JP3108509B2 - Method for manufacturing thin-film magnetic head - Google Patents
Method for manufacturing thin-film magnetic headInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒
とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持
させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁
気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thin-film magnetic head, and more particularly, to a diamond polishing method in which an abrasive layer having diamond fine particles as abrasive grains is supported by a flexible film as a support. The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head for polishing a slider of a thin film magnetic head with a film.
【0002】[0002]
【従来の技術】情報記録容量の増大、高速アクセス化等
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来
る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。2. Description of the Related Art With an increase in information recording capacity and high-speed access, there is an increasing demand for a thin film magnetic head having a higher magnetic permeability than a ferrite head and capable of maintaining a high electromagnetic conversion even at a high transfer rate. ing.
【0003】薄膜磁気ヘッドでは、スライダとして各種
セラミックス基板材料が必要であり、SiC、Zr
O2 、Al2 O3 、Al2 O3 −TiC等の材料がスラ
イダとして用いられている。In a thin film magnetic head, various ceramic substrate materials are required for a slider, and SiC, Zr
Materials such as O 2 , Al 2 O 3 and Al 2 O 3 —TiC are used for the slider.
【0004】薄膜磁気ヘッドのスライダは、安定な浮上
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端
部や周囲の稜角部を面取りする等の必要がある。スライ
ダの空気ベアリング面等の研磨に際しては、例えば特開
昭60−185272号公報、特開昭63−70918
号公報、特開平2−199614号公報、特開平2−2
12057号公報、特開平2−301014号公報等に
開示されているように、研磨テープあるいは研磨フィル
ムを用いている。The slider of the thin-film magnetic head is polished on the surface of the air bearing surface of the medium facing surface in order to obtain stable flying performance and good running durability, and furthermore, the end portion and the peripheral ridge angle. It is necessary to chamfer the part. When polishing the air bearing surface of the slider, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-185272 and 63-70918
JP-A-2-199614, JP-A-2-199614
As disclosed in JP-A-12057 and JP-A-2-301014, a polishing tape or a polishing film is used.
【0005】各種セラミック材料の研磨においては、研
磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダ
イヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされてい
る。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィル
ムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤ
モンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行な
われている。In the polishing of various ceramic materials, processing with a diamond polishing film using diamond particles is required in order to improve polishing workability. However, although the above publication does not disclose processing using a diamond polishing film, polishing of a thin film magnetic head using a diamond polishing film has been conventionally performed.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来のダイヤモンド研磨フィルムによってスライダを研
磨したところ、同一の条件で研磨を行なっても、小さな
面取り加工が困難であったり、面取り寸法や角度がバラ
ツイてしまったり、更には、直線部分と面取り部分との
遷移部分において角が出てしまったりしてしまうことが
あることが判明した。このように、面取り加工が小さく
できないと、小型のスライダでは用いることができない
他、面取り寸法ないし面取り角度がバラツイてしまう
と、例えば、浮動型磁気ヘッドでは、所定の耐久性が保
証できなくなってしまったり、安定した相対速度と浮上
量とで浮上することが不可能となり、また上記のように
研磨面に角があると媒体を損傷する他浮上性ないし走行
性にも悪影響を及ぼす。However, when the slider is polished with the above-mentioned conventional diamond polishing film, even if the slider is polished under the same conditions, small chamfering is difficult, or the chamfer dimensions and angles are uneven. It has been found that the corner may be formed at the transition portion between the straight portion and the chamfered portion. As described above, if the chamfering process cannot be made small, it cannot be used with a small slider, and if the chamfer dimensions or the chamfer angle vary, for example, a floating magnetic head cannot guarantee a predetermined durability. It becomes impossible to fly at a stable relative speed and flying height, and if the polished surface has an angle as described above, the medium is damaged, and the flying or running property is adversely affected.
【0007】そこで、本発明は、極小の面取り加工を精
度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的に
かつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面
取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘ
ッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを主たる目的とするものである。Accordingly, the present invention can perform extremely small chamfering with high precision, can continuously and smoothly chamfer the adjacent surfaces, and can minimize the amount of chamfering. It is a main object of the present invention to provide a method of manufacturing a thin film magnetic head capable of obtaining a head exhibiting stable flying characteristics.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の問
題点を鋭意研究したところ、従来のダイヤモンド研磨フ
ィルムにおいては、ダイヤモンド微粒子の径が大きす
ぎ、研磨フィルムの腰が強すぎると、研磨フィルムと被
研磨物間の密着性が悪化し、研磨面の均一性にかけると
いうことを知見した。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on the conventional problems, and found that in the conventional diamond polishing film, if the diameter of the diamond fine particles was too large and the polishing film was too strong, It has been found that the adhesion between the polishing film and the object to be polished is deteriorated, and the uniformity of the polished surface is affected.
