JPH05249523A - 光学的に非線形な媒体中に周波数倍加構造を作る方法 - Google Patents
光学的に非線形な媒体中に周波数倍加構造を作る方法Info
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- JPH05249523A JPH05249523A JP4353881A JP35388192A JPH05249523A JP H05249523 A JPH05249523 A JP H05249523A JP 4353881 A JP4353881 A JP 4353881A JP 35388192 A JP35388192 A JP 35388192A JP H05249523 A JPH05249523 A JP H05249523A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
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- G02F1/377—Non-linear optics for second-harmonic generation in an optical waveguide structure
- G02F1/3775—Non-linear optics for second-harmonic generation in an optical waveguide structure with a periodic structure, e.g. domain inversion, for quasi-phase-matching [QPM]
-
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 交互にポーリングされた周波数倍加構造を比
較的簡単な方法でNLOポリマー中に導入できる方法の
提供。 【構成】 光学的に非線形なポリマー物質中に周波数倍
加構造を作る方法であって、交互するポーリングが光学
的に非線形な物質中で行われる方法において;NLOポ
リマー層を形成する工程;NLOポリマーのポーリング
を行うために、NLOポリマー層を電場に暴露する工
程;NLOポリマー層を、エッチングされた溝と出っ張
ったポリマー部分とから成る格子構造(エッチングされ
た溝の幅は該ポリマー部分のそれに適合している)が形
成されるように、エッチングする工程;格子構造を持つ
ポリマー層を少なくとも二つの切片へと分割する工程;
二つの切片を、一方を他方の上に、一方の切片の溝が他
方の切片の突き出たポリマー部分によって埋め戻される
ように据える工程を含むことを特徴とする方法。
較的簡単な方法でNLOポリマー中に導入できる方法の
提供。 【構成】 光学的に非線形なポリマー物質中に周波数倍
加構造を作る方法であって、交互するポーリングが光学
的に非線形な物質中で行われる方法において;NLOポ
リマー層を形成する工程;NLOポリマーのポーリング
を行うために、NLOポリマー層を電場に暴露する工
程;NLOポリマー層を、エッチングされた溝と出っ張
ったポリマー部分とから成る格子構造(エッチングされ
た溝の幅は該ポリマー部分のそれに適合している)が形
成されるように、エッチングする工程;格子構造を持つ
ポリマー層を少なくとも二つの切片へと分割する工程;
二つの切片を、一方を他方の上に、一方の切片の溝が他
方の切片の突き出たポリマー部分によって埋め戻される
ように据える工程を含むことを特徴とする方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学的に非線形なポリ
マー物質中に周波数倍加構造を作る方法(該方法におい
て、交互するポーリングが光学的に非線形な物質中で行
われる)に関する。
マー物質中に周波数倍加構造を作る方法(該方法におい
て、交互するポーリングが光学的に非線形な物質中で行
われる)に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、固体レーザーの分野における発展
故に、多くの光学技術において、その波長が電磁スペク
トルの近赤外末端に該当する、または可視光(赤)の問
題のあるところの電磁スペクトル範囲の内にすら該当す
るところの電磁放射線を用いることが可能である。しか
しながら、多くの光学的用途のために、可視光範囲の中
間領域中に、またははるかに移ったその末端(青)に該
当する波長の光の使用を可能とすることが望まれる。こ
のことが特に望まれる用途の例は、光学データ貯蔵、光
通信技術、スキャニング、及び光学医療用途を包含す
る。所望の領域における単一の波長を発する光源を提供
するために、現存する光源によって発せられた電磁放射
線例えば約 700〜1300nmの波長を有する例えばレーザー
を周波数倍加器に通し、その半分すなわち約 350〜650n
m の波長を発する光源を与えることが知られている。当
該方法において、周波数倍加構造として光学的に非線形
な物質を用いることが知られている。
故に、多くの光学技術において、その波長が電磁スペク
トルの近赤外末端に該当する、または可視光(赤)の問
題のあるところの電磁スペクトル範囲の内にすら該当す
るところの電磁放射線を用いることが可能である。しか
しながら、多くの光学的用途のために、可視光範囲の中
間領域中に、またははるかに移ったその末端(青)に該
当する波長の光の使用を可能とすることが望まれる。こ
のことが特に望まれる用途の例は、光学データ貯蔵、光
通信技術、スキャニング、及び光学医療用途を包含す
る。所望の領域における単一の波長を発する光源を提供
するために、現存する光源によって発せられた電磁放射
