JPH05256791A - Inspecting apparatus of defect of board - Google Patents

Inspecting apparatus of defect of board

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JPH05256791A
JPH05256791A JP4055543A JP5554392A JPH05256791A JP H05256791 A JPH05256791 A JP H05256791A JP 4055543 A JP4055543 A JP 4055543A JP 5554392 A JP5554392 A JP 5554392A JP H05256791 A JPH05256791 A JP H05256791A
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JP
Japan
Prior art keywords
pattern
pixels
substrate
image
brightness
Prior art date
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Pending
Application number
JP4055543A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuhiko Kato
敦彦 加藤
Kouzou Katou
江三 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP4055543A priority Critical patent/JPH05256791A/en
Publication of JPH05256791A publication Critical patent/JPH05256791A/en
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Abstract

PURPOSE:To inspect the defects of the surface of a board accurately. CONSTITUTION:A prescribed lightness for separating all picture elements of a pickup image of the surface 1a of a board into picture elements showing a pattern 2 and ones showing a background 3 is determined beforehand. Then, the image of the surface 1a of the board being an object of inspection is picked up and the picture elements of the prescribed lightness or above are removed from this image picked up. It is judged that the lightness of the picture elements left after the removal is outside the range of the aforesaid determined lightness. Then, it is determined that the picture elements judged to be outside the range of the lightness represent a defective part of the pattern 2. The defective part of the background 3 is determined in the same way.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子回路のプリント配
線基板におけるプリント配線パターン、液晶基板におけ
る電極パターンなど、基板上の所定の形状のパターンの
欠陥および該パターン以外の基板表面の欠陥の検査を自
動的に行う装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention inspects defects of a pattern having a predetermined shape on a substrate such as a printed wiring pattern on a printed wiring board of an electronic circuit and an electrode pattern on a liquid crystal substrate, and defects on the surface of the substrate other than the pattern. The present invention relates to a device for automatically performing.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子回路における配線パターンや液晶基
板におけるITO(透明電極)パターンは、導電材を基
板に付着する工程、エッチング工程等における不具合に
起因してパターンの「細り」、「太り」、「断線」、
「ショート」等の欠陥を生じることがある。また、パタ
ーン以外の基板表面(以下「背景」という)も上記不具
合に起因して同様な欠陥を生じることがある。このた
め、かかるパターンおよび背景の欠陥の検査を行い、基
板が良品であるか不良品であるかを判定して良品のみを
出荷することが製品の品質保証上不可欠である。かかる
欠陥の検査は、人間が顕微鏡を覗くことにより目視で行
っているのが現状であり、自動化は開発途上の段階であ
る。
2. Description of the Related Art Wiring patterns in electronic circuits and ITO (transparent electrode) patterns in liquid crystal substrates are "thin" or "thick" due to defects in the process of attaching a conductive material to the substrate, the etching process, etc. "Break",
May cause defects such as "shorts". In addition, the surface of the substrate other than the pattern (hereinafter referred to as “background”) may also have the same defect due to the above-mentioned problem. Therefore, it is indispensable for product quality assurance to inspect the pattern and background defects, determine whether the substrate is a good product or a defective product, and ship only the good product. At present, the inspection of such defects is performed visually by a person looking through a microscope, and automation is in the development stage.

【0003】一方において、近年のパターン成形技術の
発達により、パターンの微細化の傾向が一層進んでい
る。
On the other hand, with the recent development of pattern forming technology, there is a further tendency toward finer patterns.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、人間による検
査は集中力の持続の限界等により間違いが出易く、人間
の判断であるため正確さの点で難点がある。また、その
判断にも作業者ごとにバラツキがある。また、作業速度
の点でも充分とは言えず、作業にかかるコストが大であ
るという問題もある。しかも、近年のパターン微細化の
傾向に対応してこうした問題はより深刻となっている。
However, a human inspection is apt to make an error due to the limit of concentration, etc., and it is a human judgment, so that there is a difficulty in accuracy. In addition, the judgment also varies from worker to worker. Further, the work speed is not sufficient, and there is a problem that the cost for the work is high. Moreover, these problems have become more serious in response to the recent trend of pattern miniaturization.

【0005】本発明はこうした実状に鑑みてなされたも
のであり、パターン微細化の傾向に対応でき、基板の欠
陥の検査を正確かつ迅速に、しかも低コストで行うこと
ができる基板の欠陥検査装置を提供することをその目的
としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is capable of coping with the tendency of pattern miniaturization and inspecting defects of the substrate accurately and promptly and at low cost. Its purpose is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】そこで、この発明では、
所定形状のパターンが基板上に形成された基板表面を撮
像することにより、前記基板表面のうち前記パターンを
暗画像として、前記パターンを除いた背景を明画像とし
て捕らえ、これら明暗画像に基づき前記パターンの欠陥
を検査するようにした基板の欠陥検査装置において、予
め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示す
画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を決
定するとともに、前記パターンを示す画素の明度範囲を
決定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮
像して得られた画像の中から前記所定の明度以上の明度
の画素を除去し、該除去された残りの画素の明度が前記
明度範囲外にあることを判断する判断手段とを具え、前
記判断手段によって前記明度範囲外にあると判断された
画素を前記パターンの欠陥部分であると判定している。
Therefore, according to the present invention,
By capturing an image of the substrate surface on which a pattern of a predetermined shape is formed on the substrate, the pattern of the substrate surface is taken as a dark image, the background excluding the pattern is captured as a bright image, and the pattern is obtained based on these bright and dark images. In a defect inspection apparatus for a substrate configured to inspect defects, in advance, while determining a predetermined lightness for separating all pixels of a captured image of the substrate surface into pixels showing the pattern and pixels showing the background, Reference setting means for determining a lightness range of pixels showing a pattern, and pixels having lightness higher than or equal to the predetermined lightness are removed from an image obtained by imaging the surface of the substrate to be inspected, and the removed residue Determination means for determining that the lightness of the pixel is outside the lightness range, and the pixel judged by the judgment means to be outside the lightness range is the pattern. It is determined to be a defective portion of the.

