエンモノマー寄与単位中の１，２−ミク
ロ構造の％が増す。反応器中へのモノマー供給の重量に
対する改質剤の比は、その時重合されているテーパー付
きのコポリマーの１，２−ミクロ構造を増すまたは減ら
すために連続的に調節することができる。
【００１９】本発明の方法は、連続的供給方法としてア
ニオン重合のための連続的重合反応器中で実施される。
反応物はそれらの添加に際して殆ど直ちに使用される尽
くすので、いつでも反応容器中には最小の未反応反応物
しか存在しない。
ニオン重合のための連続的重合反応器中で実施される。
反応物はそれらの添加に際して殆ど直ちに使用される尽
くすので、いつでも反応容器中には最小の未反応反応物
しか存在しない。
【００２０】反応物の連続的な供給の開始に先立って、
標準的な予備仕込み技術によって、反応容器に約１００
°Ｆ〜２００°Ｆでヘキサンを予備仕込みする。典型的
な反応容器の予備仕込みは、反応器を満たす量での溶媒
の仕込みを含む。
標準的な予備仕込み技術によって、反応容器に約１００
°Ｆ〜２００°Ｆでヘキサンを予備仕込みする。典型的
な反応容器の予備仕込みは、反応器を満たす量での溶媒
の仕込みを含む。
【００２１】すべての反応物の流量はそれらが反応容器
中に流れ込む時に別々に計量され、そしてすべての流量
及び監視がコンピューターによって制御されることは本
発明の意図の内部にある。重合方法が進むにつれて、テ
ーパー付きのコポリマーが、溶媒セメント、好ましくは
ヘキサンセメントとして反応器から取り出される。
中に流れ込む時に別々に計量され、そしてすべての流量
及び監視がコンピューターによって制御されることは本
発明の意図の内部にある。重合方法が進むにつれて、テ
ーパー付きのコポリマーが、溶媒セメント、好ましくは
ヘキサンセメントとして反応器から取り出される。
【００２２】反応器中の重合が発熱的であるので、この
反応は、１５０°Ｆ〜３５０°Ｆ、好ましくは２００°
Ｆ〜３００°Ｆで０．３〜６．０時間、好ましくは約
０．５〜１．０時間の反応器中の滞留時間で実施するこ
とができる。
反応は、１５０°Ｆ〜３５０°Ｆ、好ましくは２００°
Ｆ〜３００°Ｆで０．３〜６．０時間、好ましくは約
０．５〜１．０時間の反応器中の滞留時間で実施するこ
とができる。
【００２３】反応器中への全モノマー仕込みは実質的に
一定の量であるので、テーパー付けは、ジエン及びビニ
ル芳香族モノマーの仕込み量の比を変えることによって
制御される。反応滞留時間での各々のサイクルの間に、
全体のモノマー仕込み中のビニル芳香族モノマーの重量
％は、その時の全反応器モノマー仕込みの約０〜１５重
量％の最小仕込み範囲中の最小量から約３０〜１００重
量％の最大仕込み範囲の最大量へとどんどん増加し、そ
して次に初期の最小仕込み範囲へと戻る。全体のモノマ
ー仕込み中の対応するジエンモノマーの重量％は、サイ
クルの間に、全体のモノマー仕込みの１００〜８５重量
％の範囲の初期仕込みから０〜７０重量％の範囲の最小
仕込みへと逆にどんどん変化し、そして最大仕込みへと
戻る。
一定の量であるので、テーパー付けは、ジエン及びビニ
ル芳香族モノマーの仕込み量の比を変えることによって
制御される。反応滞留時間での各々のサイクルの間に、
全体のモノマー仕込み中のビニル芳香族モノマーの重量
％は、その時の全反応器モノマー仕込みの約０〜１５重
量％の最小仕込み範囲中の最小量から約３０〜１００重
量％の最大仕込み範囲の最大量へとどんどん増加し、そ
して次に初期の最小仕込み範囲へと戻る。全体のモノマ
ー仕込み中の対応するジエンモノマーの重量％は、サイ
クルの間に、全体のモノマー仕込みの１００〜８５重量
％の範囲の初期仕込みから０〜７０重量％の範囲の最小
仕込みへと逆にどんどん変化し、そして最大仕込みへと
戻る。
【００２４】ジエンの仕込み量は、ビニル芳香族モノマ
ーの増加する仕込みが全モノマー仕込みの３０〜１００
重量％の最大仕込み量と等しくなるまで連続的に減少す
るので、どんどん高くなるビニル芳香族モノマー寄与の
単位を含むテーパー付きのブロックが製造される。反応
のこの時点で、ビニル芳香族モノマー仕込みの重量％は
連続的に減らされ、一方ジエンモノマーの重量％は対応
して増される。本発明の目的のためには、モノマー仕込
みは、時間の特定の点で反応器中に流れ込むモノマーの
量として定義される。かくして、Ｘ％が、反応器中へ連
続的に仕込まれる全モノマー仕込みのビニル芳香族モノ
マー（本明細書中では以後スチレンとして議論する）の
重量％での量を表す場合には、（１００−Ｘ）％は、ス
チレン -ブタジエンブロックコポリマーの生成において
反応器中へ連続的に仕込まれるジエンモノマー（本明細
書中では以後ブタジエンとして議論する）仕込みの重量
％での量を表す。
ーの増加する仕込みが全モノマー仕込みの３０〜１００
重量％の最大仕込み量と等しくなるまで連続的に減少す
るので、どんどん高くなるビニル芳香族モノマー寄与の
単位を含むテーパー付きのブロックが製造される。反応
のこの時点で、ビニル芳香族モノマー仕込みの重量％は
連続的に減らされ、一方ジエンモノマーの重量％は対応
して増される。本発明の目的のためには、モノマー仕込
みは、時間の特定の点で反応器中に流れ込むモノマーの
量として定義される。かくして、Ｘ％が、反応器中へ連
続的に仕込まれる全モノマー仕込みのビニル芳香族モノ
マー（本明細書中では以後スチレンとして議論する）の
重量％での量を表す場合には、（１００−Ｘ）％は、ス
チレン -ブタジエンブロックコポリマーの生成において
反応器中へ連続的に仕込まれるジエンモノマー（本明細
書中では以後ブタジエンとして議論する）仕込みの重量
％での量を表す。
【００２５】本発明の好ましい実施態様においては、Ｘ
％の値は、（０〜１５）％の最小仕込みから次第に（３
５〜１００）％の最大仕込みまでそして次に、周期的に
ほぼ同じ増加の変化を繰り返す前に、次第に（０〜１