線例えば約 700〜1300nmの波長を有する例えばレーザー
を周波数倍加器に通し、その半分すなわち約 350〜650n
m の波長を発する光源を与えることが知られている。当
該方法において、周波数倍加構造として光学的に非線形
な物質を用いることが知られている。
【0003】光学的に非線形な物質〔非線形光学(NL
O)物質ともまた呼ばれる〕は公知である。そのような
物質においては、非線形な分極は、外的な力の場(例え
ば電場)の作用の下で起こる。非線形電気的分極は、第
二高調波の発生、すなわち周波数倍加を包含するいくつ
かの光学的に非線形な現象を引き起こし得る。
O)物質ともまた呼ばれる〕は公知である。そのような
物質においては、非線形な分極は、外的な力の場(例え
ば電場)の作用の下で起こる。非線形電気的分極は、第
二高調波の発生、すなわち周波数倍加を包含するいくつ
かの光学的に非線形な現象を引き起こし得る。
【0004】ポリマー状のNLO物質もまた公知であ
る。これらにおいて所望のNLO効果を得ることは、巨
視的には、第一に、そのような物質中に存在する基(通
常は過分極し得る側基)が整列している(ポーリングさ
れた)ことを必要とする。そのようなポーリングは通
常、ポリマー物質を、ポリマー鎖を配向のために十分に
可動性とするように加熱しながら、電気的(直流)電圧
(いわゆるポーリング場)に暴露することによって行わ
れる。
る。これらにおいて所望のNLO効果を得ることは、巨
視的には、第一に、そのような物質中に存在する基(通
常は過分極し得る側基)が整列している(ポーリングさ
れた)ことを必要とする。そのようなポーリングは通
常、ポリマー物質を、ポリマー鎖を配向のために十分に
可動性とするように加熱しながら、電気的(直流)電圧
(いわゆるポーリング場)に暴露することによって行わ
れる。
【0005】例えば、冒頭に記載したような方法が、米
国特許第 4 865 406号明細書より知られている。当該明
細書中で開示された周波数倍加器は、交互にポーリング
された(poled) NLOポリマーの、基体により支持され
た薄層から成る。その周波数倍化構造は、NLOポリマ
ーの層の両側にクラッディング層を、続いてアルミニウ
ム電極を付与することによって作られる。Al電極はフ
ォトレジストを使って格子構造を与えられている。次
に、加熱しながら、NLOポリマーの層を電場に暴露す
る。その記載に従えば、ポーリングされていない部分と
交互するポーリングされた部分が、このことによって生
じる。しかしながら、開示された交互する整列をどのよ
うにして作るのかについてのガイドライン(それは実施
可能性のために不可欠である)は、与えられていない。
国特許第 4 865 406号明細書より知られている。当該明
細書中で開示された周波数倍加器は、交互にポーリング
された(poled) NLOポリマーの、基体により支持され
た薄層から成る。その周波数倍化構造は、NLOポリマ
ーの層の両側にクラッディング層を、続いてアルミニウ
ム電極を付与することによって作られる。Al電極はフ
ォトレジストを使って格子構造を与えられている。次
に、加熱しながら、NLOポリマーの層を電場に暴露す
る。その記載に従えば、ポーリングされていない部分と
交互するポーリングされた部分が、このことによって生
じる。しかしながら、開示された交互する整列をどのよ
うにして作るのかについてのガイドライン(それは実施
可能性のために不可欠である)は、与えられていない。
【0006】その意図された交互構造は、周波数倍加に
付される光が周波数倍加器から出るに先立ち、全てまた
は部分的に消えるのを防ぐために必要である。そのよう
な消光は、いわゆる“コヒーレンス長”と関係する。こ
れは、二つの空間的に離れた点A及びB(点Bにて生じ
た、周波数倍加器を通過する元の波長の光の周波数倍加
された成分は、既に点Aで生じた元の光の周波数倍加さ
れた成分とは逆の位相にある)の間の距離である。その
ような消光を防止するために、交互にポーリングされた
ポリマー状NLO物質の周期数(periodicity) は、コヒ
ーレンス長の二倍に等しくなければならない。このこと
は、中でも米国特許第 4 971 416号明細書より、自体公
知である。
付される光が周波数倍加器から出るに先立ち、全てまた
は部分的に消えるのを防ぐために必要である。そのよう
な消光は、いわゆる“コヒーレンス長”と関係する。こ
れは、二つの空間的に離れた点A及びB(点Bにて生じ
た、周波数倍加器を通過する元の波長の光の周波数倍加
された成分は、既に点Aで生じた元の光の周波数倍加さ
れた成分とは逆の位相にある)の間の距離である。その
ような消光を防止するために、交互にポーリングされた
ポリマー状NLO物質の周期数(periodicity) は、コヒ
ーレンス長の二倍に等しくなければならない。このこと
は、中でも米国特許第 4 971 416号明細書より、自体公
知である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、交互
にポーリングされた周波数倍加構造を比較的簡単な方法
でNLOポリマー中に導入することのできる方法を提供
することである。さらに、ポーリングで誘導された二次
NLO係数χ(2) の可能な限り高い変調深さ(modulatio
n depth)(それは最大の倍加収率を与える)を有し、か
つ、光通路中で生じる屈折率のいかなる変化をも有さな
い(それもまた、改善された収率に寄与する)周波数倍
加構造を提供することを意図している。二次NLO係数
χ(2) の説明のために、デビッド(David) J. ウィリア