【0007】また、同様な構成により、背景の欠陥部分
も判定される。
With the same configuration, the defective portion of the background is also determined.

【0008】[0008]

【作用】予め、基板表面の撮像画像の全画素をパターン
を示す画素と背景を示す画素とに分離するための所定の
明度が決定され、パターンを示す画素の明度範囲も決定
される。しかる後に、検査対象である基板表面が撮像さ
れ、この撮像画像の中から所定の明度以上の画素が除去
される。そして除去された残りの画素の明度が上記決定
された明度範囲外にあることを判断する。しかして、明
度範囲外にあると判断された画素をパターンの欠陥部分
であると判定する。背景の欠陥部分も同様にして判定さ
れる。
The predetermined brightness for separating all the pixels of the imaged image on the surface of the substrate into the pixels indicating the pattern and the pixels indicating the background is determined in advance, and the brightness range of the pixels indicating the pattern is also determined. After that, the surface of the substrate to be inspected is imaged, and pixels having a predetermined brightness or higher are removed from the captured image. Then, it is determined that the brightness of the remaining removed pixels is outside the brightness range determined above. Then, the pixel determined to be outside the brightness range is determined to be the defective portion of the pattern. The defective portion of the background is similarly determined.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る基板の欠
陥検査装置の実施例について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a substrate defect inspection apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】図1は実施例装置の構成を示す。FIG. 1 shows the configuration of the apparatus of the embodiment.

【0011】同図に示すようにXーYテーブル4の上に
は、欠陥検査対象である基板1(プリント配線基板等)
が載置されており、基板1がXーY2次元平面内を任意
に移動され得るようになっている。基板1の表面1aに
は、所定形状のパターン2が形成されており、基板表面
1aは、このパターン2とパターン2を除いた背景3と
から構成されている。CCDカメラ5は顕微鏡6を介し
て基板表面1aを拡大して撮像するものであり、基板表
面1aのうちパターン2を暗画像として、つまりパター
ン2の各画素を、明度の階調レベルが低いレベルのもの
として捕らえる。また、カメラ5は、基板表面1aのう
ち背景3に対応する部分を明画像として、つまり背景3
の各画素を、明度の階調レベルが高いレベルのものとし
て捕らえる。かかる画像信号は画像処理装置7に出力さ
れる。画像処理装置7は、図示しないが、画像信号をデ
ィジタル化するA/D変換器およびこのディジタル化さ
れた画像を記憶するフレーム・メモリおよびこの記憶画
像の解析処理を行うCPUおよび周辺論理回路および記
憶画像をモニタTV8に出力するためのD/A変換器お
よび外部機器(XーYテーブル4等)と通信を行うため
のI/O、図表、メニュー等をモニタTV8にスーパー
インポーズする信号重畳部等から構成されている。画像
処理装置7には、モニタTVおよびトラックボール9が
接続されており、トラックボール9がオペレータにより
操作されることによってモニタTV8の画面上において
対話処理が行なわれ、モニタTV8の画面上に対話処理
の結果が表示される。
As shown in the figure, on the XY table 4, a substrate 1 (printed wiring board or the like) to be inspected for defects is provided.
Are mounted so that the substrate 1 can be arbitrarily moved in the XY two-dimensional plane. A pattern 2 having a predetermined shape is formed on the surface 1a of the substrate 1, and the substrate surface 1a is composed of the pattern 2 and the background 3 excluding the pattern 2. The CCD camera 5 is for enlarging and imaging the substrate surface 1a through the microscope 6, and the pattern 2 on the substrate surface 1a is used as a dark image, that is, each pixel of the pattern 2 has a low gradation level of brightness. To be caught. Further, the camera 5 uses the portion of the substrate surface 1a corresponding to the background 3 as a bright image, that is, the background 3
Each of the pixels is captured as a pixel having a high brightness gradation level. The image signal is output to the image processing device 7. Although not shown, the image processing device 7 includes an A / D converter that digitizes an image signal, a frame memory that stores the digitized image, a CPU that performs analysis processing of the stored image, a peripheral logic circuit, and a memory. A D / A converter for outputting images to the monitor TV8 and a signal superimposing unit for superimposing I / O, charts, menus, etc. on the monitor TV8 for communicating with external devices (such as the XY table 4). Etc. A monitor TV and a trackball 9 are connected to the image processing device 7. An interactive process is performed on the screen of the monitor TV8 by operating the trackball 9 by an operator, and an interactive process is performed on the screen of the monitor TV8. The result of is displayed.

【0012】なお、かかる構成において基板1が小さ
く、一度に表面1a全体の撮像画像を取得することがで
きるような場合にはXーYテーブル4におけるX−Y移
動機構を省略するような実施も可能である。また、基板
表面1aを拡大する必要のない基板1にあっては顕微鏡
6をが省略するようにしてもよい。
In such a structure, when the substrate 1 is small and the captured image of the entire surface 1a can be obtained at one time, the XY moving mechanism in the XY table 4 may be omitted. It is possible. Further, the microscope 6 may be omitted in the substrate 1 in which the substrate surface 1a does not need to be enlarged.

