JPH0524595B2 - - Google Patents

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JPH0524595B2
JPH0524595B2 JP58077423A JP7742383A JPH0524595B2 JP H0524595 B2 JPH0524595 B2 JP H0524595B2 JP 58077423 A JP58077423 A JP 58077423A JP 7742383 A JP7742383 A JP 7742383A JP H0524595 B2 JPH0524595 B2 JP H0524595B2
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JP
Japan
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resistor
transistor
circuit
collector
reference voltage
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JP58077423A
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Japanese (ja)
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JPS59203297A (en
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Kunihiko Yamaguchi
Noryuki Pponma
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Publication of JPH0524595B2 publication Critical patent/JPH0524595B2/ja
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    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、デイジタル論理回路およびメモリ回
路に於ける参照電圧発生回路に係り、特にメモリ
セル参照電圧発生回路に好適な信号発生回路に関
するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a reference voltage generation circuit in a digital logic circuit and a memory circuit, and particularly to a signal generation circuit suitable for a memory cell reference voltage generation circuit. .

〔発明の背景〕[Background of the invention]

以下、本発明を説明するに際して、本発明をバ
イポーラのメモリ回路に適用した例について詳わ
しく述べるが、これは単に説明のためだけであ
り、本発明は広く論理回路およびメモリ回路に適
用できるものである。
Hereinafter, when explaining the present invention, an example in which the present invention is applied to a bipolar memory circuit will be described in detail, but this is only for the purpose of explanation, and the present invention can be widely applied to logic circuits and memory circuits. It is.

さて、バイポーラ・メモリでは、メモリセル・
アレーおよびその駆動、センス回路として、第1
図に示すものが多用されてきた。この図で、メモ
リセルMCOO等のコレクタ負荷は抵抗RL01等と
ダイオードD01等との並列回路で構成されてい
る。このダイオードは接合ダイオードでもシヨツ
トキー・ダイオードでもよい。この回路の動作を
以下簡単に説明する。まず、ワード線ドライバの
うちの1つ、たとえばXDOが選択されその出力、
つまり、ワード線XOは高レベルVXHとなる。そ
の他全てのワード線ドライバの出力は低レベル
VXLにある。選択されたセル、たとえばMCOOで
は、トランジスタQ01がオン、Q00がオフとする
と、読出し電流IRは、トランジスタQ01から流れ
出す。この時のトランジスタQ01のベース電圧、
コレクタ電圧をそれぞれVCH,VCLとする。読出
し・書込み制御回路R/W0、R/W1の出力
Vr0,Vr1は、読出し時には、VCH、とVCLのほぼ
中間(つまり、読出し時の参照電圧)のレベル
VRHにある。したがつて、読出し電流IR00はトラ
ンジスタQr00より流れ、IR01はセルのトランジス
タQ01から流れ、トランジスタQr01からは流れな
い。したがつて、抵抗Rs00に読出し電流が流れ電
圧降下が生じ、一方抵抗Rs01にはベース電流が流
れ電圧降下は小さいので、電圧降下がどちらの抵
抗で大きく生じているかを検出することにより、
セルが記憶している情報を読出することができ
る。
Now, in bipolar memory, the memory cell
As the array, its drive, and sense circuit, the first
The one shown in the figure has been widely used. In this figure, the collector load of the memory cell MCOO etc. is composed of a parallel circuit of a resistor R L01 etc. and a diode D 01 etc. This diode may be a junction diode or a Schottky diode. The operation of this circuit will be briefly explained below. First, one of the word line drivers, say XDO, is selected and its output,
In other words, the word line XO becomes a high level V XH . All other word line driver outputs are low level
Located in V XL . In a selected cell, for example MCOO, if transistor Q 01 is on and Q 00 is off, the read current I R flows out of transistor Q 01 . The base voltage of transistor Q 01 at this time,
Let the collector voltages be V CH and V CL , respectively. Output of read/write control circuit R/W0, R/W1
When reading, V r0 and V r1 are at a level approximately midway between V CH and V CL (that is, the reference voltage during reading).
Located in V RH . Therefore, read current I R00 flows from transistor Q r00 , I R01 flows from transistor Q 01 of the cell, and does not flow from transistor Q r01 . Therefore, a read current flows through the resistor R s00 , causing a voltage drop, while a base current flows through the resistor R s01 , resulting in a small voltage drop. By detecting which resistor causes a large voltage drop,
The information stored in the cell can be read.

