JPH05243037A - 磁界発生装置 - Google Patents
磁界発生装置Info
- Publication number
- JPH05243037A JPH05243037A JP4044474A JP4447492A JPH05243037A JP H05243037 A JPH05243037 A JP H05243037A JP 4044474 A JP4044474 A JP 4044474A JP 4447492 A JP4447492 A JP 4447492A JP H05243037 A JPH05243037 A JP H05243037A
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- JP
- Japan
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- magnetic field
- pole piece
- magnetic
- flux density
- magnetic material
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＭＲＩ装置用永久磁石方式内磁型磁界発生装
置において、空隙の磁束密度および均一度を向上させる
ための方法を提案する。 【構成】 空隙に均一磁界を発生させる磁界発生装置に
おいて、ヨークおよび支柱を構成する軟質磁性材料の飽
和磁束密度を、ポールピースを構成する軟質磁性材料の
飽和磁束密度よりも高くすることにとり、空隙に従来技
術より１００Ｇ以上の強い磁界を発生させることを可能
とした。また、ポールピースを上下方向に移動可能な中
央部と永久磁石に固着した周縁部とに分け、周縁部の肉
厚を中央部の肉厚より厚くし、ポールピースの周縁部を
構成する軟質磁性材料として、中央部を構成する軟質磁
性材料よりも飽和磁束密度の高い材料を用いることによ
り良好な均一磁界を発生させることを可能とした。
置において、空隙の磁束密度および均一度を向上させる
ための方法を提案する。 【構成】 空隙に均一磁界を発生させる磁界発生装置に
おいて、ヨークおよび支柱を構成する軟質磁性材料の飽
和磁束密度を、ポールピースを構成する軟質磁性材料の
飽和磁束密度よりも高くすることにとり、空隙に従来技
術より１００Ｇ以上の強い磁界を発生させることを可能
とした。また、ポールピースを上下方向に移動可能な中
央部と永久磁石に固着した周縁部とに分け、周縁部の肉
厚を中央部の肉厚より厚くし、ポールピースの周縁部を
構成する軟質磁性材料として、中央部を構成する軟質磁
性材料よりも飽和磁束密度の高い材料を用いることによ
り良好な均一磁界を発生させることを可能とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被検体の断層像を撮影
するための核磁気共鳴撮像装置（以下、ＭＲＩ装置と呼
ぶ）などに用いられる広い空間に高強度かつ高精度で均
一な静磁場を発生させる磁界発生装置に関する。
するための核磁気共鳴撮像装置（以下、ＭＲＩ装置と呼
ぶ）などに用いられる広い空間に高強度かつ高精度で均
一な静磁場を発生させる磁界発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＭＲＩ装置における磁界発生手段として
は、永久磁石方式、常電導磁石方式、超電導磁石方式の
３方式がある。この中で、永久磁石方式は電力やヘリウ
ムの消費を伴わないため最も経済的であり、また比較的
漏洩磁束が少ない、回路がコンパクトであるため設置性
に優れている等の長所を有する。さらに近年、強い磁力
を持つ希土類磁石の出現と信号検出装置の性能およびイ
メージング技術の向上によって、永久磁石方式ＭＲＩ装
置は急速に普及している。
は、永久磁石方式、常電導磁石方式、超電導磁石方式の
３方式がある。この中で、永久磁石方式は電力やヘリウ
ムの消費を伴わないため最も経済的であり、また比較的
漏洩磁束が少ない、回路がコンパクトであるため設置性
に優れている等の長所を有する。さらに近年、強い磁力
を持つ希土類磁石の出現と信号検出装置の性能およびイ
メージング技術の向上によって、永久磁石方式ＭＲＩ装
置は急速に普及している。
【０００３】ＭＲＩ装置では静磁場の強度と均一性が撮
影画像の画質に影響を及ぼすため、被検体が挿入される