５）％の最小仕込みへと減少して変化する。反応器仕込
み中のブタジエン対スチレンの重量比を連続的に変える
ことによって、本発明の方法は、変化するテーパー付き
のスチレン - ブタジエンブロックコポリマーの混合物
を連続的に製造し、その結果テーパー付きのスチレン -
ブタジエンブロックコポリマーの最後の回収される混
合物は、変動するＴg値を有しそして理想的なゴムトレ
ッド組成物として適切である。反応器中の滞留時間は種
々の反応条件によって影響され得るけれども、１つの完
全なモノマー仕込みサイクルは２０〜８０分、好ましく
は４０〜５０分の時間で反応器中へ仕込まれることが望
ましい。このモノマー仕込みサイクルは、特定のモノマ
ー供給量が始まりそして次に最小または最大供給量に戻
るのにかかる時間として定義される。本方法は連続的で
あるので、２〜１，０００，０００の繰り返されたモノ
マー仕込みサイクルを用いるテーパー付きのコポリマー
を製造するためにそれを利用することができる。
％の値は、（０〜１５）％の最小仕込みから次第に（３
５〜１００）％の最大仕込みまでそして次に、周期的に
ほぼ同じ増加の変化を繰り返す前に、次第に（０〜１
５）％の最小仕込みへと減少して変化する。反応器仕込
み中のブタジエン対スチレンの重量比を連続的に変える
ことによって、本発明の方法は、変化するテーパー付き
のスチレン - ブタジエンブロックコポリマーの混合物
を連続的に製造し、その結果テーパー付きのスチレン -
ブタジエンブロックコポリマーの最後の回収される混
合物は、変動するＴg値を有しそして理想的なゴムトレ
ッド組成物として適切である。反応器中の滞留時間は種
々の反応条件によって影響され得るけれども、１つの完
全なモノマー仕込みサイクルは２０〜８０分、好ましく
は４０〜５０分の時間で反応器中へ仕込まれることが望
ましい。このモノマー仕込みサイクルは、特定のモノマ
ー供給量が始まりそして次に最小または最大供給量に戻
るのにかかる時間として定義される。本方法は連続的で
あるので、２〜１，０００，０００の繰り返されたモノ
マー仕込みサイクルを用いるテーパー付きのコポリマー
を製造するためにそれを利用することができる。
【００２６】本方法は、反応器中へのビニル芳香族モノ
マー対ジエンモノマーの供給比を常に変えるが、一方反
応器中への改質剤対開始剤の供給比は、一定に維持され
るかまたは重合の過程の間、また周期的に調節されるか
のどちらかである。重合温度、流量、周期的に変化する
改質剤濃度、及び周期的に変化するビニル芳香族モノマ
ー供給対ジエンモノマーの比の組み合わせは、結果とし
てランダムなテーパーの付いたスチレン - ブタジエン
コポリマーをもたらす。
マー対ジエンモノマーの供給比を常に変えるが、一方反
応器中への改質剤対開始剤の供給比は、一定に維持され
るかまたは重合の過程の間、また周期的に調節されるか
のどちらかである。重合温度、流量、周期的に変化する
改質剤濃度、及び周期的に変化するビニル芳香族モノマ
ー供給対ジエンモノマーの比の組み合わせは、結果とし
てランダムなテーパーの付いたスチレン - ブタジエン
コポリマーをもたらす。
【００２７】主鎖に沿ってジエン寄与の単位中の増加す
る１，２−ミクロ構造の％を与えるために、反応器中へ
の改質剤対アニオン開始剤の供給比は、各々のモノマー
供給サイクルの間に、好ましくはアニオン開始剤の１モ
ルあたり０〜５モルのキレート化改質剤及びアニオン開
始剤の１モルあたり０〜４００モルの非キレート化改質
剤の範囲のモル比でどんどん増加そして減少させること
ができる。
る１，２−ミクロ構造の％を与えるために、反応器中へ
の改質剤対アニオン開始剤の供給比は、各々のモノマー
供給サイクルの間に、好ましくはアニオン開始剤の１モ
ルあたり０〜５モルのキレート化改質剤及びアニオン開
始剤の１モルあたり０〜４００モルの非キレート化改質
剤の範囲のモル比でどんどん増加そして減少させること
ができる。
【００２８】プロセス条件例えば重合反応の初期及び最
高温度は、１，３−ジエンコポリマーまたはポリマーの
最後の１，２−ミクロ構造含量に独立に影響を与える可
能性がある。これらの条件は、約１５〜４０％の最後の
所望の平均１，２−ミクロ構造含量を与えるために各々
のモノマー反応システムに関して制御することができ
る。１，３−ジエンモノマー寄与の単位中の２０〜３５
％の平均１，２−ミクロ構造を有するポリマー及びコポ
リマーを製造することが望ましい。本発明の方法に従っ
て製造されるコポリマーの１，２−ミクロ構造は、反応
が進むにつれて増加するそして減少する反応媒体中に存
在する改質剤の濃度のために、成長する連鎖に沿って
（スチレン含量が増加するにつれて）、好ましくは連続
的に次第に増加する。コポリマーの主鎖区分に沿う１，
２−ミクロ構造の％は、主鎖に沿って約１０％から約９
０％へと増加して良い。好ましくは、１，２−ミクロ構
造は、ポリマー連鎖長の低い側即ち最初の３０％の部分
では１０％から３０％平均へとそして連鎖長の高い側即
ち最後の３０％の部分では約３０％から７０％へと次第
に増加する。ポリマーの連鎖長の最初の３０％の部分中
の平均の１，２−ミクロ構造は、ポリマーの連鎖長の最
後の３０％の部分中の平均の１，２−ミクロ構造よりも
好ましくは少なくとも１５〜２０％低い。１，２−ミク
ロ構造はまた、改質剤対アニオン開始剤モル比を０／１
〜４００／１の設定値で維持することによって一定にす
ることもできる。
高温度は、１，３−ジエンコポリマーまたはポリマーの
最後の１，２−ミクロ構造含量に独立に影響を与える可
能性がある。これらの条件は、約１５〜４０％の最後の
所望の平均１，２−ミクロ構造含量を与えるために各々
のモノマー反応システムに関して制御することができ
る。１，３−ジエンモノマー寄与の単位中の２０〜３５
％の平均１，２−ミクロ構造を有するポリマー及びコポ
リマーを製造することが望ましい。本発明の方法に従っ
