JPH05222365A - 光刺戟性リン光体 - Google Patents
光刺戟性リン光体Info
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- JPH05222365A JPH05222365A JP27372392A JP27372392A JPH05222365A JP H05222365 A JPH05222365 A JP H05222365A JP 27372392 A JP27372392 A JP 27372392A JP 27372392 A JP27372392 A JP 27372392A JP H05222365 A JPH05222365 A JP H05222365A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 透過性放射線で照射したとき貯蔵エネルギー
の暗減衰が低いリン光体、このリン光体を結合剤層中に
分散して含有するＸ線スクリーンまたはパネル、及びこ
のパネルによる透過性放射線のパターンの記録と再生の
方法を提供する。 【構成】 式 Ba1-x-y-p-3q-ZSrxMy IIM2p IM2q IIIF2-a-bBraXb : zA の範囲内の光刺戟性リン光体である。（ＸはＣｌ及び／
又はＩ、ＭI はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及び／又はＣｓ、
ＭIIはＣａ及び／又はＭｇ、ＭIII はＡｌ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｔｌ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｙ又は３価ランタニド例えばＬ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈ
ｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕから選択した１種以上の
金属、ａはｘが０．１７≦ｘ≦０．５５のとき０．８５
≦ａ≦０．９６で、ｘが０．１２≦ｘ≦０．１７のとき
０．９０≦ａ≦０．９６であり、ｙは０≦ｙ≦０．１
０、ｂは０≦ｂ＜０．１５、ｐは０＜ｐ≦０．３、ｑは
０≦ｑ≦０．１、ｚは１０-6≦ｚ≦１０-2、ＡはＥｕ2+
である。）
の暗減衰が低いリン光体、このリン光体を結合剤層中に
分散して含有するＸ線スクリーンまたはパネル、及びこ
のパネルによる透過性放射線のパターンの記録と再生の
方法を提供する。 【構成】 式 Ba1-x-y-p-3q-ZSrxMy IIM2p IM2q IIIF2-a-bBraXb : zA の範囲内の光刺戟性リン光体である。（ＸはＣｌ及び／
又はＩ、ＭI はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及び／又はＣｓ、
ＭIIはＣａ及び／又はＭｇ、ＭIII はＡｌ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｔｌ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｙ又は３価ランタニド例えばＬ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈ
ｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕから選択した１種以上の
金属、ａはｘが０．１７≦ｘ≦０．５５のとき０．８５
≦ａ≦０．９６で、ｘが０．１２≦ｘ≦０．１７のとき
０．９０≦ａ≦０．９６であり、ｙは０≦ｙ≦０．１
０、ｂは０≦ｂ＜０．１５、ｐは０＜ｐ≦０．３、ｑは
０≦ｑ≦０．１、ｚは１０-6≦ｚ≦１０-2、ＡはＥｕ2+
である。）
Description
【０００１】本発明は透過性放射線に露光後、光刺戟時
に蛍光を放射する貯蔵リン光体に関する。
に蛍光を放射する貯蔵リン光体に関する。
【０００２】放射線写真においては、被写体の内部を透
過性放射線により再生される、この透過性放射線はＸ
線、γ線及び高エネルギー元素粒放射線、例えばβ線、
電子ビーム又は中性子放射線の群に属するイオン化放射
線としても知られている高エネルギー放射線である。透
過性放射線を可視光及び／又は紫外放射線に変えるた
め、リン光体と称される発光物質が使用される。
過性放射線により再生される、この透過性放射線はＸ
線、γ線及び高エネルギー元素粒放射線、例えばβ線、
電子ビーム又は中性子放射線の群に属するイオン化放射
線としても知られている高エネルギー放射線である。透
過性放射線を可視光及び／又は紫外放射線に変えるた
め、リン光体と称される発光物質が使用される。
【０００３】従来の放射線写真法において、Ｘ線写真は
被写体を通って像に従って透過し、いわゆる増感スクリ
ーン（Ｘ線変換スクリーン）中で相当する強度の光に変
えられるＸ線によって得られる、前記スクリーンにおい
て、リン光体粒子は透過されたＸ線を吸収し、それら
を、写真フィルムがＸ線の直接衝撃に対するよりも感光
性である可視光及び／又は紫外放射線に変える。
被写体を通って像に従って透過し、いわゆる増感スクリ
ーン（Ｘ線変換スクリーン）中で相当する強度の光に変
えられるＸ線によって得られる、前記スクリーンにおい
て、リン光体粒子は透過されたＸ線を吸収し、それら
を、写真フィルムがＸ線の直接衝撃に対するよりも感光
性である可視光及び／又は紫外放射線に変える。
【０００４】実際に、前記スクリーンによって像に従っ
て放射された光は、接触している写真ハロゲン化銀乳剤
層フィルムを照射する、これは露光後現像し、その中で
Ｘ線像と一致した銀像を形成する。
て放射された光は、接触している写真ハロゲン化銀乳剤
層フィルムを照射する、これは露光後現像し、その中で
Ｘ線像と一致した銀像を形成する。
【０００５】最近、例えばＵＳ−Ｐ３８５９５２７に記
載されている如く、Ｘ線照射時に直後発光（即発発光）
に加えて、Ｘ線エネルギーの大部分を一時的に貯蔵する
性質を有する光刺戟性貯蔵リン光体を使用するＸ線記録
法が開発された。前記エネルギーは光刺戟に使用した光
とは波長において異なる蛍光の形で光刺戟によって放出
される。前記Ｘ線記録法において、光刺戟時に放射され
る光は光電子的に検出され、逐次電気信号に変えられ
る。
載されている如く、Ｘ線照射時に直後発光（即発発光）
に加えて、Ｘ線エネルギーの大部分を一時的に貯蔵する
性質を有する光刺戟性貯蔵リン光体を使用するＸ線記録
法が開発された。前記エネルギーは光刺戟に使用した光
とは波長において異なる蛍光の形で光刺戟によって放出
される。前記Ｘ線記録法において、光刺戟時に放射され
る光は光電子的に検出され、逐次電気信号に変えられ
る。
【０００６】光刺戟性貯蔵リン光体で操作するかかるＸ
線像形成装置の基本構成成分は、一時的にＸ線エネルギ
ーパターンを貯蔵する通常プレート又はパネル中に粒子
の形で前記リン光体を含有する像形成センサー、光刺戟
のための走査レーザービーム、アナログ信号（これは続
いてデイジタル時系列信号に変えられる）を生ぜしめる
光電子光検出器、通常像をデイジタル的に操作するデイ
ジタル像処理器、信号記録器例えば磁気盤又はテープ、
及び写真フィルムの変調露光のための像記録器又は電子
信号表示装置例えば陰極線管である。光刺戟性潜在蛍光
像の読み取りに有用なレーザーの調査は Research Dis
closure １９８９年１２月、item ３０８１１７に与え
られている。
線像形成装置の基本構成成分は、一時的にＸ線エネルギ
ーパターンを貯蔵する通常プレート又はパネル中に粒子
の形で前記リン光体を含有する像形成センサー、光刺戟
のための走査レーザービーム、アナログ信号（これは続
いてデイジタル時系列信号に変えられる）を生ぜしめる
光電子光検出器、通常像をデイジタル的に操作するデイ
ジタル像処理器、信号記録器例えば磁気盤又はテープ、
及び写真フィルムの変調露光のための像記録器又は電子
信号表示装置例えば陰極線管である。光刺戟性潜在蛍光
像の読み取りに有用なレーザーの調査は Research Dis
closure １９８９年１２月、item ３０８１１７に与え
られている。
【０００７】前記像記録及び再生法の応用において特に
興味あるものは、ＵＳ−Ｐ４２３９９６８に明らかにさ
れている特定のフルオロハロゲン化バリウムリン光体で
ある。ヘリウム−ネオンレーザービーム（６３３ｎｍ）
で刺戟したときこれらのリン光体の光出力は、貯蔵リン
光体の光刺戟で操作する放射線写真の分野での基本特許
であるＵＳ−Ｐ３８５９５２７に記載されたＳｒＳ：
０．０００１Ｅｕ，０．０００１Ｓｍ光刺戟性リン光体
の被刺戟光出力に匹敵する。
興味あるものは、ＵＳ−Ｐ４２３９９６８に明らかにさ
れている特定のフルオロハロゲン化バリウムリン光体で
ある。ヘリウム−ネオンレーザービーム（６３３ｎｍ）
で刺戟したときこれらのリン光体の光出力は、貯蔵リン
光体の光刺戟で操作する放射線写真の分野での基本特許
であるＵＳ−Ｐ３８５９５２７に記載されたＳｒＳ：
０．０００１Ｅｕ，０．０００１Ｓｍ光刺戟性リン光体
の被刺戟光出力に匹敵する。
【０００８】ＵＳ−Ｐ４２３９９６８によれば、（ｉ）
可視線もしくは赤外線刺戟性リン光体に被写体を通過す
る放射線を吸収させる工程、（ii）前記リン光体を可視
線及び赤外線から選択した刺戟線で刺戟してその中に貯
蔵された放射線のエネルギーを蛍光として放出させる工
程を含む放射線像を記録し、再生する方法が記載され、
前記リン光体は式 （Ｂａ1-x Ｍx II ）ＦＸ：ｙＡ （式中ＭIIはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ及びＣｄの１種以
上であり；ＸはＢｒ、Ｃｌ又はＩの１種以上であり；Ａ
はＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、
Ｙｂ及びＥｒからなる群の少なくとも１種であり；ｘは
０≦ｘ≦６の範囲であり、ｙは０≦ｙ≦０．２の範囲で
ある）によって表わされるアルカリ土類金属フルオロハ
ロゲン化物リン光体の群から選択した少なくとも１種の
リン光体であり、前記刺戟線の波長は５００ｎｍ以上で
あることを特徴としている。
可視線もしくは赤外線刺戟性リン光体に被写体を通過す
る放射線を吸収させる工程、（ii）前記リン光体を可視
線及び赤外線から選択した刺戟線で刺戟してその中に貯
蔵された放射線のエネルギーを蛍光として放出させる工
程を含む放射線像を記録し、再生する方法が記載され、
前記リン光体は式 （Ｂａ1-x Ｍx II ）ＦＸ：ｙＡ （式中ＭIIはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ及びＣｄの１種以
上であり；ＸはＢｒ、Ｃｌ又はＩの１種以上であり；Ａ
はＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、
Ｙｂ及びＥｒからなる群の少なくとも１種であり；ｘは
０≦ｘ≦６の範囲であり、ｙは０≦ｙ≦０．２の範囲で
ある）によって表わされるアルカリ土類金属フルオロハ
ロゲン化物リン光体の群から選択した少なくとも１種の
リン光体であり、前記刺戟線の波長は５００ｎｍ以上で
あることを特徴としている。
【０００９】前記ＵＳ−Ｐの図３において、グラフが刺
戟線の波長と被刺戟光の発光の間の関係を示している、
即ち前記種類のリン光体がＨｅ−Ｎｅレーザービーム
（６３３ｎｍ）の刺戟光に対し高い光刺戟感度を有する
が、５００ｎｍ未満の劣った光刺戟性を有することを知
ることができる。被刺戟光（蛍光）は約３９０ｎｍで極
大を有し、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲に位置してい
る（定期刊行物、Radiology １９８３年９月、８３４頁
参照）。
戟線の波長と被刺戟光の発光の間の関係を示している、
即ち前記種類のリン光体がＨｅ−Ｎｅレーザービーム
（６３３ｎｍ）の刺戟光に対し高い光刺戟感度を有する