【0013】図2はモニタTV8の画面上に表示された
基板表面1aの撮像画像を例示する。同図に示すよう
に、パターン2が黒い色彩の暗画像として、背景3が白
い色彩の明画像として表示される。なお、パターン2と
背景3とはコントラストよく撮像できればよく、照明の
当て方や基板1の材質によっては、パターン2を白い明
画像として、背景3を黒い暗画像として撮像、表示する
ような実施も当然可能である。
FIG. 2 exemplifies a captured image of the substrate surface 1a displayed on the screen of the monitor TV8. As shown in the figure, the pattern 2 is displayed as a dark image of black color, and the background 3 is displayed as a bright image of white color. It is sufficient that the pattern 2 and the background 3 can be imaged with good contrast, and depending on how the illumination is applied and the material of the substrate 1, the pattern 2 may be imaged and displayed as a white bright image and the background 3 as a black dark image. Of course it is possible.

【0014】つぎに、画像処理装置7内の上記CPUに
おいて実行される処理を図5、図6に示すフローチャー
トを参照して説明する。
Next, the processing executed by the CPU in the image processing apparatus 7 will be described with reference to the flowcharts shown in FIGS.

【0015】・前処理(図5)オペレータはまず、基板
1として欠陥のない良品サンプルを選択してこれを撮像
する。この結果、TV8の画面上に撮像画像が表示され
る(ステップ101)。ついでTV8画面上にスーパー
インポーズされた「探査領域設定」メニューがトラック
ボール9を操作することにより選択される(図2参
照)。すると、画面上に図示せぬ長方形の箱型カーソル
が現れる。このカーソルの大きさと位置をトラックボー
ル9を操作して調節することにより、画面上の撮像画像
のうち、所望の検査対象領域が設定される。しかしてカ
ーソルによって囲まれた領域における各画素の明度の度
数分布が図3に示すようヒストグラムとして画面上に表
示される。
Pretreatment (FIG. 5) The operator first selects a defect-free sample as the substrate 1 and images it. As a result, the captured image is displayed on the screen of the TV 8 (step 101). Then, the "search area setting" menu superimposed on the TV 8 screen is selected by operating the trackball 9 (see FIG. 2). Then, a rectangular box cursor (not shown) appears on the screen. By adjusting the size and position of the cursor by operating the trackball 9, a desired inspection target area in the captured image on the screen is set. Then, the frequency distribution of the brightness of each pixel in the area surrounded by the cursor is displayed on the screen as a histogram as shown in FIG.

【0016】図3は、探査領域における各画素の明度M
を横軸、対応する画素数Nを縦軸とする明度度数分布で
ある。同図に示すように明度度数分布は、パターン2に
対応する比較的明度の低い部分に位置される山10と、
背景3に対応する比較的明度の高い部分に位置される山
11とに分離される。ついで、画面上の「背景分離」メ
ニューが選択され(図2参照)、山10と山11とを分
離するための明度のしきい値が決定される。すなわち、
画面上の明度度数分布を目視してトラックボール9を操
作することにより2つの山10、11の中間位置M´を
しきい値として決定する。
FIG. 3 shows the brightness M of each pixel in the search area.
Is a horizontal axis and the corresponding pixel number N is a vertical axis. As shown in the figure, the lightness distribution has a mountain 10 located in a portion having a relatively low lightness corresponding to the pattern 2,
It is separated into a mountain 11 located in a portion having a relatively high brightness corresponding to the background 3. Then, the "background separation" menu on the screen is selected (see FIG. 2), and the threshold value of lightness for separating the mountain 10 and the mountain 11 is determined. That is,
By visually observing the lightness distribution on the screen and operating the trackball 9, an intermediate position M ′ between the two ridges 10 and 11 is determined as a threshold value.

【0017】ここで、しきい値M´は、固定しきい値と
周囲の明るさの変動に追従する相対しきい値の両者を選
択できるようになっている。固定しきい値とは、しきい
値を明度の絶対値として記憶するものである。一方、相
対しきい値とは、明度の絶対値ではなく、山10、11
の面積の何%の位置にしきい値を設けたかを記憶するも
のである。したがって、相対しきい値によれば、撮像画
像が異なり、分布が異なったとしても分布の変化に応じ
たしきい値が設定されることになる。
Here, the threshold value M'can be selected from both a fixed threshold value and a relative threshold value that follows variations in ambient brightness. The fixed threshold is to store the threshold as an absolute value of brightness. On the other hand, the relative threshold is not the absolute value of the brightness but the peaks 10 and 11
It stores the percentage of the area of the threshold value set in the position. Therefore, according to the relative threshold value, even if the captured image is different and the distribution is different, the threshold value is set according to the change of the distribution.

【0018】このようにしてしきい値M´が決定された
ならばこのしきい値M´よりも明度の高い画素が「背景
3に対応する画素」として、しきい値M´よりも明度が
低い画素が「パターン2に対応する画素」としてそれぞ
れ記憶される。後述するようにパターン2の欠陥の検査
を行うときには、上記「背景3に対応する記憶画素」が
マスクされ、また背景3を検査するときには上記「パタ
ーン2に対応する記憶画素」がマスクされる(ステップ
102)。
When the threshold M'is determined in this way, a pixel having a lightness higher than the threshold M'is regarded as a "pixel corresponding to the background 3" and a lightness higher than the threshold M '. The low pixels are respectively stored as “pixels corresponding to pattern 2”. As will be described later, when the defect of the pattern 2 is inspected, the "memory pixel corresponding to the background 3" is masked, and when the background 3 is inspected, the "memory pixel corresponding to the pattern 2" is masked ( Step 102).