一方、書込みを行なうには、読出し、書込み回
路R/W0、R/W1の出力のうちの片方、たと
えば、Vr1が低レベルVRLとなる。この場合、書
込みが行なわれる(すなわち、オフであつたトラ
ンジスタQ00からIR00を流すようにする)ために
は、VRLはVCLより低くなければならない。また、
書込み時に、他のワード線に接続されているセル
から電流が分流されないためにはVXLがVCLより
低くなくてはいけない。
On the other hand, in order to write, one of the outputs of the read and write circuits R/W0 and R/W1, for example, V r1 becomes a low level V RL . In this case, V RL must be lower than V CL for a write to occur (ie, to cause I R00 to flow from transistor Q 00 that was off). Also,
During writing, V XL must be lower than V CL so that current is not shunted away from cells connected to other word lines.

以上の電位関係を第2図にまとめる。 The above potential relationships are summarized in Figure 2.

ところで、設計中心値で第2図のようにとつて
おいても、現実にはデバイス・パラメータは温度
その他で変動するし、また種々のばらつきも存在
するので、各電位間の電位差は減少あるいは増加
する。この減少あるいは増加分は、全て雑音余裕
度として設計中心値において各電位差を大きく設
計しておく必要があり、そのため回路を低振幅駆
動させ得ず、回路の高速化が不可能となる。
By the way, even if the design center value is taken as shown in Figure 2, in reality, device parameters fluctuate due to temperature and other factors, and there are various variations, so the potential difference between each potential may decrease or increase. do. This decrease or increase requires designing each potential difference to be large at the design center value as a noise margin, which makes it impossible to drive the circuit with a low amplitude, making it impossible to increase the speed of the circuit.

以下、上記の従来技術について更に詳細に述べ
る。
The above-mentioned prior art will be described in more detail below.

第1図において、ダイオードD01等はシヨツト
キー・ダイオード(以下SBDと略す)とする。
一方、読出し・書込み回路(以下R/W回路と略
す)R/W1等やワード線駆動回路(以下WD回
路と略す)XD0等の電流源トランジスタQ100
Q110等のベースに印加される電圧Vcs-1、Vcs-2
は、第3図に示すように、従来は抵抗とダイオー
ドとの直列回路のある点40から、エミツタホロ
ワ・トランジスタ41を介して取り出されてい
た。この場合、この回路の出力電圧Vcsは Vcs=α(Vcc−VEE)+βVBE でほぼ近似できる。ここで、VBEはダイオードの
順方向電圧およびトランジスタのベース・エミツ
タ間順方向電圧の両者を表わしている。この電源
を第1図のR/W回路R/W0、R/W1および
WD回路XD0等の電流源トランジスタQ100
Q110等のベースに印加すると、その出力には Vput=a×〔α(Vcc−VEE) +(β−1)VBE〕 =α′(Vcc−VEE)+β′VBE の電圧が現われる。ここでα、β、α′、β′は VEEVcs,VputVcc(=この例ではGND電
位) を満たす(設計時に定められる)ある定数であ
る。
In FIG. 1, diodes D01 and the like are Schottky diodes (hereinafter abbreviated as SBD).
On the other hand, current source transistors Q 100 of read/write circuits (hereinafter abbreviated as R/W circuits) R/W1, etc., word line drive circuits (hereinafter abbreviated as WD circuits) XD0, etc.
Voltage applied to the base of Q 110 etc. V cs-1 , V cs-2
Conventionally, as shown in FIG. 3, the voltage is taken out from a point 40 in a series circuit of a resistor and a diode through an emitter follower transistor 41. In this case, the output voltage V cs of this circuit can be approximately approximated by V cs = α (Vcc - V EE ) + βV BE . Here, V BE represents both the diode forward voltage and the transistor base-emitter forward voltage. This power supply is connected to the R/W circuits R/W0, R/W1 and
Current source transistor Q 100 such as WD circuit XD0,
When applied to the base of a Q 110 etc., its output will have a voltage of V put = a × [α (Vcc - V EE ) + (β - 1) V BE ] = α' (Vcc - V EE ) + β' V BE appears. Here, α, β, α′, and β′ are constants (determined at the time of design) that satisfy V EE V cs and V put Vcc (=GND potential in this example).