が、５００ｎｍ未満の劣った光刺戟性を有することを知
ることができる。被刺戟光（蛍光）は約３９０ｎｍで極
大を有し、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲に位置してい
る（定期刊行物、Radiology １９８３年９月、８３４頁
参照）。
【００１０】前記ＵＳ−Ｐ４２３９９６８から、赤外線
刺戟性リン光体よりも可視線刺戟性リン光体を使用する
ことが望ましいことを知ることができる、何故ならば赤
外線刺戟性リン光体の捕捉は可視線刺戟性リン光体のこ
れらよりも狭く、従って赤外線刺戟性リン光体を含む放
射線像貯蔵パネルは比較的急速な暗減衰（退行）を示す
からである。像退行を考慮に入れると、読みとりは透過
性放射線への像に従って露光後比較的直ぐに行わなけれ
ばならず、読みとり時間（走査時間）はかなり短く保た
なければならない。事実前記ＵＳ−Ｐに説明されている
如く、赤外線刺戟性リン光体を含むパネルを赤外線で走
査し、それから放射された蛍光を電気的に処理すると
き、パネルの全面を走査するために一定の時間を要し、
従ってパネルの初期部分及び最終部分がたとえ前もって
同じ量の放射線を吸収したとしても、初期出力と最終出
力の間に差を生じる可能性がある。
刺戟性リン光体よりも可視線刺戟性リン光体を使用する
ことが望ましいことを知ることができる、何故ならば赤
外線刺戟性リン光体の捕捉は可視線刺戟性リン光体のこ
れらよりも狭く、従って赤外線刺戟性リン光体を含む放
射線像貯蔵パネルは比較的急速な暗減衰（退行）を示す
からである。像退行を考慮に入れると、読みとりは透過
性放射線への像に従って露光後比較的直ぐに行わなけれ
ばならず、読みとり時間（走査時間）はかなり短く保た
なければならない。事実前記ＵＳ−Ｐに説明されている
如く、赤外線刺戟性リン光体を含むパネルを赤外線で走
査し、それから放射された蛍光を電気的に処理すると
き、パネルの全面を走査するために一定の時間を要し、
従ってパネルの初期部分及び最終部分がたとえ前もって
同じ量の放射線を吸収したとしても、初期出力と最終出
力の間に差を生じる可能性がある。
【００１１】前述した問題を解決するため、退行を避け
るためできる限り深い捕捉を有する光刺戟性貯蔵リン光
体を使用すること、そして前記捕捉を空にするため、６
３３ｎｍの通常のＨｅ−Ｎｅレーザービームよりも実質
的に大なる光子エネルギー（短波長）を有する光線を使
用することが望ましい。
るためできる限り深い捕捉を有する光刺戟性貯蔵リン光
体を使用すること、そして前記捕捉を空にするため、６
３３ｎｍの通常のＨｅ−Ｎｅレーザービームよりも実質
的に大なる光子エネルギー（短波長）を有する光線を使
用することが望ましい。
【００１２】像退行を減ずる目的及びフルオロハロゲン
化バリウムリン光体の蛍光放射が約３９０ｎｍに位置
し、実際上４５０ｎｍにないという事実を考慮に入れる
と、刺戟性光からの被刺戟光の光学フィルター手段によ
る良好な分離を可能にするため、それらの蛍光（被刺戟
光）の発光スペクトルからなお充分に離れた約５００ｎ
ｍで刺戟極大を有するかかるリン光体が好ましい。フィ
ルター手段は刺戟性光を吸収又は拒絶し、それを検出器
装置、例えば被刺戟光の波長範囲にマッチする感度を有
する光電子増倍管に入るのを防ぐ。
化バリウムリン光体の蛍光放射が約３９０ｎｍに位置
し、実際上４５０ｎｍにないという事実を考慮に入れる
と、刺戟性光からの被刺戟光の光学フィルター手段によ
る良好な分離を可能にするため、それらの蛍光（被刺戟
光）の発光スペクトルからなお充分に離れた約５００ｎ
ｍで刺戟極大を有するかかるリン光体が好ましい。フィ
ルター手段は刺戟性光を吸収又は拒絶し、それを検出器
装置、例えば被刺戟光の波長範囲にマッチする感度を有
する光電子増倍管に入るのを防ぐ。
【００１３】普通に使用される６３３ｎｍＨｅ−Ｎｅレ
ーザービームとの比較において短い波長の光を用いる光
刺戟の別の利点は、像鮮鋭度の改良にある、何故なら例
えば５００ｎｍ以下の短い波長の光は、回折格子として
作用する分散したリン光体を結合剤中に含有するリン光
体パネル中で回折されることが小さいからである。
ーザービームとの比較において短い波長の光を用いる光
刺戟の別の利点は、像鮮鋭度の改良にある、何故なら例
えば５００ｎｍ以下の短い波長の光は、回折格子として
作用する分散したリン光体を結合剤中に含有するリン光
体パネル中で回折されることが小さいからである。
【００１４】前述したことを心にとめて、５００ｎｍの
刺戟波長での発光強度が６００ｎｍの刺戟波長での発光
強度より大であるような刺戟性スペクトルを示すリン光
体組成物を配合する計画がなされた。前記目的に好適な
リン光体が、化学量論的に弗素過剰で臭素含有部分を有
する２価ユーロピウム活性化フルオロ臭素化バリウムリ
ン光体の形でＵＳ−Ｐ４５３５２３７に記載されてい
る。
刺戟波長での発光強度が６００ｎｍの刺戟波長での発光
強度より大であるような刺戟性スペクトルを示すリン光
体組成物を配合する計画がなされた。前記目的に好適な
リン光体が、化学量論的に弗素過剰で臭素含有部分を有
する２価ユーロピウム活性化フルオロ臭素化バリウムリ
ン光体の形でＵＳ−Ｐ４５３５２３７に記載されてい
る。
【００１５】前記目的のため作られた２価ユーロピウム
活性化フルオロ臭素化バリウムリン光体は、予め定めら
れた量の弗化バリウム及び理論量より多い量のハロゲン
化バリウム（弗化バリウムを除く）及び３価ユーロピウ
ムの化合物を用いることによって得られる。実施例１に
説明する如く焼成は還元性雰囲気中で行い、Ｅｕ3+をＥ
ｕ2+に変換する。
活性化フルオロ臭素化バリウムリン光体は、予め定めら
れた量の弗化バリウム及び理論量より多い量のハロゲン
化バリウム（弗化バリウムを除く）及び３価ユーロピウ
ムの化合物を用いることによって得られる。実施例１に
説明する如く焼成は還元性雰囲気中で行い、Ｅｕ3+をＥ
ｕ2+に変換する。
【００１６】ＵＳ−Ｐ４５３５２３７のクレーム１によ
れば、５００ｎｍでの刺戟による高い発光強度を有する
リン光体の光刺戟は５５０〜８００ｎｍの波長範囲での
光で行う。
れば、５００ｎｍでの刺戟による高い発光強度を有する
リン光体の光刺戟は５５０〜８００ｎｍの波長範囲での
光で行う。
【００１７】ＵＳ−Ｐ４９４８６９６には下記式によっ
て表わされる２価ユーロピウム活性化複合ハロゲン化物
リン光体が記載されている：
て表わされる２価ユーロピウム活性化複合ハロゲン化物
リン光体が記載されている：
【００１８】ＢａＦＸ．ｘＮａＸ′：ａＥｕ2+ 式中Ｘ及びＸ′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩの少なくと
も一つであり、ｘは０＜ｘ≦１０-1を満たす数であり、
ａは０＜ａ≦０．２を満たす数である。
も一つであり、ｘは０＜ｘ≦１０-1を満たす数であり、
ａは０＜ａ≦０．２を満たす数である。
【００１９】前記リン光体、実際にはＸ、Ｘ′及びｘの
定義により、理論量で弗素より過剰に弗素以外のハロゲ
ンを有する同様のリン光体が特許請求され、この中でそ
のＸ線露光後リン光体が４５０〜１１００ｎｍの波長範
囲での光で光刺戟されている。最後に述べたＵＳ−Ｐの
図１において特定リン光体の与えられた刺戟スペクトル
によれば刺戟極大は６００ｎｍより上にあり、光刺戟可
能性は５００ｎｍ未満でかなり低下する。
定義により、理論量で弗素より過剰に弗素以外のハロゲ
ンを有する同様のリン光体が特許請求され、この中でそ
のＸ線露光後リン光体が４５０〜１１００ｎｍの波長範
囲での光で光刺戟されている。最後に述べたＵＳ−Ｐの
図１において特定リン光体の与えられた刺戟スペクトル
によれば刺戟極大は６００ｎｍより上にあり、光刺戟可
能性は５００ｎｍ未満でかなり低下する。
【００２０】ヨーロッパ特許００２１３４２（ＵＳ−Ｐ
４５１２９１１も参照）に、リン光体の主材料の構成成
分として適切量で特定のアルカリ金属弗化物、特定の２
価金属弗化物及び特定の３価金属弗化物をリン光体中に
混入することによって光刺戟時に放射される光の輝度が
増強される稀土類元素活性化複合ハロゲン化物リン光体
が記載されており、このリン光体は下記式で表わされ
る：
４５１２９１１も参照）に、リン光体の主材料の構成成
分として適切量で特定のアルカリ金属弗化物、特定の２
価金属弗化物及び特定の３価金属弗化物をリン光体中に
混入することによって光刺戟時に放射される光の輝度が
増強される稀土類元素活性化複合ハロゲン化物リン光体
が記載されており、このリン光体は下記式で表わされ
る：
【００２１】BaF2.aBaX2.bMgF2.cMeIF.dMeIIF2.eMeIIIF
3 : fLn
3 : fLn
【００２２】式中Ｘは塩素、臭素及び沃素からなる群か
ら選択した少なくとも１種のハロゲンであり、ＭｅI は
リチウム及びナトリウムからなる群から選択した少なく
とも１種のアルカリ金属であり、ＭIIはベリリウム、カ
ルシウム及びストロンチウムからなる群から選択した少
なくとも１種の２価金属であり、ＭｅIII はアルミニウ
ム、ガリウム、イツトリウム及びランタンからなる群か
ら選択した少なくとも１種の３価金属であり、Ｌｎはユ
ーロピウム、セリウム及びテルビウムからなる群から選
択した少なくとも１種の稀土類元素であり、ａ、ｂ、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆは０．９０≦ａ≦１．０５、０≦ｂ≦
１．２、０≦ｃ≦０．９、０≦ｄ≦１．２、０≦ｅ≦
０．０３、１００-6≦ｆ≦０．０３を満たす数であり、
ｃ＋ｄ＋ｅはゼロに等しくない。
ら選択した少なくとも１種のハロゲンであり、ＭｅI は
リチウム及びナトリウムからなる群から選択した少なく
とも１種のアルカリ金属であり、ＭIIはベリリウム、カ
ルシウム及びストロンチウムからなる群から選択した少
なくとも１種の２価金属であり、ＭｅIII はアルミニウ
ム、ガリウム、イツトリウム及びランタンからなる群か
ら選択した少なくとも１種の３価金属であり、Ｌｎはユ
ーロピウム、セリウム及びテルビウムからなる群から選
択した少なくとも１種の稀土類元素であり、ａ、ｂ、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆは０．９０≦ａ≦１．０５、０≦ｂ≦
１．２、０≦ｃ≦０．９、０≦ｄ≦１．２、０≦ｅ≦
０．０３、１００-6≦ｆ≦０．０３を満たす数であり、
ｃ＋ｄ＋ｅはゼロに等しくない。
【００２３】前記最後に示した式によるリン光体は、Ｘ
線の如きイオン化放射線に露光後、４５０〜８００ｎｍ
の範囲の波長の光によって刺戟されたとき、従来の稀土
類元素活性化２価金属フルオロハロゲン化物リン光体よ
りも大なる輝度の光を放射することが記載されている。
前記リン光体の刺戟スペクトルは与えられておらず、光
刺戟による輝度の測定は、分光器中のキセノンランプに
より放射される光を回折格子を通して通過させることに
より得られた６３０ｎｍの光で行っていた。
線の如きイオン化放射線に露光後、４５０〜８００ｎｍ
の範囲の波長の光によって刺戟されたとき、従来の稀土
類元素活性化２価金属フルオロハロゲン化物リン光体よ
りも大なる輝度の光を放射することが記載されている。
前記リン光体の刺戟スペクトルは与えられておらず、光
刺戟による輝度の測定は、分光器中のキセノンランプに
より放射される光を回折格子を通して通過させることに
より得られた６３０ｎｍの光で行っていた。
【００２４】公開されたヨーロッパ特許出願（ＥＰ−
Ａ）０３４５９０３、０３４５９０４、及び０３４５９
０５（米国出願０７／４２６８４１、０７／４２６８９
５、０７／４２６８９６、及び０７／４２６８９７も参
照）には、前記ＥＰ−Ａ００２１３４２の前述した実験
式の範囲内に入らず、光刺戟時の蛍光の高い歩留りはス
トロンチウムの存在及び単独でとった臭素又は塩素及び
／又は沃素と組合せた臭素より理論量で大なる原子％の
弗素の存在の結果であることを記載している。ＥＰ−Ａ
００２１３４２のクレーム２１に規定された好ましい濃
度範囲外の濃度で、他のハロゲン物に対して理論量で過
剰の弗化物と共にＳｒを存在させることは、例えば公開
