JPH05258264A - Production of thin film magnetic head - Google Patents

Production of thin film magnetic head

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JPH05258264A
JPH05258264A JP8968592A JP8968592A JPH05258264A JP H05258264 A JPH05258264 A JP H05258264A JP 8968592 A JP8968592 A JP 8968592A JP 8968592 A JP8968592 A JP 8968592A JP H05258264 A JPH05258264 A JP H05258264A
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film magnetic
magnetic head
polishing
thin film
diamond
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正雄 山口
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve efficiency by arranging two or more thin film magnetic heads and polishing these heads at one time with a thin diamond polishing film. CONSTITUTION:The slider 1 has such a structure that two rails are formed on both sides in the air-flowing direction on the medium-facing surface 11. The medium-facing surfaces of the rails make air bearing planes 111. The opposite side 12 to the surface 11 of the slider 1 is head-stuck to a gimbals assay. When a magnetic disk stops, the surface 111 is pressed to the disk surface by pressure of spring in the head holding device, and during rotating the disk, lift generates on the air bearing surface 111 and the slider floats in balance with the spring pressure. Slopes 14 are formed by chamfering the edges of the rails 16 so that head crash or damages of the medium can be prevented on starting. The slider 1 is adhered to a tool 94 and brought into contact with a polishing film 92 and relatively moved against the film 92 to be polished. The polishing film 92 is supported by an elastic sheet 91 and has preferably 0.8-1.2X10<5>mum stiffness ET, <=10mum film thickness and 0.1-0.5mum average particle size of diamond.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒
とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持
させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁
気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thin film magnetic head, and more particularly, to a diamond polishing in which an abrasive layer containing fine diamond particles as abrasive grains is supported by a flexible film as a support. The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head in which a slider of a thin film magnetic head is polished with a film.

【0002】[0002]

【従来の技術】情報記録容量の増大、高速アクセス化等
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来
る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。
2. Description of the Related Art As the information recording capacity and the speed of access increase, the demand for a thin film magnetic head having a higher magnetic permeability than a ferrite head and maintaining a high electromagnetic conversion rate even at a high transfer rate is increasing. ing.

【0003】薄膜磁気ヘッドでは、スライダとして各種
セラミックス基板材料が必要であり、SiC、Zr
2 、Al2 3 、Al2 3 −TiC等の材料がスラ
イダとして用いられている。
In the thin film magnetic head, various ceramic substrate materials are required for the slider, and SiC, Zr
Materials such as O 2 , Al 2 O 3 , and Al 2 O 3 —TiC are used as the slider.

【0004】薄膜磁気ヘッドのスライダは、安定な浮上
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端
部や周囲のエッジ、レールの端部、側部のエッジを面取
りする等の必要がある。スライダの空気ベアリング面等
の研磨に際しては、例えば特開昭60−185272号
公報、特開昭63−70918号公報、特開平2−19
9614号公報、特開平2−212057号公報、特開
平2−301014号公報等に開示されているように、
研磨テープあるいは研磨フィルムを用いている。
The slider of the thin-film magnetic head has a surface of the air bearing surface, which is one of the medium facing surfaces, that is polished and stable in order to obtain stable flying characteristics and good running durability. It is necessary to chamfer the edges and side edges of the rail. In polishing the air bearing surface of the slider, for example, JP-A-60-185272, JP-A-63-70918, JP-A-2-19
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9614, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-212057, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-301014, and the like,
A polishing tape or a polishing film is used.

【0005】各種セラミック材料の研磨においては、研
磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダ
イヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされてい
る。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィル
ムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤ
モンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行な
われている。そして、特に、特開平2−301014号
公報に開示されているように、上記の研磨は、薄膜磁気
ヘッドを複数個並べて同時に行なうことが、作業効率上
も望ましい。
In the polishing of various ceramic materials, it is necessary to process them with a diamond polishing film using diamond particles in order to improve the polishing processability. However, although the above publication does not disclose processing with a diamond polishing film, the thin film magnetic head has been conventionally polished with a diamond polishing film. In particular, as disclosed in JP-A-2-301014, it is desirable from the standpoint of work efficiency that the above-mentioned polishing is performed by arranging a plurality of thin film magnetic heads at the same time.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
研磨テープや研磨フィルムを用いて複数の薄膜磁気ヘッ
ドの研磨を行なう場合、隣り合う薄膜磁気ヘッドの隣接
する研磨すべきエッジ同士の間隔を、ある大きさ以上と
しなければならない。従って、並べられた薄膜磁気ヘッ
ドの列の長さが相当長くなってしまうので、同時に研磨
できる薄膜磁気ヘッドの数が限られてしまい、効率の点
で更なる向上が望まれていた。
However, when a plurality of thin film magnetic heads are polished using a conventional polishing tape or polishing film, the distance between adjacent edges of adjacent thin film magnetic heads to be polished is set. Must be larger than size. Therefore, the length of the arrayed thin film magnetic heads becomes considerably long, so that the number of thin film magnetic heads that can be simultaneously polished is limited, and further improvement in efficiency has been desired.

