JPH05258563A - Dynamic type semiconductor storage device - Google Patents
Dynamic type semiconductor storage deviceInfo
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- JPH05258563A JPH05258563A JP4055715A JP5571592A JPH05258563A JP H05258563 A JPH05258563 A JP H05258563A JP 4055715 A JP4055715 A JP 4055715A JP 5571592 A JP5571592 A JP 5571592A JP H05258563 A JPH05258563 A JP H05258563A
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- Dram (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミック型半導体
記憶装置(DRAM)の改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvement of a dynamic semiconductor memory device (DRAM).
【0002】[0002]
【従来の技術】DRAMの回路は、1トランジスタ/1
キャパシタのダイナミック型メモリセルを配列したメモ
リセルアレイ、このメモリセルアレイ内のデータを選択
するデコーダ、このデコーダを選択するための外部アド
レスを増幅するアドレスバッファ、前記メモリセルアレ
イのデータを増幅するビット線センスアンプ、およびこ
のビット線センスアンプと入出力ピンの間に設けられた
入出力センスアンプおよび入出力バッファからなるコア
回路と、このコア回路各部を駆動するタイミングを制御
するタイミング制御回路とに分けられる。2. Description of the Related Art A DRAM circuit has one transistor / 1
A memory cell array in which dynamic memory cells of capacitors are arranged, a decoder for selecting data in the memory cell array, an address buffer for amplifying an external address for selecting the decoder, and a bit line sense amplifier for amplifying data in the memory cell array. , And a core circuit including an input / output sense amplifier and an input / output buffer provided between the bit line sense amplifier and the input / output pin, and a timing control circuit for controlling the timing for driving each part of the core circuit.
【0003】DRAMコア回路の各部の遅延時間は、実
際には回路を構成するトランジスタのしきい値のゆらぎ
(ばらつき)によってゆらぐので、誤動作を防ぐために
は、コア回路各部の遅延時間に対応して次のコア回路の
駆動信号を発生する各部の駆動回路の遅延時間をそれよ
り長く設定することが必要である。どの程度長くするか
は、高速性能と信頼性の兼ね合いで決まる。例えば1991
年に国際学会で発表された64MビットDRAMでは、
図4(a) に示すように、コア回路各部の遅延時間に対し
て、次のコア回路を駆動するための遅延回路の遅延時間
を一律10%増にしている。Since the delay time of each part of the DRAM core circuit fluctuates due to fluctuations (variations) in the threshold voltage of the transistors forming the circuit in practice, in order to prevent malfunctions, the delay time of each part of the core circuit corresponds to the delay time. It is necessary to set the delay time of the drive circuit of each unit that generates the drive signal of the next core circuit longer than that. How long it is depends on the balance between high-speed performance and reliability. For example 1991
In the 64Mbit DRAM announced at the international conference in
As shown in FIG. 4A, the delay time of the delay circuit for driving the next core circuit is uniformly increased by 10% with respect to the delay time of each part of the core circuit.
【0004】DRAMを1Gレベルまで大容量化する
と、トランジスタは極めて微細なものとなり、特にメモ
リセルアレイのトランスファゲート・トランジスタはチ
ャネル長0.2μm 程度の小さいものとなる。この様な
微細トランジスタを用いた大容量DRAMでは、(1)
短チャネル効果や不純物分布のゆらぎによってトランジ
スタのしきい値のゆらぎが大きくなり、また(2)電源
電圧が3.3Vから1.5Vに下がるため、しきい値変
化に対する遅延時間の変化率が大きくなる。その結果、
あるコア回路の遅延時間のゆらぎがこれを受けて次のコ
ア回路を駆動するための遅延回路の遅延時間を上回るこ
とによる不良が発生する。この不良は、コア回路各部の
動作タイミングを設定する遅延回路の遅延時間を一律に
遅らせることで救済することが可能であるが、そうする
と高速性能が犠牲になる。When the capacity of a DRAM is increased to 1 G level, the transistor becomes extremely fine, and especially the transfer gate transistor of the memory cell array becomes as small as a channel length of about 0.2 μm. In the large capacity DRAM using such a fine transistor, (1)
The fluctuation of the threshold value of the transistor becomes large due to the short channel effect and the fluctuation of the impurity distribution, and (2) since the power supply voltage drops from 3.3V to 1.5V, the change rate of the delay time with respect to the threshold change is large. Become. as a result,
The fluctuation of the delay time of a certain core circuit receives this and exceeds the delay time of the delay circuit for driving the next core circuit, resulting in a defect. This defect can be remedied by uniformly delaying the delay time of the delay circuit that sets the operation timing of each part of the core circuit, but doing so sacrifices high-speed performance.