て製造されるコポリマーの１，２−ミクロ構造は、反応
が進むにつれて増加するそして減少する反応媒体中に存
在する改質剤の濃度のために、成長する連鎖に沿って
（スチレン含量が増加するにつれて）、好ましくは連続
的に次第に増加する。コポリマーの主鎖区分に沿う１，
２−ミクロ構造の％は、主鎖に沿って約１０％から約９
０％へと増加して良い。好ましくは、１，２−ミクロ構
造は、ポリマー連鎖長の低い側即ち最初の３０％の部分
では１０％から３０％平均へとそして連鎖長の高い側即
ち最後の３０％の部分では約３０％から７０％へと次第
に増加する。ポリマーの連鎖長の最初の３０％の部分中
の平均の１，２−ミクロ構造は、ポリマーの連鎖長の最
後の３０％の部分中の平均の１，２−ミクロ構造よりも
好ましくは少なくとも１５〜２０％低い。１，２−ミク
ロ構造はまた、改質剤対アニオン開始剤モル比を０／１
〜４００／１の設定値で維持することによって一定にす
ることもできる。
【００２９】本発明において使用される時には１，２−
ミクロ構造という術語は、共役ジエンモノマー単位に関
して成長するポリマー連鎖の付加の方式を実際に指す。
１，２−付加または１，４−付加のどちらかが起こり得
る。簡単のために、ビニル含量または１，２−ミクロ構
造という術語は、共役ジエンの１，２−付加から生じる
ミクロ構造を記述するために用いられる。
ミクロ構造という術語は、共役ジエンモノマー単位に関
して成長するポリマー連鎖の付加の方式を実際に指す。
１，２−付加または１，４−付加のどちらかが起こり得
る。簡単のために、ビニル含量または１，２−ミクロ構
造という術語は、共役ジエンの１，２−付加から生じる
ミクロ構造を記述するために用いられる。
【００３０】本発明の全体のブロックコポリマーは、構
造式：
造式：
【００３１】
【化２】 Ｂ1／Ｓ1−Ｂ2／Ｓ2．．．Ｂn／Ｓn．．．Ｂ2／Ｓ2−Ｂ1／Ｓ1 ［式中、ｎ＝１０〜２５００である］によって表すこと
ができる。この式は、反応器中の１つの全体のモノマー
仕込みサイクルの間に生成されるテーパー付きのスチレ
ン - ブタジエンブロックコポリマーの理想的なモデル
を表す。Ｂ／Ｓはブタジエン（Ｂ） - スチレン（Ｓ）
ブロックコポリマーを表し、そしてＢ1／Ｓ1は０〜１５
重量％のスチレン及び１００〜８５重量％のブタジエン
を含んで生成される初期ブロックを表す。各々のブロッ
ク中のスチレンの％は％Ｓ1＜％Ｓ2＜％Ｓnのように次
第に増加し、そしてＢn／Ｓnのブロックは３０〜１００
重量％のスチレン及び７０〜０重量％のブタジエンを含
み、即ち％Ｓn＝３０〜１００％、％Ｂn＝７０〜０％、
そして％Ｂn＋％Ｓn＝全モノマー供給の１００％であ
る。
ができる。この式は、反応器中の１つの全体のモノマー
仕込みサイクルの間に生成されるテーパー付きのスチレ
ン - ブタジエンブロックコポリマーの理想的なモデル
を表す。Ｂ／Ｓはブタジエン（Ｂ） - スチレン（Ｓ）
ブロックコポリマーを表し、そしてＢ1／Ｓ1は０〜１５
重量％のスチレン及び１００〜８５重量％のブタジエン
を含んで生成される初期ブロックを表す。各々のブロッ
ク中のスチレンの％は％Ｓ1＜％Ｓ2＜％Ｓnのように次
第に増加し、そしてＢn／Ｓnのブロックは３０〜１００
重量％のスチレン及び７０〜０重量％のブタジエンを含
み、即ち％Ｓn＝３０〜１００％、％Ｂn＝７０〜０％、
そして％Ｂn＋％Ｓn＝全モノマー供給の１００％であ
る。
【００３２】ポリマーのテーパー率は、共重合反応の間
のある段階での転化率及びスチレン含量を測定すること
によって計算される。連鎖中の２つの点でのスチレン含
量の差が計算され、そしてテーパー率は以下の式： テーパー率＝（連鎖中の２つの点でのスチレン含量の
差）／（全体の連鎖の重量に対する連鎖の部分の重量の
％） によって与えられる。テーパー付きのスチレン - ブタ
ジエンコポリマーの構造は、計算されたテーパー率によ
って確認することができる。本方法によって製造される
コポリマー連鎖の混合物は約０．３０〜１．７０の平均
テーパー率及び１０％未満のスチレンブロック率％（分
離されたブロックスチレンポリマー重量ｘ１００／全コ
ポリマー重量）を含むことが好ましい。
のある段階での転化率及びスチレン含量を測定すること
によって計算される。連鎖中の２つの点でのスチレン含
量の差が計算され、そしてテーパー率は以下の式： テーパー率＝（連鎖中の２つの点でのスチレン含量の
差）／（全体の連鎖の重量に対する連鎖の部分の重量の
％） によって与えられる。テーパー付きのスチレン - ブタ
ジエンコポリマーの構造は、計算されたテーパー率によ
って確認することができる。本方法によって製造される
コポリマー連鎖の混合物は約０．３０〜１．７０の平均
テーパー率及び１０％未満のスチレンブロック率％（分
離されたブロックスチレンポリマー重量ｘ１００／全コ
ポリマー重量）を含むことが好ましい。
【００３３】種々のブロックコポリマーの大きな混合物
が本発明の連続的な方法に従って製造されることが更に
理解される。種々のブロックポリマーは、初期ブロック
及び末端ブロック区分として Ｂ1／Ｓ1．．．Ｂn／Ｓn．．．Ｂ1／Ｓ1．．．Ｂn／
Ｓn．．．Ｂ1／Ｓ1．．．等 に沿って間欠的に任意のブロック長さ区分を有すること
ができる。かくして、連鎖長さに沿ったテーパー付きの
ブロック中のスチレン含量は、増加だけ、減少だけ、増
加し次に減少、減少し次に増加、減少し次に増加し次に
減少、増加し次に減少し次に増加する等することができ
る。
が本発明の連続的な方法に従って製造されることが更に
理解される。種々のブロックポリマーは、初期ブロック
及び末端ブロック区分として Ｂ1／Ｓ1．．．Ｂn／Ｓn．．．Ｂ1／Ｓ1．．．Ｂn／
Ｓn．．．Ｂ1／Ｓ1．．．等 に沿って間欠的に任意のブロック長さ区分を有すること
ができる。かくして、連鎖長さに沿ったテーパー付きの
ブロック中のスチレン含量は、増加だけ、減少だけ、増