されたＥＰ−Ａ０３４５９０３の図６及び公開されたＥ
Ｐ−Ａ０３４５９０４の図３に示された如きＨｅ−Ｎｅ
（６３３ｎｍ）レーザービームで光刺激したときＸ線変
換効率における実質的な増大を驚いたことにもたらす。
Ａ）０３４５９０３、０３４５９０４、及び０３４５９
０５（米国出願０７／４２６８４１、０７／４２６８９
５、０７／４２６８９６、及び０７／４２６８９７も参
照）には、前記ＥＰ−Ａ００２１３４２の前述した実験
式の範囲内に入らず、光刺戟時の蛍光の高い歩留りはス
トロンチウムの存在及び単独でとった臭素又は塩素及び
／又は沃素と組合せた臭素より理論量で大なる原子％の
弗素の存在の結果であることを記載している。ＥＰ−Ａ
００２１３４２のクレーム２１に規定された好ましい濃
度範囲外の濃度で、他のハロゲン物に対して理論量で過
剰の弗化物と共にＳｒを存在させることは、例えば公開
されたＥＰ−Ａ０３４５９０３の図６及び公開されたＥ
Ｐ−Ａ０３４５９０４の図３に示された如きＨｅ−Ｎｅ
（６３３ｎｍ）レーザービームで光刺激したときＸ線変
換効率における実質的な増大を驚いたことにもたらす。
【００２５】公開されたＥＰ−Ａ０３４５９０５に、下
記実験式によって表わされる稀土類金属ドープした弗化
バリウムストロンチウムリン光体が特許請求されてい
る：
記実験式によって表わされる稀土類金属ドープした弗化
バリウムストロンチウムリン光体が特許請求されてい
る：
【００２６】Ba1-xSrxF2-a-bBraXb : zA
【００２７】式中ＸはＣｌ及びＩからなる群から選択し
た少なくとも１員であり、ｘは０＜ｘ＜０．１５の範囲
であり、ａは０．７０≦ａ≦０．９６の範囲であり、ｂ
は０≦ｂ＜０．１５の範囲であり、ｚは１０-7＜ｚ≦
０．１５の範囲であり、ＡはＥｕ2+、又はＥｕ3+、Ｔ
ｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ及びＬ
ｕからなる群から選択した共ドープ剤の１種以上と一緒
のＥｕ2+であり、弗素は臭素単独又は塩素及び／又は沃
素と組合せた臭素よりも大なる原子％で前記リン光体中
に理論量的に存在する。前記最後に述べた公開されたＥ
Ｐ−Ａの図３から、その中に記載された発明実施例１に
より作ったガドリニウム共ドープしたリン光体は５００
ｎｍ未満に最高を有する刺戟スペクトルを特徴としてい
る。ガドリニウム共ドープ剤はＥｕＦ3 、ＢａＦ2 及び
ＳｒＦ2 の存在下ＧｄＦ3 としてリン光体焼成混合物中
に導入されている。ＮＨ4 Ｂｒの量は、臭素に対して理
論量的に過剰で弗素を有するリン光体を得るため、理論
以下の量（理論量の９４．２％）で使用している。
た少なくとも１員であり、ｘは０＜ｘ＜０．１５の範囲
であり、ａは０．７０≦ａ≦０．９６の範囲であり、ｂ
は０≦ｂ＜０．１５の範囲であり、ｚは１０-7＜ｚ≦
０．１５の範囲であり、ＡはＥｕ2+、又はＥｕ3+、Ｔ
ｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ及びＬ
ｕからなる群から選択した共ドープ剤の１種以上と一緒
のＥｕ2+であり、弗素は臭素単独又は塩素及び／又は沃
素と組合せた臭素よりも大なる原子％で前記リン光体中
に理論量的に存在する。前記最後に述べた公開されたＥ
Ｐ−Ａの図３から、その中に記載された発明実施例１に
より作ったガドリニウム共ドープしたリン光体は５００
ｎｍ未満に最高を有する刺戟スペクトルを特徴としてい
る。ガドリニウム共ドープ剤はＥｕＦ3 、ＢａＦ2 及び
ＳｒＦ2 の存在下ＧｄＦ3 としてリン光体焼成混合物中
に導入されている。ＮＨ4 Ｂｒの量は、臭素に対して理
論量的に過剰で弗素を有するリン光体を得るため、理論
以下の量（理論量の９４．２％）で使用している。
【００２８】弗化バリウムの臭化アンモニウムとの焼成
中に、臭化アンモニウムの幾らかが昇華し（５４２
℃）、従って原材料混合物の臭素の全部がリン光体構造
中に配合されない。
中に、臭化アンモニウムの幾らかが昇華し（５４２
℃）、従って原材料混合物の臭素の全部がリン光体構造
中に配合されない。
【００２９】本発明の目的は透過性放射線で照射したと
き貯蔵されたエネルギーの特に低暗減衰を有する新規な
リン光体を提供することにあり、この場合において、前
記リン光体中に貯蔵されたエネルギーが５５０ｎｍ未満
の波長範囲の光での光刺戟により蛍光として効率的に放
出されることができる、従って本来１０６４ｎｍで放射
される固体状態Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの周波数二重化光
（５３２ｎｍ）及び５１４及び４８８ｎｍのその主放射
線に相当するアルゴンイオンレーザーの光が、６３３ｎ
ｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光より光刺戟においてより効率
的に使用できる。前記リン光体は４４２ｎｍで放射する
Ｈｅ−Ｃｄレーザーの光でさえ光刺戟できる。
き貯蔵されたエネルギーの特に低暗減衰を有する新規な
リン光体を提供することにあり、この場合において、前
記リン光体中に貯蔵されたエネルギーが５５０ｎｍ未満
の波長範囲の光での光刺戟により蛍光として効率的に放
出されることができる、従って本来１０６４ｎｍで放射
される固体状態Ｎｄ−ＹＡＧレーザーの周波数二重化光
（５３２ｎｍ）及び５１４及び４８８ｎｍのその主放射
線に相当するアルゴンイオンレーザーの光が、６３３ｎ
ｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光より光刺戟においてより効率
的に使用できる。前記リン光体は４４２ｎｍで放射する
Ｈｅ−Ｃｄレーザーの光でさえ光刺戟できる。
【００３０】本発明の別の目的は結合剤層中に分散した
前記光刺戟性リン光体を含有するＸ線スクリーンまたは
パネルを提供することにある。
前記光刺戟性リン光体を含有するＸ線スクリーンまたは
パネルを提供することにある。
【００３１】本発明の更に別の目的は、分散した形で前
記リン光体を含むパネルによって透過性放射線のパター
ンを記録し、再生する方法を提供し、これによって６０
０ｎｍより上の波長範囲の光での光刺戟によって得るこ
とができるより高鮮鋭度の像を５５０ｎｍ未満の波長範
囲の光で光刺戟したとき生ぜしめる。
記リン光体を含むパネルによって透過性放射線のパター
ンを記録し、再生する方法を提供し、これによって６０
０ｎｍより上の波長範囲の光での光刺戟によって得るこ
とができるより高鮮鋭度の像を５５０ｎｍ未満の波長範
囲の光で光刺戟したとき生ぜしめる。
【００３２】本発明の他の目的及び利点は以下の説明か
ら明らかになるであろう。
ら明らかになるであろう。
【００３３】本発明によれば、下記実験式（Ｉ）の範囲
内にある光刺戟性リン光体を提供する：
内にある光刺戟性リン光体を提供する：
【００３４】 Ba1-x-y-p-3q-ZSrxMy IIM2p IM2q IIIF2-a-bBraXb : zA （Ｉ）
【００３５】式中ＸはＣｌ及びＩからなる群から選択し
た少なくとも１種のハロゲンであり；ＭI はＬｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選択した少なくと
も１種のアルカリ金属であり；ＭIIはＣａ及びＭｇから
なる群から選択した少なくとも１種のアルカリ土類金属
であり；ＭIII はＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｂ、Ｂ
ｉ、Ｙ又は３価ランタニド、例えばＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、
Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙ
ｂ及びＬｕからなる群から選択した少なくとも１種の金
属であり；ａはｘが０．１７≦ｘ≦０．５５であるとき
０．８５≦ａ≦０．９６の条件を満たし、ｘが０．１２
≦ｘ≦０．１７であるとき０．９０≦ａ≦０．９６の条
件を満たす数であり；ｙは０≦ｙ≦０．１０の範囲にあ
り；ｂは０≦ｂ＜０．１５の範囲にあり；ｐは０＜ｐ≦
０．３の範囲にあり；ｑは０≦ｑ≦０．１の範囲にあ
り；ｚは１０-6≦ｚ≦１０-2の範囲にあり；ＡはＥｕ2+
である。
た少なくとも１種のハロゲンであり；ＭI はＬｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群から選択した少なくと
も１種のアルカリ金属であり；ＭIIはＣａ及びＭｇから
なる群から選択した少なくとも１種のアルカリ土類金属
であり；ＭIII はＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｂ、Ｂ
ｉ、Ｙ又は３価ランタニド、例えばＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、
Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙ
ｂ及びＬｕからなる群から選択した少なくとも１種の金
属であり；ａはｘが０．１７≦ｘ≦０．５５であるとき
０．８５≦ａ≦０．９６の条件を満たし、ｘが０．１２
≦ｘ≦０．１７であるとき０．９０≦ａ≦０．９６の条
件を満たす数であり；ｙは０≦ｙ≦０．１０の範囲にあ
り；ｂは０≦ｂ＜０．１５の範囲にあり；ｐは０＜ｐ≦
０．３の範囲にあり；ｑは０≦ｑ≦０．１の範囲にあ
り；ｚは１０-6≦ｚ≦１０-2の範囲にあり；ＡはＥｕ2+
である。
【００３６】前記実験式（Ｉ）による好ましいリン光体
において、弗素は、臭素単独又は塩素と組合せた臭素よ
り化学量論的に少なくとも４〜１０原子％大で存在す
る、従って“ａ”は０．９０≦ａ≦０．９６の範囲にあ
るのが好ましい。
において、弗素は、臭素単独又は塩素と組合せた臭素よ
り化学量論的に少なくとも４〜１０原子％大で存在す
る、従って“ａ”は０．９０≦ａ≦０．９６の範囲にあ
るのが好ましい。
【００３７】本発明により使用する好ましいリン光体に
おいて、ｐは１０-4≦ｐ≦１０-1の範囲にあり、リン光
体の刺戟スペクトルの極大を短い波長にシフトするため
の好ましいアルカリ金属ハロゲン化物は弗化物である。
おいて、ｐは１０-4≦ｐ≦１０-1の範囲にあり、リン光
体の刺戟スペクトルの極大を短い波長にシフトするため
の好ましいアルカリ金属ハロゲン化物は弗化物である。
【００３８】バリウムと組合せたストロンチウムを含有
する本発明による好ましいリン光体において、“ｘ”の
値は、０．９０≦ａ≦０．９６であるとき０．１２≦ｘ
≦０．１７の範囲にあるのが好ましく０．８５≦ａ≦
０．９６であるとき０．５５≦ｘ≦０．１７の範囲にあ
るのが好ましい。
する本発明による好ましいリン光体において、“ｘ”の
値は、０．９０≦ａ≦０．９６であるとき０．１２≦ｘ
≦０．１７の範囲にあるのが好ましく０．８５≦ａ≦
０．９６であるとき０．５５≦ｘ≦０．１７の範囲にあ
るのが好ましい。
【００３９】本発明により使用する好ましいリン光体に
おいて、ＭIII はサマリウム及び／又はＧｄであり、
“ｐ”は１０-5≦ｑ≦１０-2の範囲にある。
おいて、ＭIII はサマリウム及び／又はＧｄであり、
“ｐ”は１０-5≦ｑ≦１０-2の範囲にある。
【００４０】本発明により使用する好ましいリン光体に
おいて、“ｚ”は１０-6≦ｚ≦１０-1の範囲にある。
おいて、“ｚ”は１０-6≦ｚ≦１０-1の範囲にある。
【００４１】本発明により光刺戟性リン光体は、焼成に
当って、出発材料として下記の材料を用いて作るのが好
ましい：
当って、出発材料として下記の材料を用いて作るのが好
ましい：
【００４２】（１）弗化バリウム； （２）臭化アンモニウム； （３）所望によりハロゲン化バリウム（弗化バリウムを
除く）； （４）アルカリ金属化合物、例えば弗化リチウム、塩化
リチウム、臭化リチウム、沃化リチウム、弗化ナトリウ
ム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、弗化カリウム、
弗化ルビジウム、弗化セシウム、水酸化リチウム、酸化