【0005】例えば、1GビットDRAMでの各コア回
路駆動用の遅延回路の遅延時間を、64MビットDRA
Mの場合の10%増から、図4(b) に示すように100
%増にすると、歩留まりは向上するが、アクセス時間は
64MビットDRAMの場合の33nsec から、約2倍
の60nsec まで遅れてしまう。For example, the delay time of each delay circuit for driving each core circuit in a 1 Gbit DRAM is set to 64 Mbit DRA.
From 10% increase in the case of M, 100% as shown in Fig. 4 (b)
If the percentage is increased, the yield is improved, but the access time is delayed from 33 nsec in the case of the 64 Mbit DRAM to 60 nsec, which is about twice as long.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のD
RAMでは、大容量化した場合にコア回路の遅延時間の
ゆらぎが大きくなり、高速性能を犠牲にすることなく高
い歩留まりを得ることが困難であるという問題があっ
た。本発明は、この様な問題を解決して、高速性能を犠
牲にすることなく高い歩留まりを得ることができるDR
AMを提供することを目的とする。As described above, the conventional D
In the RAM, there is a problem that when the capacity is increased, the fluctuation of the delay time of the core circuit becomes large, and it is difficult to obtain a high yield without sacrificing the high speed performance. The present invention solves such a problem, and a high yield can be obtained without sacrificing high-speed performance.
The purpose is to provide AM.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明に係るDRAM
は、ダイナミック型メモリセルを配列したメモリセルア
レイ、このメモリセルアレイ内のデータを選択するデコ
ーダ、このデコーダを選択するための外部アドレスを増
幅するアドレスバッファ、前記メモリセルアレイのデー
タを増幅するビット線センスアンプ、およびこのビット
線センスアンプと入出力ピンの間に設けられた入出力セ
ンスアンプおよび入出力バッファからなるコア回路と、
このコア回路を駆動するタイミングを制御するタイミン
グ制御回路とを有し、コア回路各部の遅延時間と、この
コア回路各部の遅延時間に対応して次の駆動信号を発生
するタイミング制御回路内の遅延回路の遅延時間との比
が、コア回路各部のトランジスタのしきい値のゆらぎの
大きさに応じて設定されていることを特徴とする。A DRAM according to the present invention
Is a memory cell array in which dynamic memory cells are arranged, a decoder for selecting data in the memory cell array, an address buffer for amplifying an external address for selecting the decoder, and a bit line sense amplifier for amplifying data in the memory cell array. , And a core circuit including an input / output sense amplifier and an input / output buffer provided between the bit line sense amplifier and the input / output pin,
A timing control circuit that controls the timing for driving the core circuit, and a delay in the timing control circuit that generates the next drive signal corresponding to the delay time of each part of the core circuit and the delay time of each part of the core circuit. It is characterized in that the ratio to the delay time of the circuit is set according to the magnitude of the fluctuation of the threshold value of the transistor in each part of the core circuit.