【0019】つぎに、「パターン良品範囲」メニューが
選択され(図2参照)、欠陥のないパターン2を示す画
素の明度の上限および下限が決定される。すなわち、図
3に示すようにパターン2として欠陥がなければ、その
山10は下限をM1 および上限をM2 とする所定の明度
範囲内に各画素が分布しており、かかる下限値M1 およ
び上限値M2 がトラックボール9で指定される。したが
って、後述するようパターン2を示す画素につき、この
明度範囲からはみでたものがあれば、その画素部分は欠
陥であると判定される。たとえば、明度範囲の上限値M
2 を超えた明るい画素が混じっていれば、対応する画素
部分はパターン2の「切れ」と判断されるし、逆に明度
範囲の下限値M1 よりも低い暗い画素があれば、対応す
る画素部分は「異物混入」と判定されることになる(ス
テップ103)。
Next, the "non-defective pattern range" menu is selected (see FIG. 2), and the upper and lower limits of the brightness of the pixels showing the pattern 2 having no defect are determined. That is, as shown in FIG. 3, if there is no defect in the pattern 2, each pixel is distributed in the mountain 10 within a predetermined lightness range having a lower limit of M1 and an upper limit of M2. M2 is designated by the trackball 9. Therefore, as will be described later, if there is a pixel that is out of the lightness range for a pixel that shows pattern 2, the pixel portion is determined to be defective. For example, the upper limit value M of the brightness range
If bright pixels exceeding 2 are mixed, the corresponding pixel portion is judged to be “cut” in pattern 2. Conversely, if there is a dark pixel lower than the lower limit M1 of the lightness range, the corresponding pixel portion is detected. Is determined to be "foreign matter mixed" (step 103).

【0020】しかし、背景3を含む撮像領域のすべての
画素についてかかる判定を一義的に行うとすると、背景
3に対応する画素全てが、欠陥であると判定されてしま
う。そこで、予め背景3であるとわかっている画素部分
は、予め判定の対象から除外すべく、パターン2の検査
にあたり背景をマスクする処理がなされる。このマスク
処理においては、マスクすべき画素を、上記ステップ1
02で設定されたしきい値M´よりも高い明度に対応す
る画素としてもよい。しかし、これでは検査基準が厳格
すぎることがある。すなわち、通常はパターン幅はサン
プルによって多少のバラツキを持ち、背景3に対応する
画素のみをそのままマスクにすると、良品サンプルに比
べてパターンが少しでも細るとマスクからはみでた背景
部分が全部欠陥として検出されてしまう。そこで、背景
マスクを所定の画素分少し膨らませる必要があり、適切
な設定がなされる。膨張処理にあたってはいわゆるモフ
ォロジの手法を用いた膨張、収縮フィルタが使われる。
また、背景マスクを何画素分膨張させるかはパターン幅
のバラツキをどこまで許容するかで決定する(ステップ
104)。
However, if this determination is uniquely made for all the pixels in the image pickup area including the background 3, all the pixels corresponding to the background 3 are determined to be defective. Therefore, a pixel portion that is known to be the background 3 in advance is subjected to a process of masking the background when inspecting the pattern 2 in order to exclude it from the determination target in advance. In this masking process, the pixels to be masked are identified by the above step 1.
Pixels corresponding to lightness higher than the threshold value M ′ set in 02 may be used. However, this may lead to too stringent inspection standards. That is, the pattern width usually has some variations depending on the sample, and if only the pixels corresponding to the background 3 are used as a mask, if the pattern becomes thinner than the non-defective sample, the background portion outside the mask is detected as a defect. Will be done. Therefore, it is necessary to slightly inflate the background mask by a predetermined number of pixels, and appropriate settings are made. In the expansion process, an expansion / contraction filter using a so-called morphology method is used.
The number of pixels in the background mask to be expanded is determined by how much variation in the pattern width is allowed (step 104).

【0021】つぎに、上記ステップ103と同様にし
て、図3に示すように欠陥のない背景3を示す明度の範
囲M3 〜M4 が決定される。この結果、この明度範囲の
下限値M3 よりも低い暗い画素部分を「パターンのはみ
出し、ショート」、上限値M4よりも高い明るい画素部
分を「異物混入、ピンホール」の欠陥であると判定する
ことができるようになる(ステップ105)。そしてス
テップ104と同様にして、背景3の欠陥の検査をする
際のパターンのマスクの膨張の設定処理がなされ、少々
のパターン太りがあっても正確な検査がなされるように
される(ステップ106)。
Then, similarly to step 103, the lightness range M3 to M4 indicating the background 3 having no defect is determined as shown in FIG. As a result, it is determined that a dark pixel portion lower than the lower limit value M3 of the brightness range is a "pattern protrusion, short circuit" and a bright pixel portion higher than the upper limit value M4 is a defect of "foreign matter inclusion, pinhole". (Step 105). Then, in the same manner as in step 104, the setting process of the expansion of the mask of the pattern when inspecting the defect of the background 3 is performed, and the accurate inspection is performed even if there is a slight pattern thickening (step 106). ).

【0022】以上のようにして欠陥のない良品サンプル
に基づき検査の基準となるしきい値M´および検査の基
準となる明度範囲M1 〜M2 、M3 〜M4 および膨張設
定がなされたならば、かかる基準を適用したテストが実
行される。すなわち、画面上で「実行テスト」メニュー
が選択され(図2参照)、いくつかのサンプルが実際に
撮像される。そして、図3に示すものと同様な明度度数
分布が得られ、しきい値M´により探索領域の画素が、
パターン2に対応する画素と背景3に対応する画素とに
分離される。パターン2の検査は、しきい値M´以上の
明度を有する画素に加えて上記ステップ104で設定さ
れた画素分だけ膨張された分がマスクされて実行され
る。マスクされた後の残りの画素につき明度範囲M1 〜
M2 内にあるか否かが判断される。この結果、明度範囲
外であると判断された画素が画面上で点滅表示される。
ここで、画素数により制限を付与するようにしてもよ
い。たとえば、明度範囲外であると判断された画素が1
画素であれば、欠陥なしと判定し、2画素以上の互いに
隣接する数画素につき明度範囲外であればはじめて欠陥
ありと判定するように基準を設定することができる。
If the threshold M'as a reference for inspection, the lightness ranges M1 to M2, M3 to M4 as the reference for inspection, and the expansion setting are made on the basis of the non-defective non-defective sample as described above, it is required. Tests that apply the criteria are performed. That is, the “execution test” menu is selected on the screen (see FIG. 2), and some samples are actually imaged. Then, a lightness distribution similar to that shown in FIG. 3 is obtained, and the pixels in the search area are
The pixels corresponding to pattern 2 and the pixels corresponding to background 3 are separated. The inspection of the pattern 2 is executed by masking not only the pixels having the lightness of the threshold value M ′ or more but also the pixel expanded by the pixel set in the above step 104. Lightness range M1 for the remaining pixels after being masked
It is determined whether or not it is within M2. As a result, the pixels determined to be outside the brightness range are displayed blinking on the screen.
Here, the limitation may be given depending on the number of pixels. For example, if the number of pixels determined to be outside the brightness range is 1,
If it is a pixel, it can be determined that there is no defect, and if there are two or more pixels adjacent to each other that are outside the brightness range, it can be determined that there is a defect for the first time.