リチウム及び炭酸リチウム（好ましいのは前記弗化物で
ある）、又はそれらの混合物； （５）ハロゲン化ストロンチウム、所望によりハロゲン
化カルシウム及び／又はマグネシウムとの混合物の形で
のハロゲン化ストロンチウム； （６）ＭIII 化合物、例えばＭIII が前述した定義を有
するもののハロゲン化物又は酸化物、好ましいＭIII は
Ｇｄ及び／又はＳｍである； （７）ハロゲン化ユーロピウム、酸化ユーロピウム、硝
酸ユーロピウム及び硫酸ユーロピウム、好ましくは焼成
中Ｅｕ2+イオンを生ぜしめるため還元されるＥｕＦ3 。
除く）； （４）アルカリ金属化合物、例えば弗化リチウム、塩化
リチウム、臭化リチウム、沃化リチウム、弗化ナトリウ
ム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、弗化カリウム、
弗化ルビジウム、弗化セシウム、水酸化リチウム、酸化
リチウム及び炭酸リチウム（好ましいのは前記弗化物で
ある）、又はそれらの混合物； （５）ハロゲン化ストロンチウム、所望によりハロゲン
化カルシウム及び／又はマグネシウムとの混合物の形で
のハロゲン化ストロンチウム； （６）ＭIII 化合物、例えばＭIII が前述した定義を有
するもののハロゲン化物又は酸化物、好ましいＭIII は
Ｇｄ及び／又はＳｍである； （７）ハロゲン化ユーロピウム、酸化ユーロピウム、硝
酸ユーロピウム及び硫酸ユーロピウム、好ましくは焼成
中Ｅｕ2+イオンを生ぜしめるため還元されるＥｕＦ3 。
【００４３】焼成は７００〜１０００℃の温度範囲で、
還元性雰囲気中で行うのが好ましい。
還元性雰囲気中で行うのが好ましい。
【００４４】好ましい実施態様によれば、本発明による
リン光体の製造は下記の如く行う：
リン光体の製造は下記の如く行う：
【００４５】０．８６モルのＢａＦ2 、０．１４モルの
ＳｒＦ2 、０．９８５モルのＮＨ4Ｂｒ及び０．００１
モルのＥｕＦ3 の原料混合物を作った。その混合物に少
量（全固形分に対し０．１〜１重量％の範囲で）のＮａ
Ｂｒ及び／又はＲｂＦを加えた。次にかくして得られた
原料混合物を還元性雰囲気下に７００〜１０００℃の温
度で焼成した。焼成は３時間続けた、しかし１０時間迄
行うことができる。
ＳｒＦ2 、０．９８５モルのＮＨ4Ｂｒ及び０．００１
モルのＥｕＦ3 の原料混合物を作った。その混合物に少
量（全固形分に対し０．１〜１重量％の範囲で）のＮａ
Ｂｒ及び／又はＲｂＦを加えた。次にかくして得られた
原料混合物を還元性雰囲気下に７００〜１０００℃の温
度で焼成した。焼成は３時間続けた、しかし１０時間迄
行うことができる。
【００４６】還元性雰囲気は水素と不活性ガス例えばア
ルゴン又は窒素との混合物であるか、又はその場で水蒸
気と木炭の反応により、水素と一酸化炭素又は水素と二
酸化炭素の混合物で形成する。還元性雰囲気中で３価ユ
ーロピウムの大部分又は全部が２価ユーロピウムに還元
される。
ルゴン又は窒素との混合物であるか、又はその場で水蒸
気と木炭の反応により、水素と一酸化炭素又は水素と二
酸化炭素の混合物で形成する。還元性雰囲気中で３価ユ
ーロピウムの大部分又は全部が２価ユーロピウムに還元
される。
【００４７】焼成完了後得られた生成物を粉末化する。
粉末にした生成物を更に焼成してもよい。多重焼成はリ
ン光体の均質性及び刺戟性を改良するのに有利であるこ
とができる。
粉末にした生成物を更に焼成してもよい。多重焼成はリ
ン光体の均質性及び刺戟性を改良するのに有利であるこ
とができる。
【００４８】本発明によれば、放射線像記録及び再生法
を提供する、この方法は： （ｉ）可視放射線刺戟性リン光体に、被写体を通過した
又は被写体によって放射された透過性放射線を吸収さ
せ、そして前記透過性放射線のエネルギーを前記実験式
（Ｉ）の範囲内にある前記リン光体中に貯蔵させる工
程、 （ii）前記リン光体を、４４０ｎｍ〜５５０ｎｍの波長
範囲、好ましくは４８０ｎｍ〜５４０ｎｍの波長範囲で
の可視放射線で刺戟し、刺戟性光とは波長範囲で異なる
蛍光として前記リン光体中に貯蔵されたエネルギーを放
出させる工程、 (iii) 好ましくは刺戟性光からフィルター手段によって
分離後の前記蛍光を検出する工程 を含む。
を提供する、この方法は： （ｉ）可視放射線刺戟性リン光体に、被写体を通過した
又は被写体によって放射された透過性放射線を吸収さ
せ、そして前記透過性放射線のエネルギーを前記実験式
（Ｉ）の範囲内にある前記リン光体中に貯蔵させる工
程、 （ii）前記リン光体を、４４０ｎｍ〜５５０ｎｍの波長
範囲、好ましくは４８０ｎｍ〜５４０ｎｍの波長範囲で
の可視放射線で刺戟し、刺戟性光とは波長範囲で異なる
蛍光として前記リン光体中に貯蔵されたエネルギーを放
出させる工程、 (iii) 好ましくは刺戟性光からフィルター手段によって
分離後の前記蛍光を検出する工程 を含む。
【００４９】４４０ｎｍ〜５５０ｎｍの波長範囲での刺
戟光を生ぜしめるための好ましい光源は、周波数二重化
（５３２ｎｍ）Ｎｄ−ＹＡＧレーザー、アルゴンイオン
レーザー（そこから４８８ｎｍ線又は５１４．５ｎｍ発
光線を使用する）、及び４４２ｎｍで放射するＨｅ−Ｃ
ｄレーザーである。
戟光を生ぜしめるための好ましい光源は、周波数二重化
（５３２ｎｍ）Ｎｄ−ＹＡＧレーザー、アルゴンイオン
レーザー（そこから４８８ｎｍ線又は５１４．５ｎｍ発
光線を使用する）、及び４４２ｎｍで放射するＨｅ−Ｃ
ｄレーザーである。
【００５０】前記方法で使用するのに好適なフィルター
手段は、カットオフフィルター、透過バンドパスフィル
ター及びバンド拒絶フィルターであることができる。フ
ィルターの種類及びスペクトル透過率級別の調査は、ニ
ューヨークの John Wileyand Sons の A Wiley - In
terscience Publication １９７３年発行、Woodlief
Thomas Jr. 編、SPSE Handbook of Photographic
Science and Engineering の２６４〜３２６頁に与え
られている。
手段は、カットオフフィルター、透過バンドパスフィル
ター及びバンド拒絶フィルターであることができる。フ
ィルターの種類及びスペクトル透過率級別の調査は、ニ
ューヨークの John Wileyand Sons の A Wiley - In
terscience Publication １９７３年発行、Woodlief
Thomas Jr. 編、SPSE Handbook of Photographic
Science and Engineering の２６４〜３２６頁に与え
られている。
【００５１】短い波長を透過し、長い波長を拒絶する短
波パスフィルターは前記 SPSE Handbook の表４．１２
に掲載されている。
波パスフィルターは前記 SPSE Handbook の表４．１２
に掲載されている。
【００５２】限定された波長帯のみを透過し又は拒絶す
るバンドパスフィルターは、それぞれ表４．１３及び表
４．１４に掲載されている。１５０〜３５００ｎｍの波
長にに対する液体及び固体の両方の多くの選択された長
波、短波パス、及びバンドパスフィルターの表は、ロン
ドンの Chapman and Hall １９５７年発行、 PhotSeu
sitors の９章に W. Summer によって与えられてい
る。
るバンドパスフィルターは、それぞれ表４．１３及び表
４．１４に掲載されている。１５０〜３５００ｎｍの波
長にに対する液体及び固体の両方の多くの選択された長
波、短波パス、及びバンドパスフィルターの表は、ロン
ドンの Chapman and Hall １９５７年発行、 PhotSeu
sitors の９章に W. Summer によって与えられてい
る。
【００５３】例えば狭いバンドパスフィルターＳＣＨＯ
ＴＴ ＢＧ３（商標）は本発明の記録及び再生法に応用
するのに適している。
ＴＴ ＢＧ３（商標）は本発明の記録及び再生法に応用
するのに適している。
【００５４】狭いレーザー線の光をブロックするため、
ラマンスペクトロスコピーのため設計されたホログラフ
バンド拒絶フィルターを使用するのが好ましい。かかる
フィルターは Applied Spectroscopy ４５巻、５号
（１９９１年）、７６５〜７７０頁に記載されている。
かかるフィルターは、Raman Holographic Edge （Ｒ
ＨＥ）フィルターの名で、米国カリフオルニア州トーラ
ンス、グラマーシープレイスの Physical Optics Co
rporation から市場で入手できる。それぞれ４８８ｎ
ｍ、５１４ｎｍ及び５３２ｎｍレーザー光を選択的にブ
ロックするかかるフィルターは、パートＮｏ．ＲＨＥ４
８８、ＲＨＥ５１４及びＲＨＥ５３２でそれぞれ命名さ
れ、直径１又２ｉｎで市場で入手できる。
ラマンスペクトロスコピーのため設計されたホログラフ
バンド拒絶フィルターを使用するのが好ましい。かかる
フィルターは Applied Spectroscopy ４５巻、５号
（１９９１年）、７６５〜７７０頁に記載されている。
かかるフィルターは、Raman Holographic Edge （Ｒ
ＨＥ）フィルターの名で、米国カリフオルニア州トーラ
ンス、グラマーシープレイスの Physical Optics Co
rporation から市場で入手できる。それぞれ４８８ｎ
ｍ、５１４ｎｍ及び５３２ｎｍレーザー光を選択的にブ
ロックするかかるフィルターは、パートＮｏ．ＲＨＥ４
８８、ＲＨＥ５１４及びＲＨＥ５３２でそれぞれ命名さ
れ、直径１又２ｉｎで市場で入手できる。
【００５５】米国のブラトルボロ・バーモントの会社Ｏ
ＭＥＧＡ ＯＰＴＩＣＡＬ Ｉｎｃ．のカタログ（１９
９０年７月）に、干渉フィルター及び被覆が記載されて
いる。前記カタログから、市場に前記バンド拒絶フィル
ターの数種があることを知ることができる。ＲＡＭＡＮ
ＮＯＴＣＨ（ＲＮ） ＳＥＲＩＥＳフィルターの名の
下に前記カタログ中に記載された１種において、高性能
拒絶バンドフィルターは、山形バッフル中に配置された
四つの正確に並べられた干渉フィルターからなり（主カ
タログの１４頁参照）、四角形ハウジング中に封入され
ている。カタログの図３に、５１４．５アルゴン−イオ
ンレーザーに調整されたＯＭＥＧＡ ＲＡＭＡＮ ＮＯ
ＴＣＨフィルターに対する光学密度対波長（ｎｍ）曲線
が与えられている。それはレーザー光を１０-6の最小に
深く減衰し、９０％の極大透過率、及び拒絶バンドの両
側での波しわのない透過帯域を有する。
ＭＥＧＡ ＯＰＴＩＣＡＬ Ｉｎｃ．のカタログ（１９
９０年７月）に、干渉フィルター及び被覆が記載されて
いる。前記カタログから、市場に前記バンド拒絶フィル
ターの数種があることを知ることができる。ＲＡＭＡＮ
ＮＯＴＣＨ（ＲＮ） ＳＥＲＩＥＳフィルターの名の
下に前記カタログ中に記載された１種において、高性能
拒絶バンドフィルターは、山形バッフル中に配置された
四つの正確に並べられた干渉フィルターからなり（主カ
タログの１４頁参照）、四角形ハウジング中に封入され
ている。カタログの図３に、５１４．５アルゴン−イオ
ンレーザーに調整されたＯＭＥＧＡ ＲＡＭＡＮ ＮＯ
ＴＣＨフィルターに対する光学密度対波長（ｎｍ）曲線
が与えられている。それはレーザー光を１０-6の最小に
深く減衰し、９０％の極大透過率、及び拒絶バンドの両
側での波しわのない透過帯域を有する。
【００５６】ＯＭＥＧＡ ＲＥＪＥＣＴＩＯＮ ＢＡＮ
Ｄ（ＲＢ）シリーズフィルターの名の下に前記カタログ
中に記載された他の種類の拒絶バンドフィルターは、ス
ペクトル線又は狭いスペクトルバンドの光を減衰し、拒
絶バンド中のものより長い及び短い両方の光の波長を透
過する。ＲＢシリーズフィルターは、弱い蛍光電磁放射
線信号が、刺戟性レーザー光の相対的に非常に高い強度
によって不分明にされる。
Ｄ（ＲＢ）シリーズフィルターの名の下に前記カタログ
中に記載された他の種類の拒絶バンドフィルターは、ス
ペクトル線又は狭いスペクトルバンドの光を減衰し、拒
絶バンド中のものより長い及び短い両方の光の波長を透
過する。ＲＢシリーズフィルターは、弱い蛍光電磁放射
線信号が、刺戟性レーザー光の相対的に非常に高い強度
