JPH0525251Y2 - - Google Patents

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JPH0525251Y2
JPH0525251Y2 JP14941186U JP14941186U JPH0525251Y2 JP H0525251 Y2 JPH0525251 Y2 JP H0525251Y2 JP 14941186 U JP14941186 U JP 14941186U JP 14941186 U JP14941186 U JP 14941186U JP H0525251 Y2 JPH0525251 Y2 JP H0525251Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、薄膜トランジスタアレイに関する
ものであり、例えば、各種のプリンタ、密着型イ
メージセンサ、液晶表示装置等各種の用途におい
て、ドライバー、あるいはスイツチング回路など
として広く利用できるものである。
[Detailed description of the invention] [Industrial application field] This invention relates to thin film transistor arrays, and is used as a driver or switching circuit in various applications such as various printers, contact image sensors, and liquid crystal display devices. It can be widely used as such.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、薄膜トランジスタTFTとしては、多結
晶シリコンTFT、アモルフアスシリコンTFT、
CdSeTFTなどが知られていた。そして、アモル
フアスシリコンTFTのように、半導体活性層と
してアモルフアスシリコン等のアモルフアス半導
体を用いた薄膜トランジスタは、低温プロセスで
大形の薄膜トランジスタアレイを容易に製造でき
る等の理由で各種のプリンタ、密着型イメージセ
ンサ、液晶表示装置等におけるドライバーやスイ
ツチング回路用のデバイスなどとして注目されて
いるものである。
Conventionally, thin film transistor TFTs include polycrystalline silicon TFTs, amorphous silicon TFTs,
CdSeTFT etc. were known. Thin film transistors that use amorphous semiconductors such as amorphous silicon as the semiconductor active layer, such as amorphous silicon TFTs, are widely used in various types of printers, contact type It is attracting attention as a device for drivers and switching circuits in image sensors, liquid crystal display devices, etc.

このような薄膜トランジスタを多数配置した薄
膜トランジスタアレイとしては、例えば第2図及
び第3図に示したようなものが知られていた。第
2図は薄膜トランジスタアレイの等価回路図を示
したものであり、Trn1〜Trnoは薄膜トランジス
タであつて、n個(n≧1)の薄膜トランジスタ
によつて1つの薄膜トランジスタブロツクBn
構成している。そして、各薄膜トランジスタ
Trn1〜Trnoのソース電極は、ソースラインS1
Soに接続され、ドレイン電極はドレインライン
Dn1〜Dnoにそれぞれ接続されている。また、ゲ
ート電極は、ブロツク内の全てのトランジスタに
共通のゲートラインGnに接続されている。そし
て、上記のようなn個の薄膜トランジスタから成
る薄膜トランジスタブロツクをBn,Bn+1,Bn+2
…(Bn+2…は図示なし)のように複数設けて薄
膜トランジスタアレイを構成するものである。
As a thin film transistor array in which a large number of such thin film transistors are arranged, for example, those shown in FIGS. 2 and 3 have been known. Figure 2 shows an equivalent circuit diagram of a thin film transistor array, where T rn1 to T rno are thin film transistors, and one thin film transistor block B n is composed of n thin film transistors (n≧1). There is. And each thin film transistor
The source electrodes of T rn1 ~ T rno are connected to the source lines S 1 ~
connected to S o , and the drain electrode is connected to the drain line
Connected to D n1 to D no , respectively. The gate electrode is also connected to a gate line G n common to all transistors in the block. Then, a thin film transistor block consisting of n thin film transistors as described above is defined as B n , B n+1 , B n+2
... (B n+2 ... is not shown), a plurality of them are provided to constitute a thin film transistor array.