【0009】本発明者らは、更に上記ダイヤモンド研磨
フィルムと被研磨物間の密着性を解決すべく、ダイヤモ
ンド研磨フィルムについて研究したところ、その全体と
しての厚みに負うところが大きいことを知見した。The present inventors have further studied a diamond polished film in order to solve the adhesion between the diamond polished film and the object to be polished, and have found that the thickness of the film is largely dependent on the overall thickness.
【0010】本発明は、上記知見によるものであり、以
下の(1)〜(6)にある。 (1) ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研
磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨
する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記ダイヤモ
ンド研磨フィルムの厚さを15μm以下とするととも
に、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を1.0μm 以
下に設定したことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
法。[0010] The present invention has been made based on the above findings, and includes the following (1) to (6). (1) In a method of manufacturing a thin film magnetic head for polishing a slider of a thin film magnetic head with a diamond polishing film using diamond fine particles, the thickness of the diamond polishing film is set to 15 μm or less, and the average particle size of the diamond fine particles is reduced. Is set to 1.0 μm or less.
【0011】(2) 前記ダイヤモンド研磨フィルムの
厚さを10μm 以下とした上記(1)の薄膜磁気ヘッド
の製造方法。(2) The method of manufacturing a thin film magnetic head according to (1), wherein the thickness of the diamond polishing film is 10 μm or less.
【0012】(3) 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度HV(500g)を1100以上に設定
した上記(1)または(2)の薄膜磁気ヘッドの製造方
法。(3) The method of manufacturing a thin film magnetic head according to the above (1) or (2), wherein the Vickers hardness HV (500 g) of the slider of the thin film magnetic head is set to 1100 or more.
【0013】(4) 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度HV(500g)を1500以上に設定
した上記(1)または2の薄膜磁気ヘッドの製造方法。(4) The method of manufacturing a thin-film magnetic head according to (1) or (2), wherein the Vickers hardness HV (500 g) of the slider of the thin-film magnetic head is set to 1500 or more.
【0014】(5) 前記薄膜磁気ヘッドのスライダの
ビッカース硬度を1800〜3000の範囲とした上記
(1)または(2)の浮動型磁気ヘッドの製造方法。(5) The method of manufacturing a floating magnetic head according to (1) or (2), wherein the Vickers hardness of the slider of the thin-film magnetic head is in the range of 1800 to 3000.
【0015】(6) 基板上に複数の薄膜磁気変換素子
を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面
として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨
する上記(1)ないし(5)のいずれかの薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。(6) After forming a plurality of thin-film magnetic transducers on a substrate, the thin-film magnetic transducers are cut, and the cut end face is used as the medium facing surface, and the thin-film magnetic transducer is polished with the diamond polishing film. 5) The method for manufacturing a thin-film magnetic head according to any one of 5).
【0015】[0015]
【作用・効果】本発明によれば、ダイヤモンド研磨フィ
ルムにおいてダイヤモンド粒径と全厚を設定することに
より、極小の面取りを精度よく行うことができ、面取り
寸法や角度のバラツキが無くなるので、耐久性が向上す
るとともに、磁気ヘッドが安定した相対速度で浮上する
ことができるようになる。According to the present invention, by setting the diamond grain size and the total thickness of the diamond polishing film, it is possible to perform extremely small chamfering with high precision and to eliminate variations in chamfer dimensions and angles, thereby improving durability. And the magnetic head can fly at a stable relative speed.
【0016】[0016]
【実施例】以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好ま
しい実施例について説明する。まず、本発明によって得
られる薄膜磁気ヘッドについて説明する。図1は、薄膜
磁気ヘッドの一例を示す斜視図であり、スライダ1は、
媒体対向面11に平面状の空気ベアリング面111を有
している。両図において、aは磁気ディスクと組み合わ
せた場合の空気流入方向を示す。そして、図1では、媒
体対向面11の空気流入方向aの両側端に、中央部の溝
19を介して、2本のレール16、16が形成され、こ
のレール16、16上の媒体対向面が空気ベアリング面
111を構成している。なお、レール16、16は3本
以上であってもよい。Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, the thin-film magnetic head obtained by the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view showing an example of a thin-film magnetic head.