によって不分明にされる。
【００５７】本発明による方法において、光刺戟性リン
光体は、支持されるか又は自己支持性でありうる結合剤
層中に分散した状態で使用するのが好ましく、Ｘ線像貯
蔵パネルと称されるスクリーン又はパネルを形成する。
光体は、支持されるか又は自己支持性でありうる結合剤
層中に分散した状態で使用するのが好ましく、Ｘ線像貯
蔵パネルと称されるスクリーン又はパネルを形成する。
【００５８】分散した形で前記リン光体を混入する結合
剤層を形成するために好適な結合剤にはフィルム形成性
有機重合体、例えばセルロースアセテートブチレート、
ポリアルキル（メタ）アクリレート例えばポリ（メチル
メタクリレート）、例えばＵＳ−Ｐ３０４３７１０に記
載されている如きポリビニル−ｎ−ブチラール、コポリ
（ビニルアセテート／ビニルクロライド）及びコポリ
（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン）又はコポ
リ（ビニルクロライド／ビニルアセテート／ビニルアル
コール）又はそれらの混合物がある。
剤層を形成するために好適な結合剤にはフィルム形成性
有機重合体、例えばセルロースアセテートブチレート、
ポリアルキル（メタ）アクリレート例えばポリ（メチル
メタクリレート）、例えばＵＳ−Ｐ３０４３７１０に記
載されている如きポリビニル−ｎ−ブチラール、コポリ
（ビニルアセテート／ビニルクロライド）及びコポリ
（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン）又はコポ
リ（ビニルクロライド／ビニルアセテート／ビニルアル
コール）又はそれらの混合物がある。
【００５９】高Ｘ線エネルギー吸収を得るため、最少量
の結合剤を使用するのが好ましい。しかしながら、非常
に少ない量の結合剤は脆すぎる層を形成することがあ
る、従って妥協をしなければならない。リン光体の被覆
量は約３００〜１５００ｇ／ｍ2 の範囲にあるのが好ま
しい。リン光体層の厚さは０．０５〜０．５ｍｍの範囲
にあるのが好ましい。
の結合剤を使用するのが好ましい。しかしながら、非常
に少ない量の結合剤は脆すぎる層を形成することがあ
る、従って妥協をしなければならない。リン光体の被覆
量は約３００〜１５００ｇ／ｍ2 の範囲にあるのが好ま
しい。リン光体層の厚さは０．０５〜０．５ｍｍの範囲
にあるのが好ましい。
【００６０】好ましい実施態様によれば、リン光体層
は、支持体シート上の支持体層として使用する。好適な
支持体材料はフィルム形成性有機樹脂、例えばポリエチ
レンテレフタレートから作られる、しかし、所望により
α−オレフィン樹脂層の如き樹脂層で被覆された紙及び
カードボードも特に有用である。一定の状況の下では更
にガラス及び金属支持体を使用する、後者は工業用放射
線写真（非破壊試験）に使用するため、例えばＵＳ−Ｐ
３８７２３０９及びＵＳ−Ｐ３３８９２５５に記載され
ている如き高原子量のものが好ましい。
は、支持体シート上の支持体層として使用する。好適な
支持体材料はフィルム形成性有機樹脂、例えばポリエチ
レンテレフタレートから作られる、しかし、所望により
α−オレフィン樹脂層の如き樹脂層で被覆された紙及び
カードボードも特に有用である。一定の状況の下では更
にガラス及び金属支持体を使用する、後者は工業用放射
線写真（非破壊試験）に使用するため、例えばＵＳ−Ｐ
３８７２３０９及びＵＳ−Ｐ３３８９２５５に記載され
ている如き高原子量のものが好ましい。
【００６１】工業用放射線写真のための特定の実施態様
によれば、リン光体スクリーンの像鮮鋭度は、リン光体
含有層と支持体の間及び／又は支持体の裏側でリン光体
スクリーン中に、金属化合物例えば Research Disclos
ure １９７９年９月、item１８５０２に記載されている
如き鉛の塩又は酸化物である非蛍光顔料を含有する顔料
−結合剤層を導入することによって改良される。
によれば、リン光体スクリーンの像鮮鋭度は、リン光体
含有層と支持体の間及び／又は支持体の裏側でリン光体
スクリーン中に、金属化合物例えば Research Disclos
ure １９７９年９月、item１８５０２に記載されている
如き鉛の塩又は酸化物である非蛍光顔料を含有する顔料
−結合剤層を導入することによって改良される。
【００６２】光刺戟性リン光体スクリーンの製造のた
め、リン光体粒子は、有機溶媒、例えば２−メトキシプ
ロパノール又はエチルアセテートを用い結合剤の溶液中
に緊密に分散させ、次いで支持体上に被覆し、乾燥す
る。本発明のリン光体−結合剤層の被覆は通常の方法、
例えばスプレー、浸漬被覆、又はドクターブレード被覆
により行うことができる。被覆後、被覆混合物の溶媒は
蒸発により、例えば熱（６０℃）空気流中で乾燥するこ
とにより除去する。
め、リン光体粒子は、有機溶媒、例えば２−メトキシプ
ロパノール又はエチルアセテートを用い結合剤の溶液中
に緊密に分散させ、次いで支持体上に被覆し、乾燥す
る。本発明のリン光体−結合剤層の被覆は通常の方法、
例えばスプレー、浸漬被覆、又はドクターブレード被覆
により行うことができる。被覆後、被覆混合物の溶媒は
蒸発により、例えば熱（６０℃）空気流中で乾燥するこ
とにより除去する。
【００６３】無溶媒被覆は、例えば Research Disclos
ure １９７７年１２月、item １６４３５に記載されて
いる如く、ＵＶ又は電子ビーム（ＥＢ）硬化性結合剤組
成物を用いることによって行うことができる。
ure １９７７年１２月、item １６４３５に記載されて
いる如く、ＵＶ又は電子ビーム（ＥＢ）硬化性結合剤組
成物を用いることによって行うことができる。
【００６４】リン光体−結合剤組合せの脱気を行うため
及び充填密度を改良するため超音波処理を適用すること
ができる。場合により保護被覆を付与する前に、リン光
体−結合剤層は充填密度（即ち乾燥被覆１ｃｍ3 につい
てのリン光体のｇ数）を改良するためカレンダー仕上げ
してもよい。
及び充填密度を改良するため超音波処理を適用すること
ができる。場合により保護被覆を付与する前に、リン光
体−結合剤層は充填密度（即ち乾燥被覆１ｃｍ3 につい
てのリン光体のｇ数）を改良するためカレンダー仕上げ
してもよい。
【００６５】場合によっては、光刺戟によって放射され
る光の出力を増強するため、リン光体含有層とその支持
体の間に光反射性層を設ける。かかる光反射性層は結合
剤中に分散した白色顔料粒子例えば二酸化チタン粒子を
含有できる、又はそれは蒸着金属層例えばアルミニウム
層から作ることができる、又はそれは例えばＵＳ−Ｐ４
３８０７０２に記載されている如く、刺戟性放射線を吸
収するが放射された光を反射する着色顔料層であること
ができる。
る光の出力を増強するため、リン光体含有層とその支持
体の間に光反射性層を設ける。かかる光反射性層は結合
剤中に分散した白色顔料粒子例えば二酸化チタン粒子を
含有できる、又はそれは蒸着金属層例えばアルミニウム
層から作ることができる、又はそれは例えばＵＳ−Ｐ４
３８０７０２に記載されている如く、刺戟性放射線を吸
収するが放射された光を反射する着色顔料層であること
ができる。
【００６６】場合により、支持体とリン光体含有層の界
面での光の反射又は散乱を避け、これによって光刺戟性
リン光体スクリーンの解像を増大させるため、リン光体
層と支持体の間又は支持体自体中に光吸収性層を設け
る。
面での光の反射又は散乱を避け、これによって光刺戟性
リン光体スクリーンの解像を増大させるため、リン光体
層と支持体の間又は支持体自体中に光吸収性層を設け
る。
【００６７】光刺戟性放射線写真スクリーンで操作する
前述したＸ線記録法において、スクリーンは繰返して使
用されるから、リン光体含有層を機械的及び化学的損傷
から保護するため、それらに適切な上被覆を設けること
が重要である。これは各スクリーンが通常カセット中に
封入されていない光刺戟性放射線写真スクリーンにとっ
て特に重要である。
前述したＸ線記録法において、スクリーンは繰返して使
用されるから、リン光体含有層を機械的及び化学的損傷
から保護するため、それらに適切な上被覆を設けること
が重要である。これは各スクリーンが通常カセット中に
封入されていない光刺戟性放射線写真スクリーンにとっ
て特に重要である。
【００６８】保護層は、ニトロセルロース、エチルセル
ロース又はセルロースアセテート又はポリ（メタ）アク
リル樹脂の如きフィルム形成性有機溶媒可溶性重合体を
含有する被覆溶液をリン光体含有層上に直接付与し、蒸
発によって溶媒を除去することによってその上に直接被
覆することができる。別の方法によれば、公開されたＥ
Ｐ００３９２４７４に記載されている如く、透明で薄
く、強靱、可撓性の寸法的に安定なポリアミドフィルム
をリン光体層に結合させる。
ロース又はセルロースアセテート又はポリ（メタ）アク
リル樹脂の如きフィルム形成性有機溶媒可溶性重合体を
含有する被覆溶液をリン光体含有層上に直接付与し、蒸
発によって溶媒を除去することによってその上に直接被
覆することができる。別の方法によれば、公開されたＥ
Ｐ００３９２４７４に記載されている如く、透明で薄
く、強靱、可撓性の寸法的に安定なポリアミドフィルム
をリン光体層に結合させる。
【００６９】別に知られている方法によれば、保護上被
覆は放射線硬化性組成物で作る。Ｘ線変換スクリーンに
おける保護上層としての放射線硬化性被覆の使用は、例
えばＥＰ２０９３５８及び特願昭６１−１７６９００号
及びＵＳ−Ｐ４８９３０２１に記載されている。例えば
保護層は、光開始剤の助けでフリーラジカル重合によっ
て重合する単量体及び／又はプレポリマーによって形成
されるＵＶ硬化樹脂組成物を含む。単量体生成物は使用
するプレポリマーに対する溶媒であるのが好ましい。
覆は放射線硬化性組成物で作る。Ｘ線変換スクリーンに
おける保護上層としての放射線硬化性被覆の使用は、例
えばＥＰ２０９３５８及び特願昭６１−１７６９００号
及びＵＳ−Ｐ４８９３０２１に記載されている。例えば
保護層は、光開始剤の助けでフリーラジカル重合によっ
て重合する単量体及び／又はプレポリマーによって形成
されるＵＶ硬化樹脂組成物を含む。単量体生成物は使用
するプレポリマーに対する溶媒であるのが好ましい。
【００７０】好ましい実施態様によれば、Ｘ線で像に従
って又はパターンに従って露光されたリン光体−結合剤
層の光刺戟は走査レーザービームで行う。本発明による
リン光体スクリーンと組合せて使用するため、光刺戟性
光として、アルゴンイオンレーザーの５１４．５ｎｍ又
は４８８ｎｍ光又は周波数二重化Ｎｂ−ＹＡＧレーザー
の５３２ｎｍ光を使用する。
って又はパターンに従って露光されたリン光体−結合剤
層の光刺戟は走査レーザービームで行う。本発明による
リン光体スクリーンと組合せて使用するため、光刺戟性
光として、アルゴンイオンレーザーの５１４．５ｎｍ又
は４８８ｎｍ光又は周波数二重化Ｎｂ−ＹＡＧレーザー
の５３２ｎｍ光を使用する。
【００７１】光刺戟によって放射される光（被刺戟光と
称する）は、光エネルギーを電気エネルギーに変換する
変換器、例えばデイジタル化及び貯蔵できる逐次電気信
号を生ぜしめる光電子管（光電子増倍管）で検出するの
が好ましい。貯蔵後これらの信号はデイジタル処理を受
けることができる。デイジタル処理には、例えば像コン
トラスト増強、立体周波数増強、像減法、像付加及び粒
子像部分の輪郭鮮明を含む。
称する）は、光エネルギーを電気エネルギーに変換する
変換器、例えばデイジタル化及び貯蔵できる逐次電気信
号を生ぜしめる光電子管（光電子増倍管）で検出するの
が好ましい。貯蔵後これらの信号はデイジタル処理を受
けることができる。デイジタル処理には、例えば像コン
トラスト増強、立体周波数増強、像減法、像付加及び粒
子像部分の輪郭鮮明を含む。
【００７２】記録されたＸ線像の再生のための一実施態
様によれば、所望により処理したデイジタル信号を、例
えば音響−光学変調器により書き込みレーザービームを
変調させるため使用するアナログ信号に変える。そして
変調されたレーザービームは写真材料、例えばハロゲン
化銀乳剤フィルムを走査するために使用し、その上に像
処理した状態でＸ線像を再生する。