【0008】[0008]
【作用】本発明によると、大容量化により遅延時間のゆ
らぎが大きくなるコア回路特にメモリセルアレイのトラ
ンスファゲート部に対しては、対応する遅延回路の遅延
時間を長くすることにより、DRAMの不良発生を防止
して歩留まりを維持或いは向上させることができる。ま
た遅延時間のゆらぎが小さいコア回路に対しては、対応
する遅延回路の遅延時間を不必要に大きくしないので、
DRAMの高速性能をほとんど犠牲にすることはない。According to the present invention, for a core circuit in which fluctuations in delay time increase due to an increase in capacity, particularly for a transfer gate portion of a memory cell array, the delay time of the corresponding delay circuit is lengthened so that a DRAM failure occurs. Can be prevented and the yield can be maintained or improved. Also, for core circuits with small fluctuations in delay time, the delay time of the corresponding delay circuit is not unnecessarily increased.
The high speed performance of the DRAM is hardly sacrificed.
【0009】[0009]
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0010】図1は、本発明の一実施例に係る1Gビッ
トDRAMの全体構成を示すブロック図である。図示の
ようにDRAMは、1トランジスタ/1キャパシタのダ
イナミック型メモリセルを配列したメモリセルアレイ
1、ワード線選択を行うロウデコーダ2、ビット線デー
タを検出するビット線センスアンプ3、ビット線選択を
行うカラムデコーダ4、外部アドレスを取り込んで増幅
するアドレスバッファ5、ビット線センスアンプと入出
力データ線との間に設けられたI/Oセンスアンプ6お
よびI/Oバッファ7からなるコア回路と、これらのコ
ア回路各部を駆動するタイミング信号を発生するタイミ
ング制御回路8により構成される。FIG. 1 is a block diagram showing the overall structure of a 1 Gbit DRAM according to an embodiment of the present invention. As shown, the DRAM has a memory cell array 1 in which dynamic memory cells of 1 transistor / 1 capacitor are arranged, a row decoder 2 for selecting a word line, a bit line sense amplifier 3 for detecting bit line data, and a bit line selection. A core circuit composed of a column decoder 4, an address buffer 5 for fetching and amplifying an external address, an I / O sense amplifier 6 and an I / O buffer 7 provided between a bit line sense amplifier and an input / output data line, and these. The timing control circuit 8 generates a timing signal for driving each part of the core circuit.
【0011】図2は、読出しアクセス時のコア回路各部
を動作順に並べ、これらのコア回路とその駆動タイミン
グを決定するタイミング制御回路内の各遅延回路10
(101 〜106 )の関係を示している。FIG. 2 shows the respective delay circuits 10 in the timing control circuit for arranging the respective parts of the core circuit at the time of read access in the order of operation and determining the core circuits and their driving timing.
The relationship (10 1 to 10 6 ) is shown.
【0012】図3は、同じく読出しアクセス時のコア回
路各部の遅延時間と、これに対応する遅延回路10の遅
延時間の関係をまとめて、図4に対応させて示してい
る。この実施例では、メモリセルのトランスファゲート
・トランジスタの遅延時間3.6nsec に対して、この
トランスファゲート・トランジスタの動作を受けてビッ
ト線センスアンプを活性化するタイミングを決める遅延
回路103 の遅延時間τ3 を、3.6nsec の2倍(1
00%増)とし、残りの遅延回路101 ,102,10
4 ,105 ,106 の遅延時間τ1 ,τ2 ,τ4 ,
τ5 ,τ6 については従来の図4(a) の場合と同様に1
0%増としている。FIG. 3 shows the relationship between the delay time of each part of the core circuit at the time of read access and the delay time of the delay circuit 10 corresponding to the same, and is shown in association with FIG. In this embodiment, the delay time of the transfer gate transistor of the memory cell is 3.6 nsec, while the delay time of the delay circuit 10 3 which determines the timing of activating the bit line sense amplifier in response to the operation of the transfer gate transistor. τ 3 is twice as long as 3.6 nsec (1
00%), and the remaining delay circuits 10 1 , 10 2 , 10
Delay time of 4 , 10 5 , 10 6 τ 1 , τ 2 , τ 4 ,
As for τ 5 and τ 6 , 1 as in the conventional case of Fig. 4 (a)
The increase is 0%.
