JPH05258580A - Nonvolatile semiconductor memory - Google Patents
Nonvolatile semiconductor memoryInfo
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- JPH05258580A JPH05258580A JP5842792A JP5842792A JPH05258580A JP H05258580 A JPH05258580 A JP H05258580A JP 5842792 A JP5842792 A JP 5842792A JP 5842792 A JP5842792 A JP 5842792A JP H05258580 A JPH05258580 A JP H05258580A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、フラッシュ・メモリ
や、EPROM(Erasable and ProgrammableRead Only
Memory)等、不揮発性半導体記憶装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a flash memory and an EPROM (Erasable and Programmable Read Only).
Memory) and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】図5は、フラッシュ・メモリが搭載して
いるメモリ・セル・トランジスタを概略的に示す断面図
であり、1はP型シリコン基板、2はN+拡散層からな
るドレイン、3はN+拡散層からなるソース、4はフロ
ーティング・ゲート、5はコントロール・ゲート(ワー
ド線)である。2. Description of the Related Art FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a memory cell transistor mounted on a flash memory. 1 is a P-type silicon substrate, 2 is a drain made of an N + diffusion layer, 3 Is a source formed of an N + diffusion layer, 4 is a floating gate, and 5 is a control gate (word line).
【0003】かかるメモリ・セル・トランジスタにおい
て、書込みは、ソース3を0[V]とし、コントロール
・ゲート5に約12[V]、ドレイン2に約6[V]を
印加し、ドレイン2の近傍で起こるアバランシェ・ブレ
ーク・ダウンによって発生する電子をフローティング・
ゲート4に注入することにより行われる。In such a memory cell transistor, for programming, the source 3 is set to 0 [V], about 12 [V] is applied to the control gate 5 and about 6 [V] is applied to the drain 2, and the vicinity of the drain 2 is applied. Floating electrons generated by avalanche breakdown in
It is performed by injecting into the gate 4.
【0004】これに対して、消去は、ドレイン2をフロ
ーティング、コントロール・ゲート5を0[V]とし、
ソース3に約12[V]を印加し、フローティング・ゲ
ート4に注入されている電子をトンネル現象によってソ
ース3に引き抜くことにより行われる。On the other hand, for erasing, the drain 2 is floating, the control gate 5 is 0 [V],
This is performed by applying about 12 [V] to the source 3 and extracting the electrons injected into the floating gate 4 to the source 3 by the tunnel phenomenon.
【0005】また、読出しは、ソース3を0[V]と
し、コントロール・ゲート5に約6[V]、ドレイン2
に約1[V]を印加し、ドレイン電流が流れるか否かを
電圧変化として検出し、これを増幅することにより行わ
れる。In reading, the source 3 is set to 0 [V], the control gate 5 is set to about 6 [V], and the drain 2 is set.
Is applied as a voltage change to detect whether or not a drain current flows, and this is amplified.
【0006】ここに、従来、フラッシュ・メモリは、図
6にその一部回路図を示すように、書込み回路(ライト
回路)6のほか、書込み検証回路(ライトベリファイ回
路)7を設けており、書込み後、書込み検証(ライトベ
リファイ)を行うことができるように構成されている。Heretofore, in the conventional flash memory, as shown in a partial circuit diagram of FIG. 6, in addition to a write circuit (write circuit) 6, a write verification circuit (write verify circuit) 7 is provided. After writing, write verification can be performed (write verify).
【0007】なお、書込み回路6において、8は約12
[V]の高電圧VPPを供給するVPP線、9はnMO
Sトランジスタ、10はPGM(プログラム)信号が入
力されるPGM信号入力端子である。In the writing circuit 6, 8 is about 12
VPP line supplying high voltage VPP of [V], 9 is nMO
The S transistors and 10 are PGM signal input terminals to which a PGM (program) signal is input.
【0008】また、書込み検証回路7において、11、
12はVPP線、13〜15は抵抗、16、17はnM
OSトランジスタ、18はpMOSトランジスタ、19
は外部から供給されるverify(ベリファイ)信号に基づ
く書込み検証制御信号SCが入力される書込み検証制御
信号入力端子であり、この書込み検証回路7において
は、ノード20に約6[V]を得るように回路定数が設
定されている。In the write verification circuit 7, 11,
12 is a VPP line, 13 to 15 are resistors, 16 and 17 are nM
OS transistor, 18 is pMOS transistor, 19
Is a write verification control signal input terminal to which a write verification control signal SC based on a verify signal supplied from the outside is input, and in the write verification circuit 7, about 6 [V] is obtained at the node 20. The circuit constant is set in.