ムス(Williams)の、Angew. Chem. Int. Ed. Engl.,23巻
(1984年), 690-703頁を参照できる。
にポーリングされた周波数倍加構造を比較的簡単な方法
でNLOポリマー中に導入することのできる方法を提供
することである。さらに、ポーリングで誘導された二次
NLO係数χ(2) の可能な限り高い変調深さ(modulatio
n depth)(それは最大の倍加収率を与える)を有し、か
つ、光通路中で生じる屈折率のいかなる変化をも有さな
い(それもまた、改善された収率に寄与する)周波数倍
加構造を提供することを意図している。二次NLO係数
χ(2) の説明のために、デビッド(David) J. ウィリア
ムス(Williams)の、Angew. Chem. Int. Ed. Engl.,23巻
(1984年), 690-703頁を参照できる。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的のために、本発
明は、上記の公知のタイプの方法、すなわち、光学的に
非線形なポリマー物質中に周波数倍加構造を作る方法で
あって、交互するポーリングが光学的に非線形な物質中
で行われる方法に、以下の工程が組み込まれたことにあ
る: - NLOポリマーの層を形成すること - NLOポリマーのポーリングを行うために、NLOポ
リマーの層を電場に暴露すること - エッチングされた溝と出っ張ったポリマー部分とから
成る格子構造(エッチングされた溝の幅は該ポリマー部
分のそれに調和している)がポリマー中に形成されるよ
うに、NLOポリマーの層をエッチングによって部分的
に除去すること - 格子構造を持つポリマー層を少なくとも二つの切片へ
と分割すること - 一方の切片の溝が他方の切片の突き出たポリマー部分
によって埋められるように二つの切片の一方を他方の上
に置くこと。任意的に、NLOポリマーはエッチングの
後かつ分割の前にポーリングされても良い。あるいは、
分離された部分を、互いに組み合わされるに先立って、
夫々独立してポーリングしても良い。しかしながら、こ
れらの態様は非常に機能的ではない。
明は、上記の公知のタイプの方法、すなわち、光学的に
非線形なポリマー物質中に周波数倍加構造を作る方法で
あって、交互するポーリングが光学的に非線形な物質中
で行われる方法に、以下の工程が組み込まれたことにあ
る: - NLOポリマーの層を形成すること - NLOポリマーのポーリングを行うために、NLOポ
リマーの層を電場に暴露すること - エッチングされた溝と出っ張ったポリマー部分とから
成る格子構造(エッチングされた溝の幅は該ポリマー部
分のそれに調和している)がポリマー中に形成されるよ
うに、NLOポリマーの層をエッチングによって部分的
に除去すること - 格子構造を持つポリマー層を少なくとも二つの切片へ
と分割すること - 一方の切片の溝が他方の切片の突き出たポリマー部分
によって埋められるように二つの切片の一方を他方の上
に置くこと。任意的に、NLOポリマーはエッチングの
後かつ分割の前にポーリングされても良い。あるいは、
分離された部分を、互いに組み合わされるに先立って、
夫々独立してポーリングしても良い。しかしながら、こ
れらの態様は非常に機能的ではない。
【0009】一般に、空気の取込みを防ぐために、二つ
の切片の一方が他方の上に置かれる前に、間に、または
後に、好ましくは粘性のフィラーの層が二つの切片の間
に加えられる。しかしながら、フィラーの光学的特性
は、NLOポリマーのそれらと大きく異なってはならな
い。好ましくは、選択されたフィラーは、ポーリングさ
れたNLOポリマーと同じまたはほぼ同じ屈折率を有す
る。好ましくは、フィラーはNLOポリマーの溶液であ
る。ニカワまたはいくつかの他の接着剤の使用は排除さ
れない。
の切片の一方が他方の上に置かれる前に、間に、または
後に、好ましくは粘性のフィラーの層が二つの切片の間
に加えられる。しかしながら、フィラーの光学的特性
は、NLOポリマーのそれらと大きく異なってはならな
い。好ましくは、選択されたフィラーは、ポーリングさ
れたNLOポリマーと同じまたはほぼ同じ屈折率を有す
る。好ましくは、フィラーはNLOポリマーの溶液であ
る。ニカワまたはいくつかの他の接着剤の使用は排除さ
れない。
【0010】本方法の利点は、交互にポーリングされた
NLOポリマーの構造(その整列は完全に均一である)
が形成されることである。米国特許第 4 865 406号明細
書における目的は恐らく、交互する整列を得るために交
互する電気的ポーリング場を付すことであると言うこと
をここで指摘しておくのが適切であろう。しかしなが
ら、交互するポーリング場の使用は、いくつかの欠点を
有する。その主なものは、異なる極性の電極が余りに近
くに対向する(それは、側面の焼損のより大きい機会を
生じる)必要があることである。電極のエッジ効果(電
極の端で常に生じる力線の偏った集中)の故に、ポリマ
ー層でのポーリング場の場プロフィールは、望まれる均
一な垂直プロフィールから相当偏っている。ポリマー層
全体に沿って伸びた電極の使用により、これらエッジ効
果をポーリングされるポリマーの外側で起こすことが可
能となる故に、上記の欠点は本発明に従う方法を用いる
ことによって回避することができる。
NLOポリマーの構造(その整列は完全に均一である)
が形成されることである。米国特許第 4 865 406号明細
書における目的は恐らく、交互する整列を得るために交
互する電気的ポーリング場を付すことであると言うこと
をここで指摘しておくのが適切であろう。しかしなが
ら、交互するポーリング場の使用は、いくつかの欠点を
有する。その主なものは、異なる極性の電極が余りに近