このような薄膜トランジスタアレイを使用する
場合には、例えば、ソースラインS1〜Soを信号入
力端子、ドレインラインDn1〜Dnoを出力端子と
し、かつゲートラインGnを制御信号入力端子と
するものである。今、制御信号入力端子Gn
Gn+1,Gn+2…のうち、Gnにだけ制御信号が印加
されると、ブロツクBn内の全ての薄膜トランジ
スタTrn1〜Trnoがオン状態となるため、信号入
力端子S1〜Soに印加された信号はそのまま出力端
子Dn1〜Dnoに出力され負荷へ信号を供給する。
この時、制御信号入力端子Gn+1,Gn+2には信号
が印加されていないから、ブロツクBn+1,Bn+2
の全ての薄膜トランジスタはオフ状態となつてい
るため、信号入力端子S1〜Soに印加された信号は
ブロツクBnの出力端子にだけ出力され、他のブ
ロツクBn+1,Bn+2…の出力端子には出力されな
いものである。
When using such a thin film transistor array, for example, the source lines S 1 to S o are used as signal input terminals, the drain lines D n1 to D no are used as output terminals, and the gate line G n is used as a control signal input terminal. It is something. Now, the control signal input terminal G n ,
When a control signal is applied to only G n of G n +1 , G n+ 2 . The signals applied to ~S o are output as they are to output terminals D n1 ~D no to supply signals to the load.
At this time, since no signals are applied to the control signal input terminals G n+1 and G n+2 , the blocks B n+1 and B n+2
Since all the thin film transistors in the block are in the off state, the signals applied to the signal input terminals S 1 to S o are output only to the output terminal of the block B n , and the signals applied to the signal input terminals S 1 to S o are output only to the output terminal of the block B n and the signals applied to the signal input terminals S 1 to S o are output to the output terminals of the block B n and other blocks B n+1 and B n+2. It is not output to the output terminal of ....

また、制御信号入力端子GnとGn+1に信号が印
加され、他の端子Gn+2,Gn+3…には信号が印加
されない時は、ブロツクBnの出力端子Dn1〜Dno
とブロツクBn+1の出力端子D(n+1)1〜D(n+1)oにの
み信号入力端子S1〜Soからの信号が出力され、他
のブロツクBn+2,Bn+3…の出力端子には信号が
出力されない。
Also, when a signal is applied to the control signal input terminals G n and G n+1 and no signals are applied to the other terminals G n+2 , G n+3 ..., the output terminals D n1 to D n of block B n are applied. D no
The signals from the signal input terminals S 1 to S o are output only to the output terminals D (n+ 1 )1 to D (n+1) o of block B n+1, and the signals from the other blocks B n+2 and B No signal is output to the output terminal of n+3 ....

このように、制御信号入力端子Gn,Gn+1
Gn+2…へ印加する信号を制御すれば、信号入力
端子S1〜Soに印加された入力信号を、任意の薄膜
トランジスタブロツクの出力端子へ出力させ、そ
の出力端子に接続された負荷へ信号を供給できる
ものである。(なお、図面ではブロツクBn+2
Bn+3…は省略してある。) 第3図は、第2図の等価回路で示される従来の
薄膜トランジスタアレイの配線パターンを平面図
として示したものであり、第2図と同符号は同一
のものをあらわす。なお、第3図においても薄膜
トランジスタブロツクはBnとBn+1のみを図示し
てあり、他のブロツクは図示していないが、実際
には多数の薄膜トランジスタブロツクBn,Bn+1
Bn+2,Bn+3…によつて薄膜トランジスタアレイ
を構成しているものである。
In this way, the control signal input terminals G n , G n+1 ,
By controlling the signal applied to G n+2 ..., the input signal applied to the signal input terminals S 1 to S o can be output to the output terminal of any thin film transistor block, and the load connected to that output terminal can be output. It is capable of supplying signals. (In the drawing, block B n+2 ,
B n+3 ... is omitted. ) FIG. 3 is a plan view showing the wiring pattern of the conventional thin film transistor array shown in the equivalent circuit of FIG. 2, and the same reference numerals as in FIG. 2 represent the same parts. In addition, in FIG. 3, only the thin film transistor blocks B n and B n+1 are shown, and other blocks are not shown, but in reality, there are many thin film transistor blocks B n , B n+1 ,
B n+2 , B n+3 . . . constitute a thin film transistor array.