空隙中心付近に高強度かつ１０-4以下の精度で均一な磁
界が要求される。
影画像の画質に影響を及ぼすため、被検体が挿入される
空隙中心付近に高強度かつ１０-4以下の精度で均一な磁
界が要求される。
【０００４】従来の永久磁石方式の磁界発生装置におい
ては、高強度な静磁界を発生させるために、特開昭６２
−２５６４１６に開示される如く永久磁石の外周部を傾
斜させ空隙中心に磁束を集中させる方法、特開平２−２
６０３に開示される如くポールピースの一部を磁性体の
積層構造とすることにより、ポールピース側面部付近か
らの漏洩磁束を減少させて空隙中心の磁束密度を向上さ
せる方法などが取られていた。また、高精度で均一な磁
界を発生させるために、特開昭６０−２５７１０９に開
示される如く支柱上部にボルトを設け空隙長さを調節す
る方法、特開昭６２−１１２１０６に開示される如くポ
ールピース空隙対向面に磁性体小片を着設して空隙磁界
を調節する方法などが用いられていた。
ては、高強度な静磁界を発生させるために、特開昭６２
−２５６４１６に開示される如く永久磁石の外周部を傾
斜させ空隙中心に磁束を集中させる方法、特開平２−２
６０３に開示される如くポールピースの一部を磁性体の
積層構造とすることにより、ポールピース側面部付近か
らの漏洩磁束を減少させて空隙中心の磁束密度を向上さ
せる方法などが取られていた。また、高精度で均一な磁
界を発生させるために、特開昭６０−２５７１０９に開
示される如く支柱上部にボルトを設け空隙長さを調節す
る方法、特開昭６２−１１２１０６に開示される如くポ
ールピース空隙対向面に磁性体小片を着設して空隙磁界
を調節する方法などが用いられていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】特開昭６２−２５６４
１６に開示されている従来技術においては、永久磁石を
空隙に対して凹状湾曲面を形成して配置するため、永久
磁石の加工が比較的困難であり、また組み立ては極めて
困難であるため組み立て誤差が生じ易く、それが空隙の
磁界の均一度に悪影響を与えるという問題点を有してい
る。
１６に開示されている従来技術においては、永久磁石を
空隙に対して凹状湾曲面を形成して配置するため、永久
磁石の加工が比較的困難であり、また組み立ては極めて
困難であるため組み立て誤差が生じ易く、それが空隙の
磁界の均一度に悪影響を与えるという問題点を有してい
る。
【０００６】特開平２−２６０３に開示されている従来
技術においてもまた、ポールピースの周縁部を磁性体を
積層して構成する複雑な構造となっているため、空隙の
均一化が非常に困難であった。
技術においてもまた、ポールピースの周縁部を磁性体を
積層して構成する複雑な構造となっているため、空隙の
均一化が非常に困難であった。
【０００７】特開昭６０−２５７１０９および特開昭６
２−１１２１０６に開示されている従来技術では、空隙
磁界の微調整が困難であった。
２−１１２１０６に開示されている従来技術では、空隙
磁界の微調整が困難であった。
【０００８】そこで、本発明の目的とするところは、構
造を複雑化することなく空隙の磁場強度を向上させる手
段および空隙磁界の微調整の可能な新たな磁界均一化手
段を提案することである。
造を複雑化することなく空隙の磁場強度を向上させる手
段および空隙磁界の微調整の可能な新たな磁界均一化手
段を提案することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の磁界発生装置
は、磁場を発生させるための永久磁石部と、磁界を均一
にするための軟質磁性材料からなるポールピースと、磁
気回路を構成するための軟質磁性材料からなるヨークお
よび支柱とからなり、前記ヨークおよび支柱を構成する
軟質磁性材料の飽和磁束密度は、前記ポールピースを構
成する軟質磁性材料の飽和磁束密度よりも高いことを特
徴とする。
は、磁場を発生させるための永久磁石部と、磁界を均一
にするための軟質磁性材料からなるポールピースと、磁
気回路を構成するための軟質磁性材料からなるヨークお
よび支柱とからなり、前記ヨークおよび支柱を構成する
軟質磁性材料の飽和磁束密度は、前記ポールピースを構
成する軟質磁性材料の飽和磁束密度よりも高いことを特
徴とする。
【００１０】本発明の磁界発生装置は、磁場を発生させ