この、出力電圧Vputは、その表式から明らかな
ように、負荷回路のメモリセルのコレクタ負荷で
ある抵抗とSBDの並列回路で発生する電圧とは、
その特性が異つている。
As is clear from the expression, this output voltage V put is the voltage generated in the parallel circuit of the SBD and the resistor that is the collector load of the memory cell of the load circuit.
Their characteristics are different.

更に、ここでI=0,J=3,抵抗R41=0Ω
時、第3図のVcsは次の様になる。
Furthermore, here I=0, J=3, resistance R 41 =0Ω
At this time, V cs in Figure 3 becomes as follows.

Vcs=VEE+2VBE 例えば、このVcsで、Vcs-1を駆動した時、メモ
リセル参照電圧VRHは、次式で示される。
V cs = V EE + 2V BE For example, when V cs-1 is driven with this V cs , the memory cell reference voltage V RH is expressed by the following equation.

VRH=−(Rc/RE+1)VBE 一方VXHは、Vcs-2とは、無関係に、次式で求め
られる。
V RH =-(Rc/R E +1) V BE On the other hand, V XH is determined by the following formula, regardless of V cs-2 .

VXH=−VBE 一方、メモリセル内の電位VCH及びVCLは、読
出し電流IRと関係しそれぞれ次の式で与えられ、
単純にVBEのみで決まらなくなる。
V _ _ _ _
It is no longer determined simply by V BE alone.

VCH=VXH−〔RL00//VF〕×IR/HFE VCL=VXH−〔RL00//VF〕 ×IR≒VXH−VF≒−VBE−VF このため、後述の如くVFのばらつきに対する
動作余裕度の減少する欠点を有している。
V CH = V XH − [ R L00 //V F ] × I R / H FE V CL = V Therefore, as will be described later, there is a drawback that the operating margin against variations in V F is reduced.

また、集積回路の特質として、同一チツプ内で
はVBEならVBE同志、SBDの順方向電圧VFならVF
同志ならば、変動は非常に少ない。しかし、VBE
とVFの関係は、チツプにより大きく変動する。
したがつて従来回路では、セルの振幅を小さくし
て高速化することは、この点より制限を受けてい
た。
Also, as a characteristic of integrated circuits, within the same chip, V BE is the same as V BE , and SBD's forward voltage V F is V F
If they are like-minded people, there will be very little variation. However, V BE
The relationship between VF and VF varies greatly depending on the chip.
Therefore, in conventional circuits, increasing the speed by reducing the cell amplitude is limited by this point.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、デバイス・パラメータが変動
しても、第2図のような電位関係が互いの相対関
係を保つたまま移動し、したがつて、雑音余裕度
を大きくとる必要がない参照電圧発生回路(第1
図では読出し・書込み回路R/W0、R/W1)
を提供することである。
The purpose of the present invention is to provide a reference voltage that moves while maintaining the relative relationship between potentials as shown in Figure 2 even if device parameters change, and therefore does not require a large noise margin. Generation circuit (first
In the figure, read/write circuits R/W0, R/W1)
The goal is to provide the following.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

上記目的を達成するために、本発明において
は、2種以上の素子で構成された負荷回路と、該
負荷回路に電流を供給する電流源回路と、 上記負荷回路の出力の論理状態を判別するため
の参照電圧発生回路とを有する半導体回路におい
て、 上記参照電圧発生回路は上記負荷回路の一部と
同一の構成を有する擬似負荷回路を有し、該擬似
負荷回路の出力信号を基に参照電圧を発生するこ
ととした。より具体的には、負荷回路(例えばメ
モリセル)のふたつの論理状態における電圧降下
を、それぞれ上記負荷回路のそれぞれの論理状態
と同一構成の擬似回路と、前記負荷回路に電流を
供給する電流源回路と同一形式の電流源回路によ
り発生せしめふたつの電圧降下分の合成により前
記負荷回路のふたつの論理状態における検出端電
圧の中間値を発生せしめて参照電圧とする。
In order to achieve the above object, the present invention includes a load circuit configured with two or more types of elements, a current source circuit that supplies current to the load circuit, and a logic state of the output of the load circuit. In the semiconductor circuit having a reference voltage generation circuit for the purpose of It was decided that this would occur. More specifically, the voltage drop in two logic states of a load circuit (for example, a memory cell) is measured by a pseudo circuit having the same configuration as each logic state of the load circuit, and a current source that supplies current to the load circuit. By combining two voltage drops generated by a current source circuit of the same type as the circuit, an intermediate value of the detection terminal voltage in the two logic states of the load circuit is generated and used as a reference voltage.