【0009】図7は、これら書込み回路6及び書込み検
証回路7を搭載してなる従来のフラッシュ・メモリにお
ける書込み動作及び書込み検証動作を説明するための波
形図である。FIG. 7 is a waveform diagram for explaining the write operation and the write verify operation in the conventional flash memory having the write circuit 6 and the write verify circuit 7 mounted therein.
【0010】この例では、まず、PGM信号がHレベル
にされてnMOSトランジスタ9がON(導通)とさ
れ、ロウデコーダを介してワード線に対して約12
[V]が供給され、その後、ビット線の電圧が約6
[V]にされて、メモリ・セル・トランジスタに対する
データの書込みが行われる。In this example, first, the PGM signal is set to the H level, the nMOS transistor 9 is turned on (conducting), and the word line is passed through the row decoder for about 12 times.
[V] is supplied, and then the voltage of the bit line is about 6
When set to [V], data is written to the memory cell transistor.
【0011】その後、verify信号がHレベルとされ、続
いて、PGM信号がLレベルにされてnMOSトランジ
スタ9がOFF(非導通)とされ、書込み回路6が非活
性とされると共に、書込み検証制御信号SCがHレベル
とされる。After that, the verify signal is set to H level, the PGM signal is set to L level, the nMOS transistor 9 is turned off (non-conducting), the write circuit 6 is deactivated, and the write verification control is performed. Signal SC is set to H level.
【0012】この結果、nMOSトランジスタ17がO
Nとされて、ワード線に対してロウデコーダを介して約
6[V]が供給されると共に、ビット線の電圧が約1
[V]とされ、メモリ・セル・トランジスタのデータが
読み出され、書込み検証が行われる。As a result, the nMOS transistor 17 becomes O
N, the word line is supplied with about 6 [V] through the row decoder, and the voltage of the bit line is about 1
At [V], the data of the memory cell transistor is read and the write verification is performed.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】かかる従来のフラッシ
ュ・メモリにおいては、PGM信号がHレベルである状
態で、即ち、nMOSトランジスタ9がOFFとなる前
に、図7に破線21で示すように、書込み検証制御信号
SCがHレベルにされてしまうと、nMOSトランジス
タ17がONとなり、VPP線8からnMOSトランジ
スタ9、17及びpMOSトランジスタ18を介して接
地に貫通電流が流れ、接地電圧が変動し、誤動作が発生
してしまうおそれがある。In such a conventional flash memory, as shown by a broken line 21 in FIG. 7, when the PGM signal is at the H level, that is, before the nMOS transistor 9 is turned off, When the write verification control signal SC is set to the H level, the nMOS transistor 17 is turned on, a through current flows from the VPP line 8 to the ground through the nMOS transistors 9 and 17 and the pMOS transistor 18, and the ground voltage changes, There is a risk of malfunction.
【0014】本発明は、かかる点に鑑み、書込み検証を
行う場合、書込み回路から書込み検証回路に貫通電流が
流れないようにし、接地電圧の変動による誤動作を防止
することができるようにした不揮発性半導体記憶装置を
提供することを目的とする。In view of the above point, the present invention is such that, when performing write verification, a through current does not flow from the write circuit to the write verification circuit, and malfunctions due to fluctuations in the ground voltage can be prevented. An object is to provide a semiconductor memory device.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明による不揮発性半
導体記憶装置は、書込み時、ワード線に対して書込み動
作に必要な第1の電圧を供給する書込み回路と、書込み
検証時、ワード線に対して読出し動作に必要な第2の電
圧を供給する書込み検証回路と、書込み検証を行う場
合、書込み回路が非活性となった後にワード線に対して
第2の電圧を供給するように書込み検証回路を制御する
書込み検証制御回路とを設けて構成するというものであ
る。A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention includes a write circuit for supplying a first voltage required for a write operation to a word line during a write operation, and a write circuit for a word line during a write verify operation. On the other hand, a write verification circuit that supplies a second voltage necessary for a read operation, and a write verification circuit that supplies a second voltage to a word line after the write circuit is deactivated when performing the write verification. A write verification control circuit for controlling the circuit is provided and configured.
【0016】[0016]
【作用】本発明においては、書込み検証回路は、書込み
検証を行う場合、書込み回路が非活性となった後にワー
ド線に対して第2の電圧を供給するように書込み検証制
御回路によって制御されるので、書込み回路が活性化さ
れている場合に、書込み検証回路の第2の電圧の電圧源
が書込み回路の出力端に接続されることはない。したが
って、書込み回路から書込み検証回路に貫通電流が流れ
ることを回避することができる。In the present invention, the write verification circuit is controlled by the write verification control circuit so as to supply the second voltage to the word line after the write circuit is inactivated when performing the write verification. Therefore, the voltage source of the second voltage of the write verification circuit is not connected to the output end of the write circuit when the write circuit is activated. Therefore, it is possible to prevent a through current from flowing from the write circuit to the write verification circuit.