このような薄膜トランジスタアレイの配線パタ
ーンとしては、実装密度を高めるために、図示の
ような斜め方向にずらした配置とするものであ
る。すなわち、薄膜トランジスタブロツクBn
ついては、該ブロツクBn内の薄膜トランジスタ
Trn1〜Trnoを、図面ではTrn1を最も左上とし、
Trn1の右下にTrn2,Trn2の右下にTrn3…以下同
様にしてTrnoを最も右下に配置するものである。
このような配線パターンを有する薄膜トランジス
タブロツクBnと同じ配線パターンを有する複数
の薄膜トランジスタブロツクBn+1,Bn+2,Bn+3
…を順次絶縁基板上に配列(ブロツクBn+2
Bn+3…は図示してない)して薄膜トランジスタ
アレイを構成するものである。このような構成の
薄膜トランジスタアレイにおいては、薄膜トラン
ジスタブロツク間の境界領域にあつて、隣接して
いる2つの薄膜トランジスタ間のドレインライン
とソースラインとがその一部において並走してい
る。例えば、薄膜トランジスタブロツクBn
Bn+1においては、薄膜トランジスタTrno
Tr(n+1)1とがブロツクの境界領域において隣接し
ており、そのドレインラインDnoとソースライン
S1の一部が並走している。
In order to increase the packaging density, the wiring pattern of such a thin film transistor array is arranged diagonally as shown in the figure. That is, for the thin film transistor block B n , the thin film transistors in the block B n
T rn1 ~ T rno , with T rn1 at the top left in the drawing,
T rn2 is placed at the bottom right of T rn1 , T rn3 is placed at the bottom right of T rn2 , and so on.Trno is placed at the bottom right in the same manner.
A thin film transistor block B n having such a wiring pattern and a plurality of thin film transistor blocks B n+1 , B n+2 , B n+3 having the same wiring pattern
... are sequentially arranged on an insulating substrate (block B n+2 ,
B n+3 . . . is not shown) to constitute a thin film transistor array. In a thin film transistor array having such a configuration, in a boundary region between thin film transistor blocks, a drain line and a source line between two adjacent thin film transistors partially run parallel to each other. For example, thin film transistor block B n and
In B n+1 , the thin film transistor T rno and
T r(n+1)1 is adjacent to the block boundary area, and its drain line D no and source line
Part of S 1 runs parallel.

〔考案が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention attempts to solve]

上記のような従来の薄膜トランジスタアレイに
おいては、次のような問題点があつた。その1つ
は、薄膜トランジスタブロツク間の境界領域にお
いて隣接している2つの薄膜トランジスタにそれ
ぞれ接続されているドレインラインとソースライ
ンの並走部分において線間短絡があると、出力さ
れてはならない信号が出力端子に出て負荷に供給
されるようなことが起り得る。例えば、薄膜トラ
ンジスタブロツクBnBn+1間においては、薄膜ト
ランジスタTrnoに接続されたドレインラインDno
と、薄膜トランジスタTr(n+1)1に接続されたソー
スラインS1の一部において並走部分があるため、
この並走部分において線間短絡があると常にソー
スラインS1とドレインラインDnoとが短絡されて
いるから、薄膜トランジスタTrno,Tr(n+1)1の動
作に関係なくソースラインS1に入力された信号が
ドレインラインDnoに出力されてしまい負荷の誤
動作等悪影響があつた。このため、上記のような
線間短絡があるかどうかを検査しなければなら
ず、製造工数が多くなる欠点があつた。
The conventional thin film transistor array described above has the following problems. One of them is that if there is a line-to-line short circuit in the parallel portion of the drain line and source line that are connected to two adjacent thin film transistors in the boundary area between thin film transistor blocks, a signal that should not be output is output. It may happen that it goes out to the terminal and is supplied to the load. For example, between the thin film transistor blocks B n B n+1 , the drain line D no connected to the thin film transistor T rno
And, since there is a part of the source line S1 connected to the thin film transistor T r(n+1)1 that runs parallel to it,
If there is a short circuit between the lines in this parallel portion, the source line S 1 and the drain line D no are always shorted, so the source line S 1 is always shorted regardless of the operation of the thin film transistors T rno and T r(n+1)1. The signal input to the drain line was output to the drain line D no , causing negative effects such as load malfunction. Therefore, it is necessary to inspect whether or not there is a short circuit between the lines as described above, which has the disadvantage of increasing the number of manufacturing steps.

