JPH05226228A - Ｘ線発生装置及びｘ線反射鏡光軸合わせ方法 - Google Patents
Ｘ線発生装置及びｘ線反射鏡光軸合わせ方法Info
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- JPH05226228A JPH05226228A JP4027658A JP2765892A JPH05226228A JP H05226228 A JPH05226228 A JP H05226228A JP 4027658 A JP4027658 A JP 4027658A JP 2765892 A JP2765892 A JP 2765892A JP H05226228 A JPH05226228 A JP H05226228A
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- ray
- reflecting mirror
- optical axis
- mirror
- axis
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はＸ線発生装置及びＸ線反射鏡光軸合
わせ方法に関し、Ｘ線反射鏡の光軸合わせを正確に、且
つ短時間でできるＸ線発生装置及びＸ線反射鏡光軸合わ
せ方法を実現することを目的とする。 【構成】 Ｘ線光源１０と、Ｘ線反射鏡１２と、該Ｘ線
光源１０とＸ線反射鏡１２との間に設けられ且つ複数の
透過孔１６を有する遮蔽板１１と、該遮蔽板１１の位置
を調整する位置調整機構と、前記Ｘ線反射鏡１２の姿勢
を調整することができる６軸制御装置１３と、Ｘ線光源
１０からのＸ線が遮蔽板１１の透過孔１６を通過した複
数ビームの位置を検出するＸ線検出器１４と、Ｘ線反射
鏡１２で反射されたビームの最適位置を計算するマイク
ロプロセッサ１５とを具備して成るように構成する。
わせ方法に関し、Ｘ線反射鏡の光軸合わせを正確に、且
つ短時間でできるＸ線発生装置及びＸ線反射鏡光軸合わ
せ方法を実現することを目的とする。 【構成】 Ｘ線光源１０と、Ｘ線反射鏡１２と、該Ｘ線
光源１０とＸ線反射鏡１２との間に設けられ且つ複数の
透過孔１６を有する遮蔽板１１と、該遮蔽板１１の位置
を調整する位置調整機構と、前記Ｘ線反射鏡１２の姿勢
を調整することができる６軸制御装置１３と、Ｘ線光源
１０からのＸ線が遮蔽板１１の透過孔１６を通過した複
数ビームの位置を検出するＸ線検出器１４と、Ｘ線反射
鏡１２で反射されたビームの最適位置を計算するマイク
ロプロセッサ１５とを具備して成るように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＸ線発生装置に関する。
詳しくは、Ｘ線反射鏡を有するＸ線発生装置において、
高精度なＸ線反射鏡の光軸合わせ方法及び、その方法を
実現できるＸ線発生装置に関する。
詳しくは、Ｘ線反射鏡を有するＸ線発生装置において、
高精度なＸ線反射鏡の光軸合わせ方法及び、その方法を
実現できるＸ線発生装置に関する。
【０００２】超ＬＳＩと呼ばれるような半導体集積回路
の製造においては、サブミクロン加工技術の重要性が近
年益々大きくなってきている。かかる状勢の中で半導体
集積回路製造のリソグラフィ工程において、強度が桁違
いに大きく且つ平行性が優れているＳＯＲ光（シンクロ
トロン放射光）を露光用光源として利用する方法が盛ん
に研究されている。しかし、これが将来製造技術として
定着するためにはＸ線反射鏡によるＸ線波長帯の最適化
が必要であり、また、より露光時間を短縮するために、
集光鏡による高強度化が重要な課題である。
の製造においては、サブミクロン加工技術の重要性が近
年益々大きくなってきている。かかる状勢の中で半導体
集積回路製造のリソグラフィ工程において、強度が桁違
いに大きく且つ平行性が優れているＳＯＲ光（シンクロ
トロン放射光）を露光用光源として利用する方法が盛ん
に研究されている。しかし、これが将来製造技術として
定着するためにはＸ線反射鏡によるＸ線波長帯の最適化
が必要であり、また、より露光時間を短縮するために、
集光鏡による高強度化が重要な課題である。
【０００３】