【0017】[0017]
【実施例】以下、図1〜図4を参照して、本発明の一実
施例につき、本発明をフラッシュ・メモリに適用した場
合を例にして説明する。なお、図1において、図6に対
応する部分には同一符号を付し、その重複説明は省略す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4 as an example in which the present invention is applied to a flash memory. In FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 6 are designated by the same reference numerals, and duplicate description thereof will be omitted.
【0018】図1は本発明の一実施例の要部を示す回路
図であり、本実施例は、書込み検証制御回路22を設
け、その他については、図6に示す従来のフラッシュ・
メモリと同様に構成したものである。FIG. 1 is a circuit diagram showing an essential part of an embodiment of the present invention. In this embodiment, a write verification control circuit 22 is provided, and other parts are shown in FIG.
It has the same structure as the memory.
【0019】ここに、書込み検証制御回路22は、イン
バータ23と、NOR回路24とを設けて構成されてお
り、インバータ23は、その入力端子をverify信号が入
力されるverify信号入力端子25に接続され、その出力
端子をNOR回路24の一方の入力端子に接続されてい
る。Here, the write verification control circuit 22 comprises an inverter 23 and a NOR circuit 24, and the inverter 23 has its input terminal connected to a verify signal input terminal 25 to which a verify signal is input. The output terminal is connected to one input terminal of the NOR circuit 24.
【0020】また、NOR回路24は、その他方の入力
端子をPGM信号が入力されるPGM信号入力端子26
に接続され、その出力端子を書込み検証回路7のnMO
Sトランジスタ17のゲートに接続されている。即ち、
この書込み検証制御回路22は、NOR回路24の出力
端子に書込み検証制御信号SCを得るとするものであ
る。The NOR circuit 24 has a PGM signal input terminal 26 to which the PGM signal is input at the other input terminal.
Is connected to the nMO of the write verification circuit 7.
It is connected to the gate of the S transistor 17. That is,
The write verification control circuit 22 obtains the write verification control signal SC at the output terminal of the NOR circuit 24.
【0021】かかる本実施例においては、書込み時、図
2に示すように、verify信号がLレベルの状態でPGM
信号がHレベルとされて、nMOSトランジスタ9がO
Nとされ、ロウデコーダを介してワード線に対して書込
みに必要な約12[V]が供給される。この場合、書込
み検証制御信号SCはLレベルになるので、nMOSト
ランジスタ17はOFFとされる。In this embodiment, at the time of writing, as shown in FIG. 2, when the verify signal is at the L level, the PGM is used.
The signal is set to the H level and the nMOS transistor 9 becomes O level.
N, and about 12 [V] required for writing is supplied to the word line through the row decoder. In this case, the write verification control signal SC becomes L level, so that the nMOS transistor 17 is turned off.
【0022】この状態で、図3に示すように、verify信
号がHレベルにされたとしても、書込み検証制御信号S
CはLレベルを維持するので、nMOSトランジスタ1
7はOFF状態を維持する。In this state, as shown in FIG. 3, even if the verify signal is set to the H level, the write verification control signal S
Since C maintains the L level, the nMOS transistor 1
7 maintains the OFF state.
【0023】その後、図4に示すように、PGM信号が
Lレベルとされ、nMOSトランジスタ9がOFFとさ
れると、書込み検証制御信号SCはHレベルとなり、n
MOSトランジスタ17はONとされ、ロウデコーダを
介してワード線に対して書込み検証に必要な約6[V]
の電圧が供給される。Thereafter, as shown in FIG. 4, when the PGM signal is set to L level and the nMOS transistor 9 is turned off, the write verification control signal SC becomes H level and n
The MOS transistor 17 is turned on, and about 6 [V] required for write verification is applied to the word line via the row decoder.
Is supplied.
【0024】このように、本実施例においては、書込み
検証制御回路22によって、PGM信号がLレベルとな
った後に、書込み検証制御信号SCがHレベルとなるよ
うに制御し、書込み回路6のnMOSトランジスタ9と
書込み検証回路7のnMOSトランジスタ17とが同時
にONとならないようにされる。As described above, in the present embodiment, the write verification control circuit 22 controls the write verification control signal SC to become H level after the PGM signal becomes L level, and the nMOS of the write circuit 6 is controlled. The transistor 9 and the nMOS transistor 17 of the write verification circuit 7 are prevented from turning on at the same time.