本発明に従がえば、Vcs発生回路の一部として、
負荷回路たとえばメモリのコレクタ負荷が挿入、
使用されており、その結果、上記制限を克服でき
るので、セル信号の低振幅化をはかれ、高速化が
可能となる。
According to the invention, as part of the V cs generation circuit,
Load circuit, for example memory collector load inserted,
As a result, the above-mentioned limitations can be overcome, so it is possible to reduce the amplitude of the cell signal and increase the speed.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

本発明の実施例の主要部を第4図に示す。本実
施例は第1図で述べた読出し、書込み回路R/W
0、R/W1を、トランジスタQ50〜Q52で
形成する電流切換え回路で構成し、その電流源回
路をトランジスタQ53及びQ54と抵抗R50
及びR51で構成したものである。そしてトラン
ジスタQ53のベースを、メモリセルのVCLと関
係する電位VCSLで駆動し、トランジスタQ54の
ベースを、メモリセルのVCHと関係する電位VCSH
で駆動している。このVCSLの発生は、ダイオード
D60及び61、抵抗R60及びR61、トラン
ジスタQ60で読出し電流IR00またはIR01を発生
し、メモリセルトランジスタのコレクタ負荷(ダ
イオードD01と抵抗RL01で形成)に、この読み出
し電流が流れて生ずる電位差すなわちVXH−VCL
を発生させて、この電位差が抵抗R50に加わる
様にしている。更にVCSHは、同様にVXH−VCH
る電位差を発生させて、抵抗R51に加わる様に
している。
The main part of an embodiment of the present invention is shown in FIG. This embodiment uses the read/write circuit R/W described in FIG.
0, R/W1 is configured with a current switching circuit formed by transistors Q50 to Q52, and its current source circuit is formed by transistors Q53 and Q54 and a resistor R50.
and R51. Then, the base of transistor Q53 is driven with a potential V CSL related to V CL of the memory cell, and the base of transistor Q54 is driven with a potential V CSH related to V CH of the memory cell.
It is driven by This generation of V CSL generates a read current I R00 or I R01 in the diodes D60 and 61, the resistors R60 and R61, and the transistor Q60, and the collector load of the memory cell transistor (formed by the diode D01 and the resistor R L01 ). The potential difference caused by this read current flowing, that is, V XHV CL
is generated, and this potential difference is applied to the resistor R50. Furthermore, V CSH similarly generates a potential difference of V XH - V CH and is applied to resistor R51.

こうすることにより、抵抗R52での電位降下
ΔVR52は次式で決める事が可能となる。
By doing this, the potential drop ΔV R52 at the resistor R52 can be determined by the following equation.

ΔVR52=R52/R50(VXH−VCL)+R52/R51(VXH−VCH) ここにVXH−VCLは、メモリセルのコレクタ負
荷に於ける、読出し電流が流れた時の電位降下分
ΔVCLであり、VXH−VCHは、メモリセルのコレク
タ負荷に於ける、読み出し電流のベース電流分が
流れた時の電位降下分ΔVCHである。
ΔV R52 = R52/R50 ( V XH − V CL ) + R52 /R51 (V XH − V CH ) where V ΔV CL , and V XH −V CH is the potential drop ΔV CH in the collector load of the memory cell when the base current of the read current flows.

ここで読出し時の参照電圧VRHをVCLとVCHの中
間に設定するには、抵抗R50とR51を等しく
し、R52の2倍の値とするところで可能にな
る。
Here, setting the reference voltage V RH at the time of reading to an intermediate value between V CL and V CH can be achieved by setting the resistors R50 and R51 to be equal and setting the value to be twice the value of R52.

更に抵抗R61及びR63等を第1図のIR00
びIR01発生回路と同一形状・構成で形成する事に
より読出し電流のばらつき補償が可能となり、メ
モリセルのコレクタ負荷の補償と併せて、より安
定な参照電圧を発生する事が可能となる。
Furthermore, by forming resistors R61 and R63, etc. in the same shape and configuration as the I R00 and I R01 generation circuits shown in Figure 1, it is possible to compensate for variations in the read current, and in addition to compensating for the collector load of the memory cell, it becomes more stable. It becomes possible to generate a reference voltage.