【従来の技術】ＳＯＲ露光においては、Ｘ線から可視光
にわたる連続スペクトルのなかからＸ線露光に適した波
長帯（０．５nm〜１．５nm）だけを取り出すためのバン
ドパスフィルタが必要になるが、短波長Ｘ線の除去フィ
ルタとしては全反射を利用したＸ線反射鏡が用いられ
る。図２は反射鏡に対するＳＯＲ光の視射角と反射され
るＸ線の波長との関係を示す図である。また、このＸ線
反射鏡をトロイダル鏡やシリンドリカル鏡等の湾曲面を
有する鏡にし、Ｘ線を集光することによって単位面積あ
たりのＸ線強度が高められている。
にわたる連続スペクトルのなかからＸ線露光に適した波
長帯（０．５nm〜１．５nm）だけを取り出すためのバン
ドパスフィルタが必要になるが、短波長Ｘ線の除去フィ
ルタとしては全反射を利用したＸ線反射鏡が用いられ
る。図２は反射鏡に対するＳＯＲ光の視射角と反射され
るＸ線の波長との関係を示す図である。また、このＸ線
反射鏡をトロイダル鏡やシリンドリカル鏡等の湾曲面を
有する鏡にし、Ｘ線を集光することによって単位面積あ
たりのＸ線強度が高められている。
【０００４】図３はＸ線反射鏡を有する従来のＳＯＲ装
置の概略図である。これは同図に示すように、電子蓄積
リング１、Ｐｔ又はＡｕ等の金属蒸着膜が施されたＸ線
反射鏡２、ビームライン３などにより構成されており、
電子蓄積リング１から放射されたＳＯＲ光４はＸ線反射
鏡２によって反射された後、ビームライン３を通過し、
ベリリウム窓５から出射してＸ線露光室６に導かれ、マ
スク７を通してウエハ８を露光するようになっている。
置の概略図である。これは同図に示すように、電子蓄積
リング１、Ｐｔ又はＡｕ等の金属蒸着膜が施されたＸ線
反射鏡２、ビームライン３などにより構成されており、
電子蓄積リング１から放射されたＳＯＲ光４はＸ線反射
鏡２によって反射された後、ビームライン３を通過し、
ベリリウム窓５から出射してＸ線露光室６に導かれ、マ
スク７を通してウエハ８を露光するようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のＳＯＲ装置
において、Ｘ線反射鏡２の位置合わせを行う際、図４に
示すように３個の並進自由度Ｘ，Ｙ，Ｚおよび３個の回
転自由度のα，θ，φがあるが、トロイダル鏡やシリン
ドリカル鏡等を用いた場合、これらの各軸を正確に合わ
せることが必要である。図５に一例としてφ軸が理想状
態からずれたときの反射鏡表面での照射位置、およびウ
エハ上での照射ビームの形状を示す。φ軸が正確に合っ
ていないとウエハ上での照射ビーム形状に歪が生じ、ウ
エハ上での水平方向の強度分布が一様でなくなるという
問題がある。
において、Ｘ線反射鏡２の位置合わせを行う際、図４に
示すように３個の並進自由度Ｘ，Ｙ，Ｚおよび３個の回
転自由度のα，θ，φがあるが、トロイダル鏡やシリン
ドリカル鏡等を用いた場合、これらの各軸を正確に合わ
せることが必要である。図５に一例としてφ軸が理想状
態からずれたときの反射鏡表面での照射位置、およびウ
エハ上での照射ビームの形状を示す。φ軸が正確に合っ
ていないとウエハ上での照射ビーム形状に歪が生じ、ウ
エハ上での水平方向の強度分布が一様でなくなるという
問題がある。
【０００６】また、設計通りの反射スペクトルを得るた
めにはθ軸を正確に合わせる必要がある。さらにα軸が
合っていないと反射ビームが露光位置において水平方向
にずれてしまうという問題がある。従来は、これらの軸
を正確に合わせるために蛍光スクリーンに写された反射
光の形状を眼で観察したり、実際に露光して強度分布を
調べるといった手段を用いていたため、Ｘ線反射鏡の光
軸合わせには時間がかかるという問題があった。
めにはθ軸を正確に合わせる必要がある。さらにα軸が
合っていないと反射ビームが露光位置において水平方向
にずれてしまうという問題がある。従来は、これらの軸
を正確に合わせるために蛍光スクリーンに写された反射
光の形状を眼で観察したり、実際に露光して強度分布を
調べるといった手段を用いていたため、Ｘ線反射鏡の光
軸合わせには時間がかかるという問題があった。
【０００７】本発明は、Ｘ線反射鏡の光軸合わせが正確
に、且つ短時間でできるＸ線発生装置及びＸ線反射鏡光