【0013】この実施例では、コア回路各部の遅延時間
が64MビットDRAMのそれと変わらないと仮定して
いる。電源電圧は、1.5Vである。図5は、メモリセ
ルのトランスファゲート・トランジスタのしきい値と遅
延時間の関係を、図6に示す回路条件でSPICEによ
りシミュレートした結果である。電源電圧の低下によ
り、トランジスタのしきい値の基準値は650mVに設
定される。In this embodiment, it is assumed that the delay time of each part of the core circuit is the same as that of the 64-Mbit DRAM. The power supply voltage is 1.5V. FIG. 5 is a result of simulating the relationship between the threshold value of the transfer gate transistor of the memory cell and the delay time by SPICE under the circuit conditions shown in FIG. Due to the decrease in the power supply voltage, the reference value of the threshold value of the transistor is set to 650 mV.
【0014】トランジスタのしきい値の許容範囲は次の
ように決められる。下限は、非動作時のリーク電流で決
まる。ここでは、Sファクタを60mV/decadeとし、
ドレイン電流が1μAとなるゲート電圧をしきい値と
し、非動作時のリークを1fA以下に抑えるとして、し
きい値の下限は540mVとなる。上限は、遅延時間で
決まる。The allowable range of the threshold value of the transistor is determined as follows. The lower limit is determined by the leak current during non-operation. Here, the S factor is 60 mV / decade,
Assuming that the gate voltage at which the drain current becomes 1 μA is the threshold value and the leakage during non-operation is suppressed to 1 fA or less, the lower limit of the threshold value is 540 mV. The upper limit is determined by the delay time.
【0015】トランジスタのしきい値分布が正規分布に
従うとすると、1GビットDRAMで用いられるチャネ
ル長0.2μm のトランジスタの場合、しきい値の標準
偏差は、σ=18.8mVになる。この時、図4(a) に
示す64MビットDRAMにおけるように、遅延回路の
遅延時間をコア回路のそれに比べて一律10%増にする
と、しきい値の許容範囲は、540mV以上,670m
V以下となり、約15%のメモリセルが読出し不可とな
る。一方、遅延回路の遅延時間を図4(b) に示すように
一律100%増にすると、しきい値の許容範囲は、54
0mV以上,745mV以下となり、メモリセル不良の
割合は10-7から10-8に抑えられるが、反面アクセス
タイムは60nsec と大きくなってしまう。Assuming that the threshold distribution of the transistor follows a normal distribution, the standard deviation of the threshold is σ = 18.8 mV for a transistor having a channel length of 0.2 μm used in 1 Gbit DRAM. At this time, if the delay time of the delay circuit is uniformly increased by 10% as compared with that of the core circuit as in the 64-Mbit DRAM shown in FIG. 4 (a), the allowable range of the threshold is 540 mV or more and 670 m or more.
It becomes V or less, and about 15% of the memory cells cannot be read. On the other hand, if the delay time of the delay circuit is uniformly increased by 100% as shown in Fig. 4 (b), the allowable range of the threshold is 54
It becomes 0 mV or more and 745 mV or less, and the ratio of defective memory cells can be suppressed from 10 −7 to 10 −8 , but the access time becomes as large as 60 nsec.
【0016】これに対してこの実施例では、図3に示し
たように、メモリセル部に対してのみ遅延回路の遅延時
間をコア回路のそれに対して100%増に設定し、残り
は10%増に止めることにより、アクセスタイム36.
2nsec と、高速性能を維持することができる。On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the delay time of the delay circuit is set to 100% more than that of the core circuit only for the memory cell portion, and the rest is 10%. Access time 36.
High-speed performance of 2 nsec can be maintained.
【0017】ところで、1GビットDRAMで歩留まり
に影響するのは殆どメモリセルの不良だけである。なぜ
なら、(1)他のコア回路ではトランジスタ数が106
個レベルであるのに対して、メモリセルアレイではトラ
ンジスタ数が1G(約1019)と桁違いに多く、しかも
(2)メモリセルのトランジスタのしきい値は他のコア
回路のそれに比べて高めに設定されるため、しきい値変
化に対する遅延時間の変化率が大きくなり、しきい値の
許容範囲が狭くなるからである。したがってこの実施例
によれば、高速性能を犠牲にすることなく歩留まり向上
が図られることになる。By the way, in a 1 Gbit DRAM, it is almost only defective memory cells that affect the yield. This is because (1) the number of transistors is 10 6 in other core circuits.