くに対向する(それは、側面の焼損のより大きい機会を
生じる)必要があることである。電極のエッジ効果(電
極の端で常に生じる力線の偏った集中)の故に、ポリマ
ー層でのポーリング場の場プロフィールは、望まれる均
一な垂直プロフィールから相当偏っている。ポリマー層
全体に沿って伸びた電極の使用により、これらエッジ効
果をポーリングされるポリマーの外側で起こすことが可
能となる故に、上記の欠点は本発明に従う方法を用いる
ことによって回避することができる。
【0011】ポーリング場によって生じた電気的電圧
は、通常直流電圧であると言うこと、しかし、文献に記
載された特定の条件下では交流電圧を用いることも可能
であることがまた証明されていると言うこともまた述べ
ておかねばならない。ポール(Paul) R. アシュレー(A
shley)及びトーマス(Thomas) E. トュモリロ(Tumolil
lo) 、Opt. Soc. Am. Technical Digest Series, 8巻,
87頁 (1991年)を参照されたい。
は、通常直流電圧であると言うこと、しかし、文献に記
載された特定の条件下では交流電圧を用いることも可能
であることがまた証明されていると言うこともまた述べ
ておかねばならない。ポール(Paul) R. アシュレー(A
shley)及びトーマス(Thomas) E. トュモリロ(Tumolil
lo) 、Opt. Soc. Am. Technical Digest Series, 8巻,
87頁 (1991年)を参照されたい。
【0012】本発明に従う方法の考えられる態様を、以
下に例示する。
下に例示する。
【0013】NLOポリマーの層が形成される工程は、
ポリマー溶液を例えばスピンコーティングによって適当
な基体に施与し、続いて溶媒を蒸発させることから成る
ことができる。適当な基体は、中でもシリコンウエー
ハ、またはプラスチックの積層物、例えば強化されてい
てもされていなくても良いエポキシ樹脂に基づくそれら
である。適当な基体は当業者に公知である。基体は本発
明に従う方法には重要ではない。NLOポリマーの層は
また、型込成形、射出成形、または自体公知の他の加工
技術によっても作ることができる。特に、基体にNLO
ポリマーのフィルムを施してNLOポリマー層を作るこ
とができる。
ポリマー溶液を例えばスピンコーティングによって適当
な基体に施与し、続いて溶媒を蒸発させることから成る
ことができる。適当な基体は、中でもシリコンウエー
ハ、またはプラスチックの積層物、例えば強化されてい
てもされていなくても良いエポキシ樹脂に基づくそれら
である。適当な基体は当業者に公知である。基体は本発
明に従う方法には重要ではない。NLOポリマーの層は
また、型込成形、射出成形、または自体公知の他の加工
技術によっても作ることができる。特に、基体にNLO
ポリマーのフィルムを施してNLOポリマー層を作るこ
とができる。
【0014】そうして作られたNLOポリマーの層は、
通常はポーリングされた後、ポリマー中にエッチングさ
れた溝から成る格子構造が形成されるように、エッチン
グによって部分的に除去される。エッチングのために
は、適当な任意のエッチング技術、例えば集積回路(I
C)の製造において公知のそれらをも用いることができ
る。例えば有機溶媒または強塩基を用いての湿式化学的
エッチング(wet-chemical etching)技術を、例えば用い
ることができる。しかしながら、乾式化学的エッチング
(dry-chemicai etching)技術、例えばスパッターエッチ
ング、反応的イオンエッチング(reactive ion etchin
g)、または反応的プラズマエッチング(reactive plasma
etching) を用いるのが好ましい。そのような技術は当
業者に公知であり、ここでのさらなる開示を要しない。
あるいは、レーザーを用いるエッチング、機械的エッチ
ング、例えば研削、切取り、掘削、または研磨粒子例え
ばアルミナ、シリカ、及び特に軽石を用いての衝撃によ
るエッチングであっても良い。好ましいエッチング技術
は、使用するNLOポリマーに依存する。当業者であれ
ば、問題のNLOポリマーのための適当なエッチング液
を、過度の実験を行うことなく選択することが可能であ
ると予期される。好ましくはO2 プラズマが用いられ、
非常に良く規定された構造はまた、いわゆるレーザー除
去技術を用いて得ることができる。
通常はポーリングされた後、ポリマー中にエッチングさ
れた溝から成る格子構造が形成されるように、エッチン
グによって部分的に除去される。エッチングのために
は、適当な任意のエッチング技術、例えば集積回路(I
C)の製造において公知のそれらをも用いることができ
る。例えば有機溶媒または強塩基を用いての湿式化学的
エッチング(wet-chemical etching)技術を、例えば用い
ることができる。しかしながら、乾式化学的エッチング
(dry-chemicai etching)技術、例えばスパッターエッチ
ング、反応的イオンエッチング(reactive ion etchin
g)、または反応的プラズマエッチング(reactive plasma
etching) を用いるのが好ましい。そのような技術は当
業者に公知であり、ここでのさらなる開示を要しない。
あるいは、レーザーを用いるエッチング、機械的エッチ
ング、例えば研削、切取り、掘削、または研磨粒子例え
ばアルミナ、シリカ、及び特に軽石を用いての衝撃によ
るエッチングであっても良い。好ましいエッチング技術
は、使用するNLOポリマーに依存する。当業者であれ
ば、問題のNLOポリマーのための適当なエッチング液
を、過度の実験を行うことなく選択することが可能であ