軸合わせ方法を実現しようとする。
に、且つ短時間でできるＸ線発生装置及びＸ線反射鏡光
軸合わせ方法を実現しようとする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のＸ線発生装置に
於いては、Ｘ線光源１０と、Ｘ線反射鏡１２と、該Ｘ線
光源１０とＸ線反射鏡１２との間に設けられ且つ複数の
透過孔１６を有する遮蔽板１１と、該遮蔽板１１の位置
を調整する位置調整機構と、前記Ｘ線反射鏡１２の姿勢
を調整することができる６軸制御装置１３と、Ｘ線光源
１０からのＸ線が遮蔽板１１の透過孔１６を通過した複
数ビームの位置を検出するＸ線検出器１４と、Ｘ線反射
鏡１２で反射されたビームの最適位置を計算するマイク
ロプロセッサ１５とを具備して成ることを特徴とする。
於いては、Ｘ線光源１０と、Ｘ線反射鏡１２と、該Ｘ線
光源１０とＸ線反射鏡１２との間に設けられ且つ複数の
透過孔１６を有する遮蔽板１１と、該遮蔽板１１の位置
を調整する位置調整機構と、前記Ｘ線反射鏡１２の姿勢
を調整することができる６軸制御装置１３と、Ｘ線光源
１０からのＸ線が遮蔽板１１の透過孔１６を通過した複
数ビームの位置を検出するＸ線検出器１４と、Ｘ線反射
鏡１２で反射されたビームの最適位置を計算するマイク
ロプロセッサ１５とを具備して成ることを特徴とする。
【０００９】また、本発明のＸ線光軸合わせ方法に於い
ては、前記Ｘ線発生装置において、複数の反射ビームの
観測面における照射位置Ｐｉを、計算によって得られる
理想的な位置Ｃｉに一致させるようにＸ線反射鏡１２の
姿勢を機械的な試行錯誤により繰返し調整することを特
徴とする。
ては、前記Ｘ線発生装置において、複数の反射ビームの
観測面における照射位置Ｐｉを、計算によって得られる
理想的な位置Ｃｉに一致させるようにＸ線反射鏡１２の
姿勢を機械的な試行錯誤により繰返し調整することを特
徴とする。
【００１０】また、本発明のＸ線光軸合わせ方法に於い
ては、前記Ｘ線発生装置において、複数の反射ビームの
観測面における照射位置Ｐｉと計算によって得られる位
置Ｃｉが一致するようなＸ線反射鏡の計算上の調整条件
を最小二乗法によって算出し、この結果から所定の補正
をして、Ｘ線反射鏡の光軸合わせをおこなうことを特徴
とする。この構成を採ることにより、Ｘ線反射鏡の光軸
合わせを正確に行うことができ、且つ調整が短時間でで
きるＸ線発生装置及びＸ線光軸合わせ方法が得られる。
ては、前記Ｘ線発生装置において、複数の反射ビームの
観測面における照射位置Ｐｉと計算によって得られる位
置Ｃｉが一致するようなＸ線反射鏡の計算上の調整条件
を最小二乗法によって算出し、この結果から所定の補正
をして、Ｘ線反射鏡の光軸合わせをおこなうことを特徴
とする。この構成を採ることにより、Ｘ線反射鏡の光軸
合わせを正確に行うことができ、且つ調整が短時間でで
きるＸ線発生装置及びＸ線光軸合わせ方法が得られる。
【００１１】
【作用】図１に示すように、Ｘ線光源１０とＸ線反射鏡
１２との間に複数個のＸ線透過孔１６を有する遮蔽板１
１を挿入し、これらの透過孔１６を透過するビームがＸ
線反射鏡１２によって反射された後、観測面に照射する
座標Ｐｉを測定し、計算によって得られる理想的な座標
Ｃｉに一致させることにより、ＳＯＲ光の光軸に対して
Ｘ線反射鏡１２の位置を正確に合わせることができ、所
望の強度分布を常に得ることが可能となる。
１２との間に複数個のＸ線透過孔１６を有する遮蔽板１
１を挿入し、これらの透過孔１６を透過するビームがＸ
線反射鏡１２によって反射された後、観測面に照射する
座標Ｐｉを測定し、計算によって得られる理想的な座標
Ｃｉに一致させることにより、ＳＯＲ光の光軸に対して
Ｘ線反射鏡１２の位置を正確に合わせることができ、所
望の強度分布を常に得ることが可能となる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明のＸ線発生装置の実施例を示す
図である。同図において、１０はＳＯＲ光を用いたＸ線
光源、１１は遮蔽板、１２はＸ線反射鏡、１３は６軸制
御装置、１４はＸ線検出器、１５はマイクロプロセッサ
をそれぞれ示している。そして、遮蔽板１１はＸ線を透