【0007】また、上記の従来のダイヤモンド研磨フィ
ルムによってスライダを研磨したところ、同一の条件で
研磨を行なっても、小さな面取り加工が困難であった
り、面取り寸法や角度がバラツイてしまったり、更に
は、直線部分と面取り部分との遷移部分において角が出
てしまったりしてしまうことがあることが判明した。こ
のように、面取り加工が小さくできないと、小型のスラ
イダでは用いることができない他、面取り寸法ないし面
取り角度がバラツイてしまうと、例えば、浮動型磁気ヘ
ッドでは、所定の耐久性が保証できなくなってしまった
り、安定した相対速度と浮上量とで浮上することが不可
能となり、また上記のように研磨面に角があると媒体を
損傷する他浮上性ないし走行性にも悪影響を及ぼす。
Further, when the slider was polished by the above conventional diamond polishing film, even if the slider was polished under the same conditions, a small chamfering process was difficult, the chamfered dimension and the angle were varied, and further, , It was found that a corner may be formed at the transition between the straight line portion and the chamfered portion. As described above, if the chamfering process cannot be made small, it cannot be used with a small slider, and if the chamfered dimension or chamfered angle varies, for example, in a floating magnetic head, the predetermined durability cannot be guaranteed. It becomes impossible to levitate with a stable relative velocity and a levitating amount, and if the polishing surface has an angle as described above, the medium is damaged and the levitating property or running property is adversely affected.

【0008】そこで、本発明は、極小の面取り加工を精
度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的に
かつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面
取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘ
ッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを主たる目的とするものである。
Therefore, according to the present invention, it is possible to perform a very small chamfering process with high accuracy, to continuously and smoothly chamfer adjacent faces, and to make the chamfering amount minute. The main object of the present invention is to provide a method of manufacturing a thin film magnetic head capable of obtaining a head exhibiting a stable flying property.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の問
題点を鋭意研究したところ、従来のダイヤモンド研磨フ
ィルムにおいては、研磨フィルムの腰が強すぎ、研磨フ
ィルムと被研磨物間の密着性が悪化し、上記の隣り合っ
たエッジ等の研磨が困難になるということを知見した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have diligently studied the conventional problems, and found that in the conventional diamond polishing film, the polishing film is too stiff and the adhesion between the polishing film and the object to be polished is large. It was found that the property deteriorates and it becomes difficult to polish the adjacent edges.

【0010】本発明者らは、更に上記ダイヤモンド研磨
フィルムと被研磨物間の密着性を解決すべく、ダイヤモ
ンド研磨フィルムについて研究したところ、その全体と
しての厚みに負うところが大きいことを知見した。
The present inventors have further studied the diamond polishing film in order to solve the adhesion between the diamond polishing film and the object to be polished, and have found that the thickness of the diamond polishing film is a major factor.

【0011】本発明は、上記知見によるものであり、以
下の(1)〜(10)にある。 (1) ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研
磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨
する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記薄膜磁気
ヘッドを2個以上配列するとともに、前記ダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを10μm以下とし、このダイヤモ
ンド研磨フィルムによって前記2個以上の薄膜磁気ヘッ
ドを同時に研磨するようにしたことを特徴とする薄膜磁
気ヘッドの製造方法。
The present invention is based on the above findings and is in the following (1) to (10). (1) In a method of manufacturing a thin film magnetic head in which a slider of a thin film magnetic head is polished by a diamond polishing film using diamond fine particles, two or more thin film magnetic heads are arranged and the thickness of the diamond polishing film is 10 μm. The method for manufacturing a thin film magnetic head is characterized in that the two or more thin film magnetic heads are simultaneously polished with this diamond polishing film.

【0012】(2) 前記ダイヤモンド微粒子の平均粒
径を1.0μm以下とした上記(1)の薄膜磁気ヘッド
の製造方法。
(2) The method for producing a thin film magnetic head according to the above (1), wherein the average particle size of the diamond fine particles is 1.0 μm or less.

【0013】(3) 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度HV(500g)を、1100以上に設
定した上記(1)または(2)の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
(3) The method of manufacturing a thin film magnetic head according to the above (1) or (2), wherein the slider Vickers hardness HV (500 g) of the thin film magnetic head is set to 1100 or more.

【0014】(4) 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度HV(500g)を、1500以上に設
定した上記(1)または(2)の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
(4) The method for manufacturing a thin film magnetic head according to the above (1) or (2), wherein the Vickers hardness HV (500 g) of the slider of the thin film magnetic head is set to 1500 or more.

【0015】(5) 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度を1800〜3000の範囲とした上記
(1)または(2)の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
(5) The method for manufacturing a thin film magnetic head according to the above (1) or (2), wherein the slider of the thin film magnetic head has a Vickers hardness in the range of 1800 to 3000.

【0016】(6) ダイヤモンド研磨フィルムを相当
厚の弾性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの
研磨面に相対的に押しつけて研磨加工を行なうにようす
るとともに、前記弾性体のゴム硬度を55°以下に設定
した上記(1)ないし(5)のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
(6) While the diamond polishing film is supported by an elastic body of a considerable thickness, the diamond polishing film is pressed against the polishing surface of the thin-film magnetic head to perform polishing, and the rubber hardness of the elastic body is set. Is set to 55 ° or less, the method for manufacturing a thin film magnetic head according to any one of the above (1) to (5).