In contrast to the individual level, the number of transistors in the memory cell array is as large as 1 G (about 10 19 ), and (2) the threshold voltage of the memory cell transistor is higher than that of other core circuits. This is because the change rate of the delay time with respect to the change of the threshold value becomes large and the allowable range of the threshold value becomes narrow because the threshold value is set. Therefore, according to this embodiment, the yield can be improved without sacrificing the high speed performance.
【0018】なお実施例では、コア回路のうちメモリセ
ルアレイのトランスファゲート・トランジスタの遅延時
間に対応する遅延回路の遅延時間の比のみを、他のコア
回路のそれに比べて大きく設定したが、他のコア回路に
ついてもそのしきい値のゆらぎに応じて、きめ細かく遅
延時間に対応する遅延回路の比を設定することができ、
これによりDRAMの高速性能と歩留まりの両立をより
効果的に実現することができる。In the embodiment, only the delay time ratio of the delay circuit corresponding to the delay time of the transfer gate transistor of the memory cell array in the core circuit is set larger than that of the other core circuits. Also for the core circuit, the ratio of the delay circuit corresponding to the delay time can be finely set according to the fluctuation of the threshold value,
This makes it possible to more effectively realize both high-speed performance and yield of the DRAM.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、高速
性能を犠牲にすることなく歩留まり向上を図った大容量
DRAMを得ることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a large capacity DRAM with improved yield without sacrificing high speed performance.
【図1】本発明の一実施例のDRAM構成を示すブロッ
ク図。FIG. 1 is a block diagram showing a DRAM configuration of an embodiment of the present invention.
【図2】同実施例の読出しアクセス時のコア回路の動作
タイミングを示す図。FIG. 2 is a diagram showing an operation timing of a core circuit at the time of read access in the embodiment.
【図3】図2の各コア回路の遅延時間と遅延回路の遅延
時間の関係を示す図。3 is a diagram showing the relationship between the delay time of each core circuit of FIG. 2 and the delay time of the delay circuit.
【図4】従来のDRAMコア回路の遅延時間と遅延回路
の遅延時間の関係を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a delay time of a conventional DRAM core circuit and a delay time of a delay circuit.
【図5】メモリセルトランスファゲート・トランジスタ
のしきい値と遅延時間の関係を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a relationship between a threshold value of a memory cell transfer gate transistor and a delay time.
【図6】図5のデータを求めた回路条件を示す図。FIG. 6 is a diagram showing circuit conditions for obtaining the data of FIG. 5;
1…メモリセルアレイ、 2…ロウデコーダ、 3…ビット線センスアンプ、 4…カラムデコーダ、 5…アドレスバッファ、 6…I/Oセンスアンプ、 7…I/Oバッファ、 8…タイミング制御回路、 10…遅延回路。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell array, 2 ... Row decoder, 3 ... Bit line sense amplifier, 4 ... Column decoder, 5 ... Address buffer, 6 ... I / O sense amplifier, 7 ... I / O buffer, 8 ... Timing control circuit, 10 ... Delay circuit.