過しない材料の板に一列に並んだ複数の（図では５個）
の透過孔１６と、その両端に設けられた透過孔位置補正
用フォトダイオード１７，１７′とを有し、２個の直線
導入器１８，１８′で該遮蔽板の上下位置を調整できる
ようになっている。
図である。同図において、１０はＳＯＲ光を用いたＸ線
光源、１１は遮蔽板、１２はＸ線反射鏡、１３は６軸制
御装置、１４はＸ線検出器、１５はマイクロプロセッサ
をそれぞれ示している。そして、遮蔽板１１はＸ線を透
過しない材料の板に一列に並んだ複数の（図では５個）
の透過孔１６と、その両端に設けられた透過孔位置補正
用フォトダイオード１７，１７′とを有し、２個の直線
導入器１８，１８′で該遮蔽板の上下位置を調整できる
ようになっている。
【００１３】また、Ｘ線反射鏡１２は６軸制御装置１３
に取り付けられ、遮蔽板１１に対しＸ線光源１０の反対
側に配置されている。また、Ｘ線検出器１４は二次元Ｃ
ＣＤ等が用いられ、Ｘ線ビームの位置を検出できるよう
になっている。また、マイクロプロセッサ１５はＸ線ビ
ームの理想的な位置を計算でき、さらにＸ線検出器１４
の出力を計算して６軸制御装置１３を駆動し、反射鏡１
２の姿勢を制御できるようになっている。
に取り付けられ、遮蔽板１１に対しＸ線光源１０の反対
側に配置されている。また、Ｘ線検出器１４は二次元Ｃ
ＣＤ等が用いられ、Ｘ線ビームの位置を検出できるよう
になっている。また、マイクロプロセッサ１５はＸ線ビ
ームの理想的な位置を計算でき、さらにＸ線検出器１４
の出力を計算して６軸制御装置１３を駆動し、反射鏡１
２の姿勢を制御できるようになっている。
【００１４】このように構成されたＸ線発生装置におけ
る本発明のＸ線反射鏡の光軸合わせ方法の第１の実施例
を次に説明する。ＳＯＲ光は電子が描く円軌道の軌道面
内で最大となり、軌道面から上下にずれるほど弱くな
る。この強度分布はガウス分布に近い形をしている。こ
のため、本方法では、先ず透過孔１６がＳＯＲ光の垂直
方向の強度の最大の位置（軌道面内）に位置するように
フォトダイオード１７，１７′のＸ線検出信号が最大に
なるように直線導入器１８，１８′で調整する。
る本発明のＸ線反射鏡の光軸合わせ方法の第１の実施例
を次に説明する。ＳＯＲ光は電子が描く円軌道の軌道面
内で最大となり、軌道面から上下にずれるほど弱くな
る。この強度分布はガウス分布に近い形をしている。こ
のため、本方法では、先ず透過孔１６がＳＯＲ光の垂直
方向の強度の最大の位置（軌道面内）に位置するように
フォトダイオード１７，１７′のＸ線検出信号が最大に
なるように直線導入器１８，１８′で調整する。
【００１５】次に各透過孔１６を透過したビームがＸ線
反射鏡１２により反射された後の反射ビーム１９の位置
Ｐ1 〜Ｐ5 およびＸ線反射鏡１２が入射ビームから退避
したときの直進するビームの位置Ｏ1 〜Ｏ5 をＸ線検出
器１４で検出する。Ｘ線検出器１４の出力はマイクロプ
ロセッサ１５に送られ、Ｘ線反射鏡１２が理想的に光軸
合わせされている場合の反射ビームが照射する位置Ｃ1
〜Ｃ5 とのずれが計算される。理想的な反射ビームの照
射位置は光線追跡手法を用いて計算することができる。
反射鏡１２により反射された後の反射ビーム１９の位置
Ｐ1 〜Ｐ5 およびＸ線反射鏡１２が入射ビームから退避
したときの直進するビームの位置Ｏ1 〜Ｏ5 をＸ線検出
器１４で検出する。Ｘ線検出器１４の出力はマイクロプ
ロセッサ１５に送られ、Ｘ線反射鏡１２が理想的に光軸
合わせされている場合の反射ビームが照射する位置Ｃ1
〜Ｃ5 とのずれが計算される。理想的な反射ビームの照
射位置は光線追跡手法を用いて計算することができる。
【００１６】次にＸ線検出器１４上の座標の取りかたを
示す。Ｘ線反射鏡１２が入射ビームから退避したとき直
進するビームの検出される位置が基準にされる。すなわ
ち、点Ｏ3 をＸ′，Ｚ′座標の原点にとり、Ｏ1 〜Ｏ5
方向にＸ′軸を、また、これに直交するようにＺ′軸を
とる。次にＸ線反射鏡１２の６個の調整軸について、各
軸を個々に動かしながらＰ1 〜Ｐ5 がＣ1 〜Ｃ5 に一致
するように機械的な試行錯誤により繰返し調整すること
によりＸ線反射鏡１２の光軸合わせを行うことができ