【0023】同様にしていくつかのサンプルを用いて背
景3の欠陥の判定もなされる(ステップ107)。
Similarly, the defect of the background 3 is determined using some samples (step 107).

【0024】この結果、欠陥の検査が満足できるもので
あれば、ステップ102〜106で設定された検査基準
は適切なものであると判断して(ステップ108の判断
YES)、つぎの自動運転(ステップ109)に移行さ
れるが、欠陥の検査が実状とかけ離れており満足できな
いものであれば、ステップ102〜106で設定された
検査基準は適切ではなかったと判断して(ステップ10
8の判断NO)、検査基準の設定し直しをすべく再びス
テップ102〜108の処理が再度繰り返し実行され
る。こうして適切なしきい値M´等の検査基準が設定さ
れたならば、良品とは限らない基板1の欠陥の検査をす
べく図6に示す自動運転に移行される。
As a result, if the defect inspection is satisfactory, it is judged that the inspection standard set in steps 102 to 106 is appropriate (YES in step 108), and the next automatic operation ( Although the process proceeds to step 109), if the defect inspection is far from the actual condition and is unsatisfactory, it is determined that the inspection standard set in steps 102 to 106 is not appropriate (step 10).
No. 8), the processing of steps 102 to 108 is repeated again to reset the inspection standard. When the appropriate inspection standard such as the threshold value M'is set in this way, the automatic operation shown in FIG. 6 is performed in order to inspect the defect of the substrate 1 which is not always a good product.

【0025】すなわち、画面上の「自動運転」メニュー
が選択され(図2参照)、基板1の表面1aが撮像され
る。この場合、XーYテーブル4により基板1が所定位
置に位置決めされ、表面1aのうち所定の領域が撮像画
像として撮像され、TV8の画面上に表示される。な
お、自動運転では、画像処理装置7における画像処理と
XーYテーブル4の移動機構の制御が同期しながら実行
される(ステップ201)。
That is, the "automatic operation" menu on the screen is selected (see FIG. 2), and the surface 1a of the substrate 1 is imaged. In this case, the substrate 1 is positioned at a predetermined position by the XY table 4, and a predetermined region of the front surface 1a is captured as a captured image and displayed on the screen of the TV 8. In the automatic driving, the image processing in the image processing device 7 and the control of the moving mechanism of the XY table 4 are executed in synchronization with each other (step 201).

【0026】しかして、図3に示すものと同様な明度度
数分布が図4(a)に示すように取得される。ここで、
山12はパターン2を示す山であり、山13は背景3を
示す山である。しきい値M´によって両者が分離され、
しきい値M´以下の明度の画素およびしきい値M´より
も明度の大きい画素がパターン2に対応する画素および
背景3に対応する画素としてそれぞれ記憶される(ステ
ップ202)。ついで、図4(a)においてしきい値M
´以下の明度を有する画素、つまりパターン2に対応す
る画素に対して、上記ステップ106で設定された膨張
画素分だけを加えたものを背景3の検査のためのマスク
(以下「パターンマスク」という)として設定、記憶す
る。
Thus, a lightness distribution similar to that shown in FIG. 3 is obtained as shown in FIG. 4 (a). here,
The mountain 12 is a mountain showing the pattern 2, and the mountain 13 is a mountain showing the background 3. Both are separated by a threshold M ',
Pixels having a brightness equal to or lower than the threshold M ′ and pixels having a brightness higher than the threshold M ′ are stored as a pixel corresponding to the pattern 2 and a pixel corresponding to the background 3 (step 202). Then, in FIG. 4A, the threshold value M
A pixel for inspecting the background 3 (hereinafter referred to as a “pattern mask”) is obtained by adding only the expanded pixels set in the above step 106 to pixels having lightness of ′ or less, that is, pixels corresponding to the pattern 2. ), And store.

【0027】同様に、しきい値M´よりも大きい明度を
有する画素、つまり背景3に対応する画素に対して、上
記ステップ104で設定された膨張画素分だけを加えた
ものをパターン2の検査のためのマスク(以下「背景マ
スク」という)として設定、記憶する(ステップ20
3)。
Similarly, the pattern 2 is inspected by adding only the dilated pixels set in the above step 104 to the pixels having the lightness higher than the threshold M ', that is, the pixels corresponding to the background 3. Set and stored as a mask (hereinafter referred to as "background mask") (step 20).
3).

【0028】つぎに、背景3の欠陥の検査が実行され
る。この場合、撮像画像の全画素のうち、上記ステップ
203で設定、記憶されたパターンマスクの部分が除去
される。そして除去された残りの画素について明度が明
度範囲M3 〜M4 内に入っているか否かが判断される。
Next, the inspection of the defect of the background 3 is executed. In this case, of all the pixels of the captured image, the pattern mask portion set and stored in step 203 is removed. Then, it is determined whether or not the brightness of the remaining removed pixels is within the brightness range M3 to M4.