ると予期される。好ましくはO2 プラズマが用いられ、
非常に良く規定された構造はまた、いわゆるレーザー除
去技術を用いて得ることができる。
【0015】非機械的エッチング技術を用いる場合、所
望の歯状構造を得るためには、エッチング液による攻撃
から免れて残るべきである部分を覆うために、マスクを
付す。これらのマスク(その主な条件はそれらがエッチ
ング液の作用に抵抗性であると言うことである)は、中
でも、IC技術より公知である。そのようなマスクは、
予め作ることができ、例えば金属または合成材料から作
られていて良く;あるいは、感光材料(フォトレジス
ト)を付し、続いて所望のパターンに従いそれを露光及
び現像することによって作ることができる。
望の歯状構造を得るためには、エッチング液による攻撃
から免れて残るべきである部分を覆うために、マスクを
付す。これらのマスク(その主な条件はそれらがエッチ
ング液の作用に抵抗性であると言うことである)は、中
でも、IC技術より公知である。そのようなマスクは、
予め作ることができ、例えば金属または合成材料から作
られていて良く;あるいは、感光材料(フォトレジス
ト)を付し、続いて所望のパターンに従いそれを露光及
び現像することによって作ることができる。
【0016】エッチングによる代わりに、例えばエンボ
シングによって、物質を除去することなしに歯状構造を
製造することが可能である。そのような方法において、
溝の形成は、溝の縁を高くすること、あるいは溝中に突
き固められた物質の密度の増大のいずれを伴っても良
い。
シングによって、物質を除去することなしに歯状構造を
製造することが可能である。そのような方法において、
溝の形成は、溝の縁を高くすること、あるいは溝中に突
き固められた物質の密度の増大のいずれを伴っても良
い。
【0017】本発明はまた、NLOポリマーの層が、そ
れが形成される時に、所望の歯状構造を既に備えている
が故に、エッチング工程を省略することのできる方法に
関する。それらは、当業者に公知でありそれ故ここでの
さらなる開示を要しないポリマーのための自体公知の成
形及び加工技術を用いて達成することができる。例とし
て、型中での(射出)成形を挙げることができる。この
方法において、未硬化の状態では非常に容易に成形する
ことができ、かつ一般に硬化した状態で型から離すのが
容易である熱硬化性組成物を、NLOポリマーとして有
利に用いることができる。該熱硬化性組成物を次に、同
時的にポーリング場に暴露しながら型中で硬化する。
れが形成される時に、所望の歯状構造を既に備えている
が故に、エッチング工程を省略することのできる方法に
関する。それらは、当業者に公知でありそれ故ここでの
さらなる開示を要しないポリマーのための自体公知の成
形及び加工技術を用いて達成することができる。例とし
て、型中での(射出)成形を挙げることができる。この
方法において、未硬化の状態では非常に容易に成形する
ことができ、かつ一般に硬化した状態で型から離すのが
容易である熱硬化性組成物を、NLOポリマーとして有
利に用いることができる。該熱硬化性組成物を次に、同
時的にポーリング場に暴露しながら型中で硬化する。
【0018】格子構造は、最終的に得られる交互にポー
リングされたNLOポリマーの構造を決定する故、本発
明に従い作られる周波数倍加器の動作にとって正に重要
である。上に示したように、交互する構造の周期数は、
コヒーレンス長の二倍に等しくなければならない。中で
も先に言及した米国特許第 4 971 416号明細書から明ら
かなように、以下が、空間周期数Λにあてはまると言う
ことができる: Λ=2lc =2π/Δk 〔ここで、lc はコヒーレンス長に等しく、Δkは周波
数の倍加された光の波面と元の(周波数を発生する)光
の波面との間の波ベクトルにおける差異を表す〕。
リングされたNLOポリマーの構造を決定する故、本発
明に従い作られる周波数倍加器の動作にとって正に重要
である。上に示したように、交互する構造の周期数は、
コヒーレンス長の二倍に等しくなければならない。中で
も先に言及した米国特許第 4 971 416号明細書から明ら
かなように、以下が、空間周期数Λにあてはまると言う
ことができる: Λ=2lc =2π/Δk 〔ここで、lc はコヒーレンス長に等しく、Δkは周波
数の倍加された光の波面と元の(周波数を発生する)光
の波面との間の波ベクトルにおける差異を表す〕。
【0019】当業者であれば、周波数倍加に付される光
の波長に基づき、適当な格子定数(grating constant)を
選択することが可能である。つまり、NLOポリマー層
は、コヒーレンス長の半分に等しい幅を有する溝(予め
作られたまたは後に付された)を含み、従って、“歯”
と呼び得るポリマー部分が残り、該歯はまた、コヒーレ
ンス長の半分に等しい幅を有する。
の波長に基づき、適当な格子定数(grating constant)を
選択することが可能である。つまり、NLOポリマー層
は、コヒーレンス長の半分に等しい幅を有する溝(予め
作られたまたは後に付された)を含み、従って、“歯”
と呼び得るポリマー部分が残り、該歯はまた、コヒーレ
ンス長の半分に等しい幅を有する。
【0020】NLOポリマーの層は次に、例えば切取
り、鋸引き、またはその他の二つへの切り離しによって
二つの切片に、好ましくは等分に分けることができる。
これらの切片、好ましくは半分は、一方の切片の溝が他
方の切片の歯に合致するように、互いに容易に合わせる
ことができる。得られた構造体は次に交互にポーリング
され、周波数倍加デバイスにおいて用いることができ
る。ポーリングされたNLOポリマーの切片が分離され
て一方が他方の上に置かれるところの周波数倍加構造を