るための永久磁石部と、磁界を均一にするための軟質磁
性材料からなるポールピースと、磁気回路を構成するた
めの軟質磁性材料からなるヨークおよび支柱とからな
り、前記ポールピースは上下方向に移動可能な中央部と
前記永久磁石に固着された周縁部とから構成され、周縁
部の肉厚は中央部の肉厚より厚いことを特徴とする。ま
た、前記ポールピースの周縁部を構成する軟質磁性材料
の飽和磁束密度は、中央部を構成する軟質磁性材料の飽
和磁束密度よりも高いことを特徴とする。
るための永久磁石部と、磁界を均一にするための軟質磁
性材料からなるポールピースと、磁気回路を構成するた
めの軟質磁性材料からなるヨークおよび支柱とからな
り、前記ポールピースは上下方向に移動可能な中央部と
前記永久磁石に固着された周縁部とから構成され、周縁
部の肉厚は中央部の肉厚より厚いことを特徴とする。ま
た、前記ポールピースの周縁部を構成する軟質磁性材料
の飽和磁束密度は、中央部を構成する軟質磁性材料の飽
和磁束密度よりも高いことを特徴とする。
【００１１】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００１２】（実施例１） 図１は本発明の実施例にお
ける磁界発生装置に用いる磁気回路を示す縦断面図およ
び横断面図である。本磁界発生装置は空隙７を形成して
対向する一対の略円管状永久磁石部１の空隙側に一対の
ポールピース２を着設し、これらを各々磁性体からなる
ヨーク３と支柱４で磁気的結合して磁気回路を構成して
いる。ポールピースは上下方向に移動可能な中央部２１
と永久磁石に固定された周縁部２２とからなり、さらに
中央部２１の永久磁石側には上下方向に移動するための
移動用ボルト８が固着されている。ヨーク中央部２１に
は移動用ボルト８と同径、同ピッチのネジが切られてお
り、移動用ボルト８がヨーク３に設けられたネジ穴を上
下方向に移動することによりポールピース中央部２１も
上下方向に移動する構造となっている。また、ポールピ
ース中央部２１の肉厚は周縁部２２の肉厚より薄く構成
されている。４本の支柱４の上部には空隙長さを調整す
るための調整用ボルト５を設けた。
ける磁界発生装置に用いる磁気回路を示す縦断面図およ
び横断面図である。本磁界発生装置は空隙７を形成して
対向する一対の略円管状永久磁石部１の空隙側に一対の
ポールピース２を着設し、これらを各々磁性体からなる
ヨーク３と支柱４で磁気的結合して磁気回路を構成して
いる。ポールピースは上下方向に移動可能な中央部２１
と永久磁石に固定された周縁部２２とからなり、さらに
中央部２１の永久磁石側には上下方向に移動するための
移動用ボルト８が固着されている。ヨーク中央部２１に
は移動用ボルト８と同径、同ピッチのネジが切られてお
り、移動用ボルト８がヨーク３に設けられたネジ穴を上
下方向に移動することによりポールピース中央部２１も
上下方向に移動する構造となっている。また、ポールピ
ース中央部２１の肉厚は周縁部２２の肉厚より薄く構成
されている。４本の支柱４の上部には空隙長さを調整す
るための調整用ボルト５を設けた。
【００１３】ヨーク３と支柱４を構成する軟質磁性材料
として飽和磁化が１２０００Ｇと１５０００Ｇの２種類
のＳＳ４１を用い、ポールピース２を構成する軟質磁性
材料として飽和磁化１００００Ｇ、１５０００Ｇ、２０
０００Ｇの３種類の電磁軟鉄を用いたときの空隙中心の
磁束密度を測定した結果を表１および図２に示す。
として飽和磁化が１２０００Ｇと１５０００Ｇの２種類
のＳＳ４１を用い、ポールピース２を構成する軟質磁性
材料として飽和磁化１００００Ｇ、１５０００Ｇ、２０
０００Ｇの３種類の電磁軟鉄を用いたときの空隙中心の
磁束密度を測定した結果を表１および図２に示す。
【００１４】
【表１】
【００１５】この結果からわかるようにヨーク３および
支柱４の材料の飽和磁束密度が、ポールピース２の材料
の飽和磁束密度より高い方が、高い空隙中心磁束密度を
得られることがわかる。従来技術においては、ポールピ
ース２の材料の飽和磁束密度は１６０００Ｇ、ヨーク３
および支柱４の材料の飽和磁束密度は１２０００Ｇ程度
であるが、この場合の中心磁束密度は１７６０．８４Ｇ
であり、本実施例では１８７７．８８Ｇと従来例に比べ
１００Ｇ以上の向上が観られた。
支柱４の材料の飽和磁束密度が、ポールピース２の材料
の飽和磁束密度より高い方が、高い空隙中心磁束密度を