【0017】(7) 前記弾性体のゴム硬度を20°か
ら40°の範囲とした上記(6)の薄膜磁気ヘッドの請
求方法。
(7) The method of claim (6), wherein the rubber hardness of the elastic body is in the range of 20 ° to 40 °.

【0018】(8) 前記研磨フィルムのスティッフネ
スを、0.8〜3.0×105 (μm)3 kg/mm2の範囲
とした上記(1)ないし(7)のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの請求方法。
(8) The thin film magnetic according to any one of (1) to (7) above, wherein the polishing film has a stiffness of 0.8 to 3.0 × 10 5 (μm) 3 kg / mm 2. Head billing method.

【0019】(9) 複数の薄膜磁気ヘッドを固定治具
に固定配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄
膜磁気ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対し
て相対的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイ
ヤモンド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行さ
せ、前記薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する上記(1)な
いし(8)のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
(9) A plurality of thin film magnetic heads are fixedly arranged on a fixing jig, and the plurality of thin film magnetic heads fixedly arranged on the fixing jig are pressed relative to the diamond polishing film. The method for manufacturing a thin film magnetic head according to any one of the above (1) to (8), wherein at least one of the fixing jig and the diamond polishing film is slidably run to simultaneously polish the thin film magnetic head.

【0020】(10) 基板上に複数の薄膜磁気変換素
子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向
面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研
磨する上記(1)ないし(9)のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。
(10) After forming a plurality of thin film magnetic conversion elements on a substrate, the thin film magnetic conversion elements are cut, and the cut end face is used as a medium facing surface and is polished by the diamond polishing film (1) to (). 9) A method for manufacturing a thin film magnetic head according to any one of 9).

【0021】[0021]

【作用・効果】本発明によれば、複数の薄膜磁気ヘッド
を並べて研磨を行なう場合、ダイヤモンド研磨フィルム
において全厚を設定することにより、隣り合ったエッジ
の間隔を小さくすることができ、すなわち長さが決まっ
ている場合に、数多くの薄膜磁気ヘッドを並べて研磨を
行なうことができ、効率のよい研磨を行なうことができ
るようになる。更に、研磨フィルムのダイヤモンド粒径
を設定することにより、極小の面取りを精度よく行うこ
とができ、面取り寸法や角度のバラツキが無くなるの
で、耐久性が向上するとともに、磁気ヘッドが安定した
相対速度で浮上することができるようになる。
According to the present invention, when a plurality of thin film magnetic heads are arranged and polished, the interval between adjacent edges can be reduced by setting the total thickness of the diamond polishing film. When the thickness is determined, a large number of thin film magnetic heads can be arranged side by side to perform polishing, and efficient polishing can be performed. Furthermore, by setting the diamond grain size of the polishing film, it is possible to carry out extremely small chamfering with high precision, and since there are no variations in chamfering dimensions and angles, durability is improved and the magnetic head is stable at a relative speed. You will be able to surface.

【0022】[0022]

【実施例】以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好ま
しい実施例について説明する。まず、本発明によって得
られる薄膜磁気ヘッドについて説明する。図1は、薄膜
磁気ヘッドの一例を示す斜視図であり、スライダ1は、
媒体対向面11に平面状の空気ベアリング面111を有
している。両図において、aは磁気ディスクと組み合わ
せた場合の空気流入方向を示す。そして、図1では、媒
体対向面11の空気流入方向aの両側端に、中央部の溝
19を介して、2本のレール16、16が形成され、こ
のレール16、16上の媒体対向面が空気ベアリング面
111を構成している。なお、レール16、16は3本
以上であってもよい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, a thin film magnetic head obtained by the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view showing an example of a thin film magnetic head.
The medium facing surface 11 has a planar air bearing surface 111. In both figures, a indicates the air inflow direction when combined with a magnetic disk. In FIG. 1, two rails 16 and 16 are formed at both ends of the medium facing surface 11 in the air inflow direction a via a groove 19 in the central portion, and the medium facing surface on the rails 16 and 16 is formed. Form the air bearing surface 111. The number of rails 16, 16 may be three or more.

【0023】磁気ディスク装置として使用する場合は、
スライダ1の媒体対向面11と逆側の面12を、ジンバ
ルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止
を行なう、いわゆるコンタクト.スタート.ストップ
(以下CSSと称する)方式によって駆動される。磁気
ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ
圧により空気ベアリング面111が磁気ディスクの表面
に押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、ス
ライダ1の空気ベアリング面111に揚力動圧が発生
し、この動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上
量で動作する。なお、CSSにかえて、いわゆるダイナ
ミックローディングを用いてもよい。
When used as a magnetic disk device,
A surface 12 opposite to the medium facing surface 11 of the slider 1 is head-stacked on a gimbal assay, and the so-called contact. start. It is driven by a stop (hereinafter referred to as CSS) method. When the magnetic disk is at rest, the air bearing surface 111 is pressed against the surface of the magnetic disk by the spring pressure of the head supporting device, but when the magnetic disk rotates, a lift dynamic pressure is applied to the air bearing surface 111 of the slider 1. Occurs, and the levitation amount operates in balance with this dynamic pressure and the spring pressure of the head support device. Note that so-called dynamic loading may be used instead of CSS.