る。
示す。Ｘ線反射鏡１２が入射ビームから退避したとき直
進するビームの検出される位置が基準にされる。すなわ
ち、点Ｏ3 をＸ′，Ｚ′座標の原点にとり、Ｏ1 〜Ｏ5
方向にＸ′軸を、また、これに直交するようにＺ′軸を
とる。次にＸ線反射鏡１２の６個の調整軸について、各
軸を個々に動かしながらＰ1 〜Ｐ5 がＣ1 〜Ｃ5 に一致
するように機械的な試行錯誤により繰返し調整すること
によりＸ線反射鏡１２の光軸合わせを行うことができ
る。
【００１７】以上のＸ線反射鏡の光軸合わせは機械的な
試行錯誤による方法であるが、次に第２の実施例として
マイクロプロセッサの試行錯誤による方法を説明する。
以下に各軸の補正量を算出する方法の一例を示す。先ず
ＱｉをＸ線反射鏡１２の６軸の調整パラメータが理想的
な値からδＸ，δＹ，δＺ，δα，δφ，δθだけずれ
た条件下での光線追跡によって計算された位置とする。
Ｐｉ（ｉ＝１，５）とＱｉ（ｉ＝１，５）の距離の二乗
の和をＬ2 とする。Ｌ2 はδＸ，δＹ，δＺ，δα，δ
φ，δθの関数として以下のように記述できる。
試行錯誤による方法であるが、次に第２の実施例として
マイクロプロセッサの試行錯誤による方法を説明する。
以下に各軸の補正量を算出する方法の一例を示す。先ず
ＱｉをＸ線反射鏡１２の６軸の調整パラメータが理想的
な値からδＸ，δＹ，δＺ，δα，δφ，δθだけずれ
た条件下での光線追跡によって計算された位置とする。
Ｐｉ（ｉ＝１，５）とＱｉ（ｉ＝１，５）の距離の二乗
の和をＬ2 とする。Ｌ2 はδＸ，δＹ，δＺ，δα，δ
φ，δθの関数として以下のように記述できる。
【００１８】
【数１】
【００１９】この関数に関して６変数の非線型最小二乗
フィッティングをおこなうことにより、現時点における
６個の調整パラメーターのずれを計算することができ
る。したがって、実際に−δＸ，−δＹ，−δＺ，−δ
α，−δφ，−δθの分だけＸ線反射鏡を動かしてやれ
ば良い。必要に応じて、この手続を数回繰り返すことに
より反射ビームの位置Ｐ1 〜Ｐ5 を反射ビームの理想的
な位置Ｃ1 〜Ｃ5 に近づける（一致させる）ことができ
る。この方法では、マイクロプロセッサ上で光線追跡お
よび最小二乗法の計算をソフトウェアを用いておこない
Ｘ線反射鏡１２の６軸制御装置１３にフィードバックさ
せることにより光軸調整をおこなっている。
フィッティングをおこなうことにより、現時点における
６個の調整パラメーターのずれを計算することができ
る。したがって、実際に−δＸ，−δＹ，−δＺ，−δ
α，−δφ，−δθの分だけＸ線反射鏡を動かしてやれ
ば良い。必要に応じて、この手続を数回繰り返すことに
より反射ビームの位置Ｐ1 〜Ｐ5 を反射ビームの理想的
な位置Ｃ1 〜Ｃ5 に近づける（一致させる）ことができ
る。この方法では、マイクロプロセッサ上で光線追跡お
よび最小二乗法の計算をソフトウェアを用いておこない
Ｘ線反射鏡１２の６軸制御装置１３にフィードバックさ
せることにより光軸調整をおこなっている。
【００２０】
【発明の効果】本発明に依れば、Ｘ線反射鏡をＳＯＲ光
の実際の光軸に正確に合わせることが可能となる。従っ
てトロイダル鏡やシリンドリカル鏡等において一様な強
度分布を得ることができ、Ｘ線露光の品質向上に寄与す
ることができる。
の実際の光軸に正確に合わせることが可能となる。従っ
てトロイダル鏡やシリンドリカル鏡等において一様な強
度分布を得ることができ、Ｘ線露光の品質向上に寄与す
ることができる。
【図１】本発明のＸ線発生装置の実施例を示す図であ
る。
る。
【図２】反射鏡に対する視射角と反射されるＸ線の波長
との関係を示す図で、（ａ）は視射角を説明する図、
（ｂ）は視射角と波長との関係を示す図である。
との関係を示す図で、（ａ）は視射角を説明する図、
（ｂ）は視射角と波長との関係を示す図である。
【図３】Ｘ線反射鏡を有する従来のＳＯＲ装置を示す図
である。
である。
【図４】反射鏡の自由度を示す図である。
【図５】ウエハ上での照射ビームの形状を示す図であ
る。
る。