加し次に減少、減少し次に増加、減少し次に増加し次に
減少、増加し次に減少し次に増加する等することができ
る。
【００３４】好ましい実施態様においては、全体のブロ
ックコポリマーの（Ｂ／Ｓ）テーパー付きのブロック区
分は、好ましくは、ポリマー連鎖長に沿って平均で１５
〜４０％、好ましくは２０〜２５％の１，２−ミクロ構
造を含む。もう一つの好ましい実施態様においては、コ
ポリマー連鎖に沿った平均１，２−ミクロ構造は、好ま
しくは、（Ｂ／Ｓ）テーパー付きのコポリマーの連鎖長
の最初の３０％部分、中間の４０％部分及び最後の３０
％部分として同定される３つの区分の各々の間で少なく
とも１０％変化する。
ックコポリマーの（Ｂ／Ｓ）テーパー付きのブロック区
分は、好ましくは、ポリマー連鎖長に沿って平均で１５
〜４０％、好ましくは２０〜２５％の１，２−ミクロ構
造を含む。もう一つの好ましい実施態様においては、コ
ポリマー連鎖に沿った平均１，２−ミクロ構造は、好ま
しくは、（Ｂ／Ｓ）テーパー付きのコポリマーの連鎖長
の最初の３０％部分、中間の４０％部分及び最後の３０
％部分として同定される３つの区分の各々の間で少なく
とも１０％変化する。
【００３５】本方法に従うと種々のテーパー付きのブロ
ックが連続的に製造されるので、本発明の方法に従って
製造されたコポリマー中にはテーパー付きのブロックコ
ポリマーの大きな混合物が存在する。連続的に製造され
たテーパー付きのコポリマーは、幅広いガラス転移温度
または一連の非常に小さなそして良く定義されないガラ
ス転移温度を有する。好ましい実施態様においては、ジ
エンモノマーは１，３−ブタジエンでありそしてビニル
芳香族モノマーはスチレンである。本発明に従って製造
されたコポリマーは、５０，０００〜５５０，０００、
好ましくは１００，０００〜３５０，０００の分子量を
有し、そして平均で２０〜５０重量％のビニル芳香族モ
ノマー寄与の単位及び８０〜５０％のジエン寄与の単位
を有する。
ックが連続的に製造されるので、本発明の方法に従って
製造されたコポリマー中にはテーパー付きのブロックコ
ポリマーの大きな混合物が存在する。連続的に製造され
たテーパー付きのコポリマーは、幅広いガラス転移温度
または一連の非常に小さなそして良く定義されないガラ
ス転移温度を有する。好ましい実施態様においては、ジ
エンモノマーは１，３−ブタジエンでありそしてビニル
芳香族モノマーはスチレンである。本発明に従って製造
されたコポリマーは、５０，０００〜５５０，０００、
好ましくは１００，０００〜３５０，０００の分子量を
有し、そして平均で２０〜５０重量％のビニル芳香族モ
ノマー寄与の単位及び８０〜５０％のジエン寄与の単位
を有する。
【００３６】ビニル芳香族モノマー、好ましくはスチレ
ンの反応器中への連続的な仕込みはまた、増加するまた
は減少する仕込まれた量で維持することができる。これ
によって、増加するまたは減少するスチレン含量または
その他のビニル芳香族モノマー寄与の含量を有するテー
パー付きのブロックコポリマーを製造し、一方前に規定
された手順に従って１，２−ミクロ構造を必要に応じて
テーパー付けすることができる。かくして、本発明の方
法は、（１）続いて起きるブロック生成あたりテーパー
付きのビニル芳香族モノマー含量とテーパー付きの１，
２−ミクロ構造との両方、（２）続いて起きるブロック
生成あたりテーパー付きの１，２−ミクロ構造及び増加
し次に減少するビニル芳香族モノマー含量、（３）続い
て起きるブロック生成あたりテーパー付きのビニル芳香
族モノマー含量及び一定の１，２−ミクロ構造、並びに
（４）続いて起きるブロック生成あたりテーパー付きの
ビニル芳香族モノマー含量及び増加し次に減少する１，
２−ミクロ構造含量を有するテーパー付きのコポリマー
を製造するために利用することができる。
ンの反応器中への連続的な仕込みはまた、増加するまた
は減少する仕込まれた量で維持することができる。これ
によって、増加するまたは減少するスチレン含量または
その他のビニル芳香族モノマー寄与の含量を有するテー
パー付きのブロックコポリマーを製造し、一方前に規定
された手順に従って１，２−ミクロ構造を必要に応じて
テーパー付けすることができる。かくして、本発明の方
法は、（１）続いて起きるブロック生成あたりテーパー
付きのビニル芳香族モノマー含量とテーパー付きの１，
２−ミクロ構造との両方、（２）続いて起きるブロック
生成あたりテーパー付きの１，２−ミクロ構造及び増加
し次に減少するビニル芳香族モノマー含量、（３）続い
て起きるブロック生成あたりテーパー付きのビニル芳香
族モノマー含量及び一定の１，２−ミクロ構造、並びに
（４）続いて起きるブロック生成あたりテーパー付きの
ビニル芳香族モノマー含量及び増加し次に減少する１，
２−ミクロ構造含量を有するテーパー付きのコポリマー
を製造するために利用することができる。
【００３７】述べたように、ジエンモノマー、ビニル芳
香族モノマー及び改質剤及び開始剤は、別々の供給流れ
を経由して重合反応器中に添加される。モノマーの比は
反応の過程にわたって周期的に変えられ、一方改質剤の
レベルは周期的に変えられるかまたは維持されて良い。
改質剤レベルの上昇は、ビニル含量の増加をもたらしそ
してまたビニルモノマーのコポリマーへのランダムな添
加を促進するのを助ける。
香族モノマー及び改質剤及び開始剤は、別々の供給流れ
を経由して重合反応器中に添加される。モノマーの比は
反応の過程にわたって周期的に変えられ、一方改質剤の
レベルは周期的に変えられるかまたは維持されて良い。
改質剤レベルの上昇は、ビニル含量の増加をもたらしそ
してまたビニルモノマーのコポリマーへのランダムな添
加を促進するのを助ける。
【００３８】本発明に従って製造されたコポリマー及び
ポリマーは、タイアトレッド並びにその他の成形された
ゴム商品の製造において有用である。