作る方法は、欧州特許第 355 915号公報より自体公知で
あると言うことに言及すべきである。しかしながら該開
示において問題となっているのは、他のタイプの周波数
倍加構造、すなわち、反対方向に分極された二つの層の
間の界面で、分極の突然の逆転が生じる界面の問題のあ
るものである。該界面に平行に通る赤外レーザービーム
から、元の周波数の倍を有する光ビームが作られる。
り、鋸引き、またはその他の二つへの切り離しによって
二つの切片に、好ましくは等分に分けることができる。
これらの切片、好ましくは半分は、一方の切片の溝が他
方の切片の歯に合致するように、互いに容易に合わせる
ことができる。得られた構造体は次に交互にポーリング
され、周波数倍加デバイスにおいて用いることができ
る。ポーリングされたNLOポリマーの切片が分離され
て一方が他方の上に置かれるところの周波数倍加構造を
作る方法は、欧州特許第 355 915号公報より自体公知で
あると言うことに言及すべきである。しかしながら該開
示において問題となっているのは、他のタイプの周波数
倍加構造、すなわち、反対方向に分極された二つの層の
間の界面で、分極の突然の逆転が生じる界面の問題のあ
るものである。該界面に平行に通る赤外レーザービーム
から、元の周波数の倍を有する光ビームが作られる。
【0021】一般に、本発明に従う方法を用いて形成さ
れた交互にポーリングされたNLOポリマーの構造は、
構造中での導波管を実現するためにクラッディング中に
包まれている。そのようなクラッディングの屈折率は、
包まれたポリマーのそれよりも低い。用いられるNLO
ポリマーに応じて、例えば欧州特許第 358 476号公報中
に記述された方法によって、より高い屈折率のチャンネ
ルをNLOポリマー中に作ることによって導波管を実現
することもまた可能である。
れた交互にポーリングされたNLOポリマーの構造は、
構造中での導波管を実現するためにクラッディング中に
包まれている。そのようなクラッディングの屈折率は、
包まれたポリマーのそれよりも低い。用いられるNLO
ポリマーに応じて、例えば欧州特許第 358 476号公報中
に記述された方法によって、より高い屈折率のチャンネ
ルをNLOポリマー中に作ることによって導波管を実現
することもまた可能である。
【0022】本発明に従う方法におけるNLOポリマー
のポーリングは、公知の方法で電場の施与による。この
目的のために、ポーリングされる物質(それは通常基体
上にディポジットされる)は、整流された電圧源に連結
した電極を備えられ、そして例えば制御された温度台上
に置かれる。ポリマー層厚1μm当たり数十から数百ボ
ルトの電圧が普通である。電場への暴露時間は、通常、
2〜3秒間から数分間であるが、しかし、特に熱硬化性
NLO組成物を用いた場合には、数十分から1時間であ
ってもまた良い。必要とされる時間はさらに、ポーリン
グの起こる温度に依存する。先に記述したように、この
温度は用いるNLOポリマーに依存するが、概して約50
〜350 ℃、特に80〜200 ℃である。一般に、ポーリング
場は、ポーリングされた物質が環境温度へと冷却される
まで保たれる。
のポーリングは、公知の方法で電場の施与による。この
目的のために、ポーリングされる物質(それは通常基体
上にディポジットされる)は、整流された電圧源に連結
した電極を備えられ、そして例えば制御された温度台上
に置かれる。ポリマー層厚1μm当たり数十から数百ボ
ルトの電圧が普通である。電場への暴露時間は、通常、
2〜3秒間から数分間であるが、しかし、特に熱硬化性
NLO組成物を用いた場合には、数十分から1時間であ
ってもまた良い。必要とされる時間はさらに、ポーリン
グの起こる温度に依存する。先に記述したように、この
温度は用いるNLOポリマーに依存するが、概して約50
〜350 ℃、特に80〜200 ℃である。一般に、ポーリング
場は、ポーリングされた物質が環境温度へと冷却される
まで保たれる。
【0023】典型的なポーリング温度及びその場合に必
要とされる時間は、中でも特許公報から公知である。例
えば、欧州特許第 378 185号公報から、そこに記載され
たNLOコポリマーを85℃で、8×105 V/cmの電場強
度に20分間暴露することが知られている。米国特許第 4
865 406号明細書に記載されたNLOポリマーは、90℃
にて、70V/μmの電場強度に10分間暴露される。欧州
特許第 396 172号公報は、NLOポリマーのコロナ放電
による整列を記載しており、その温度は 127℃である。
欧州特許第 445 864号公報(そこにおいて、NLO熱硬
化の問題がある)においては、熱硬化性組成物が硬化さ
れ、 145℃の温度で15〜45分間ポーリングされる。欧州
特許第 359 648号公報においては、100 ℃の温度で、50
V/μmの電場の作用の下で数秒間ポーリングする問題
がある。
要とされる時間は、中でも特許公報から公知である。例
えば、欧州特許第 378 185号公報から、そこに記載され
たNLOコポリマーを85℃で、8×105 V/cmの電場強
度に20分間暴露することが知られている。米国特許第 4
865 406号明細書に記載されたNLOポリマーは、90℃
にて、70V/μmの電場強度に10分間暴露される。欧州
特許第 396 172号公報は、NLOポリマーのコロナ放電
による整列を記載しており、その温度は 127℃である。
欧州特許第 445 864号公報(そこにおいて、NLO熱硬
化の問題がある)においては、熱硬化性組成物が硬化さ
れ、 145℃の温度で15〜45分間ポーリングされる。欧州
特許第 359 648号公報においては、100 ℃の温度で、50