様によれば、所望により処理したデイジタル信号を、例
えば音響−光学変調器により書き込みレーザービームを
変調させるため使用するアナログ信号に変える。そして
変調されたレーザービームは写真材料、例えばハロゲン
化銀乳剤フィルムを走査するために使用し、その上に像
処理した状態でＸ線像を再生する。
【００７３】別の実施態様によれば、光刺戟によって得
られた光に相当する電気信号のアナログ−デイジタル変
換から得られたデイジタル信号は、陰極線管上に表示さ
れる。表示する前に、信号はコンピューターで処理する
とよい。従来の像処理法が像の信号対雑音比を減少し、
放射線写真の粗い又は微細な像の特長の像品質を増強す
るために用いることができる。
られた光に相当する電気信号のアナログ−デイジタル変
換から得られたデイジタル信号は、陰極線管上に表示さ
れる。表示する前に、信号はコンピューターで処理する
とよい。従来の像処理法が像の信号対雑音比を減少し、
放射線写真の粗い又は微細な像の特長の像品質を増強す
るために用いることができる。
【００７４】本発明のリン光体について、それらの光−
物理的性質を決定するため測定を行った。
物理的性質を決定するため測定を行った。
【００７５】一つの測定において、一定のＸ線量に露光
したとき貯蔵される全光刺戟性エネルギーを測定する。
Ｘ線励起前に、リン光体スクリーン中になお存在する残
存エネルギーを照射によって除去する。消去中光励起を
避けるため、４３５ｎｍ未満の全波長を除去するカット
オフＳｃｈｏｔｔ ＧＧ４３５フィルターを、光刺戟光
を放射するランプとリン光体スクリーンの間に置く。次
にリン光体スクリーンを８５ｋＶｐ及び２０ｍＡで操作
するＸ線源で励起する。そのためドイツ国のSiemens AG
のＭＯＮＯＤＯＲ Ｘ線源を使用できる。低エネルギー
Ｘ線は、Ｘ線スペクトルを硬化するため２１ｎｍの厚さ
のアルミニウム板で濾別する。Ｘ線励起後、リン光体ス
クリーンを暗所で、測定セット中に移す。このセット中
でＸ線照射したリン光体スクリーンを光刺激するためレ
ーザー光を使用する。この測定で使用する光刺戟性光は
Ｈｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ）又は４８８ｎｍの
アルゴンイオンレーザー光であった。
したとき貯蔵される全光刺戟性エネルギーを測定する。
Ｘ線励起前に、リン光体スクリーン中になお存在する残
存エネルギーを照射によって除去する。消去中光励起を
避けるため、４３５ｎｍ未満の全波長を除去するカット
オフＳｃｈｏｔｔ ＧＧ４３５フィルターを、光刺戟光
を放射するランプとリン光体スクリーンの間に置く。次
にリン光体スクリーンを８５ｋＶｐ及び２０ｍＡで操作
するＸ線源で励起する。そのためドイツ国のSiemens AG
のＭＯＮＯＤＯＲ Ｘ線源を使用できる。低エネルギー
Ｘ線は、Ｘ線スペクトルを硬化するため２１ｎｍの厚さ
のアルミニウム板で濾別する。Ｘ線励起後、リン光体ス
クリーンを暗所で、測定セット中に移す。このセット中
でＸ線照射したリン光体スクリーンを光刺激するためレ
ーザー光を使用する。この測定で使用する光刺戟性光は
Ｈｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ）又は４８８ｎｍの
アルゴンイオンレーザー光であった。
【００７６】レーザー・オプティックスは電子シャッタ
ー、ビーム拡大器及び二つのフィルターを含む。光電子
増倍管（ハママツＲ１３９８）は、光刺戟によって放射
される光を集め、相当する電流を与える。測定法は、Ｈ
Ｐ６９４４多重プログラマーに接続したHewlett Packa
rd ＨＰ９８２６コンピューターによって集める。電流
−電圧変換器で増幅後、ＴＥＫＴＲＯＮＩＸ ７Ｄ２０
デイジタル・オツシロスコープが得られた光電流を可視
化する。電子シャッターを開いたとき、レーザービーム
がリン光体スクリーンを刺戟することを開始し、デイジ
タルオツシロスコープがトリガーされる。スクリーンと
接触させておいたピンホールを用いると、僅か７ｍｍ2
の部域が露光される。レーザー出力の半分のみがスクリ
ーン面に到達する。この方法で刺戟性ビームの強度はよ
り均一になる。Ｈｅ−Ｎｅレーザーの直前に置いた赤色
フィルター（３ｍｍ ＳＣＨＯＴＴ ＯＧ５９０）がレ
ーザー発光中の弱い紫外成分を除く。光刺戟のため４８
８ｎｍのアルゴンイオンレーザー光を使用した場合、レ
ーザー発光光の弱い紫外成分と赤外成分の両方を除くた
め、ＳＣＨＯＴＴ ＧＧ４５５及びＢＧ３９フィルター
の組合せをレーザーの前に置いた。光電子増倍管からの
信号振幅は、光刺戟性光の強度及び放出される光刺戟性
エネルギーと直線関係にある。信号は指数的に減少す
る。信号曲線が入ったとき、オツシロスコープは、入力
とは無関係に一定である誤差の成分として規定されるオ
フセットを測定するため秒時間でトリガーされる。この
オフセットを減じた後、信号が最高値の１／ｅに達した
点を計算する。次に曲線の下の積分を、開始からこの１
／ｅ点まで計算する。関数は ｆ（ｔ）＝Ａ．ｅ- ｔ／τ で算術的に表示される。
ー、ビーム拡大器及び二つのフィルターを含む。光電子
増倍管（ハママツＲ１３９８）は、光刺戟によって放射
される光を集め、相当する電流を与える。測定法は、Ｈ
Ｐ６９４４多重プログラマーに接続したHewlett Packa
rd ＨＰ９８２６コンピューターによって集める。電流
−電圧変換器で増幅後、ＴＥＫＴＲＯＮＩＸ ７Ｄ２０
デイジタル・オツシロスコープが得られた光電流を可視
化する。電子シャッターを開いたとき、レーザービーム
がリン光体スクリーンを刺戟することを開始し、デイジ
タルオツシロスコープがトリガーされる。スクリーンと
接触させておいたピンホールを用いると、僅か７ｍｍ2
の部域が露光される。レーザー出力の半分のみがスクリ
ーン面に到達する。この方法で刺戟性ビームの強度はよ
り均一になる。Ｈｅ−Ｎｅレーザーの直前に置いた赤色
フィルター（３ｍｍ ＳＣＨＯＴＴ ＯＧ５９０）がレ
ーザー発光中の弱い紫外成分を除く。光刺戟のため４８
８ｎｍのアルゴンイオンレーザー光を使用した場合、レ
ーザー発光光の弱い紫外成分と赤外成分の両方を除くた
め、ＳＣＨＯＴＴ ＧＧ４５５及びＢＧ３９フィルター
の組合せをレーザーの前に置いた。光電子増倍管からの
信号振幅は、光刺戟性光の強度及び放出される光刺戟性
エネルギーと直線関係にある。信号は指数的に減少す
る。信号曲線が入ったとき、オツシロスコープは、入力
とは無関係に一定である誤差の成分として規定されるオ
フセットを測定するため秒時間でトリガーされる。この
オフセットを減じた後、信号が最高値の１／ｅに達した
点を計算する。次に曲線の下の積分を、開始からこの１
／ｅ点まで計算する。関数は ｆ（ｔ）＝Ａ．ｅ- ｔ／τ で算術的に表示される。
【００７７】式中Ａは振幅であり、τは時定数であり、
ｔは刺戟時間であり、ｅは自然対数の底数である。
ｔは刺戟時間であり、ｅは自然対数の底数である。
【００７８】貯蔵されたエネルギーの６３％がｔ＝τで
放出された。前記結果を得るため、コンピューターは系
の感度で前記積分を乗ずる。光電子増倍管及び増幅器の
感度は従って光電子増倍管の陽極−陰極電圧の関数とし
て測定されなければならず、リン光体の発光スペクトル
の回転（convolution ）及び分離フィルターの透過スペ
クトルは計算されなければならない。
放出された。前記結果を得るため、コンピューターは系
の感度で前記積分を乗ずる。光電子増倍管及び増幅器の
感度は従って光電子増倍管の陽極−陰極電圧の関数とし
て測定されなければならず、リン光体の発光スペクトル
の回転（convolution ）及び分離フィルターの透過スペ
クトルは計算されなければならない。
【００７９】放射光は全ての方向に散乱されるから、放
射された光の一部のみが光電子増倍管で検出される。パ
ネル及び光電子増倍管の位置は、全発光の１０％が光電
子増倍管によって検出されるようにする。
射された光の一部のみが光電子増倍管で検出される。パ
ネル及び光電子増倍管の位置は、全発光の１０％が光電
子増倍管によって検出されるようにする。
【００８０】これら全ての修正がなされた後、変換効率
のための値（Ｃ．Ｅ1 ）がＰＪ／ｍｍ2 ／ｍＲで表わし
て得られる。Ｘ線で照射されたリン光体の全量に対して
修正するため、この値はスクリーンの厚さで割ってＰＪ
／ｍｍ3 ／ｍＲで表示される変換効率（Ｃ．Ｅ．）を生
ぜしめる。この値はスクリーンの厚さで変化する、従っ
て比較しうる測定のため、それらは一定のリン光体被覆
量で行われなければならない。
のための値（Ｃ．Ｅ1 ）がＰＪ／ｍｍ2 ／ｍＲで表わし
て得られる。Ｘ線で照射されたリン光体の全量に対して
修正するため、この値はスクリーンの厚さで割ってＰＪ
／ｍｍ3 ／ｍＲで表示される変換効率（Ｃ．Ｅ．）を生
ぜしめる。この値はスクリーンの厚さで変化する、従っ
て比較しうる測定のため、それらは一定のリン光体被覆
量で行われなければならない。
【００８１】別の種類の測定においては刺戟スペクトル
を測定する。タングステン（石英−沃素）ランプの光は
モノクロメーター（ドイツ国の Bausch and Lombの）
に供給され、次いで単一孔を有する回転車で機械的に切
られる。ランプは近ＵＶから可視スペクトルを通って赤
外まで拡がる連続スペクトルを提供する。Bausch and
Lomb からの３３−８６−０２格子は、第一オーダーで
３５０ｎｍから８００ｎｍまでの可視範囲をカバーする
１３５０線／ｍｍ格子であり、５００ｎｍで輝く。刺戟
光の波長はコンピューターの制御下にモノクロメーター
へ接続されたステップ・モーターを介して設定出来る。
モノクロメーターの二次高調波はリン光体スクリーンの
前に４ｍｍ Ｓｃｈｏｔｔ ＧＧ３５フィルターを置く
ことにより除去される。刺戟光を切る（デュティーサイ
クル １／２０００）ことにより、単にリン光体中の吸
収エネルギーのわずかの部分が解放される。たとえば光
電子増倍管の暗電流に起因するオフセットを除去するた
めに単にＡＣ信号が測定される。幾つかのパルスを平均
することにより良好な信号対雑音比が得られる。測定を
完成する際に、コンピューターがタングステン・ランプ
の強度波長依存性のために、曲線を補正する。測定はく
り返されて刺戟スペクトルのエボリューション（evolut
ion ）が１５時間にまでわたって続けられるようにす
る。
を測定する。タングステン（石英−沃素）ランプの光は
モノクロメーター（ドイツ国の Bausch and Lombの）
に供給され、次いで単一孔を有する回転車で機械的に切
られる。ランプは近ＵＶから可視スペクトルを通って赤
外まで拡がる連続スペクトルを提供する。Bausch and
Lomb からの３３−８６−０２格子は、第一オーダーで
３５０ｎｍから８００ｎｍまでの可視範囲をカバーする
１３５０線／ｍｍ格子であり、５００ｎｍで輝く。刺戟
光の波長はコンピューターの制御下にモノクロメーター
へ接続されたステップ・モーターを介して設定出来る。
モノクロメーターの二次高調波はリン光体スクリーンの
前に４ｍｍ Ｓｃｈｏｔｔ ＧＧ３５フィルターを置く
ことにより除去される。刺戟光を切る（デュティーサイ
クル １／２０００）ことにより、単にリン光体中の吸
収エネルギーのわずかの部分が解放される。たとえば光
電子増倍管の暗電流に起因するオフセットを除去するた
めに単にＡＣ信号が測定される。幾つかのパルスを平均
することにより良好な信号対雑音比が得られる。測定を
完成する際に、コンピューターがタングステン・ランプ
の強度波長依存性のために、曲線を補正する。測定はく
り返されて刺戟スペクトルのエボリューション（evolut
ion ）が１５時間にまでわたって続けられるようにす
る。
【００８２】別の実験において、リン光体の熱的輝尽ル
ミネセンス（Thermally stimulated luminescence ）
（ＴＳＬ）を測定する。そのためリン光体試料を初めに
Ｘ線で照射し、続いて暗所でＴＳＬ装置のオーブンに移
す。リン光体試料は、それぞれがリン光体０．５ｇを含
有する盤に圧縮する。オーブンの底はアルミニウム板で