【0029】この結果、図4(a)の13aに示すよう
に明度範囲の下限値M3 より小さい明度の画素が2画素
以上隣接して存在していると判断されれば、対応する画
素の部分は同図(b)の3aに示すように「パターンは
みだし、あるいはショート」等の欠陥であると判定され
る。また、図4(a)の13bに示すように明度範囲の
上限値M4 よりも大きい明度の画素が2画素以上隣接し
て存在していると判断されれば、対応する画素の部分は
同図(b)の3bに示すように「異物混入、あるいはピ
ンホール」等の欠陥であると判定される(ステップ20
4)。
As a result, if it is judged that two or more pixels having a lightness smaller than the lower limit M3 of the lightness range are present adjacent to each other as shown by 13a in FIG. 4A, the corresponding pixel portion is detected. Is judged to be a defect such as "pattern protruding or short circuit" as shown at 3a in FIG. Further, as shown in 13b of FIG. 4A, if it is determined that two or more pixels having a lightness larger than the upper limit M4 of the lightness range are present adjacent to each other, the corresponding pixel portion is As shown in 3b of (b), it is determined that there is a defect such as "foreign matter inclusion or pinhole" (step 20).
4).

【0030】同様にして、パターン2の欠陥の検査が実
行される。この場合、撮像画像の全画素のうち、上記ス
テップ203で設定、記憶された背景マスクの部分が除
去される。そして除去された残りの画素について明度が
明度範囲M1 〜M2 内に入っているか否かが判断され
る。
In the same manner, the inspection of the defect of pattern 2 is executed. In this case, of all the pixels of the captured image, the background mask portion set and stored in step 203 is removed. Then, it is judged whether or not the brightness of the remaining removed pixels is within the brightness range M1 to M2.

【0031】この結果、図4(a)の12aに示すよう
に明度範囲の下限値M1 より小さい明度の画素が2画素
以上隣接して存在していると判断されれば、対応する画
素の部分は同図(b)の2aに示すように「異物混入」
等の欠陥であると判定される。また、図4(a)の12
bに示すように明度範囲の上限値M2 よりも大きい明度
の画素が2画素以上隣接して存在していると判断されれ
ば、対応する画素の部分は同図(b)の2bに示すよう
に「パターン切れ」等の欠陥であると判定される(ステ
ップ205)。
As a result, if it is judged that two or more pixels having a lightness smaller than the lower limit M1 of the lightness range are present adjacent to each other as shown by 12a in FIG. 4A, the corresponding pixel portion is detected. Indicates that “foreign matter is mixed” as shown in 2a of FIG.
It is determined to be a defect such as. In addition, 12 in FIG.
If it is determined that two or more pixels having a lightness larger than the upper limit value M2 of the lightness range are present adjacent to each other as shown in b, the corresponding pixel portion is as shown in 2b of FIG. Is judged to be a defect such as "pattern break" (step 205).

【0032】以上にように欠陥があると判定された場合
には、対応する画素が画面上で点滅表示等される。これ
によってオペレータは検査結果を認識することができる
(ステップ206)。
When it is determined that there is a defect as described above, the corresponding pixel is blinked and displayed on the screen. This allows the operator to recognize the inspection result (step 206).

【0033】つぎに、検査が終了していない基板表面1
aの他の領域を撮像すべく、X−Yテーブル4が駆動制
御される。この結果、他の領域につき上記ステップ20
1〜207の処理が再び実行され、同様にして基板表面
1aの欠陥の判定がなされる。以下同様の処理が各領域
につき順次実行され、基板表面1aすべてについての検
査を行う。この結果、表面1a全体の欠陥の有無に応じ
て基板1が良品であるか不良品であるかの判定がなされ
る。以下、つぎに検査すべき基板1がテーブル4上の搬
入され、同様な処理が実行される。
Next, the substrate surface 1 which has not been inspected
The XY table 4 is drive-controlled so as to image the other area of a. As a result, the above step 20 is performed for other areas.
The processes 1 to 207 are executed again, and the defects on the substrate surface 1a are similarly determined. Thereafter, similar processing is sequentially performed for each area, and the entire surface 1a of the substrate is inspected. As a result, it is determined whether the substrate 1 is a good product or a defective product according to the presence or absence of defects on the entire surface 1a. Thereafter, the substrate 1 to be inspected next is carried in on the table 4, and the same processing is executed.

【0034】なお、表面1aの各領域ごとに欠陥の検査
結果を出力するのではなくて、基板表面1a全体につき
検査が終了した段階で全体の検査結果を出力するような
実施も可能である。また、処理の迅速を図るべく、所定
領域につき欠陥有りの判定がなされた段階で基板1は不
良品であると判定してしまい、それ以降の検査を省略す
るような実施も可能である。また、検査結果の出力態様
は任意であり、たとえばシリアル通信で画像処理装置7
からホストコンピュータに結果を送出することも可能で
あり、またディジタルのI/Oで周辺のシーケンサやア
クチュエータにデータを送出することも可能である。ま
た場合によっては欠陥の発生した基板1上の箇所に実際
にインクを吹き付けて目印をつけるような実施も可能で
ある。
Instead of outputting the inspection result of defects for each region of the surface 1a, it is also possible to output the entire inspection result when the inspection is completed for the entire substrate surface 1a. Further, in order to speed up the process, it is also possible to implement that the substrate 1 is determined to be a defective product at the stage when it is determined that there is a defect in a predetermined area, and the subsequent inspection is omitted. In addition, the output form of the inspection result is arbitrary, and for example, the image processing device 7 is connected by serial communication.
It is also possible to send the result from the host computer to the host computer, and it is also possible to send the data to the peripheral sequencer and actuator by digital I / O. Depending on the case, it is also possible to actually spray ink on the location of the defect on the substrate 1 to make a mark.