V/μmの電場の作用の下で数秒間ポーリングする問題
がある。
【0024】本発明に従う方法により作られる周波数倍
加器において、公知のNLOポリマーを使用することが
できる。そのようなNLOポリマーの例は、欧州特許第
350112 号公報、欧州特許第 350 113号公報、欧州特許
第 358 476号公報、欧州特許第 445 864号公報、欧州特
許第 378 185号公報、欧州特許第 359 648号公報に記載
されたそれら、並びに先に言及した米国特許明細書中に
記載されたそれらである。本発明は、いかなる特定のタ
イプのNLOポリマーにも限定されるものではない。
加器において、公知のNLOポリマーを使用することが
できる。そのようなNLOポリマーの例は、欧州特許第
350112 号公報、欧州特許第 350 113号公報、欧州特許
第 358 476号公報、欧州特許第 445 864号公報、欧州特
許第 378 185号公報、欧州特許第 359 648号公報に記載
されたそれら、並びに先に言及した米国特許明細書中に
記載されたそれらである。本発明は、いかなる特定のタ
イプのNLOポリマーにも限定されるものではない。
【0025】さらに、本発明に従い作られる周波数倍加
装置は、考え得る総ての、例えばそのような装置におい
て必要とされる構造上の特徴を含んでも良い。例えば、
該装置は、周波数倍加器へと光を連結するための要素を
含んでも良い。研究目的のためには、この目的のために
連結プリズム(coupling prism)を使用するのが典型的で
ある。良く知られたプリズム連結技術は、中でも、Appl
ied Physics Letters,55巻(1989年), 616-618頁に記載
されており、また、前述の米国特許明細書中でも用いら
れている。実際問題において、連結プリズムは非常に機
能的なものではなく、周波数を発生する光の連結のため
には一般に、光学繊維またはレーザーレンズを用いる。
該装置はさらに、導波管、すなわち、連結されそして周
波数が倍加された光がそれを通って伝えられ得る層また
はチャンネルを含む。通常、それら導波管は、連結され
た光の少なくとも一部に対してある程度透過性のポリマ
ーのコア層、それを包む、意図した光に対してコア層よ
りも低い屈折率を有する異なるポリマーのクラッディン
グ層から作られる。本発明に従い、該コア層は、先に記
載した周波数倍加構造を含む。好ましくは、コア層はそ
の全体が、NLOポリマーの上記の交互にポーリングさ
れた構造から成る。周波数倍加装置についての背景とな
るデータのために、欧州特許第 361 602号公報、欧州特
許第 355 915号公報、欧州特許第 254 921号公報、英国
特許第 2 187 566号公報、並びに、Electronics Letter
s,26巻(1990年), 2105-2107頁中の論文を参照すること
ができる。
装置は、考え得る総ての、例えばそのような装置におい
て必要とされる構造上の特徴を含んでも良い。例えば、
該装置は、周波数倍加器へと光を連結するための要素を
含んでも良い。研究目的のためには、この目的のために
連結プリズム(coupling prism)を使用するのが典型的で
ある。良く知られたプリズム連結技術は、中でも、Appl
ied Physics Letters,55巻(1989年), 616-618頁に記載
されており、また、前述の米国特許明細書中でも用いら
れている。実際問題において、連結プリズムは非常に機
能的なものではなく、周波数を発生する光の連結のため
には一般に、光学繊維またはレーザーレンズを用いる。
該装置はさらに、導波管、すなわち、連結されそして周
波数が倍加された光がそれを通って伝えられ得る層また
はチャンネルを含む。通常、それら導波管は、連結され
た光の少なくとも一部に対してある程度透過性のポリマ
ーのコア層、それを包む、意図した光に対してコア層よ
りも低い屈折率を有する異なるポリマーのクラッディン
グ層から作られる。本発明に従い、該コア層は、先に記
載した周波数倍加構造を含む。好ましくは、コア層はそ
の全体が、NLOポリマーの上記の交互にポーリングさ
れた構造から成る。周波数倍加装置についての背景とな
るデータのために、欧州特許第 361 602号公報、欧州特
許第 355 915号公報、欧州特許第 254 921号公報、英国
特許第 2 187 566号公報、並びに、Electronics Letter
s,26巻(1990年), 2105-2107頁中の論文を参照すること
ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グスターフ ロナルド メールマン オランダ国、6952 シーエル ディーレ ン、エドゥアルド ファン バイヌムラー ン 129
Claims (5)
- 【請求項1】 光学的に非線形なポリマー物質中に周波
数倍加構造を作る方法であって、交互するポーリングが
光学的に非線形な物質中で行われる方法において、 - NLOポリマーの層を形成すること - NLOポリマーのポーリングを行うために、NLOポ
リマーの層を電場に暴露すること - エッチングされた溝と出っ張ったポリマー部分とから
成る格子構造(エッチングされた溝の幅は該ポリマー部
分のそれに調和している)がポリマー中に形成されるよ
うに、NLOポリマーの層をエッチングによって部分的
に除去すること - 格子構造を持つポリマー層を少なくとも二つの切片へ
と分割すること - 一方の切片の溝が他方の切片の突き出たポリマー部分
によって埋められるように二つの切片を一方を他方の上