【0024】図1に示されるように、レール16、16
の空気流入端側において空気ベアリング面111と側端
面13とが形成するエッジは、面取りされた傾斜面14
形状となっている。このためCSS動作等において、容
易にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒
体損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側で
の傾斜面14と空気ベアリング面111とのなす角が所
定の角度をなし、その長さが所定の寸法となるように
し、しかもその加工精度を高めると、より安定した相対
速度で浮上を開始し、または浮上を停止するようにな
る。
As shown in FIG. 1, the rails 16, 16
The edge formed by the air bearing surface 111 and the side end surface 13 on the air inflow end side of the
It has a shape. Therefore, the CSS operation or the like can be easily started, and head crush, medium damage, etc. are less likely to occur. That is, if the angle formed by the inclined surface 14 and the air bearing surface 111 on the air inflow end side is a predetermined angle and the length thereof is a predetermined dimension, and the processing accuracy is increased, it becomes more stable. Start ascending or stop ascending at a relative speed.

【0025】このような傾斜面14は研磨による面取り
によって形成される。この際、その傾斜角は小さいた
め、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、
これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。な
お、図示した例では、レール16、16の空気流出側に
おいて空気ベアリング面111と側端面14とが形成す
るエッジ部およびスライダ16、16の長さ方向の両側
部が、傾斜面17、18とされた例を示している。
The inclined surface 14 is formed by chamfering by polishing. At this time, since the inclination angle is small, problems are likely to occur in the accuracy of the surface dimension and the inclination angle,
These precisions are significantly higher according to the invention. In the illustrated example, the edge portion formed by the air bearing surface 111 and the side end surface 14 on the air outflow side of the rails 16, 16 and both side portions in the length direction of the sliders 16, 16 are inclined surfaces 17, 18. An example is shown.

【0026】上記スライダ1は、そのビッカース硬度
(JIS Z 2244 試験荷重500g )HV(5
00g )1100以上、特に1100〜3000の範囲
となるように設定されている。この場合、その下限値と
しては、好ましくは1300以上、より好ましくは15
00以上、更に好ましくは1800以上であり、このと
き本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。
The slider 1 has a Vickers hardness (JIS Z 2244 test load of 500 g) HV (5
00g) 1100 or more, particularly 1100 to 3000. In this case, the lower limit is preferably 1300 or more, more preferably 15
It is 00 or more, more preferably 1800 or more, and at this time, the effect of the present invention is further improved.

【0027】このようなセラミックス材料としては、A
2 3 −TiO2 [HV(500)1150程度]、
MgO−NiO−ZrO2 (1200程度)、ZrO
2 (1200〜1600程度)、ZrO2 −Al2 3
(1400〜1600程度)、 Al2 3 −Tic−
AlN(1700〜2000)、SiC(1800〜2
000程度)、Al2 3 −TiC(2000〜230
0程度)等が好適である。また、これらには、添加物と
してMg、Y、ZrO2 、TiO2 等が含有されていて
もよい。
As such a ceramic material, A
l 2 O 3 —TiO 2 [HV (500) 1150 or so],
MgO-NiO-ZrO 2 (about 1200), ZrO
2 (about 1200 to 1600), ZrO 2 -Al 2 O 3
(About 1400 to 1600), Al 2 O 3 -Tic-
AlN (1700 to 2000), SiC (1800 to 2)
000 about), Al 2 O 3 -TiC ( 2000~230
0) is suitable. Further, these may contain Mg, Y, ZrO 2 , TiO 2 or the like as an additive.

【0028】これらのうち、本発明に特に好適なもの
は、加工性の点でAl2 3 −TiCを主成分とするセ
ラミックスである。
Of these, the ceramics containing Al 2 O 3 —TiC as the main component are particularly preferable in the present invention in terms of workability.

【0029】図4は、図1に示した磁気ヘッドの製造方
法を示す図である。図においては、1は磁気ヘッドスラ
イダ、91は弾性シート、92は研磨フィルム、93は
加工台、94は固定治具である。この場合、スライダ
は、上記の構造のいずれのものであってもよい。また、
本例においては、固定治具94に、2個の薄膜磁気ヘッ
ドを設置固定し、これらを同時に研磨する場合について
示した。薄膜磁気ヘッドは、当然のことながら、3個以
上並べてもよい。
FIG. 4 is a diagram showing a method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. In the figure, 1 is a magnetic head slider, 91 is an elastic sheet, 92 is a polishing film, 93 is a working table, and 94 is a fixing jig. In this case, the slider may have any of the above structures. Also,
In this example, two thin film magnetic heads are set and fixed on the fixing jig 94, and these are simultaneously polished. As a matter of course, three or more thin film magnetic heads may be arranged.