あり、電気的に加熱される中空アルミニウムシリンダー
中に装着した。
ミネセンス（Thermally stimulated luminescence ）
（ＴＳＬ）を測定する。そのためリン光体試料を初めに
Ｘ線で照射し、続いて暗所でＴＳＬ装置のオーブンに移
す。リン光体試料は、それぞれがリン光体０．５ｇを含
有する盤に圧縮する。オーブンの底はアルミニウム板で
あり、電気的に加熱される中空アルミニウムシリンダー
中に装着した。
【００８３】温度は底のアルミニウム板で熱電対で記録
する。前記板の上に第二のアルミニウムシリンダーを配
置し、このシリンダー中に三つの石英盤を、熱絶縁を確
実にするため５ｍｍの間隔をおいて装着する。
する。前記板の上に第二のアルミニウムシリンダーを配
置し、このシリンダー中に三つの石英盤を、熱絶縁を確
実にするため５ｍｍの間隔をおいて装着する。
【００８４】オーブンをＳｉＯ2 の熱絶縁ブロック（Gl
ass Rock Foam ）中に入れ、オーブンは発光によるリ
ン光体を光らせるため上に円形開口を有する。
ass Rock Foam ）中に入れ、オーブンは発光によるリ
ン光体を光らせるため上に円形開口を有する。
【００８５】測定中試料を一定の速度で加熱し、リン光
体によるルミネセンスの強度を温度の関数として測定す
る。光強度は絶縁ブロックの円形開口の上に置いた光電
子増倍管で測定する。その開口と光電子増倍管入口の間
に、ＢＧ３及びＨＯＹＡ Ｂ３９０フィルターの組合せ
を置き、４８０ｎｍより長い波長の光を止める。この方
法で黒色体放射線信号は強力に減少する。ＴＳＬ装置を
補正するため、ＬｉＦ−ＴＬＤ−１００の試料をＸ線で
照射し、続いて１０Ｋ／分の速度で加熱する。極大の位
置を、この材料の文献データと比較する。全測定を１０
Ｋ／分の加熱速度で行う。
体によるルミネセンスの強度を温度の関数として測定す
る。光強度は絶縁ブロックの円形開口の上に置いた光電
子増倍管で測定する。その開口と光電子増倍管入口の間
に、ＢＧ３及びＨＯＹＡ Ｂ３９０フィルターの組合せ
を置き、４８０ｎｍより長い波長の光を止める。この方
法で黒色体放射線信号は強力に減少する。ＴＳＬ装置を
補正するため、ＬｉＦ−ＴＬＤ−１００の試料をＸ線で
照射し、続いて１０Ｋ／分の速度で加熱する。極大の位
置を、この材料の文献データと比較する。全測定を１０
Ｋ／分の加熱速度で行う。
【００８６】光が放出される温度はリン光体の電子捕捉
センター（Ｆ−センター）の安定性に関係する。本発明
者等は、ＭI カチオン、そして場合によってはＭIII カ
チオンと組合せたＭI カチオンの存在により、前記カチ
オンを含有しないフルオロ臭素化バリウムにおけるより
も安定なＦ−センター中に電子が捕捉されるものと推定
する。前記Ｆ−センターからの電子はより高い温度でＦ
−センターから放出される。
センター（Ｆ−センター）の安定性に関係する。本発明
者等は、ＭI カチオン、そして場合によってはＭIII カ
チオンと組合せたＭI カチオンの存在により、前記カチ
オンを含有しないフルオロ臭素化バリウムにおけるより
も安定なＦ−センター中に電子が捕捉されるものと推定
する。前記Ｆ−センターからの電子はより高い温度でＦ
−センターから放出される。
【００８７】ＴＳＬスペクトル中の極大温度は電子捕捉
の安定性に対する測度であり、暗減衰に関係する、極大
温度が高ければ高い程、暗減衰時間は長い。
の安定性に対する測度であり、暗減衰に関係する、極大
温度が高ければ高い程、暗減衰時間は長い。
【００８８】下記実施例は本発明を示すがこれに限定す
るものではない。
るものではない。
【００８９】 比較実施例 １及び本発明実施例 ２〜１４
【００９０】ＢａＦ2 ，ＳｒＦ2 ，ＮＨ4 Ｂｒ及びＥｕ
Ｆ3 から出発して、実験的組成Ｂａ0.858 Ｓｒ0.141 Ｅ
ｕ0.001 Ｆ1.0147Ｂｒ0.9853を有する原料混合物を作っ
た。この原料混合物１Ｋｇを作り、Ｖ型ブレンダー中で
混合した。この原料混合物からそれぞれ３０ｇの三つの
試料をとった。
Ｆ3 から出発して、実験的組成Ｂａ0.858 Ｓｒ0.141 Ｅ
ｕ0.001 Ｆ1.0147Ｂｒ0.9853を有する原料混合物を作っ
た。この原料混合物１Ｋｇを作り、Ｖ型ブレンダー中で
混合した。この原料混合物からそれぞれ３０ｇの三つの
試料をとった。
【００９１】比較実施例１のリン光体材料を作るため、
前記原料混合物３０ｇをそのまま焼成した。比較リン光
体の輝尽スペクトルを図１に示す。
前記原料混合物３０ｇをそのまま焼成した。比較リン光
体の輝尽スペクトルを図１に示す。
【００９２】本発明によるリン光体を作るため、少量の
ＭI 化合物を焼成する前に原料混合物に加えた。
ＭI 化合物を焼成する前に原料混合物に加えた。
【００９３】全ての試料を次の方法で焼成した：
【００９４】第一焼成は１６０分間８５０℃でボックス
炉中で行った。それらの各試料を含有する坩堝を、還元
性雰囲気を作るため水及び炭素を含有するより大きな坩
堝中にそれぞれ置いた。粉砕後、各試料を、９９．８容
量％のＮ2 及び０．２容量％のＨ2 Ｏ雰囲気中で３時間
８３０℃でチューブ炉中で第２回の焼成をした。冷却後
各リン光体試料を再粉砕した。
炉中で行った。それらの各試料を含有する坩堝を、還元
性雰囲気を作るため水及び炭素を含有するより大きな坩
堝中にそれぞれ置いた。粉砕後、各試料を、９９．８容
量％のＮ2 及び０．２容量％のＨ2 Ｏ雰囲気中で３時間
８３０℃でチューブ炉中で第２回の焼成をした。冷却後
各リン光体試料を再粉砕した。
【００９５】本発明の実施例２のリン光体の製造におい
ては、第１回の焼成前に、０．３重量％のＬｉＦを原料
混合物と完全に混合した。前記実施例２のリン光体の輝
尽スペクトルを図２に示す。
ては、第１回の焼成前に、０．３重量％のＬｉＦを原料
混合物と完全に混合した。前記実施例２のリン光体の輝
尽スペクトルを図２に示す。
【００９６】本発明の実施例３及び４のリン光体の製造
においては、第１回の焼成前に、それぞれ０．１重量％
及び１重量％のＬｉＣｌを原料混合物と完全に混合し
た。前記実施例３及び４のリン光体の輝尽スペクトルを
図３及び図４にそれぞれ示す。
においては、第１回の焼成前に、それぞれ０．１重量％
及び１重量％のＬｉＣｌを原料混合物と完全に混合し
た。前記実施例３及び４のリン光体の輝尽スペクトルを
図３及び図４にそれぞれ示す。
【００９７】本発明の実施例５のリン光体の製造におい
ては、第１回の焼成の前に、１重量％のＬｉＢｒを原料
混合物と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクト
ルを図５に示す。
ては、第１回の焼成の前に、１重量％のＬｉＢｒを原料
混合物と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクト
ルを図５に示す。
【００９８】本発明実施例６及び７のリン光体の製造に
おいては、第１回の焼成前にそれぞれ０．１重量％及び
０．３重量％のＬｉＯＨを原料混合物と完全に混合し
た。前記実施例６及び７のリン光体の輝尽スペクトルを
図６及び図７にそれぞれ示す。
おいては、第１回の焼成前にそれぞれ０．１重量％及び
０．３重量％のＬｉＯＨを原料混合物と完全に混合し
た。前記実施例６及び７のリン光体の輝尽スペクトルを
図６及び図７にそれぞれ示す。
【００９９】本発明実施例８，９及び１０のリン光体の
製造においては、第１回の焼成前に、それぞれ０．１重
量％、０．３重量％及び１重量％のＬｉ2 ＣＯ3 を原料
混合物と完全に混合した。前記実施例８，９及び１０の
リン光体の輝尽スペクトルを図８、図９及び図１０にそ
れぞれ示す。
製造においては、第１回の焼成前に、それぞれ０．１重
量％、０．３重量％及び１重量％のＬｉ2 ＣＯ3 を原料
混合物と完全に混合した。前記実施例８，９及び１０の
リン光体の輝尽スペクトルを図８、図９及び図１０にそ
れぞれ示す。
【０１００】本発明実施例１１のリン光体の製造におい
ては、１重量％のＮａＣｌを第１回の焼成前に原料混合
物と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクトルを
図１１に示す。
ては、１重量％のＮａＣｌを第１回の焼成前に原料混合
物と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクトルを
図１１に示す。
【０１０１】本発明実施例１２のリン光体の製造におい
ては、第１回の焼成前に０．３重量％のＮａＢｒを原料
混合物と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクト
ルを図１２に示す。
ては、第１回の焼成前に０．３重量％のＮａＢｒを原料
混合物と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクト
ルを図１２に示す。
【０１０２】本発明実施例１３のリン光体の製造におい
ては、第１回の焼成前に１重量％のＲｂＦを原料混合物
と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクトルを図
１３に示す。
ては、第１回の焼成前に１重量％のＲｂＦを原料混合物
と完全に混合した。前記リン光体の輝尽スペクトルを図
１３に示す。
【０１０３】リン光体粉末を焼成し、冷却した後粉砕
し、次いでメチルエチルケトンに溶解したセルロースア
セトブチレートを含有する結合剤溶液に分散した。得ら
れた分散液を別々に、ポリエチレンテレフタレートの厚
さ１００μｍの透明シート上に被覆して、約１０００ｇ
／ｍ2 の乾燥被覆重量を与えた。次いでリン光体の輝尽
スペクトルを測定するため乾燥したスクリーンを使用し
た。
し、次いでメチルエチルケトンに溶解したセルロースア
セトブチレートを含有する結合剤溶液に分散した。得ら
れた分散液を別々に、ポリエチレンテレフタレートの厚
さ１００μｍの透明シート上に被覆して、約１０００ｇ
／ｍ2 の乾燥被覆重量を与えた。次いでリン光体の輝尽
スペクトルを測定するため乾燥したスクリーンを使用し
た。
【０１０４】本発明実施例２〜１３により作ったリン光
体の輝尽スペクトルから、前記スペクトルの極大が、実
施例１の比較リン光体の光刺戟スペクトル（図１参照）
と比較して明らかに短い波長にシフトされていることを
知ることができる。
体の輝尽スペクトルから、前記スペクトルの極大が、実
施例１の比較リン光体の光刺戟スペクトル（図１参照）
と比較して明らかに短い波長にシフトされていることを
知ることができる。
【０１０５】実施例１及び本発明実施例４によるリン光
体のＴＳＬスペクトルを前述した如く測定した。
体のＴＳＬスペクトルを前述した如く測定した。
【０１０６】図１４は実施例１により作った比較リン光
体のＴＳＬスペクトルを示す。
体のＴＳＬスペクトルを示す。
【０１０７】図１５は本発明実施例４により作ったリン
光体のＴＳＬスペクトルを示す。
光体のＴＳＬスペクトルを示す。
【０１０８】前記各リン光体のＴＳＬスペクトル中に三
つのバンド（極大）の存在があることは、三つの異なる
電子捕捉の存在を示している。高温に相当する強度バン
ドは、比較リン光体におけるよりも本発明リン光体にお
いて非常に強調されている。
つのバンド（極大）の存在があることは、三つの異なる
電子捕捉の存在を示している。高温に相当する強度バン
ドは、比較リン光体におけるよりも本発明リン光体にお
いて非常に強調されている。
【０１０９】実施例１２の変換効率（Ｃ．Ｅ．）を、そ
れぞれ４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザー光及び６３
３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光を光刺戟に使用して測定
した。比Ｃ．Ｅ．（４８８ｎｍ）／Ｃ．Ｅ．（６３３ｎ
ｍ）は４．２であり、これは実施例１２のリン光体につ
いて、４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザー光での光刺
戟が、６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光での光刺戟よ