に置くこと の工程を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 一方が他方の上に置かれた二つの切片の
間にフィラーが備えられる、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 用いられるフィラーが、NLOポリマー
の溶液である、請求項2記載の方法。 - 【請求項4】 NLOポリマーの層が、基体にポリマー
フィルムを施与するこによって作られる、請求項1〜3
のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項5】 溝の幅が、周波数倍加構造によって生じ
る第二高調波のコヒーレンス長の半分に等しい、請求項
1〜4のいずれか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9102138 | 1991-12-20 | ||
NL9102138 | 1991-12-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05249523A true JPH05249523A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=19860064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4353881A Pending JPH05249523A (ja) | 1991-12-20 | 1992-12-16 | 光学的に非線形な媒体中に周波数倍加構造を作る方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5289308A (ja) |
EP (1) | EP0549036B1 (ja) |
JP (1) | JPH05249523A (ja) |
KR (1) | KR930015206A (ja) |
AT (1) | ATE136658T1 (ja) |
CA (1) | CA2085759A1 (ja) |
DE (1) | DE69209805T2 (ja) |
DK (1) | DK0549036T3 (ja) |
TW (1) | TW261700B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0684325A1 (en) | 1994-05-23 | 1995-11-29 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Low saturated magnetic field bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal and its use |
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WO1996032664A1 (fr) * | 1995-04-11 | 1996-10-17 | Keisuke Sasaki | Dispositif optique et son procede de fabrication |
DE19547252C2 (de) * | 1995-12-06 | 1997-12-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Optisches Bauelement zur Frequenzvervielfachung |
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US5892859A (en) * | 1997-06-11 | 1999-04-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Integrated circuit compatible electro-optic controlling device for high data rate optical signals |
GB2385943B (en) * | 1999-03-05 | 2003-11-05 | Nanovis Llc | Mach-Zehnder interferometer with aperiodic grating |
US6782166B1 (en) | 2001-12-21 | 2004-08-24 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Optically transparent electrically conductive charge sheet poling electrodes to maximize performance of electro-optic devices |
KR100467320B1 (ko) * | 2002-06-14 | 2005-01-24 | 한국전자통신연구원 | 파장 변환기 및 그 제조방법 및 이를 이용한 광소자 |
Family Cites Families (15)
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GB2187566A (en) * | 1986-03-07 | 1987-09-09 | Philips Electronic Associated | Device for doubling the frequency of electromagnetic radiation |
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