Claims (2)
リセルアレイ、このメモリセルアレイ内のデータを選択
するデコーダ、このデコーダを選択するための外部アド
レスを増幅するアドレスバッファ、前記メモリセルアレ
イのデータを増幅するビット線センスアンプ、およびこ
のビット線センスアンプと入出力ピンの間に設けられた
入出力センスアンプおよび入出力バッファからなるコア
回路と、このコア回路を駆動するタイミングを制御する
タイミング制御回路とを有するダイナミック型半導体記
憶装置において、コア回路各部の遅延時間と、このコア
回路各部の遅延時間に対応して次の駆動信号を発生する
タイミング制御回路内の遅延回路の遅延時間との比が、
コア回路各部のトランジスタのしきい値のゆらぎの大き
さに応じて設定されていることを特徴とするダイナミッ
ク型半導体記憶装置。1. A memory cell array in which dynamic memory cells are arranged, a decoder for selecting data in the memory cell array, an address buffer for amplifying an external address for selecting the decoder, and a bit for amplifying data in the memory cell array. A line sense amplifier, a core circuit including an input / output sense amplifier and an input / output buffer provided between the bit line sense amplifier and the input / output pin, and a timing control circuit for controlling the timing for driving the core circuit In the dynamic semiconductor memory device, the ratio of the delay time of each part of the core circuit to the delay time of the delay circuit in the timing control circuit that generates the next drive signal corresponding to the delay time of each core circuit is
A dynamic semiconductor memory device, wherein the dynamic semiconductor memory device is set according to the magnitude of the fluctuation of the threshold value of the transistor in each part of the core circuit.
リセルアレイ、このメモリセルアレイ内のデータを選択
するデコーダ、このデコーダを選択するための外部アド
レスを増幅するアドレスバッファ、前記メモリセルアレ
イのデータを増幅するビット線センスアンプ、およびこ
のビット線センスアンプと入出力ピンの間に設けられた
入出力センスアンプおよび入出力バッファからなるコア
回路と、このコア回路を駆動するタイミングを制御する
タイミング制御回路とを有するダイナミック型半導体記
憶装置において、メモリセルアレイのトランスファゲー
ト・トランジスタでの遅延時間と、トランスファゲート
・トランジスタの動作からビット線センスアンプの活性
化タイミングを設定するタイミング制御回路内の遅延回
路の遅延時間との比が、他のコア回路各部の遅延時間
と、このコア回路各部の遅延時間に対応して次の駆動信
号を発生するタイミング制御回路内の遅延回路の遅延時
間との比より大きく設定されていることを特徴とするダ
イナミック型半導体記憶装置。2. A memory cell array in which dynamic memory cells are arranged, a decoder for selecting data in the memory cell array, an address buffer for amplifying an external address for selecting the decoder, and a bit for amplifying data in the memory cell array. A line sense amplifier, a core circuit including an input / output sense amplifier and an input / output buffer provided between the bit line sense amplifier and the input / output pin, and a timing control circuit for controlling the timing for driving the core circuit In the dynamic semiconductor memory device, the delay time in the transfer gate transistor of the memory cell array and the delay time of the delay circuit in the timing control circuit that sets the activation timing of the bit line sense amplifier from the operation of the transfer gate transistor Is set to be larger than the ratio of the delay time of each part of the other core circuit to the delay time of the delay circuit in the timing control circuit that generates the next drive signal corresponding to the delay time of each part of this core circuit. And a dynamic semiconductor memory device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4055715A JPH05258563A (en) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | Dynamic type semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4055715A JPH05258563A (en) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | Dynamic type semiconductor storage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05258563A true JPH05258563A (en) | 1993-10-08 |
Family
ID=13006577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4055715A Pending JPH05258563A (en) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | Dynamic type semiconductor storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05258563A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100541796B1 (en) * | 1997-12-31 | 2006-04-14 | 삼성전자주식회사 | Sense Amplifier Enable Timing Control Circuit of Semiconductor Memory Device |
JPWO2008142732A1 (en) * | 2007-05-18 | 2010-08-05 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor memory |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP4055715A patent/JPH05258563A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100541796B1 (en) * | 1997-12-31 | 2006-04-14 | 삼성전자주식회사 | Sense Amplifier Enable Timing Control Circuit of Semiconductor Memory Device |
JPWO2008142732A1 (en) * | 2007-05-18 | 2010-08-05 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor memory |
JP5024374B2 (en) * | 2007-05-18 | 2012-09-12 | 富士通セミコンダクター株式会社 | Semiconductor memory |
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