The medium facing surface 11 has a flat air bearing surface 111. In both figures, a indicates the air inflow direction when combined with a magnetic disk. In FIG. 1, two rails 16, 16 are formed at both ends of the medium facing surface 11 in the air inflow direction a via a groove 19 at the center, and the medium facing surface on the rails 16, 16 is formed. Constitute the air bearing surface 111. The number of rails 16 may be three or more.
【0017】磁気ディスク装置として使用する場合は、
スライダ1の媒体対向面11と逆側の面12を、ジンバ
ルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止
を行なう、いわゆるコンタクト.スタート.トップ(以
下CSSと称する)方式によって駆動される。磁気ディ
スクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ圧に
より空気ベアリング面111が磁気ディスクの表面に押
付けられているが、磁気ディスクが回転すると、スライ
ダ1の空気ベアリング面111に揚力動圧が発生し、こ
の動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上量で動
作する。なお、CSSにかえて、いわゆるダイナミック
ローディングを用いてもよい。When used as a magnetic disk drive,
A surface 12 opposite to the medium facing surface 11 of the slider 1 is head-stacked on a gimbal assay, and is started and stopped in this state. start. It is driven by a top (hereinafter referred to as CSS) method. When the magnetic disk is stationary, the air bearing surface 111 is pressed against the surface of the magnetic disk by the spring pressure of the head support device, but when the magnetic disk rotates, the lift dynamic pressure is applied to the air bearing surface 111 of the slider 1. Is generated, and the head operates at a flying height that is balanced with the dynamic pressure and the spring pressure of the head support device. Note that so-called dynamic loading may be used instead of CSS.
【0018】図1に示されるように、レール16、16
の空気流入端側において空気ベアリング面111と側端
面13とが形成する稜角部は、面取りされた傾斜面14
形状となっている。このためCSS動作等において、容
易にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒
体損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側で
の傾斜面14と空気ベアリング面111とのなす角が所
定の角度をなし、その長さが所定の寸法となるように
し、しかもその加工精度を高めると、より安定した相対
速度で浮上を開始し、または浮上を停止するようにな
る。As shown in FIG. 1, the rails 16, 16
The ridge formed by the air bearing surface 111 and the side end surface 13 at the air inflow end side of the
It has a shape. For this reason, in the CSS operation or the like, the start can be easily performed, and the head crash, the medium damage, and the like hardly occur. That is, when the angle between the inclined surface 14 and the air bearing surface 111 on the air inflow end side forms a predetermined angle, and the length is set to a predetermined dimension, and the processing accuracy is increased, more stable operation is achieved. Ascent starts or stops at relative speed.
【0019】このような傾斜面14は研磨による面取り
によって形成される。この際、その傾斜角は小さいた
め、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、
これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。な
お、図示した例では、レール16、16の空気流出側に
おいて空気ベアリング面111と側端面14とが形成す
る稜角部およびスライダ16、16の長さ方向の両側部
が、傾斜面17、18とされた例を示している。Such an inclined surface 14 is formed by chamfering by polishing. At this time, since the inclination angle is small, problems tend to occur in the accuracy of the surface dimensions and the inclination angle,
These precisions are significantly higher according to the invention. In the illustrated example, the ridge formed by the air bearing surface 111 and the side end surface 14 on the air outflow side of the rails 16, and both sides in the longitudinal direction of the sliders 16, 16 are inclined surfaces 17, 18. An example is shown.
【0020】上記スライダ1は、そのビッカース硬度
(JIS Z 2244 試験荷重500g )HV(5
00g )1100以上、特に1100〜3000の範囲
となるように設定されている。この場合、その下限値と
しては、好ましくは1300以上、より好ましくは15
00以上、更に好ましくは1800以上であり、このと
き本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。The slider 1 has a Vickers hardness (JIS Z 2244, test load 500 g) HV (5
00g) It is set to be 1100 or more, especially 1100 to 3000. In this case, the lower limit is preferably 1300 or more, more preferably 15
00 or more, more preferably 1800 or more. At this time, the effect of the present invention is further improved.