ポリマーは、タイアトレッド並びにその他の成形された
ゴム商品の製造において有用である。
【００３９】
【実施例】以下の実施例は、例示の目的のためだけに提
示されそして限定する意味合いで考えられてはならな
い。特記しない限りすべての％は重量による。
示されそして限定する意味合いで考えられてはならな
い。特記しない限りすべての％は重量による。
【００４０】実施例１ 本発明の連続的な供給方法に従ってテーパー付きのスチ
レン - ブタジエンコポリマーを製造する。５ガロンの
反応器に容量までヘキサンを予備仕込みする。以下の濃
度を有する５つの供給流れを反応器の底中に供給した：
（１）ヘキサン中の２５．２％のスチレン、（２）ヘキ
サン中の２４．６５％の１，３−ブタジエン、（３）ヘ
キサン中の０．１４３ｍＭ／ｃｃのｎ−ＢｕＬｉ、
（４）ヘキサン中の０．３０ｍＭ／ｃｃのＯＯＰＳ、及
び（５）追加のヘキサン。
レン - ブタジエンコポリマーを製造する。５ガロンの
反応器に容量までヘキサンを予備仕込みする。以下の濃
度を有する５つの供給流れを反応器の底中に供給した：
（１）ヘキサン中の２５．２％のスチレン、（２）ヘキ
サン中の２４．６５％の１，３−ブタジエン、（３）ヘ
キサン中の０．１４３ｍＭ／ｃｃのｎ−ＢｕＬｉ、
（４）ヘキサン中の０．３０ｍＭ／ｃｃのＯＯＰＳ、及
び（５）追加のヘキサン。
【００４１】この重合方法の所望の条件は、（１）２５
重量％のコポリマー中の平均スチレンレベル、（２）
０．５０のＯＯＰＳ改質剤／Ｌｉの比、（３）１５０，
０００の平均分子量、及び（４）４６分の反応器中の平
均滞留時間であった。
重量％のコポリマー中の平均スチレンレベル、（２）
０．５０のＯＯＰＳ改質剤／Ｌｉの比、（３）１５０，
０００の平均分子量、及び（４）４６分の反応器中の平
均滞留時間であった。
【００４２】反応器中への仕込みの流量は以下のようで
あった：
あった：
【００４３】
【表１】流れ cc/HR cc/Min GMS/HR LBS/HR スチレン/ヘキサン 7131 118.8 4710 10.4 ブタジエン/ヘキサン 21887 364.8 14456 31.9 ヘキサン 10192 169.9 6726 14.8 n-BuLi 295.2 4.92 194.8 0.43 不純物に関するn-BuLi 73.8 1.23 OOPS 703.5 11.72 464.3 1.02 合計 40282.5 671.4 26551.1 58.55 触媒及び改質剤供給流れの流量は一定に保ったが、モノ
マー供給流れの流量は図１中に示すように毎秒調節し
た。４６分のサイクルにおいてモノマーの流量をコンピ
ューター制御した。１，３−ブタジエンモノマーの最大
流れを、スチレンモノマーの最小流れに対応して４６分
ごとに反応器に添加した。１，３−ブタジエンモノマー
の流れを２３分サイクルの中で漸次減らし、一方スチレ
ンモノマーの流量を対応してその最大まで増した。各々
のモノマー供給サイクルの残りの２３分においては、
１，３−ブタジエンモノマー供給を最大流量まで漸次増
し、一方スチレンモノマー供給量を対応して減らした。
次に、供給サイクルを図１中に示すように繰り返した。
マー供給流れの流量は図１中に示すように毎秒調節し
た。４６分のサイクルにおいてモノマーの流量をコンピ
ューター制御した。１，３−ブタジエンモノマーの最大
流れを、スチレンモノマーの最小流れに対応して４６分
ごとに反応器に添加した。１，３−ブタジエンモノマー
の流れを２３分サイクルの中で漸次減らし、一方スチレ
ンモノマーの流量を対応してその最大まで増した。各々
のモノマー供給サイクルの残りの２３分においては、
１，３−ブタジエンモノマー供給を最大流量まで漸次増
し、一方スチレンモノマー供給量を対応して減らした。
次に、供給サイクルを図１中に示すように繰り返した。
【００４４】１，３−ブタジエンの流れライン中の破裂
したディスクが９３分に所望の１，３−ブタジエンモノ
マー流量を一時的に減らしたことが認められる。
したディスクが９３分に所望の１，３−ブタジエンモノ
マー流量を一時的に減らしたことが認められる。
【００４５】反応器から連続的に回収されたテーパー付
きのブロックコポリマー生成物は水によって不活性化さ
れた回収された触媒を有していたが、酸化防止剤が添加
され、そしてコポリマーが乾燥されそして回収された。
きのブロックコポリマー生成物は水によって不活性化さ
れた回収された触媒を有していたが、酸化防止剤が添加
され、そしてコポリマーが乾燥されそして回収された。
【００４６】回収されたテーパー付きのブロックコポリ
マーは、図２中に示すようにＤＳＣ（示差走査熱量計）
で幅広いＴgを示した。回収されたコポリマーは以下の
特性を示した： １００℃でのＭＬ−４＝６７ Ｍn＝１０６，０００ ＭW＝４６０，０００ Ｍw／Ｍn＝４．４ ％スチレン含量＝２３．５％、ブロックスチレン無しで
（１０以上の単位） ％１，２−ミクロ構造＝２８．６％ 本発明の方法に従って製造されたブロックコポリマーの
共通の相当点は、これらのブロックコポリマーがテーパ
ー付きでありそして幅広いＴgまたは一連の小さなＴgを
有し、かくして鋭く規定されたガラス転移温度を欠いて
いることである。図２中に示すように、図１中に示すモ
ノマー流量に従って実施例１中で製造されたテーパー付
きのブロックコポリマーに関しては良く規定されないガ
ラス転移温度だけが認め得る。
マーは、図２中に示すようにＤＳＣ（示差走査熱量計）
で幅広いＴgを示した。回収されたコポリマーは以下の
特性を示した： １００℃でのＭＬ−４＝６７ Ｍn＝１０６，０００ ＭW＝４６０，０００ Ｍw／Ｍn＝４．４ ％スチレン含量＝２３．５％、ブロックスチレン無しで
（１０以上の単位） ％１，２−ミクロ構造＝２８．６％ 本発明の方法に従って製造されたブロックコポリマーの
共通の相当点は、これらのブロックコポリマーがテーパ
ー付きでありそして幅広いＴgまたは一連の小さなＴgを