また、上記のような並走部分があると、線間に
おける漂遊容量があり、並走部分の距離が長いと
その影響が無視できなくなる。例えば、上記のよ
うなドレインラインDnoとソースラインS1との並
走部分が長いと、並走部分における線間容量が大
きくなり、ドレインラインDnoとソースラインS1
とが線間の漂遊容量を介して接続された状態とな
るから、ドレインラインに接続された負荷が高イ
ンピーダンス負荷である場合には、上記線間短絡
の場合と類似した悪影響があるなど多くの欠点が
あつた。
Furthermore, when there is a parallel running portion as described above, there is a stray capacitance between the lines, and if the distance of the parallel running portion is long, the influence of this cannot be ignored. For example, if the parallel running portion between the drain line D no and the source line S 1 as described above is long, the line-to-line capacitance in the parallel running portion becomes large, and the drain line D no and the source line S 1
If the load connected to the drain line is a high-impedance load, there will be many negative effects similar to those of the line-to-line short circuit described above. There were flaws.

この考案は、上記のような従来の欠点を改善す
るためになされたものであり、薄膜トランジスタ
ブロツク間の境界領域にあつて隣接している2つ
の薄膜トランジスタに接続されたドレインライン
とソースライン間の短絡検査を不要として製造工
数を減少し、また、ドレインラインとソースライ
ン間の漂遊容量をなくしてクロストークを減少さ
せると共に、薄膜トランジスタアレイの信頼性を
向上させることを目的とするものである。
This idea was made to improve the above-mentioned conventional drawbacks, and it prevents short circuits between the drain line and source line connected to two adjacent thin film transistors in the boundary area between thin film transistor blocks. The purpose is to reduce the number of manufacturing steps by eliminating the need for inspection, reduce crosstalk by eliminating stray capacitance between drain lines and source lines, and improve the reliability of thin film transistor arrays.

〔問題点を解決するための手段及び作用〕[Means and actions for solving problems]

上記の目的を達成するため、この考案は、薄膜
トランジスタブロツク間の境界領域にあつて隣接
する2つの薄膜トランジスタに接続されたドレイ
ンラインとソースラインとが互いに並走しないよ
うな配線パターンとすることによつて、ドレイン
ラインとソースライン間の線間短絡をなくすと共
に、前記線間における線間の漂遊容量をもなくし
たものである。
In order to achieve the above object, this invention uses a wiring pattern in which the drain line and source line connected to two adjacent thin film transistors in the boundary area between thin film transistor blocks do not run parallel to each other. Thus, line-to-line short circuits between the drain line and source line are eliminated, as well as line-to-line stray capacitance between the lines.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この考案の実施例について、図面を参照
しながら説明する。第1図はこの考案の1実施例
を示す図であり、絶縁基板上に形成された薄膜ト
ランジスタアレイの配線パターンを平面図として
示したものである。なお、第1図において、第2
図、第3図に示した従来例と同符号のものは同一
のものをあらわす。
Examples of this invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of this invention, and is a plan view showing a wiring pattern of a thin film transistor array formed on an insulating substrate. In addition, in Figure 1, the second
Components with the same reference numerals as those in the conventional example shown in FIG. 3 represent the same components.