【0021】このようなセラミックス材料としては、A
l2 O3 −TiO2 [HV(500)1150程度]、
MgO−NiO−ZrO2 (1200程度)、ZrO
2 (1200〜1600程度)、ZrO2 −Al2 O3
(1400〜1600程度)、 Al2 O3 −Tic−
AlN(1700〜2000)、SiC(1800〜2
000程度)、Al2 O3 −TiC(2000〜230
0程度)等が好適である。また、これらには、添加物と
してMg、Y、ZrO2 、TiO2 等が含有されていて
もよい。As such a ceramic material, A
l 2 O 3 —TiO 2 [HV (500) about 1150],
MgO-NiO-ZrO 2 (about 1200), ZrO
2 (about 1200 to 1600), ZrO 2 —Al 2 O 3
(About 1400-1600), Al 2 O 3 -Tic-
AlN (1700-2000), SiC (1800-2)
000), Al 2 O 3 —TiC (2000 to 230
0) and the like are preferable. These may contain Mg, Y, ZrO 2 , TiO 2, or the like as an additive.
【0022】これらのうち、本発明に特に好適なもの
は、加工性の点でAl2 O3 −TiCを主成分とするセ
ラミックスである。Among them, those particularly suitable for the present invention are ceramics containing Al 2 O 3 —TiC as a main component in view of workability.
【0023】図4は、図1に示した磁気ヘッドの製造方
法を示す図である。図においては、1は磁気ヘッドスラ
イダ、91は弾性シート、92は研磨フィルム、93は
加工台、94は治具である。この場合、スライダは、上
記の構造のいずれのものであってもよい。FIG. 4 is a diagram showing a method of manufacturing the magnetic head shown in FIG. In the figure, 1 is a magnetic head slider, 91 is an elastic sheet, 92 is a polishing film, 93 is a worktable, and 94 is a jig. In this case, the slider may have any of the above structures.
【0024】上記研磨フィルム92は、図5に示したよ
うに、研磨剤層921を、支持体としての可撓性フィル
ム922上に形成してなるものである。研磨剤層921
は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド
砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を
用い、MEK/トルエン/シクロヘキサノン混合系等の
希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持
体としての可撓性フィルム922としては、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレー
ト(PEN)、ポリアミド、ポリイミド等を用いること
ができる。As shown in FIG. 5, the polishing film 92 is formed by forming an abrasive layer 921 on a flexible film 922 as a support. Abrasive layer 921
Can be produced by using, for example, synthetic diamond abrasive grains as diamond fine particles, using a binder resin such as a polyurethane resin, and applying and drying using a diluting solvent such as a MEK / toluene / cyclohexanone mixed system. The above paste is prepared using various coating machines.
It is uniformly coated on a support to form a layer. As the flexible film 922 as the support, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyamide, polyimide, or the like can be used.
【0025】上記ダイヤモンド粒子の平均粒径は、後の
実施例からも分かるように、1μm以下でなければなら
ないが、特に0.1〜1.0μm 、さらには0.1〜
0.9μm 、もっとも好ましくは0.1〜0.5μm で
あることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバイン
ダの比は、重量比で1:1/7〜1程度である。また、
研磨剤層921の厚さは、1〜10μm とすることが好
ましい。The average particle diameter of the diamond particles must be 1 μm or less, as will be understood from the following examples, but is particularly preferably 0.1 to 1.0 μm, more preferably 0.1 to 1.0 μm.
It is preferably 0.9 μm, most preferably 0.1 to 0.5 μm. The ratio between the diamond particles and the binder is about 1: 1/7 to 1 by weight. Also,
The thickness of the abrasive layer 921 is preferably 1 to 10 μm.