有し、かくして鋭く規定されたガラス転移温度を欠いて
いることである。図２中に示すように、図１中に示すモ
ノマー流量に従って実施例１中で製造されたテーパー付
きのブロックコポリマーに関しては良く規定されないガ
ラス転移温度だけが認め得る。
【００４７】本発明の主なる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【００４８】１）反応容器中に ａ．溶媒中の共役ジエンモノマーから成る第一流れ、 ｂ．溶媒中のビニル芳香族モノマーから成る第二流れ、 ｃ．触媒的に効果的な量のアニオン開始剤、及び ｄ．１００ｇのモノマーあたり０〜４００ミリモルのラ
ンダム化改質剤 を連続的に注入することから成る、共役ジエン及びビニ
ル芳香族反応性モノマーの重合によって生成されるテー
パー付きのコポリマーの製造のための連続的な方法であ
って、重合の過程の間、反応容器中に仕込まれる全モノ
マー重量のジエンモノマーの重量％が（１００−Ｘ）％
であり、式中Ｘ％は反応容器中に仕込まれるビニル芳香
族モノマーの重量％を表し、そしてここでＸ％は約０〜
１５％の最小仕込みと約３５〜１００％の最大仕込みと
の間を周期的に変動する方法。
ンダム化改質剤 を連続的に注入することから成る、共役ジエン及びビニ
ル芳香族反応性モノマーの重合によって生成されるテー
パー付きのコポリマーの製造のための連続的な方法であ
って、重合の過程の間、反応容器中に仕込まれる全モノ
マー重量のジエンモノマーの重量％が（１００−Ｘ）％
であり、式中Ｘ％は反応容器中に仕込まれるビニル芳香
族モノマーの重量％を表し、そしてここでＸ％は約０〜
１５％の最小仕込みと約３５〜１００％の最大仕込みと
の間を周期的に変動する方法。
【００４９】２）共役ジエンモノマーが１，３−ブタジ
エンである、上記１に記載の方法。 ３）ビニル芳香族モノマーがスチレンである、上記１に
記載の方法。
エンである、上記１に記載の方法。 ３）ビニル芳香族モノマーがスチレンである、上記１に
記載の方法。
【００５０】４）溶媒がヘキサンから成る、上記１に記
載の方法。
載の方法。
【００５１】５）テーパー付きのコポリマーのテーパー
付きの構造が、繰り返しサイクルの間にジエンモノマー
の１００〜０重量％及びビニル芳香族モノマーの０〜１
００重量％の限度の間で所定のやり方で量を変動させる
ことによって制御され、そして各々のサイクルは１滞留
時間よりも長くない、上記１に記載の方法。
付きの構造が、繰り返しサイクルの間にジエンモノマー
の１００〜０重量％及びビニル芳香族モノマーの０〜１
００重量％の限度の間で所定のやり方で量を変動させる
ことによって制御され、そして各々のサイクルは１滞留
時間よりも長くない、上記１に記載の方法。
【００５２】６）溶媒と接触している反応ゾーン中の０
〜１００重量％のビニル芳香族モノマー及び１００〜０
重量％の共役ジエンモノマーから成る全モノマー仕込み
量の実質的に一定の重量％並びに重合条件下のアニオン
開始剤並びに０．３〜６．０時間の滞留時間を有する連
続的な共重合方法において、テーパー付きのブロックコ
ポリマーのガラス転移温度が、繰り返しサイクルの間、
所定の変動する量で反応器中へのモノマーの流量を変動
させることによって、明確に規定できるガラス転移温度
を持たないように制御され、そしてモノマーの流量が、
最小から最大へまたは最大から最小へ各々のサイクルの
間に所定のやり方で反対に変動し、そしてこれらのサイ
クルが、何分〜１滞留時間を変動する各々のサイクル長
さと長さにおいて実質的に等しく、そしてこの間、テー
パー付きのブロックコポリマーを反応ゾーンから連続的
に取り出す方法。
〜１００重量％のビニル芳香族モノマー及び１００〜０
重量％の共役ジエンモノマーから成る全モノマー仕込み
量の実質的に一定の重量％並びに重合条件下のアニオン
開始剤並びに０．３〜６．０時間の滞留時間を有する連
続的な共重合方法において、テーパー付きのブロックコ
ポリマーのガラス転移温度が、繰り返しサイクルの間、
所定の変動する量で反応器中へのモノマーの流量を変動
させることによって、明確に規定できるガラス転移温度
を持たないように制御され、そしてモノマーの流量が、
最小から最大へまたは最大から最小へ各々のサイクルの
間に所定のやり方で反対に変動し、そしてこれらのサイ
クルが、何分〜１滞留時間を変動する各々のサイクル長
さと長さにおいて実質的に等しく、そしてこの間、テー
パー付きのブロックコポリマーを反応ゾーンから連続的
に取り出す方法。
【００５３】７）ビニル芳香族モノマー供給量が、各々
のサイクルの間に、全モノマー仕込みの０〜１５重量％
の最小から全モノマー仕込みの３０〜１００重量％の最
大へそして戻って最小へ変動する、上記６に記載の方
法。
のサイクルの間に、全モノマー仕込みの０〜１５重量％
の最小から全モノマー仕込みの３０〜１００重量％の最
大へそして戻って最小へ変動する、上記６に記載の方
法。
【００５４】８）全モノマー供給の残りの重量％が共役
ジエンモノマーから成る、上記７に記載の方法。
ジエンモノマーから成る、上記７に記載の方法。
【００５５】９）１ミリモルのアニオン開始剤あたり０
〜４００ミリモルの限度の間で所定のやり方で変動する
量で１，２−ミクロ構造改質剤を導入することによって
テーパー付きのコポリマーの１，２−ミクロ構造を制御
するステップを付加的に含む、上記６に記載の方法。
〜４００ミリモルの限度の間で所定のやり方で変動する
量で１，２−ミクロ構造改質剤を導入することによって
テーパー付きのコポリマーの１，２−ミクロ構造を制御
するステップを付加的に含む、上記６に記載の方法。
【００５６】１０）上記６に記載の方法に従って製造さ
れるテーパー付きのコポリマー。
れるテーパー付きのコポリマー。
【００５７】１１）１５〜５０重量％の平均スチレン含
量を有するテーパー付きのブロックスチレン - ブタジ