【0030】上記研磨フィルム92は、図5に示したよ
うに、研磨剤層921を、支持体としての可撓性フィル
ム922上に形成してなるものである。研磨剤層921
は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド
砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を
用い、MEK/トルエン/シクロヘキサノン混合系等の
希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持
体としての可撓性フィルム922としては、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレー
ト(PEN)、ポリアミド、ポリイミド等を用いること
ができる。
As shown in FIG. 5, the polishing film 92 has an abrasive layer 921 formed on a flexible film 922 as a support. Abrasive layer 921
Can be prepared, for example, by using synthetic diamond abrasive grains as diamond fine particles, using a binder resin such as polyurethane resin, using a diluting solvent such as MEK / toluene / cyclohexanone mixed system, and drying. The above paste uses various coating machines,
It is evenly coated on the support to form a layer. As the flexible film 922 as the support, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyamide, polyimide or the like can be used.

【0031】上記ダイヤモンド粒子の平均粒径は、後の
実施例からも分かるように、1μm以下でなければなら
ないが、特に0.1〜1.0μm 、さらには0.1〜
0.9μm 、もっとも好ましくは0.1〜0.5μm で
あることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバイン
ダの比は、重量比で1:1/7〜1程度である。また、
研磨剤層921の厚さは、1〜10μm とすることが好
ましい。
The average particle size of the diamond particles must be 1 μm or less, as will be seen from the examples below, but is preferably 0.1 to 1.0 μm, more preferably 0.1 to 1.0 μm.
It is preferably 0.9 μm, most preferably 0.1 to 0.5 μm. The weight ratio of the diamond particles to the binder is about 1: 1/7 to 1. Also,
The thickness of the abrasive layer 921 is preferably 1 to 10 μm.

【0032】磁気ヘッドスライダ1は、接着等の手段に
よって治具94に取付けられ、治具94に荷重を加えな
がら、薄膜磁気ヘッドのスライダ1の媒体対向面11側
を、弾性シート91によって支持された研磨フィルム9
2の面上に接触させ、スライダ1を研磨フィルム92に
対して、相対的に移動させて研磨する。このとき、図4
に示すように、ダイヤモンド研磨フィルムが好適な状態
で押し込まれるように、ヤング率をEとして定義される
研磨フィルムの柔軟性の指標であるスティッフネスET
3 が0.8〜3.0×105 (μm)3 Kg/mm2
好ましくは0.8〜1.6×105 (μm)3 Kg/m
2 、特に好ましくは0.8〜1.2×105 (μm)
3 Kg/mm2 となるように設定することが望ましい。
支持体としての可撓性フィルムが上記したような材料で
形成されるので、そのゴム硬度がある所定の範囲内にあ
るため、上記ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネ
スは、その全厚によるところが大きい。従って、研磨フ
ィルムの厚みが厚すぎたり、薄すぎたりすると密着性が
悪化し、研磨面の均一性に欠ける。したがって、本発明
においては、フィルムの厚みを10μm以下、該ダイヤ
モンド研磨フィルムのスティッフネスを上記値の範囲に
設定することにより、研磨面のバラツキが抑えられ、安
定した耐久走行性が得られるようになった。
The magnetic head slider 1 is attached to a jig 94 by means such as adhesion, and the medium facing surface 11 side of the slider 1 of the thin film magnetic head is supported by an elastic sheet 91 while applying a load to the jig 94. Polished film 9
The slider 1 is brought into contact with the second surface and is moved relative to the polishing film 92 to polish. At this time,
As shown in, the stiffness ET, which is an index of the flexibility of the polishing film, whose Young's modulus is defined as E so that the diamond polishing film is pressed in a suitable state.
3 is 0.8 to 3.0 × 10 5 (μm) 3 Kg / mm 2 ,
Preferably 0.8 to 1.6 × 10 5 (μm) 3 Kg / m
m 2 , particularly preferably 0.8 to 1.2 × 10 5 (μm)
It is desirable to set it to be 3 Kg / mm 2 .
Since the flexible film as the support is formed of the above-mentioned materials, the rubber hardness thereof is within a predetermined range, and the stiffness of the diamond polishing film largely depends on its total thickness. Therefore, if the thickness of the polishing film is too thick or too thin, the adhesion will deteriorate and the polishing surface will lack uniformity. Therefore, in the present invention, the thickness of the film is set to 10 μm or less, and the stiffness of the diamond polishing film is set within the above range, so that the variation of the polishing surface is suppressed and stable durability running property is obtained. became.

【0033】また、上記したように、図4に示すよう
に、ダイヤモンド研磨フィルムが押し込まれるが、ダイ
ヤモンド研磨フィルムの支持体としての弾性フィルム9
1のゴム硬度が高すぎると、ダイヤモンド研磨フィルム
と研磨面との密着性が悪化し、研磨面の均一性が欠け
る。とともに面取り精度が悪化する。したがって、本発
明においては、弾性シートのゴム硬度を55°以下、好
ましくは、20°〜40°の範囲に設定することによ
り、研磨面のバラツキが抑えられ、安定した耐久走行性
が得られるようになった。弾性シートはJIS K62
00ゴム用語に使用しているのを挙げることができる。
As described above, the diamond polishing film is pushed in as shown in FIG. 4, but the elastic film 9 as a support for the diamond polishing film is used.
If the rubber hardness of 1 is too high, the adhesion between the diamond polishing film and the polishing surface will deteriorate, and the uniformity of the polishing surface will be impaired. At the same time, the chamfering accuracy deteriorates. Therefore, in the present invention, by setting the rubber hardness of the elastic sheet to 55 ° or less, preferably in the range of 20 ° to 40 °, it is possible to suppress the variation of the polishing surface and obtain stable durable running property. Became. The elastic sheet is JIS K62
00 rubber term can be mentioned.