り非常に効率が大であることを証明している。
れぞれ４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザー光及び６３
３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光を光刺戟に使用して測定
した。比Ｃ．Ｅ．（４８８ｎｍ）／Ｃ．Ｅ．（６３３ｎ
ｍ）は４．２であり、これは実施例１２のリン光体につ
いて、４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザー光での光刺
戟が、６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光での光刺戟よ
り非常に効率が大であることを証明している。
【図１】比較実施例１のリン光体の輝尽スペクトルを示
す。
す。
【図２】本発明実施例２のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図３】本発明実施例３のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図４】本発明実施例４のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図５】本発明実施例５のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図６】本発明実施例６のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図７】本発明実施例７のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図８】本発明実施例８のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図９】本発明実施例９のリン光体の輝尽スペクトルを
示す。
示す。
【図１０】本発明実施例１０のリン光体の輝尽スペクト
ルを示す。
ルを示す。
【図１１】本発明実施例１１のリン光体の輝尽スペクト
ルを示す。
ルを示す。
【図１２】本発明実施例１２のリン光体の輝尽スペクト
ルを示す。
ルを示す。
【図１３】本発明実施例１３のリン光体の輝尽スペクト
ルを示す。
ルを示す。
【図１４】比較実施例１の比較リン光体のＴＳＬスペク
トルを示す。
トルを示す。
【図１５】本発明実施例４のリン光体のＴＳＬスペクト
ルを示す。
ルを示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルベール・ドーマン・アドレンサン ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 メルヴィン・テコツキイ アメリカ合衆国ニュージャージー州07945、 メンダム、ノース、リンデン、レイン 27
Claims (20)
- 【請求項１】 下記実験式（Ｉ）： Ba1-x-y-p-3q-ZSrxMy IIM2p IM2q IIIF2-a-bBraXb : zA （式中ＸはＣｌ及びＩからなる群から選択した少なくと
も１種のハロゲンであり；ＭI はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ
及びＣｓからなる群から選択した少なくとも１種のアル
カリ金属であり；ＭIIはＣａ及びＭｇからなる群から選
択した少なくとも１種のアルカリ土類金属であり；Ｍ
III はＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｙ及び３
価ランタニドからなる群から選択した少なくとも１種の
金属であり；ａはｘが０．１７≦ｘ≦０．５５であると
き０．８５≦ａ≦０．９６の条件を満たす数であり、か
つｘが０．１２≦ｘ≦０．１７であるとき０．９０≦ａ
≦０．９６を満たす数であり；ｙは０≦ｙ≦０．１０の
範囲にあり；ｂは０≦ｂ＜０．１５の範囲にあり；ｐは
０＜ｐ≦０．３の範囲にあり；ｑは０≦ｑ≦０．１の範
囲にあり；ｚは１０-6≦ｚ≦１０-2の範囲にあり；Ａは
Ｅｕ2+である）の範囲内にあることを特徴とする光刺戟
性リン光体。 - 【請求項２】 弗素が、化学量論的に臭素単独又は臭素
と塩素の合計よりも少なくとも４〜１０原子％多く存在
することを特徴とする請求項１の光刺戟性リン光体。 - 【請求項３】 ｐが１０-4≦ｐ≦１０-1の範囲にあり、
アルカリ金属ＭI がＮａ又はＲｂであることを特徴とす
る請求項１又は２の光刺戟性リン光体。 - 【請求項４】 ＭIII がＳｍ及び／又はＧｄであり、ｑ
が１０-5≦ｑ≦１０-2の範囲にあることを特徴とする請
求項１〜３の何れか１項の光刺戟性リン光体。 - 【請求項５】 ｚが１０-5＜ｚ≦１０-2の範囲にあるこ
とを特徴とする請求項１〜４の何れか１項の光刺戟性リ
ン光体。 - 【請求項６】 前記ランタニドがＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ
及びＬｕからなる群から選択した少なくとも１員である
ことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項の光刺戟性
リン光体。 - 【請求項７】 前記リン光体が、下記出発材料： （１）弗化バリウム； （２）臭化アンモニウム； （３）所望によりハロゲン化バリウム（弗化バリウムを
除く）； （４）弗化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム、沃
化リチウム、弗化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナ
トリウム、弗化カリウム、弗化ルビジウム、弗化セシウ
ム、水酸化リチウム、酸化リチウム及び炭酸リチウムか
らなる群から選択した少なくとも１種のアルカリ金属化
合物； （５）ハロゲン化ストロンチウム又は所望によりハロゲ
ン化カルシウム及び／又はマグネシウムと混合物の形で
のハロゲン化ストロンチウム； （６）所望によりＭIII のハロゲン化物又は酸化物であ
るＭIII 化合物； （７）焼成中にＥｕ2+イオンに還元されるハロゲン化ユ
ーロピウム、酸化ユーロピウム、硝酸ユーロピウム及び
硫酸ユーロピウムからなる群から選択した少なくとも１
種のＡ含有化合物の混合物を焼成することによって作ら
れることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項の光刺
戟性リン光体。 - 【請求項８】 前記リン光体が７００〜１０００℃の温
度範囲で焼成することによって作られることを特徴とす
る請求項７の光刺戟性リン光体。 - 【請求項９】 前記リン光体が、スペクトルの最高が６
０ｎｍより短い波長である光刺戟性スペクトルで特性を
有するが、前記スペクトルが５００ｎｍでよりも６００
ｎｍで大なる光刺戟性を示すことを特徴とする請求項１
〜８の何れか１項の光刺戟性リン光体。 - 【請求項１０】 有機結合剤中に分散した光刺戟性リン
光体を結合剤層中に含有する放射線像貯蔵パネルにおい
て、前記リン光体が請求項１〜９の何れか１項の範囲内
にあることを特徴とする放射線像貯蔵パネル。 - 【請求項１１】 前記リン光体を３００〜１５００ｇ／
ｍ2 の範囲の被覆量で付与することを特徴とする請求項
１０の放射線像貯蔵パネル。 - 【請求項１２】 （ｉ）可視放射線刺戟性リン光体に、
被写体を通過した又は被写体によって放射された透過放
射線を吸収させ、前記透過性放射線のエネルギーを請求
項１〜９の何れか１項の範囲内の前記リン光体中に貯蔵
させる工程、 (ii)４４０ｎｍ〜５５０ｎｍの波長範囲での可視放射線
で前記リン光体を刺戟し、前記リン光体中に貯蔵された
エネルギーを刺戟光とは波長範囲において異なる蛍光と
して放出させる工程、 (iii) 前記蛍光を検出する工程を含むことを特徴とする
放射線像記録及び再生方法。 - 【請求項１３】 刺戟を周波数２倍化Ｎｄ−ＹＡＧレー
ザーの５３２ｎｍ光で行うことを特徴とする請求項１２
の方法。 - 【請求項１４】 刺戟をアルゴンイオンレーザーの５１
４．５ｎｍ光で行うことを特徴とする請求項１２の方
法。 - 【請求項１５】 刺戟をアルゴンイオンレーザーの４８
８ｎｍ光で行うことを特徴とする請求項１２の方法。 - 【請求項１６】 刺戟をＨｅ−Ｃｄレーザーの４４２ｎ
ｍ光で行うことを特徴とする請求項１２の方法。 - 【請求項１７】 光刺戟によって放射される光の検出
を、デイジタル化される電気信号を生ぜしめる光電管で
行うことを特徴とする請求項１２〜１６の何れか１項の
方法。 - 【請求項１８】 光刺戟により放射される光の検出前
に、刺戟性光をフィルター手段によって実質的にブロッ
クすることを特徴とする請求項１２〜１７の何れか１項
の方法。 - 【請求項１９】 前記フィルター手段がホログラフ帯拒
絶フィルター又はラマンホログラフ縁フィルターを含む
ことを特徴とする請求項１８の方法。 - 【請求項２０】 光刺戟により得られる光に相当する電
気信号のアナログ−デイジタル変換から得られるデイジ
タル信号を、陰極線管上に表示するか又は書き込みレー
ザービームを変調するために使用することを特徴とする
請求項１７の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL91202378.5 | 1991-09-17 | ||
| EP91202378 | 1991-09-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05222365A true JPH05222365A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=8207877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27372392A Pending JPH05222365A (ja) | 1991-09-17 | 1992-09-16 | 光刺戟性リン光体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05222365A (ja) |
| DE (1) | DE69203553T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10121040A (ja) * | 1996-10-10 | 1998-05-12 | Agfa Gevaert Nv | 新規な光刺激可能な蛍燐光体 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102017223115A1 (de) * | 2017-12-18 | 2019-06-19 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Sekundärelektronenvervielfacher und dessen Verwendung |
-
1992
- 1992-08-24 DE DE1992603553 patent/DE69203553T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-16 JP JP27372392A patent/JPH05222365A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10121040A (ja) * | 1996-10-10 | 1998-05-12 | Agfa Gevaert Nv | 新規な光刺激可能な蛍燐光体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69203553T2 (de) | 1996-03-07 |
| DE69203553D1 (de) | 1995-08-24 |
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