【0026】磁気ヘッドスライダ1は、接着等の手段に
よって治具94に取付けられ、治具94に荷重を加えな
がら、薄膜磁気ヘッドのスライダ1の媒体対向面11側
を、弾性フィルム91によって支持された研磨フィルム
92の面上に接触させ、スライダ1を研磨フィルム92
に対して、相対的に移動させて研磨する。このとき、図
4に示すように、ダイヤモンド研磨フィルムが好適な状
態で押し込まれるように、ヤング率をEとして定義され
る研磨フィルムの柔軟性の指標であるスティッフネスE
T3 が0.5〜3×105 、特に0.5〜2×105 、
さらには0.8〜1.2×105 (μm)3 Kg/mm
2 となるように設定することが望ましい。支持体として
の可撓性フィルムが上記したような材料で形成されるの
で、そのゴム硬度がある所定の範囲内にあるため、上記
ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネスは、その全
厚によるところが大きい。従って、研磨フィルムの厚み
が厚すぎたり、薄すぎたりすると密着性が悪化し、研磨
面の均一性に欠ける。したがって、本発明においては、
フィルムの厚みを15μm以下、好ましくは10以下と
し、該ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネスを上
記値の範囲に設定することにより、研磨面のバラツキが
抑えられ、安定した耐久走行性が得られるようになっ
た。The magnetic head slider 1 is attached to a jig 94 by means such as bonding, and the medium facing surface 11 side of the slider 1 of the thin-film magnetic head is supported by an elastic film 91 while applying a load to the jig 94. The slider 1 is brought into contact with the surface of the
Is relatively moved with respect to the polishing. At this time, as shown in FIG. 4, the stiffness E, which is an index of the flexibility of the polishing film, whose Young's modulus is defined as E, so that the diamond polishing film is pressed in a suitable state.
T 3 is 0.5 to 3 × 10 5 , especially 0.5 to 2 × 10 5 ,
Furthermore, 0.8 to 1.2 × 10 5 (μm) 3 Kg / mm
It is desirable to set it to 2 . Since the flexible film as the support is formed of the above-described material, the stiffness of the diamond-polished film largely depends on its total thickness because the rubber hardness is within a certain range. Therefore, if the thickness of the polishing film is too thick or too thin, the adhesion deteriorates and the uniformity of the polished surface is lacking. Therefore, in the present invention,
By setting the thickness of the film to 15 μm or less, preferably 10 or less, and setting the stiffness of the diamond polishing film within the above range, the variation in the polished surface can be suppressed, and stable durability running can be obtained. Was.
【0027】上記の相対移動は、スライダ1、研磨フィ
ルム92のいずれの移動によって達成してもよい。ま
た、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を
中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨す
ることもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シー
トを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、
輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させ
ることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重
は、磁気ヘッド1個あたり、5〜200g の範囲とす
る。更に、研磨時間は、スライダ1の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、10〜300秒程度とする。The above relative movement may be achieved by any movement of the slider 1 and the polishing film 92. Alternatively, the polishing film may be formed in a circular shape, and the film may be rotated about the center of the circular shape and polished like a so-called buff. Also, a combination of a long polishing film and an elastic sheet, with the polishing film outside,
A loop may be formed to form an endless tape, which may be polished by running. The load is in the range of 5 to 200 g per magnetic head. The polishing time varies depending on the hardness of the slider 1, the particle size of the diamond particles, the magnitude of the load, and the like, but is generally about 10 to 300 seconds.
【0028】このようにして、空気ベアリング面111
を研磨する他、例えば特開昭60−185272号、同
63−70918号、特開平2−199614号、同2
−212057号、同2−301014号等に記載され
た方法に準じ、必要に応じスライダ1と研磨フィルムと
を傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりし
て、傾斜角や、稜角部の面取りが行なわれる。In this way, the air bearing surface 111
Besides polishing, for example, JP-A-60-185272, JP-A-63-70918, JP-A-2-199614, and JP-A-2-199614.
In accordance with the method described in JP-A-212057, JP-A-2-301014, etc., the slider 1 and the polishing film are inclined as necessary, or the polishing film is arranged in a predetermined shape, and the inclination angle and the angle of the ridge are adjusted. Beveling is performed.
【0029】以上説明してきたが、要約すると、本発明
方法は、平均粒径1.0μm 以下のダイヤモンド粒子、
および厚さ15μm以下の研磨フィルムに、磁気ヘッド
スライダの媒体対向面側を接触させ、前記スライダを前
記研磨シートに対して相対的に移動させて前記媒体対向
面を研磨することを主眼とするものである。As described above, in summary, the method of the present invention comprises diamond particles having an average particle size of 1.0 μm or less,
And a polishing film having a thickness of 15 μm or less, the main surface of which is to contact the medium facing surface side of the magnetic head slider and move the slider relatively to the polishing sheet to polish the medium facing surface. It is.