得られることがわかる。従来技術においては、ポールピ
ース２の材料の飽和磁束密度は１６０００Ｇ、ヨーク３
および支柱４の材料の飽和磁束密度は１２０００Ｇ程度
であるが、この場合の中心磁束密度は１７６０．８４Ｇ
であり、本実施例では１８７７．８８Ｇと従来例に比べ
１００Ｇ以上の向上が観られた。
【００１６】図４は磁界を測定する領域を表わす説明図
である。上記の磁気回路の上下のポールピース２の中心
点を結ぶ直線の中心点を空隙中心と定義し、空隙中心を
中心をした直径３００ｍｍの球の表面を測定して空間の
磁界均一度を評価する。（ｒ，θ，φ）を球座標とする
と、本実施例においてはｒは１５０ｍｍ、θおよびφは
３０°毎の値をとる。このように球空間の表面を３０°
ピッチで５つの横断面に分割し、分割した各面上３０°
ピッチで磁束密度を測定する。この方法で測定された６
０点と空隙中心および球の最上点と最下点の計６３点で
磁界分布を評価した。
である。上記の磁気回路の上下のポールピース２の中心
点を結ぶ直線の中心点を空隙中心と定義し、空隙中心を
中心をした直径３００ｍｍの球の表面を測定して空間の
磁界均一度を評価する。（ｒ，θ，φ）を球座標とする
と、本実施例においてはｒは１５０ｍｍ、θおよびφは
３０°毎の値をとる。このように球空間の表面を３０°
ピッチで５つの横断面に分割し、分割した各面上３０°
ピッチで磁束密度を測定する。この方法で測定された６
０点と空隙中心および球の最上点と最下点の計６３点で
磁界分布を評価した。
【００１７】また、ポールピース間距離（空隙長さ）は
５５０ｍｍに設定した。
５５０ｍｍに設定した。
【００１８】ここで使用する永久磁石１は 、磁気回路
の重量増加を避け、かつ強い中心磁束密度を得るために
最大エネルギー積（ＢＨ）maxが２５メガガウスエルス
テッド（ＭＧＯｅ）以上であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系、ある
いはＰｒ−Ｆｅ−Ｂ系などの希土類磁石が望ましい。本
実施例においては、基本組成がＰｒ１７原子％、Ｆｅ７
６．５原子％、Ｂ５．０原子％、Ｃｕ１．５原子％で、
熱間／圧延加工によって製造された希土類磁石で、最大
エネルギー積が２８．０ＭＧＯｅのものを１．２５ton
使用した。
の重量増加を避け、かつ強い中心磁束密度を得るために
最大エネルギー積（ＢＨ）maxが２５メガガウスエルス
テッド（ＭＧＯｅ）以上であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系、ある
いはＰｒ−Ｆｅ−Ｂ系などの希土類磁石が望ましい。本
実施例においては、基本組成がＰｒ１７原子％、Ｆｅ７
６．５原子％、Ｂ５．０原子％、Ｃｕ１．５原子％で、
熱間／圧延加工によって製造された希土類磁石で、最大
エネルギー積が２８．０ＭＧＯｅのものを１．２５ton
使用した。
【００１９】（実施例２）次に、空隙の磁界均一度を向
上させるための方法について説明する。図２は本発明の
実施例における磁気回路の部分縦断面図である。一般に
図３に示すように空隙中心か半径方向ｒに遠ざかるにつ
れて磁束密度は低下し、空隙中心から軸方向ｚに遠ざか
るにつれて磁束密度は上昇する傾向がある。しかし、こ
れは空隙磁界の均一度という点からすると望ましい傾向
ではない。この傾向を補正するために、従来はポールピ
ース２の空隙対向面に磁性体小片９を着設する方法、支
柱４上部のボルト５により空隙長さを変化させる方法な
どが用いられていた。しかし、これらの調整方法では細
かい調整が不可能であるため新たな磁界調整方法を実施
した。
上させるための方法について説明する。図２は本発明の
実施例における磁気回路の部分縦断面図である。一般に
図３に示すように空隙中心か半径方向ｒに遠ざかるにつ
れて磁束密度は低下し、空隙中心から軸方向ｚに遠ざか
るにつれて磁束密度は上昇する傾向がある。しかし、こ
れは空隙磁界の均一度という点からすると望ましい傾向
ではない。この傾向を補正するために、従来はポールピ
ース２の空隙対向面に磁性体小片９を着設する方法、支
柱４上部のボルト５により空隙長さを変化させる方法な
どが用いられていた。しかし、これらの調整方法では細
かい調整が不可能であるため新たな磁界調整方法を実施
した。
【００２０】先に述べたように、本実施例における磁気
回路においてはポールピースは上下方向に移動可能な中