【0034】上記の相対移動は、スライダ1、研磨フィ
ルム92のいずれの移動によって達成してもよい。ま
た、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を
中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨す
ることもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シー
トを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、
輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させ
ることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重
は、磁気ヘッド1個あたり、5〜200g の範囲とす
る。更に、研磨時間は、スライダ1の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、10〜300秒程度とする。
The above relative movement may be achieved by moving either the slider 1 or the polishing film 92. Alternatively, the polishing film may be formed in a circular shape, and the polishing film may be rotated around the center of the circle and polished as a so-called buff. Also, a combination of a long polishing film and an elastic sheet, with the polishing film on the outside,
Alternatively, the loop may be formed into an endless tape shape, and the tape may be polished by running it. The load is in the range of 5 to 200 g per magnetic head. Further, the polishing time is generally about 10 to 300 seconds, though it depends on the hardness of the slider 1, the particle size of diamond particles, the magnitude of the load, and the like.

【0035】このようにして、空気ベアリング面111
を研磨する他、例えば特開昭60−185272号、同
63−70918号、特開平2−199614号、同2
−212057号、同2−301014号等に記載され
た方法に準じ、必要に応じスライダ1と研磨フィルムと
を傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりし
て、傾斜角や、エッジの面取り加工等が行なわれる。
In this way, the air bearing surface 111
In addition to polishing, for example, JP-A-60-185272, JP-A-63-70918, JP-A-2-199614 and JP-A-2-199614.
No. 212057, No. 2-301014, etc., the tilt angle and the chamfering of the edge can be performed by inclining the slider 1 and the polishing film or arranging the polishing film in a predetermined shape, if necessary. Processing etc. are performed.

【0036】以上説明してきたが、要約すると、本発明
方法は、薄膜磁気ヘッドを2個以上並べるとともに、厚
さ10μm以下の研磨フィルムに、磁気ヘッドスライダ
の媒体対向面側を接触させ、前記スライダを前記研磨シ
ートに対して相対的に移動させて、2個以上の薄膜磁気
ヘッドの前記媒体対向面を研磨することを主眼とするも
のである。
As described above, in summary, according to the method of the present invention, two or more thin film magnetic heads are arranged, and a polishing film having a thickness of 10 μm or less is brought into contact with the medium facing surface side of the magnetic head slider to make the slider. Is relatively moved with respect to the polishing sheet to polish the medium facing surface of two or more thin film magnetic heads.

【0037】次に、本発明による方法、特に研磨方法に
よる効果の確認のため、表3に示すように、研磨材とし
てのダイヤモンドの粒径を設定した。ペーストの配合比
を表1に示すようにしてペーストを配合し、これを、厚
みを表3に示すように設定し、所定の弾性シート上に配
置したダイヤモンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時
間一定の条件で、図1に示されるスライダ(磁気ヘッ
ド)を2個づつ、計20個研磨し、2つの薄膜磁気ヘッ
ドの隣接するレール16の対向する面取り傾斜面の精度
を、表2の基準で測定あるいは調べた。その結果を表3
に示す。なお、被研磨物としては、Al2 3 −TiO
2 製で、Hv(500g)が2000のスライダを有す
る薄膜磁気ヘッドを用いた。
Next, in order to confirm the effect of the method according to the present invention, in particular, the polishing method, the grain size of diamond as an abrasive was set as shown in Table 3. The paste was mixed as shown in Table 1 with the mixture ratio of the paste, and the thickness was set as shown in Table 3. Using a diamond polishing film arranged on a predetermined elastic sheet, the load and the polishing time were constant. Under the conditions described above, two sliders (magnetic heads) shown in FIG. 1 are polished in total, 20 in total, and the accuracy of the chamfered inclined surfaces of the adjacent rails 16 of the two thin film magnetic heads facing each other is determined according to the criteria of Table 2. Measured or investigated. The results are shown in Table 3.
Shown in. The object to be polished was Al 2 O 3 —TiO 2.
A thin-film magnetic head having a slider manufactured by No. 2 and having Hv (500 g) of 2000 was used.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】[0040]

【表3】 [Table 3]