エンコポリマーの混合体から成るエラストマー組成物で
あって、該混合体が、特定のガラス転移温度を持たずそ
して５０，０００〜５５０，０００の平均分子量を持つ
エラストマー組成物。
量を有するテーパー付きのブロックスチレン - ブタジ
エンコポリマーの混合体から成るエラストマー組成物で
あって、該混合体が、特定のガラス転移温度を持たずそ
して５０，０００〜５５０，０００の平均分子量を持つ
エラストマー組成物。
【００５８】１２）該スチレン - ブタジエンコポリマ
ーが約０．３０〜１．７０の平均テーパー率を持つ、上
記１１に記載のエラストマー組成物。
ーが約０．３０〜１．７０の平均テーパー率を持つ、上
記１１に記載のエラストマー組成物。
【図１】実施例１中に示されたようにテーパー付きのブ
ロックコポリマーの製造における周期的なモノマー流量
対時間を図式的に示す。
ロックコポリマーの製造における周期的なモノマー流量
対時間を図式的に示す。
【図２】実施例１において製造されたテーパー付きのブ
ロックコポリマーのＴgを示す。
ロックコポリマーのＴgを示す。
Claims (3)
- 【請求項１】 反応容器中に ａ．溶媒中の共役ジエンモノマーから成る第一流れ、 ｂ．溶媒中のビニル芳香族モノマーから成る第二流れ、 ｃ．触媒的に効果的な量のアニオン開始剤、及び ｄ．１００ｇのモノマーあたり０〜４００ミリモルのラ
ンダム化改質剤 を連続的に注入することから成る、共役ジエン及びビニ
ル芳香族反応性モノマーの重合によって生成されるテー
パー付きのコポリマーの製造のための連続的な方法であ
って、重合の過程の間、反応容器中に仕込まれる全モノ
マー重量のジエンモノマーの重量％が（１００−Ｘ）％
であり、式中Ｘ％は反応容器中に仕込まれるビニル芳香
族モノマーの重量％を表し、そしてここでＸ％は約０〜
１５％の最小仕込みと約３５〜１００％の最大仕込みと
の間を周期的に変動する方法。 - 【請求項２】 溶媒と接触している反応ゾーン中の０〜
１００重量％のビニル芳香族モノマー及び１００〜０重
量％の共役ジエンモノマーから成る全モノマー仕込み量
の実質的に一定の重量％並びに重合条件下のアニオン開
始剤並びに０．３〜６．０時間の滞留時間を有する連続
的な共重合方法において、テーパー付きのブロックコポ
リマーのガラス転移温度が、繰り返しサイクルの間、所
定の変動する量で反応器中へのモノマーの流量を変動さ
せることによって、明確に規定できるガラス転移温度を
持たないように制御され、そしてモノマーの流量が、最
小から最大へまたは最大から最小へ各々のサイクルの間
に所定のやり方で反対に変動し、そしてこれらのサイク
ルが、何分〜１滞留時間を変動する各々のサイクル長さ
と長さにおいて実質的に等しく、そしてこの間、テーパ
ー付きのブロックコポリマーを反応ゾーンから連続的に
取り出す方法。 - 【請求項３】 １５〜５０重量％の平均スチレン含量を
有するテーパー付きのブロックスチレン - ブタジエン
コポリマーの混合体から成るエラストマー組成物であっ
て、該混合体が、特定のガラス転移温度を持たずそして
５０，０００〜５５０，０００の平均分子量を持つエラ
ストマー組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US829854 | 1992-01-31 | ||
| US07/829,854 US5272207A (en) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | Process for continuously producing cyclicly tapered SBR-type copolymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05262805A true JPH05262805A (ja) | 1993-10-12 |
| JP3253156B2 JP3253156B2 (ja) | 2002-02-04 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5272207A (ja) |
| EP (1) | EP0553689B1 (ja) |
| JP (1) | JP3253156B2 (ja) |
| CA (1) | CA2088453A1 (ja) |
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| US6162874A (en) * | 1994-11-07 | 2000-12-19 | Bridgestone/Firestone, Inc. | Block copolymers interpolymerized with in situ polystyrene and process for preparation thereof |
| US6835778B2 (en) * | 1995-08-29 | 2004-12-28 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Conjugated diene/monovinylarene block copolymers blends |
| US6096828A (en) * | 1995-08-29 | 2000-08-01 | Phillips Petroleum Company | Conjugated diene/monovinylarene block copolymers, methods for preparing same, and polymer blends |
| US5700888A (en) * | 1996-11-07 | 1997-12-23 | Bridgestone Corporation | Synthesis of macrocyclic polymers having low hysteresis compounded properties |