央部２１と永久磁石部１に固着された周縁部２２に分割
され、それらの肉厚が中央部２１より周縁部２２の方が
厚くなるように構成されてしる。これは図３に示す傾向
を補正するためである。そしてポールピース中央部２１
を上下方向に移動させることにより空隙の磁界均一度を
微調整することを可能としている。また、さらに補正効
果を高めるためにポールピース中央部材と周縁部材の飽
和磁束密度を変え、ポールピース中央部を上下方向に移
動させて調整した。この場合の結果を表２に示す。本実
施例においては、飽和磁束密度が１００００Ｇ、１２０
００Ｇの２種類の電磁軟鉄を用いた。このとき、ヨーク
３および支柱４に用いた材料は飽和磁束密度が１５００
０ＧのＳＳ４１であり、永久磁石、空隙長さなどの条件
は実施例１と同様である。この結果から明かなように、
ポールピースの中央部材の飽和磁束密度が周縁部材の飽
和磁束密度より低い方が良好な均一磁界が得られること
が確認できる。
回路においてはポールピースは上下方向に移動可能な中
央部２１と永久磁石部１に固着された周縁部２２に分割
され、それらの肉厚が中央部２１より周縁部２２の方が
厚くなるように構成されてしる。これは図３に示す傾向
を補正するためである。そしてポールピース中央部２１
を上下方向に移動させることにより空隙の磁界均一度を
微調整することを可能としている。また、さらに補正効
果を高めるためにポールピース中央部材と周縁部材の飽
和磁束密度を変え、ポールピース中央部を上下方向に移
動させて調整した。この場合の結果を表２に示す。本実
施例においては、飽和磁束密度が１００００Ｇ、１２０
００Ｇの２種類の電磁軟鉄を用いた。このとき、ヨーク
３および支柱４に用いた材料は飽和磁束密度が１５００
０ＧのＳＳ４１であり、永久磁石、空隙長さなどの条件
は実施例１と同様である。この結果から明かなように、
ポールピースの中央部材の飽和磁束密度が周縁部材の飽
和磁束密度より低い方が良好な均一磁界が得られること
が確認できる。
【００２１】
【表２】
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、空隙
に均一磁界を発生させる磁界発生装置において、ヨーク
および支柱を構成する軟質磁性材料の飽和磁束密度を、
ポールピースを構成する軟質磁性材料の飽和磁束密度よ
りも高くすることにとり、空隙に従来技術より１００Ｇ
以上の強い磁界を発生させることを可能とした。また、
ポールピースを上下方向に移動可能な中央部と永久磁石
に固着した周縁部とに分け、周縁部の肉厚を中央部の肉
厚より厚くし、ポールピースの周縁部を構成する軟質磁
性材料として、中央部を構成する軟質磁性材料よりも飽
和磁束密度の高い材料を用いることにより良好な均一磁
界を発生させることを可能とした。
に均一磁界を発生させる磁界発生装置において、ヨーク
および支柱を構成する軟質磁性材料の飽和磁束密度を、
ポールピースを構成する軟質磁性材料の飽和磁束密度よ
りも高くすることにとり、空隙に従来技術より１００Ｇ
以上の強い磁界を発生させることを可能とした。また、
ポールピースを上下方向に移動可能な中央部と永久磁石
に固着した周縁部とに分け、周縁部の肉厚を中央部の肉
厚より厚くし、ポールピースの周縁部を構成する軟質磁
性材料として、中央部を構成する軟質磁性材料よりも飽
和磁束密度の高い材料を用いることにより良好な均一磁
界を発生させることを可能とした。
【図１】本発明の実施例における磁界発生装置の磁気回
路の基本構造を示す横断面図と縦断面図。
路の基本構造を示す横断面図と縦断面図。
【図２】本発明の実施例における磁界発生装置の磁気回
路のポールピース部分の縦断面図。
路のポールピース部分の縦断面図。
【図３】空隙の磁束分布を表す説明図。
【図４】空隙の磁束密度の測定点を表す説明図。
【図５】従来技術における磁界発生装置の磁気回路を表
す説明図。
す説明図。
１ 永久磁石 ２１ ポールピース中央部 ２２ ポールピース周縁部 ３ ヨーク ４ 支柱 ５ 調整用ボルト ６ カバー ７ 空隙 ８ 移動用ボルト ９ 磁性体小片
Claims (3)
- 【請求項１】 空隙に均一磁界を発生させる磁界発生装
置において、磁場を発生させるための永久磁石部と、磁
界を均一にするための軟質磁性材料からなるポールピー
スと、磁気回路を構成するための軟質磁性材料からなる