【0035】さて、実施例では、欠陥の有無を画素の明
度が所定範囲内であるか否かに応じて判断するようにし
ているが、隣接画素の明度の差分値(微分値)が所定値
以下であるか否かに応じてこれを判断するようにしても
よい。
In the embodiment, the presence / absence of a defect is determined according to whether or not the brightness of a pixel is within a predetermined range. However, the difference value (differential value) of the brightness of adjacent pixels is a predetermined value. This may be determined depending on whether it is the following.

【0036】すなわち、欠陥のないパターン2にあって
はそのパターン2を示す各画素個々に明度に変動があっ
たとしてもその変動はわずかであり、隣接画素の間で明
度の差分値(微分値)は所定値以下の範囲となってい
る。逆に、パターン2に傷等の欠陥があると、その境界
の隣接画素間の明度の差分値が上記所定値よりも大きく
なる。そこで、かかる所定値をパターン2の欠陥を判断
するための検査基準とすることができる。同様にして背
景3の欠陥を判断する場合も、隣接画素の明度の差分値
が所定値以下であるか否かの判断によって行うことがで
きる。
That is, in the pattern 2 having no defect, even if the brightness of each pixel showing the pattern 2 varies, the fluctuation is slight, and the difference value (differential value) of the brightness between adjacent pixels is small. ) Is in the range of a predetermined value or less. On the contrary, if the pattern 2 has a defect such as a scratch, the difference value of the brightness between the adjacent pixels on the boundary becomes larger than the above-mentioned predetermined value. Therefore, the predetermined value can be used as the inspection standard for determining the defect of the pattern 2. Similarly, the defect of the background 3 can be determined by determining whether or not the difference value of the brightness of the adjacent pixels is less than or equal to a predetermined value.

【0037】具体的には、パターン2の画素が明度範囲
M1 〜M2 内であるか否かを判断する替わりに、パター
ン2の隣接画素の明度差が所定値以下であるか否かを判
断すればよい。また、背景3の画素が明度範囲M3 〜M
4 内であるか否かを判断する替わりに、背景3の隣接画
素の明度差が所定値以下であるか否かを判断すればよ
い。ここで画像の微分処理にあたってはSobelの演
算手法を適用することができる。
Specifically, instead of determining whether or not the pixels of pattern 2 are within the brightness range M1 to M2, it is determined whether or not the difference in brightness of the adjacent pixels of pattern 2 is less than or equal to a predetermined value. Good. Further, the pixels of the background 3 are in the lightness range M3 to M
Instead of determining whether or not the difference is within 4, it may be determined whether or not the difference in brightness between adjacent pixels of the background 3 is less than or equal to a predetermined value. Here, the Sobel calculation method can be applied to the image differential processing.

【0038】なお、実施例では、基板の欠陥を検査する
場合、パターンおよび背景両者の欠陥をそれぞれ検査す
るようにしたが、背景の検査を要しない場合にはパター
ンの欠陥のみを検査する実施も可能である。同様に背景
の欠陥のみを検査するようにしてもよい。
In the embodiment, when the substrate is inspected for defects, both the pattern and the background are inspected. However, when the background inspection is not required, only the pattern defect may be inspected. It is possible. Similarly, only background defects may be inspected.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、所
定の検査基準を設定して検査対象以外の画素を除去して
欠陥の検査を自動的に行うようにしたので、たとえ基板
に微細なパターンが形成されている場合であっても、基
板の欠陥の検査を正確かつ迅速に、しかも低コストで行
うことができるようになる。
As described above, according to the present invention, a predetermined inspection standard is set and pixels other than the inspection target are removed so that the inspection of defects is automatically performed. Even if such a pattern is formed, it becomes possible to accurately and quickly inspect the substrate for defects and at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明に係る基板の欠陥検査装置の実施
例の構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of an embodiment of a substrate defect inspection apparatus according to the present invention.

【図2】図2は図1に示すモニタTVの画面の表示例を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a display example of a screen of the monitor TV shown in FIG.

【図3】図3は欠陥のない基板を撮像した場合の明度と
画素数との関係を示す明度度数分布図である。
FIG. 3 is a luminosity frequency distribution diagram showing a relationship between luminosity and the number of pixels when an image of a substrate having no defect is picked up.

【図4】図4(a)は欠陥のある基板を撮像した場合の
明度と画素数との関係を示す明度度数分布図であり、同
図(b)は基板表面の欠陥を示す図である。
FIG. 4A is a luminosity distribution chart showing the relationship between luminosity and the number of pixels when a defective substrate is imaged, and FIG. 4B is a diagram showing defects on the surface of the substrate. ..

【図5】図5は図1に示す画像処理装置で実行される処
理のうち前処理の手順を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a procedure of preprocessing of the processing executed by the image processing apparatus shown in FIG.

【図6】図6は図1に示す画像処理装置で実行される処
理のうち自動運転時の手順を示す図である。
6 is a diagram showing a procedure at the time of automatic operation among the processes executed by the image processing apparatus shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 パターン 3 背景 5 CCDカメラ 7 画像処理装置 1 substrate 2 pattern 3 background 5 CCD camera 7 image processing device