なお電流切換え回路は、読出し時トランジスタ
Q52が導通し、書込み時は、書込みデータに応
じて、Q50またはQ51が導通し、Vr0または
Vr1を発生する。
In the current switching circuit, during reading, transistor Q52 is conductive, and during writing, Q50 or Q51 is conductive depending on the write data, and V r0 or
Generates V r1 .

第5図は、特開昭53−75829に於けるメモリセ
ルを示している。このメモリセルの特長は、ダイ
オードD600に直列に抵抗R600が入つてい
る点にあり、読出し電流による抵抗R600での
電位降下が、メモリセルの動作余裕度を決める様
になつている。更に抵抗R600の形成には、メ
モリセルサイズ縮少のためにN+BL層を用いて形
成している。従つてメモリセル動作の安定化のた
めには、読出し電流が、N+BL層で形成した抵抗
値で制御される必要がある。このため、読出し電
流発生回路に於いて、メモリセルの抵抗R600
と相関をもつて値が決まる抵抗を用いている。す
なわち第6図に於いては、抵抗R71を、第7図
に於いては抵抗R72を、メモリセルの抵抗R6
00と同一形状・構造で形成している。こうする
ことにより、N+BLで形成しているメモリセルの
抵抗600が小さくなると、読出し電流が増大
し、逆に抵抗R600が大きくなると、読出し電
流が小さくなり、メモリセルの電位は、抵抗R6
00の値の変化に対し一定となる様に補償してい
る。
FIG. 5 shows a memory cell in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-75829. The feature of this memory cell is that a resistor R600 is connected in series with the diode D600, and the potential drop across the resistor R600 due to the read current determines the operating margin of the memory cell. Furthermore, the resistor R600 is formed using an N + BL layer in order to reduce the memory cell size. Therefore, in order to stabilize the memory cell operation, the read current needs to be controlled by the resistance value formed by the N + BL layer. Therefore, in the read current generation circuit, the resistance R600 of the memory cell
It uses a resistor whose value is determined by a correlation with the That is, in FIG. 6, the resistor R71, in FIG. 7, the resistor R72, and the resistor R6 of the memory cell.
It has the same shape and structure as 00. By doing this, when the resistance 600 of the memory cell formed by N + BL becomes small, the read current increases, and conversely, when the resistance R600 becomes large, the read current becomes small, and the potential of the memory cell becomes smaller than the resistance R6.
Compensation is made so that the change in value of 00 remains constant.

第8図は、もう1つの本発明の実施例であり、
抵抗R90及びR91は、メモリセルの抵抗R6
00と同一形状・構造で形成し、読出し電流を発
生させ、その電流が、第5図で示したメモリセル
に流れ、メモリセルの負荷での電位降下に相当し
た、VCSL及びVCSHを発生させている。
FIG. 8 is another embodiment of the present invention,
Resistors R90 and R91 are the resistance R6 of the memory cell.
It is formed in the same shape and structure as 00, generates a read current, and the current flows to the memory cell shown in Figure 5, generating V CSL and V CSH corresponding to the potential drop due to the load of the memory cell. I'm letting you do it.

この時VCSH及びVCSLは次の様になる。 At this time, V CSH and V CSL are as follows.

VCSH=VEE+VBE+ 〔R603//(VF+R601)〕×IB VCSL=VEE+VBE+ 〔R602//(VF+R600)〕×IC ここにIRは読出し電流であり、〔R603//(VF
+R601)〕×IBは、ダイオードD601と低抵抗
R601(一般に200〜300Ω)とが直列により、
それと並列に高抵抗R603が入つたメモリセル
のコレクタ負荷に対し、読出し電流IRのQ600
でのベース電流分での電位降下に相当し、VCSL
同項はコレクタ電流分でのメモリセルのコレクタ
負荷分での電位降下に相当している。
V CSH = V EE + V BE + [R603//(V F + R601)] × I B V CSL = V EE + V BE + [R602// (V F + R600)] × I C where I R is the read current Yes, [R603//(V F
+R601)]×I B is a diode D601 and a low resistance R601 (generally 200 to 300Ω) connected in series,
Q600 of the read current I R for the collector load of the memory cell with high resistance R603 in parallel with it.
This term corresponds to the potential drop due to the base current, and the same term of V CSL corresponds to the potential drop due to the collector load of the memory cell due to the collector current.