【0025】したがって、本実施例によれば、書込み検
証を行う場合、VPP電源線8からnMOSトランジス
タ9、17及びpMOSトランジスタ18を介して接地
に貫通電流が流れないようにし、接地電圧の変動による
誤動作を防止することができる。Therefore, according to the present embodiment, when the write verification is performed, a through current is prevented from flowing from the VPP power supply line 8 to the ground via the nMOS transistors 9 and 17 and the pMOS transistor 18, and the ground voltage varies. It is possible to prevent malfunction.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、書込み
検証回路は、書込み検証を行う場合、書込み回路が非活
性となった後にワード線に対して第2の電圧を供給する
ように書込み検証制御回路によって制御される構成とし
たことにより、書込み回路が活性化されている場合、書
込み検証回路の第2の電圧の電圧源が書込み回路の出力
端に接続されることはないので、書込み回路から書込み
検証回路に貫通電流が流れることを回避し、接地電圧の
変動による誤動作を防止することができる。As described above, according to the present invention, when performing the write verification, the write verification circuit supplies the second voltage to the word line after the write circuit becomes inactive. With the configuration controlled by the write verification control circuit, when the write circuit is activated, the voltage source of the second voltage of the write verification circuit is not connected to the output end of the write circuit. It is possible to prevent a through current from flowing from the write circuit to the write verification circuit and prevent malfunction due to fluctuations in the ground voltage.
【図1】本発明の一実施例の要部を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施例における書込み動作及び書込
み検証動作を説明するための回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram for explaining a write operation and a write verify operation in one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施例における書込み動作及び書込
み検証動作を説明するための回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram for explaining a write operation and a write verification operation according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施例における書込み動作及び書込
み検証動作を説明するための回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram for explaining a write operation and a write verify operation in one embodiment of the present invention.
【図5】フラッシュ・メモリが搭載しているメモリ・セ
ル・トランジスタを概略的に示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view schematically showing a memory cell transistor mounted in a flash memory.
【図6】従来のフラッシュ・メモリが搭載する書込み回
路及び書込み検証回路を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a write circuit and a write verification circuit mounted on a conventional flash memory.
【図7】従来のフラッシュ・メモリにおける書込み動作
及び書込み検証動作を説明するための波形図である。FIG. 7 is a waveform diagram for explaining a write operation and a write verification operation in a conventional flash memory.
6 書込み回路 7 書込み検証回路 22 書込み検証制御回路 SC 書込み検証制御信号 6 Writing Circuit 7 Writing Verification Circuit 22 Writing Verification Control Circuit SC Writing Verification Control Signal
Claims (3)
必要な第1の電圧を供給する書込み回路と、書込み検証
時、前記ワード線に対して読出し動作に必要な第2の電
圧を供給する書込み検証回路と、書込み検証を行う場
合、前記書込み回路が非活性となった後に前記ワード線
に対して前記第2の電圧を供給するように前記書込み検
証回路を制御する書込み検証制御回路とを設けて構成さ
れていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。1. A write circuit for supplying a first voltage required for a write operation to a word line during writing, and a second voltage required for a read operation for the word line during a write verification. And a write verification control circuit for controlling the write verification circuit so as to supply the second voltage to the word line after the write circuit is inactivated when performing the write verification. A non-volatile semiconductor memory device, comprising:
源と前記ワード線との間にプログラム信号よって導通、
非導通が制御される第1のスイッチ素子を設けて構成さ
れ、前記書込み検証回路は、前記第2の電圧の電圧源と
前記ワード線との間に前記書込み検証制御回路によって
導通、非導通が制御される第2のスイッチ素子を設けて
構成されていることを特徴とする請求項1記載の不揮発
性半導体記憶装置。2. The write circuit is electrically connected by a program signal between a voltage source of the first voltage and the word line,
A first switch element whose non-conduction is controlled is provided, and the write verification circuit is configured to conduct or non-conduct between the voltage source of the second voltage and the word line by the write verification control circuit. 2. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the nonvolatile semiconductor memory device is configured by providing a second switch element to be controlled.
ム信号が非活性レベル、ベリファイ信号が活性レベルの
場合のみ、前記第2のスイッチ素子を導通状態とするよ
うに前記書込み検証回路を制御することを特徴とする請
求項2記載の不揮発性半導体記憶装置。3. The write verification control circuit controls the write verification circuit so that the second switch element is rendered conductive only when the program signal is at an inactive level and the verify signal is at an active level. The non-volatile semiconductor memory device according to claim 2.
Priority Applications (1)
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JP5842792A JP3277542B2 (en) | 1992-03-16 | 1992-03-16 | Nonvolatile semiconductor memory device |
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---|---|---|---|
JP5842792A JP3277542B2 (en) | 1992-03-16 | 1992-03-16 | Nonvolatile semiconductor memory device |
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JPH05258580A true JPH05258580A (en) | 1993-10-08 |
JP3277542B2 JP3277542B2 (en) | 2002-04-22 |
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