【0030】次に、本発明による方法、特に研磨方法に
よる効果の確認のため、表1に示すように、研磨材とし
てのダイヤモンドの粒径を設定した。ペーストの配合比
を表1に示すようにしてペーストを配合し、これを、厚
みを表1に示すように設定し、所定の弾性シート上に配
置したダイヤモンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時
間一定の条件で、図1に示されるスライダ(磁気ヘッ
ド)を1個づつ、計10個研磨し、その面取り傾斜面の
精度を、表2の基準で測定あるいは調べた。その結果を
表3に示す。なお、被研磨物としては、Al2 O3 −T
iO2 製で、Hv(500g)が2000のスライダを
有する薄膜磁気ヘッドを用いた。また、研磨精度は、研
磨された10個のスライダの研磨面の種々の箇所を測定
し、その寸法バラツキを調べた。Next, in order to confirm the effect of the method of the present invention, particularly the effect of the polishing method, as shown in Table 1, the particle size of diamond as an abrasive was set. The paste was blended with the compounding ratio of the paste as shown in Table 1, the thickness was set as shown in Table 1, and the load and the polishing time were constant using a diamond polishing film arranged on a predetermined elastic sheet. Under the conditions described above, the sliders (magnetic heads) shown in FIG. Table 3 shows the results. The object to be polished is Al 2 O 3 -T
A thin-film magnetic head made of iO 2 and having a slider of Hv (500 g) of 2000 was used. The polishing accuracy was determined by measuring various locations on the polished surfaces of the ten polished sliders and examining dimensional variations.
【0031】[0031]
【表1】 [Table 1]
【0032】[0032]
【表2】 [Table 2]
【0033】[0033]
【表3】 [Table 3]
【0034】これらの表から明らかなように、ダイヤモ
ンド研磨フィルムの厚さ15μm以下、ダイヤモンド微
粒子の平均粒径1.0μm 以下での条件をいずれかでも
満足しないときには、5μm より大のバラツキを生じ、
面取り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてし
まい実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ15
μm以下かつ平均粒径1.0μm 以下では、これらはい
ずれも満足できる状態となっている。特に、厚さが10
μm以下、また平均粒径が0.1μm 以上であって、
0.9μm 以下、特に0.5μm 以下となると、これら
はより一層好ましい状態となることがわかる。As is clear from these tables, when any one of the conditions of the thickness of the diamond polished film of 15 μm or less and the average particle diameter of the diamond fine particles of 1.0 μm or less is not satisfied, a variation larger than 5 μm occurs.
It can be seen that a large angle θ is formed between the chamfered surface and the horizontal and vertical surfaces, which is not practical. Thickness 15
At μm or less and at an average particle size of 1.0 μm or less, all of them are in a satisfactory state. In particular, if the thickness is 10
μm or less, and the average particle size is 0.1 μm or more,
It can be seen that when the thickness is 0.9 μm or less, particularly 0.5 μm or less, these are in a more preferable state.
【0035】さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平
均粒径1.0μmとし、表4に示したように、スライダ
のビッカース硬度HV(500g)およびダイヤモンド
研磨フィルムの厚さを種々替えて実験を行なった。その
結果を、表4に示す。この表4に示されているように、
ビッカース硬度HV(500g)1100以下の時、研
磨表面に大きな傷が付いてしまい、実用に耐えないこと
が分かる。これに対し、ビッカース硬度HV(500
g)1100以上となると、スライダの研磨面に小さな
傷が存在するだけで満足の行くものであった。またビッ
カース硬度HV(500g)が1200以下のときに
は、ダイヤモンド研磨フィルムの全厚を10μm以下と
すると、発生する傷が微小となる。Further, an experiment was conducted by changing the average particle diameter of the diamond fine particles used to 1.0 μm and changing the Vickers hardness HV (500 g) of the slider and the thickness of the diamond polishing film as shown in Table 4. Table 4 shows the results. As shown in Table 4,
It can be seen that when the Vickers hardness is less than HV (500 g) 1100, the polished surface is severely scratched and cannot be put to practical use. On the other hand, Vickers hardness HV (500
g) When it was 1100 or more, only a small scratch on the polished surface of the slider was satisfactory. When the Vickers hardness HV (500 g) is 1200 or less, if the total thickness of the diamond polished film is 10 μm or less, the generated scratches become minute.
【0036】特に、ビッカース硬度HV(500g)を
1500以上としたときには、キズ、精度ともに良好な
状態となり、さらには、1800以上とすると、きわめ
て良好な結果が得られる。In particular, when the Vickers hardness HV (500 g) is 1500 or more, both scratches and accuracy are in a good state, and when it is 1800 or more, very good results are obtained.