第1図において、薄膜トランジスタブロツク
Bnはn個(n≧1)の薄膜トランジスタTrn1
Trnoから成り、これらn個の薄膜トランジスタ
は、図面の左上から右下へ向けて絶縁基板上に斜
めに配列する。すなわち、薄膜トランジスタ
Trn1は最も左上部に配置し、その右下にはTrn2
さらにTrn2の右下にはTrn3…以下同様にして配
列し、Trnoは最も右下部に配列する。次に、薄
膜トランジスタブロツクBnと隣接して配置され
る薄膜トランジスタブロツクBn+1もn個の薄膜
トランジスタTr(n+1)1〜Tr(n+1)oから構成される
が、その配列は、図面の左下から右下へ向けて斜
めに配列する。すなわち、前記薄膜トランジスタ
Trnoと隣接する薄膜トランジスタTr(n+1)1図面の
最も右下部に配置し、その右上にはTr(n+1)2
Tr(n+1)2の右上にはTr(n+1)3、…以下同様にして
Tr(n+1)oは最も右上部に配列する。さらに、薄膜
トランジスタブロツクBn+1と隣接して配置され
る薄膜トランジスタブロツクBn+2もn個の薄膜
トランジスタTr(n+2)1〜Tr(n+2)oから構成されるが
(このブロツクBn+2は一部のみを図示してある)
その配列は前記薄膜トランジスタブロツクBn
同じである。このようにして、薄膜トランジスタ
の配列を図面の左上部から右下部へ向けて斜め方
向に配列したブロツクと右下部から右上部へ向け
て配列したブロツクとを複数交互に隣接して配置
するものである。(なお、図面では薄膜トランジ
スタブロツクの一部のみを図示してあるが、実際
には、Bn+3,Bn+4…のように多数のブロツクが
ある。また、上記の薄膜トランジスタアレイは従
来例と同様に、絶縁基板上に形成されるものであ
るが、説明は省略してある。) このように薄膜トランジスタを配列すると、薄
膜トランジスタブロツクの境界領域において隣接
する2つの薄膜トランジスタ(例えば、Trno
Tr(n+1)1)及びこれら2つの薄膜トランジスタに
それぞれ接続されたドレインラインとソースライ
ンとがすべて前記薄膜トランジスタブロツク間の
仮想境界領域に対して線対称となるように配線パ
ターンが形成される。したがつて、前記隣接する
2つの薄膜トランジスタにそれぞれ接続されるド
レインラインとソースラインとは、いかなる場所
でも並走しないように配線パターンが形成される
ものである。例えば、薄膜トランジスタTrno
接続されたドレインラインDnoと薄膜トランジス
タTr(n+1)1に接続されたソースラインS1、および
薄膜トランジスタTrnoに接続されたソースライ
ンSoと薄膜トランジスタTr(n+1)1に接続されたド
レインラインD(n+1)1とは、いかなる場所において
も並走しないようになつている。また、薄膜トラ
ンジスタTr(n+1)oとTr(n+2)1との関係についても前
記と同じである。
In Figure 1, the thin film transistor block
B n is n thin film transistors T rn1 ~ (n≧1)
These n thin film transistors are diagonally arranged on an insulating substrate from the top left to the bottom right of the drawing. That is, thin film transistor
T rn1 is placed at the top left, and T rn2 is placed at the bottom right of it.
Further, at the lower right of T rn2 , T rn3 is arranged in the same manner, and T rno is arranged at the lower rightmost position. Next, thin film transistor block B n +1 placed adjacent to thin film transistor block B n is also composed of n thin film transistors T r(n+1)1 to T r(n+1)o. are arranged diagonally from the bottom left to the bottom right of the drawing. That is, the thin film transistor
Thin film transistor T r(n+1)1 adjacent to T rno is placed at the bottom right of the drawing, and T r(n+1)2 ,
The upper right corner of T r(n+1)2 is T r(n+1)3 , and so on.
T r(n+1)o is arranged at the upper rightmost position. Furthermore, the thin film transistor block B n+2 arranged adjacent to the thin film transistor block B n+1 is also composed of n thin film transistors T r(n+2)1 to T r(n+2)o (this Block B n+2 is only partially shown)
Its arrangement is the same as that of the thin film transistor block Bn . In this way, a plurality of blocks in which thin film transistors are arrayed diagonally from the upper left to the lower right of the drawing and blocks arrayed from the lower right to the upper right are alternately arranged adjacent to each other. . (Although only a part of the thin film transistor block is shown in the drawing, in reality, there are many blocks such as B n+3 , B n+4 , etc.) Furthermore, the above thin film transistor array is a conventional thin film transistor array. (The explanation is omitted.) When thin film transistors are arranged in this way, two adjacent thin film transistors (for example, T rno and T rno
A wiring pattern is formed so that the drain lines and source lines connected to T r(n+1)1 ) and these two thin film transistors are all axisymmetric with respect to the virtual boundary area between the thin film transistor blocks. . Therefore, the wiring pattern is formed so that the drain line and source line connected to the two adjacent thin film transistors do not run parallel to each other anywhere. For example, the drain line D no connected to the thin film transistor T rno and the source line S 1 connected to the thin film transistor T r(n+1)1 , and the source line S o connected to the thin film transistor T rno and the thin film transistor T r(n The drain line D (n+1)1 connected to +1 )1 is designed not to run parallel to it anywhere. Further, the relationship between thin film transistors T r(n+1)o and T r(n+2)1 is also the same as above.