【符号の説明】 １０…Ｘ線光源 １１…遮蔽板 １２…Ｘ線反射鏡 １３…６軸制御装置 １４…Ｘ線検出器 １５…マイクロプロセッサ １６…透過孔 １７，１７′…透過孔位置補正用フォトダイオード １８，１８′…直線導入器 １９…反射ビーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｇ 1/00
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｘ線光源（１０）と、Ｘ線反射鏡（１
２）と、該Ｘ線光源（１０）とＸ線反射鏡（１２）との
間に設けられ且つ複数の透過孔（１６）を有する遮蔽板
（１１）と、該遮蔽板（１１）の位置を調整する位置調
整機構と、前記Ｘ線反射鏡（１２）の姿勢を調整するこ
とができる６軸制御装置（１３）と、Ｘ線光源（１０）
からのＸ線が遮蔽板（１１）の透過孔（１６）を通過し
た複数ビームの位置を検出するＸ線検出器（１４）と、
Ｘ線反射鏡（１２）で反射されたビームの最適位置を計
算するマイクロプロセッサ（１５）とを具備して成るこ
とを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 請求項１のＸ線発生装置において、複数
の反射ビームの観測面における照射位置Ｐｉを、計算に
よって得られる理想的な位置Ｃｉに一致させるようにＸ
線反射鏡（１２）の姿勢を機械的な試行錯誤により繰返
し調整することを特徴とするＸ線反射鏡光軸合わせ方
法。 - 【請求項３】 請求項１のＸ線発生装置において、複数
の反射ビームの観測面における照射位置Ｐｉと、計算に
よって得られる位置Ｃｉが一致するようなＸ線反射鏡の
計算上の調整条件を最小二乗法によって算出し、この結
果から所定の補正をして、Ｘ線反射鏡の光軸合わせをお
こなうことを特徴とするＸ線反射鏡光軸合わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4027658A JPH05226228A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | Ｘ線発生装置及びｘ線反射鏡光軸合わせ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4027658A JPH05226228A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | Ｘ線発生装置及びｘ線反射鏡光軸合わせ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05226228A true JPH05226228A (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=12227034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4027658A Withdrawn JPH05226228A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | Ｘ線発生装置及びｘ線反射鏡光軸合わせ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05226228A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002048673A (ja) * | 2000-08-04 | 2002-02-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子又は光学系の物理量測定方法 |
-
1992
- 1992-02-14 JP JP4027658A patent/JPH05226228A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002048673A (ja) * | 2000-08-04 | 2002-02-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子又は光学系の物理量測定方法 |
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