【0041】これらの表から明らかなように、ダイヤモ
ンド研磨フィルムの厚さ15μm以下、ダイヤモンド微
粒子の平均粒径1.0μm 以下での条件をいずれかでも
満足しないときには、5μm より大のバラツキを生じ、
面取り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてし
まい実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ15
μm以下かつ平均粒径1.0μm 以下では、これらはい
ずれも満足できる状態となっている。特に、厚さが10
μm以下、また平均粒径が0.1μm 以上であって、
0.9μm 以下、特に0.5μm 以下となると、これら
はより一層好ましい状態となることがわかる。
As is clear from these tables, when neither of the conditions for the thickness of the diamond polishing film of 15 μm or less and the average particle size of diamond fine particles of 1.0 μm or less is satisfied, a variation of more than 5 μm occurs,
It can be seen that a large angle θ is formed between the chamfered surface and the horizontal or vertical surface, which is not practical. On the other hand, thickness 15
When the particle size is less than or equal to μm and the average particle size is less than or equal to 1.0 μm, all of these are in a satisfactory state. Especially, the thickness is 10
the average particle size is 0.1 μm or more,
It can be seen that when the thickness is 0.9 μm or less, particularly 0.5 μm or less, these are even more preferable.

【0042】さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平
均粒径1.0μmとし、表4に示したように、スライダ
のビッカース硬度HV(500g)およびダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを種々替えて実験を行なった。その
結果を、表4に示す。この表4に示されているように、
ビッカース硬度HV(500g)1100未満の時、研
磨表面に大きな傷が付いてしまい、実用に耐えないこと
が分かる。これに対し、ビッカース硬度HV(500
g)1100以上となると、スライダの研磨面に小さな
傷が存在するだけで満足の行くものであった。
Further, the diamond fine particles used had an average particle size of 1.0 μm, and as shown in Table 4, the Vickers hardness HV (500 g) of the slider and the thickness of the diamond polishing film were variously changed to carry out the experiment. The results are shown in Table 4. As shown in Table 4,
It can be seen that when the Vickers hardness HV (500 g) is less than 1100, the polished surface is greatly scratched and cannot be put to practical use. On the other hand, Vickers hardness HV (500
g) When it is 1100 or more, only small scratches are present on the polished surface of the slider, which is satisfactory.

【0043】特に、ビッカース硬度HV(500g)を
1500以上としたときには、キズ、精度ともに良好な
状態となり、さらには、1800以上とすると、きわめ
て良好な結果が得られた。
In particular, when the Vickers hardness HV (500 g) was 1500 or more, both scratches and accuracy were good, and when it was 1800 or more, extremely good results were obtained.

【0044】[0044]

【表4】 [Table 4]

【0045】膜厚との関係について、整理すると、全厚
15μ以下、さらに好ましいのはビッカース硬度(50
0g )1100以上、膜厚10μ以下、さらにビッカー
ス硬度(Hv500g )1500以上、膜厚10μ以下、
この傾向は、ビッカース硬度HV(500g)が大きけ
れば大きい程、また、全厚が小さければ小さい程、精度
が向上することがわかり、ビッカース硬度(Hv500g
)1800以上、膜厚7μm 以下が特に好ましい。
When the relationship with the film thickness is summarized, the total thickness is 15 μm or less, and more preferably Vickers hardness (50
0g) 1100 or more, film thickness 10μ or less, Vickers hardness (Hv500g) 1500 or more, film thickness 10μ or less,
This tendency shows that the accuracy is improved as the Vickers hardness HV (500 g) is larger and the total thickness is smaller, the Vickers hardness (Hv500 g
) A film thickness of 1800 or more and a film thickness of 7 μm or less is particularly preferable.

【0046】さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平
均粒径1.0μm、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さ1
0μm、そして、スライダのビッカース硬度HV(50
0g)を1800とし、ダイヤモンド研磨フィルムの支
持体としての弾性シートのゴム硬度を種々替えて実験を
行なった。その結果を、表5に示す。
Further, the diamond fine particles used have an average particle size of 1.0 μm, and the diamond polishing film has a thickness of 1
0 μm, and slider Vickers hardness HV (50
0g) was set to 1800, and the rubber hardness of the elastic sheet as the support of the diamond polishing film was variously changed and the experiment was conducted. The results are shown in Table 5.

【0047】[0047]

【表5】 [Table 5]

【0048】この表5に示されているように、ダイヤモ
ンド研磨フィルムの支持体のゴム硬度を20°〜55°
の範囲にしないときには、キズが大であり、しかも2μ
mより大の精度のバラツキを生じてしまい実用に耐えな
いことがわかる。これに対しゴム硬度が20°〜55°
の範囲では、これらはいずれも満足できる状態となって
いる。
As shown in Table 5, the rubber hardness of the support of the diamond polishing film is 20 ° to 55 °.
If it is not within the range, the scratches will be large and 2μ
It can be seen that there is a variation in accuracy greater than m, which is not practical. In contrast, the rubber hardness is 20 ° to 55 °
In the range of, all of these are in a satisfactory state.

【0049】特に、ゴム硬度が20°〜40°の範囲で
は、より一層好ましい状態となることがわかる。
In particular, it is understood that a more preferable state is obtained when the rubber hardness is in the range of 20 ° to 40 °.

【0050】なお、本発明は薄膜磁気ヘッドをバー状態
で配列したものにも応用できる。
The present invention can also be applied to a thin film magnetic head arranged in a bar state.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の製造方法によって製造される浮動型磁
気ヘッドの一例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a floating magnetic head manufactured by a manufacturing method of the present invention.