〔考案の効果〕[Effect of the invention]

以上、実施例について説明したように、この考
案は、薄膜トランジスタを構成する薄膜トランジ
スタブロツクの境界領域において隣接する2つの
薄膜トランジスタの配線パターンを、前記2つの
薄膜トランジスタにそれぞれ接続されるドレイン
ラインとソースラインとが、いかなる場所におい
ても並走しないようにしたものである。
As described above in the embodiments, this invention allows wiring patterns of two adjacent thin film transistors in the boundary region of thin film transistor blocks constituting a thin film transistor to be connected to drain lines and source lines connected to the two thin film transistors, respectively. , so that they do not run side by side at any location.

したがつて、上記のドレインラインとソースラ
イン間における短絡検査は不要(上記のように並
走部分がないので線間短絡は起らない)であり、
また上記線間の漂遊容量と絶縁性の劣化は、実質
的になくなるため、これらに基づくクロストーク
の問題は起らず、信頼性が向上するなど多くの効
果がある。
Therefore, there is no need to test for short circuits between the drain line and source line as described above (as there is no parallel running part as described above, short circuits between lines will not occur).
Furthermore, since the stray capacitance between the lines and the deterioration of the insulation properties are substantially eliminated, the problem of crosstalk based on these does not occur, and there are many effects such as improved reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの考案の1実施例を示す薄膜トラン
ジスタアレイの平面図、第2図は従来の薄膜トラ
ンジスタアレイの等価回路図、第3図は従来の薄
膜トランジスタアレイの平面図である。 B,Bn,Bn+1,Bn+2…,……薄膜トランジス
タブロツク、Tr,Trn1…,Tr(n+1)1…,……薄膜
トランジスタ、D,Dn1…,D(n+1)1…,……ドレ
インライン、S,S1,S2…So……ソースライン、
G,Gn,Gn+1…,……ゲートライン。
FIG. 1 is a plan view of a thin film transistor array showing one embodiment of this invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of a conventional thin film transistor array, and FIG. 3 is a plan view of a conventional thin film transistor array. B, B n , B n+1 , B n+2 ..., ... thin film transistor block, Tr, T rn1 ..., T r(n+1)1 ..., ... thin film transistor, D, D n1 ..., D (n +1)1 ..., ...drain line, S, S 1 , S 2 ...S o ...source line,
G, G n , G n+1 ..., ... gate line.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] n個(n≧1)の薄膜トランジスタと、それぞ
れの薄膜トランジスタに接続されたドレインライ
ンとソースラインとにより薄膜トランジスタブロ
ツクを構成し、この薄膜トランジスタブロツクを
複数ブロツク絶縁基板上に配列した薄膜トランジ
スタアレイにおいて、前記薄膜トランジスタブロ
ツク間の境界領域にあつて、隣接して配置された
2つの薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタ
にそれぞれ接続されたドレインライン及びソース
ラインを、すべて前記薄膜トランジスタブロツク
間の仮想境界線に対して線対称となるように配線
パターンを形成することにより、前記ドレインラ
インとソースラインとがいかなる場所においても
並走しないようにしたことを特徴とする薄膜トラ
ンジスタアレイ。
In a thin film transistor array in which a thin film transistor block is constituted by n (n≧1) thin film transistors and a drain line and a source line connected to each thin film transistor, and a plurality of these thin film transistor blocks are arranged on an insulating substrate, the thin film transistor block is In the boundary area between the thin film transistor blocks, two thin film transistors arranged adjacent to each other, and drain lines and source lines respectively connected to the thin film transistors, are line-symmetrically arranged with respect to the virtual boundary line between the thin film transistor blocks. A thin film transistor array characterized in that the drain line and the source line do not run parallel to each other anywhere by forming a wiring pattern on the thin film transistor array.
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