【0037】[0037]
【表4】 [Table 4]
【0038】上記の表から分かるように、ビッカース硬
度HV(500g)を1400以上とし、全厚を7μm
以下とすると、寸法バラツキが2μm以下となり、満足
の行くものであった。さらに、全厚が7μmとそのまま
であっても、ビッカース硬度HV(500g)を150
0以上とすると、寸法バラツキが0.5μm以下とな
り、満足の行くものであり、この傾向は、ビッカース硬
度HV(500g)が大きければ大きい程、また、全厚
が小さければ小さい程、精度が向上することがわかる。As can be seen from the above table, the Vickers hardness HV (500 g) is 1400 or more, and the total thickness is 7 μm.
When it was less than the above, the dimensional variation was 2 μm or less, which was satisfactory. Further, even when the total thickness is 7 μm as it is, the Vickers hardness HV (500 g) is 150 μm.
When the value is 0 or more, the dimensional variation is 0.5 μm or less, which is satisfactory. This tendency is improved as the Vickers hardness HV (500 g) becomes larger and as the total thickness becomes smaller, the accuracy improves. You can see that
【図1】本発明の製造方法によって製造される浮動型磁
気ヘッドの1例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing one example of a floating magnetic head manufactured by a manufacturing method of the present invention.
【図2】図1の磁気ヘッドの正面図である。FIG. 2 is a front view of the magnetic head of FIG. 1;
【図3】図1の磁気ヘッドの側面図である。FIG. 3 is a side view of the magnetic head of FIG. 1;
【図4】浮動型磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング
面の研磨方法を説明するための正面図である。FIG. 4 is a front view for explaining a method of polishing the air bearing surface of the slider of the floating magnetic head.
【図5】本発明方法において使用される研磨フィルムの
1例を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing one example of a polishing film used in the method of the present invention.
1 スライダ 11 媒体対向面 111 空気ベアリング面 14、17、18 傾斜面 92 研磨フィルム 921 研磨材層 922 可撓性フィルム Reference Signs List 1 slider 11 medium facing surface 111 air bearing surface 14, 17, 18 inclined surface 92 polishing film 921 polishing material layer 922 flexible film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/60 G11B 21/21 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/60 G11B 21/21
Claims (6)
ンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダ
を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記ダ
イヤモンド研磨フィルムの厚さを15μm以下とすると
ともに、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を1.0μ
m 以下に設定したことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
造方法。1. A method of manufacturing a thin film magnetic head for polishing a slider of a thin film magnetic head using a diamond polishing film using diamond fine particles, wherein the diamond polishing film has a thickness of 15 μm or less and an average of the diamond fine particles. Particle size 1.0μ
m.
10μm 以下とした請求項1の薄膜磁気ヘッドの製造方
法。2. The method of manufacturing a thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the thickness of said diamond polishing film is 10 μm or less.
ース硬度HV(500g)を1100以上に設定した請
求項1または2の薄膜磁気ヘッドの製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the slider of the thin-film magnetic head has a Vickers hardness HV (500 g) of 1100 or more.
ース硬度HV(500g)を1500以上に設定した請
求項1または2の薄膜磁気ヘッドの製造方法。4. The method of manufacturing a thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the Vickers hardness HV (500 g) of the slider of the thin-film magnetic head is set to 1500 or more.
ース硬度を1800〜3000の範囲とした請求項1ま
たは2の浮動型磁気ヘッドの製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the slider of the thin-film magnetic head has a Vickers hardness in the range of 1800 to 3000.
したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面とし
て、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する
請求項1ないし5のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方
法。6. A method according to claim 1, wherein a plurality of thin film magnetic transducers are formed on a substrate, and then cut, and the cut end face is used as a medium facing surface and polished with the diamond polishing film. Manufacturing method of such a thin film magnetic head.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04072580A JP3108509B2 (en) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04072580A JP3108509B2 (en) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05234048A JPH05234048A (en) | 1993-09-10 |
JP3108509B2 true JP3108509B2 (en) | 2000-11-13 |
Family
ID=13493463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04072580A Expired - Lifetime JP3108509B2 (en) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3108509B2 (en) |
-
1992
- 1992-02-21 JP JP04072580A patent/JP3108509B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05234048A (en) | 1993-09-10 |
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