従つてこのVCSL及びVCSHを第4図のトランジス
タQ53及びトランジスタQ54のベースに加え
る事により、Q50及びQ51のエミツタ電流
は、それぞれ、メモリセルでの電位降下分に相当
した電位差で決まる。そして抵抗R52の値を概
ね抵抗R50及びR51の1/2と設定することに
より、VRH(読出し時Vr0とVr1は等しくVRH)は、
メモリセルのコレクタ負荷での電位降下量で決ま
る様にする事が可能である。
Therefore, by applying V CSL and V CSH to the bases of transistor Q53 and transistor Q54 in FIG. 4, the emitter currents of Q50 and Q51 are respectively determined by a potential difference corresponding to the potential drop in the memory cell. By setting the value of resistor R52 to approximately 1/2 of resistors R50 and R51, V RH (V r0 and V r1 are equal at the time of reading) is
It is possible to make it determined by the amount of potential drop at the collector load of the memory cell.

こうする事によつて、メモリセルを構成するデ
バイスである、ダイオード、(P−nダイオード
またはシヨツトキーダイオード)、N+BL層で形
成した抵抗、更にインブラ層で形成される高抵抗
(第5図の抵抗R602及びR603)の製造時
の値のばらつきに対しても補償したメモリセル参
照電圧を発生する事が出来る。
By doing this, the devices that make up the memory cell, such as diodes (P-n diodes or Schottky diodes), the resistance formed by the N + BL layer, and the high resistance (the high resistance formed by the Imbra layer) It is also possible to generate a memory cell reference voltage that compensates for variations in the values of the resistors R602 and R603 in FIG. 5 during manufacture.

またVCSH発生回路でトランジスタQ610のコ
レクタに接続されたダイオード及び抵抗は、動作
原理上、これ等を省略する事も可能である。
Furthermore, the diode and resistor connected to the collector of the transistor Q610 in the V CSH generation circuit can be omitted due to the principle of operation.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により、温度およびデバイスパラメータ
(VBE,VF,N+BL抵抗等)の変動があつても、
メモリセル参照電圧(VRH)を常にVCH,VCLの中
央に配置させることが可能である。
With the present invention, even when there are variations in temperature and device parameters (V BE , V F , N + BL resistance, etc.),
It is possible to always place the memory cell reference voltage (V RH ) in the center of V CH and V CL .

本発明のこの様な特徴を生かせば、セル信号の
振幅を400mV以下にする事も可能になり、設計
にも依存するが、メモリ回路の遅延時間を従来よ
り、2割から4割も短縮することもできる。
By taking advantage of these features of the present invention, it is possible to reduce the amplitude of the cell signal to 400mV or less, and depending on the design, the delay time of the memory circuit can be reduced by 20% to 40% compared to conventional methods. You can also do that.