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記パターンの欠陥を検査するようにした基板の欠陥検
査装置において、 予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定するとともに、前記パターンを示す画素の明度範囲
を決定する基準設定手段と、 検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以上の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の明度が前記明度範囲外にあることを判
断する判断手段とを具え、前記判断手段によって前記明
度範囲外にあると判断された画素を前記パターンの欠陥
部分であると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
1. An image of a surface of a substrate on which a pattern of a predetermined shape is formed is captured to capture the pattern of the substrate surface as a dark image and the background excluding the pattern as a bright image. In a substrate defect inspection device configured to inspect a defect in the pattern based on an image, a predetermined lightness that separates all pixels of a captured image of the substrate surface into pixels indicating the pattern and pixels indicating the background is set in advance. Reference setting means for determining the brightness range of the pixels showing the pattern, and removing the pixels having the brightness of the predetermined brightness or more from the image obtained by imaging the surface of the substrate to be inspected, A determination unit that determines that the brightness of the remaining pixels that have been removed is outside the brightness range. Defect inspection apparatus of the substrate so as to determine that the defective portion of the pattern.
【請求項2】 前記基準設定手段は、欠陥のない基
板表面を撮像して得られた画像の全画素について明度の
度数分布を求め、該明度度数分布に基づいて撮像画像の
全画素を前記パターンを示す画素と前記背景を示す画素
とに分離する所定の明度を決定するとともに、前記明度
度数分布に基づいて前記パターンを示す画素の明度範囲
を決定するものである請求項1記載の基板の欠陥検査装
置。
2. The reference setting means obtains a lightness frequency distribution for all pixels of an image obtained by imaging a surface of a substrate having no defect, and based on the lightness frequency distribution, all pixels of the captured image are subjected to the pattern. 2. The defect of the substrate according to claim 1, wherein a predetermined lightness for separating the pixel indicating the pixel and the pixel indicating the background is determined, and the lightness range of the pixel indicating the pattern is determined based on the lightness frequency distribution. Inspection equipment.
【請求項3】 所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記背景の欠陥を検査するようにした基板の欠陥検査装
置において、 予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定するとともに、前記背景を示す画素の明度範囲を決
定する基準設定手段と、 検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以下の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の明度が前記明度範囲外にあることを判
断する判断手段とを具え、前記判断手段によって前記明
度範囲外にあると判断された画素を前記背景の欠陥部分
であると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
3. An image of a surface of a substrate on which a pattern of a predetermined shape is formed is imaged to capture the pattern of the substrate surface as a dark image and the background excluding the pattern as a bright image. In a substrate defect inspection device configured to inspect the background for defects based on an image, a predetermined brightness that separates all pixels of a captured image of the substrate surface into pixels indicating the pattern and pixels indicating the background is set in advance. Along with the determination, the reference setting means for determining the brightness range of the pixel indicating the background, and removing the pixels having the brightness less than or equal to the predetermined brightness from the image obtained by imaging the surface of the substrate to be inspected, A pixel which is judged to be outside the lightness range by the judgment means. Defect inspection apparatus of the substrate so as to determine that the defective portion of the scene.
【請求項4】 前記基準設定手段は、欠陥のない基
板表面を撮像して得られた画像の全画素について明度の
度数分布を求め、該明度度数分布に基づいて撮像画像の
全画素を前記パターンを示す画素と前記背景を示す画素
とに分離する所定の明度を決定するとともに、前記明度
度数分布に基づいて前記背景を示す画素の明度範囲を決
定するものである請求項3記載の基板の欠陥検査装置。
4. The reference setting means obtains a frequency distribution of lightness for all pixels of an image obtained by imaging the surface of a substrate having no defect, and based on the lightness frequency distribution, all pixels of the captured image are subjected to the pattern. 4. The defect of the substrate according to claim 3, wherein a predetermined lightness for separating the pixel indicating the background and the pixel indicating the background is determined, and the lightness range of the pixel indicating the background is determined based on the lightness frequency distribution. Inspection equipment.
【請求項5】 所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記パターンの欠陥を検査するようにした基板の欠陥検
査装置において、 予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定する基準設定手段と、 検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以上の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の各隣接画素の明度差をそれぞれ求め、
該求められた明度差が所定値以上にあることを判断する
判断手段とを具え、前記判断手段によって前記所定値以
上にあると判断された画素を前記パターンの欠陥部分で
あると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
5. An image of a surface of a substrate on which a pattern of a predetermined shape is formed is captured to capture the pattern of the substrate surface as a dark image and the background excluding the pattern as a bright image. In a substrate defect inspection device configured to inspect a defect in the pattern based on an image, a predetermined lightness that separates all pixels of a captured image of the substrate surface into pixels indicating the pattern and pixels indicating the background is set in advance. Reference setting means for determining, and removing from the image obtained by imaging the surface of the substrate to be inspected, the pixels having the brightness of the predetermined brightness or higher, and the brightness of each adjacent pixel of the removed remaining pixels. Find each difference,
A determination unit that determines that the obtained brightness difference is equal to or greater than a predetermined value, and a pixel that is determined to be greater than or equal to the predetermined value by the determination unit is determined to be a defective portion of the pattern. Defect inspection system for printed circuit boards.
【請求項6】 所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記背景の欠陥を検査するようにした基板の欠陥検査装
置において、 予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定する基準設定手段と、 検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以下の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の各隣接画素の明度差をそれぞれ求め、
該求められた明度差が所定値以上にあることを判断する
判断手段とを具え、前記判断手段によって前記所定値以
上にあると判断された画素を前記背景の欠陥部分である
と判定するようにした基板の欠陥検査装置。
6. An image of a surface of a substrate on which a pattern of a predetermined shape is formed is imaged to capture the pattern of the substrate surface as a dark image and the background excluding the pattern as a bright image. In a substrate defect inspection device configured to inspect the background for defects based on an image, a predetermined brightness that separates all pixels of a captured image of the substrate surface into pixels indicating the pattern and pixels indicating the background is set in advance. Reference setting means for determining, and removing from the image obtained by imaging the surface of the substrate to be inspected, the pixels having a brightness less than or equal to the predetermined brightness, and the brightness of each adjacent pixel of the remaining remaining pixels. Find each difference,
A determination unit that determines whether the obtained brightness difference is equal to or greater than a predetermined value, and determines that a pixel determined by the determination unit to be equal to or greater than the predetermined value is a defective portion of the background. Defect inspection system for printed circuit boards.
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