【図2】図1の磁気ヘッドの正面図である。FIG. 2 is a front view of the magnetic head of FIG.

【図3】図1の磁気ヘッドの側面図である。3 is a side view of the magnetic head of FIG. 1. FIG.

【図4】2個の浮動型磁気ヘッドのスライダの空気ベア
リング面の研磨方法を説明するための正面図である。
FIG. 4 is a front view for explaining a method of polishing an air bearing surface of a slider of two floating magnetic heads.

【図5】本発明方法において使用される研磨フィルムの
一例を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a polishing film used in the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スライダ 11 媒体対向面 111 空気ベアリング面 14、17、18 傾斜面 92 研磨フィルム 921 研磨材層 922 可撓性フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 slider 11 medium facing surface 111 air bearing surface 14, 17, 18 inclined surface 92 polishing film 921 abrasive layer 922 flexible film

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモ
ンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダ
を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記薄
膜磁気ヘッドを2個以上配列するとともに、前記ダイヤ
モンド研磨フィルムの厚さを10μm以下とし、このダ
イヤモンド研磨フィルムによって前記2個以上の薄膜磁
気ヘッドを同時に研磨するようにしたことを特徴とする
薄膜磁気ヘッドの製造方法。
1. A method of manufacturing a thin-film magnetic head in which a slider of a thin-film magnetic head is polished by a diamond-polishing film using fine diamond particles, wherein two or more thin-film magnetic heads are arranged and the thickness of the diamond-polishing film is large. To 10 μm or less, and the diamond polishing film is used to simultaneously polish the two or more thin film magnetic heads.
【請求項2】 前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を
1.0μm以下とした請求項1の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
2. The method of manufacturing a thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the average particle size of the diamond fine particles is 1.0 μm or less.
【請求項3】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度HV(500g)を、1100以上に設定した
請求項1または2の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
3. The method of manufacturing a thin film magnetic head according to claim 1, wherein the slider has a Vickers hardness HV (500 g) of 1100 or more.
【請求項4】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度HV(500g)を、1500以上に設定した
請求項1または2の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
4. The method of manufacturing a thin film magnetic head according to claim 1, wherein the slider of the thin film magnetic head has a Vickers hardness HV (500 g) of 1500 or more.
【請求項5】 前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカ
ース硬度を1800〜3000の範囲とした請求項1ま
たは2の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
5. The method of manufacturing a thin film magnetic head according to claim 1, wherein the slider of the thin film magnetic head has a Vickers hardness in a range of 1800 to 3000.
【請求項6】 ダイヤモンド研磨フィルムを相当厚の弾
性体で支持させた状態で、前記薄膜磁気ヘッドの研磨面
に相対的に押しつけて研磨加工を行なうにようするとと
もに、前記弾性体のゴム硬度を55°以下に設定した請
求項1ないし5のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。
6. A diamond polishing film is supported by an elastic body of a considerable thickness, and is pressed against the polishing surface of the thin-film magnetic head to perform polishing, and the rubber hardness of the elastic body is adjusted. 6. The method of manufacturing a thin film magnetic head according to claim 1, wherein the setting is 55 [deg.] Or less.
【請求項7】 前記弾性体のゴム硬度を20°から40
°の範囲とした請求項6の薄膜磁気ヘッドの請求方法。
7. The rubber hardness of the elastic body is from 20 ° to 40.
A method of claiming a thin film magnetic head according to claim 6, wherein the range is in the range of °.
【請求項8】 前記研磨フィルムのスティッフネスを、
0.8〜3.0×105 (μm)3 kg/mm2の範囲とした
請求項1ないし7のいずれかの薄膜磁気ヘッドの請求方
法。
8. The stiffness of the polishing film,
8. The method for claiming the thin film magnetic head according to claim 1, wherein the range is 0.8 to 3.0 × 10 5 (μm) 3 kg / mm 2 .
【請求項9】 複数の薄膜磁気ヘッドを固定治具に固定
配置し、この固定治具に固定配置された複数の薄膜磁気
ヘッドを、前記ダイヤモンド研磨フィルムに対して相対
的に押圧するとともに、前記固定治具およびダイヤモン
ド研磨フィルムの少なくとも一方を摺動走行させ、前記
薄膜磁気ヘッドを同時に研磨する請求項1ないし8のい
ずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
9. A plurality of thin-film magnetic heads are fixedly arranged on a fixing jig, and the plurality of thin-film magnetic heads fixedly arranged on the fixing jig are pressed relative to the diamond polishing film. 9. The method of manufacturing a thin film magnetic head according to claim 1, wherein at least one of the fixing jig and the diamond polishing film is slidably run to simultaneously polish the thin film magnetic head.
【請求項10】 基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成
膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面とし
て、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する
請求項1ないし9のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。
10. The method according to claim 1, wherein after forming a plurality of thin film magnetic conversion elements on a substrate, the thin film magnetic conversion elements are cut, and the cut end face is used as a medium facing surface, and the diamond polishing film is used for polishing. Method for manufacturing thin film magnetic head.
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