以上、本発明をメモリ回路と関連づけて説明し
てきたが、本発明はメモリ回路に限られることは
なく、同様な回路に適用可能である。更にメモリ
回路でも特にSBDと抵抗とその並列回路を負荷
としてもつメモリセルを例として述べてきたが、
この負荷回路として、線形及び非線形負荷をもつ
てきても本発明を同様に適用できうる。
Although the present invention has been described above in connection with a memory circuit, the present invention is not limited to memory circuits and can be applied to similar circuits. Furthermore, in the case of memory circuits, we have specifically discussed memory cells that have SBDs, resistors, and their parallel circuits as loads, but
The present invention can be similarly applied even if linear and nonlinear loads are used as the load circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来例としてのメモリセル駆動回路
図、第2図は、第1図の回路の各所の電位を示し
た図、第3図は、従来のメモリセルで使用されて
いた電源、第4図は、本発明の一実施例を説明す
る回路図、第5図は、特開昭53−75829に於ける
メモリセル回路図、第6及び第7図は、読出し電
流源回路図、第8図はもう1つの実施例である、
第5図のメモリセルに好適な参照電圧発生回路図
である。
FIG. 1 is a diagram of a memory cell drive circuit as a conventional example, FIG. 2 is a diagram showing potentials at various points in the circuit of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a circuit diagram explaining one embodiment of the present invention, FIG. 5 is a memory cell circuit diagram in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-75829, and FIGS. 6 and 7 are read current source circuit diagrams. FIG. 8 is another example,
6 is a diagram of a reference voltage generation circuit suitable for the memory cell of FIG. 5. FIG.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ベースとコレクタがクロスカツプル接続され
た一対のマルチ・エミツタ・トランジスタの第1
エミツタが共通に接続され、該一対のマルチ・エ
ミツタ・トランジスタのコレクタに抵抗とダイオ
ードとの並列接続の負荷回路が接続されたメモリ
セルと、 上記メモリセルの上記一対のマルチ・エミツ
タ・トランジスタの第2エミツタに接続された読
み出し・書き込み制御回路とを具備し、 該読み出し・書き込み制御回路は、 そのエミツタが共通に接続された第1と第2と
第3のトランジスタと、 該第1のトランジスタのコレクタにその一端が
接続された第1の抵抗と、 該第2のトランジスタのコレクタにその一端が
接続された第2の抵抗と、 その一端が上記第1の抵抗の他端と上記第2の
抵抗の他端と上記第3のトランジスタのコレクタ
とに接続された第3の抵抗と、 そのベースとそのエミツタとが上記第1のトラ
ンジスタのコレクタと上記一対のマルチ・エミツ
タ・トランジスタの第2エミツタの一方にそれぞ
れ接続された第4のトランジスタと、 そのベースとそのエミツタとが上記第2のトラ
ンジスタのコレクタと上記一対のマルチ・エミツ
タ・トランジスタの第2エミツタの他方にそれぞ
れ接続された第5のトランジスタと、 そのベースに第1基準電圧発生回路から発生さ
れた第1基準電圧が印加され、そのコレクタが上
記第1と第2と第3のトランジスタの上記共通エ
ミツタに接続された第1電流源トランジスタと、 そのベースに第2基準電圧発生回路から発生さ
れた第2基準電圧が印加され、そのコレクタが上
記第1と第2と第3のトランジスタの上記共通エ
ミツタに接続された第2電流源トランジスタとを
具備してなり、 上記第1基準電圧発生回路は抵抗とダイオード
との並列接続とコレクタ・ベース短絡接続トラン
ジスタとの直列接続から構成され、該直列接続に
電流を供給することにより上記第1基準電圧を発
生し、 上記第2基準電圧発生回路は抵抗とダイオード
との並列接続の一端と他の抵抗と他のダイオード
との他の並列接続の一端とにそのベースとコレク
タとがそれぞれ接続されたトランジスタとから構
成され、上記並列接続の他端と上記他の並列接続
の他端とを共通接続して電流を供給することによ
り上記第2基準電圧を発生したことを特徴とする
半導体メモリ回路。
[Claims] 1. A first of a pair of multi-emitter transistors whose bases and collectors are cross-coupled connected.
a memory cell whose emitters are connected in common, and a load circuit having a parallel connection of a resistor and a diode is connected to the collectors of the pair of multi-emitter transistors; a read/write control circuit connected to two emitters of the first transistor, a first transistor, a second transistor, and a third transistor whose emitters are commonly connected; a first resistor whose one end is connected to the collector of the second transistor; a second resistor whose one end is connected to the collector of the second transistor; and one end of which is connected to the other end of the first resistor and the second resistor. a third resistor connected to the other end of the resistor and the collector of the third transistor; and a third resistor whose base and emitter are connected to the collector of the first transistor and the second emitter of the pair of multi-emitter transistors. a fourth transistor whose base and emitter are respectively connected to the collector of the second transistor and the other of the second emitters of the pair of multi-emitter transistors; a first current source to which a first reference voltage generated from a first reference voltage generation circuit is applied to its base and whose collector is connected to the common emitter of the first, second, and third transistors; a second current source to which a second reference voltage generated from a second reference voltage generation circuit is applied to its base and whose collector is connected to the common emitter of the first, second, and third transistors; The first reference voltage generating circuit includes a parallel connection of a resistor and a diode, and a series connection of a collector-base short-circuited transistor, and by supplying current to the series connection, the first reference voltage generation circuit The base and collector of the second reference voltage generating circuit are connected to one end of a parallel connection between a resistor and a diode and one end of another parallel connection between another resistor and another diode, respectively. the second reference voltage is generated by commonly connecting the other end of the parallel connection and the other end of the other parallel connection and supplying a current. circuit.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0740568U (en) * 1993-12-28 1995-07-18 吉沢 浅子 Containers for food products, etc. with containers that comply with food hygiene standards

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JPS52104827A (en) * 1976-03-01 1977-09-02 Hitachi Ltd Current source circuit
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JPS56159894A (en) * 1980-05-09 1981-12-09 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Storage device

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