| DE19941072A1 (de) | 1999-08-30 | 2001-03-01 | Stockhausen Chem Fab Gmbh | Polymerisatzusammensetzung und ein Verfahren zu dessen Herstellung |
| US20040115381A1 (en) * | 2002-12-12 | 2004-06-17 | Chevron Phillips Chemical Company, Lp | Method for manufacturing articles with materials containing tapered polymers |
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| US9540475B2 (en) | 2015-03-12 | 2017-01-10 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Styrene-butadiene block copolymers for tubing applications |
| US9598524B1 (en) | 2015-09-18 | 2017-03-21 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Styrene-butadiene block copolymers with a terminal butadiene block for tubing applications |
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| US10023676B2 (en) | 2016-02-24 | 2018-07-17 | Ineos Styrolution Group Gmbh | Styrene-butadiene block copolymers with an internal butadiene block for tubing applications |
| US9828455B2 (en) | 2016-02-24 | 2017-11-28 | Ineos Styrolution Group Gmbh | Styrene-butadiene block copolymers with an internal butadiene block for tubing applications |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4704434A (en) * | 1986-03-24 | 1987-11-03 | Phillips Petroleum Company | Craze-resistant polymodal linear block copolymers with terminal tapered blocks |
| US4672097A (en) * | 1986-03-25 | 1987-06-09 | The Firestone Tire & Rubber Company | Process and system for preparing random copolymers having low vinyl contents |
| US5013790A (en) * | 1989-07-05 | 1991-05-07 | The Dow Chemical Company | Polymer blends of tapered styrene-butadiene triblock thermoplastic elastomers |
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- 1992-01-31 US US07/829,854 patent/US5272207A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-01-19 ES ES93100726T patent/ES2091501T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-19 EP EP93100726A patent/EP0553689B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-19 DE DE69304355T patent/DE69304355T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-29 JP JP03239993A patent/JP3253156B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-29 CA CA002088453A patent/CA2088453A1/en not_active Abandoned
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| EP0553689A1 (en) | 1993-08-04 |
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| JP3253156B2 (ja) | 2002-02-04 |
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| ES2091501T3 (es) | 1996-11-01 |
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