ヨークおよび支柱とからなり、前記ヨークおよび支柱を
構成する軟質磁性材料の飽和磁束密度は、前記ポールピ
ースを構成する軟質磁性材料の飽和磁束密度よりも高い
ことを特徴とする磁界発生装置。 - 【請求項２】 空隙に均一磁界を発生させる磁界発生装
置において、磁場を発生させるための永久磁石部と、磁
界を均一にするための軟質磁性材料からなるポールピー
スと、磁気回路を構成するための軟質磁性材料からなる
ヨークおよび支柱とからなり、前記ポールピースは上下
方向に移動可能な中央部と前記永久磁石に固着された周
縁部とから構成され、周縁部の肉厚は中央部の肉厚より
厚いことを特徴とする磁界発生装置。 - 【請求項３】 前記ポールピースの周縁部を構成する軟
質磁性材料の飽和磁束密度は、中央部を構成する軟質磁
性材料の飽和磁束密度よりも高いことを特徴とする請求
項２記載の磁界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4044474A JPH05243037A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | 磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4044474A JPH05243037A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | 磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05243037A true JPH05243037A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12692527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4044474A Pending JPH05243037A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | 磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05243037A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6236043B1 (en) | 1997-05-09 | 2001-05-22 | Hitachi, Ltd. | Electromagnet and magnetic field generating apparatus |
| US7245128B2 (en) | 2004-07-02 | 2007-07-17 | Hitachi, Ltd. | Magnetic resonance imaging apparatus and magnet apparatus therefor |
| CN104376958A (zh) * | 2014-11-21 | 2015-02-25 | 国网重庆市电力公司电力科学研究院 | 一种永磁体装置 |
| EP2812901A4 (en) * | 2012-02-10 | 2015-06-24 | Nanalysis Corp | POLE |
| CN113092572A (zh) * | 2021-04-09 | 2021-07-09 | 中国矿业大学 | 一种管道达到磁饱和所需磁化强度的确定方法 |
-
1992
- 1992-03-02 JP JP4044474A patent/JPH05243037A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6236043B1 (en) | 1997-05-09 | 2001-05-22 | Hitachi, Ltd. | Electromagnet and magnetic field generating apparatus |
| US6365894B2 (en) | 1997-05-09 | 2002-04-02 | Hitachi, Ltd. | Electromagnet and magnetic field generating apparatus |
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