JPH05221678A - Production of preform of optical fiber and equipment for producing preform of optical fiber - Google Patents

Production of preform of optical fiber and equipment for producing preform of optical fiber

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JPH05221678A
JPH05221678A JP2347192A JP2347192A JPH05221678A JP H05221678 A JPH05221678 A JP H05221678A JP 2347192 A JP2347192 A JP 2347192A JP 2347192 A JP2347192 A JP 2347192A JP H05221678 A JPH05221678 A JP H05221678A
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optical fiber
sio
skin layer
layer
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Masaaki Nakano
雅章 中野
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Yazaki Corp
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    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
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Abstract

PURPOSE:To produce the subject preform of an optical fiber, having the clad layer enabling fluorine addition without infiltrating the fluorine into the core layer and low in transmission loss. CONSTITUTION:An SiO2-GeO2 skin layer is uniformly deposited on a pure SiO2 core soot in an amount of <=3% on molar ratio base and a clad is further deposited on the skin layer. Both the skin layer and the core layer of the resultant porous preform prepared by the above-mentioned method are subjected to dehydration treatment with Cl2. The treated material is then heat treated at a sintering temperature (about 1400 deg.C) of SiO2-GeO2 lower than that of SiO2 so as to sinter only the skin layer. Further heat treatment is carried out at a clarification temperature (about 1450 deg.C) of SiO2 while charging an SF6- containing atomospheric gas so as to sinter the core layer and the clad layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、火炎加水分解反応によ
ってガラス微粒子を生成し、出発材上に堆積させて多孔
質ガラス体を得る光ファイバ母材の製造方法に係り、特
にコアに純シリカを用い伝送損失、伝送帯域に優れた光
ファイバ母材を得ることのできる光ファイバ母材の製造
方法及び光ファイバ母材の製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an optical fiber preform which produces glass fine particles by a flame hydrolysis reaction and deposits them on a starting material to obtain a porous glass body. The present invention relates to an optical fiber preform manufacturing method and an optical fiber preform manufacturing apparatus capable of obtaining an optical fiber preform having excellent transmission loss and transmission band.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、光ファイバにおいては、光は光
ファイバのコアとクラッドの境界面で全反射しながらコ
アの中を伝搬していく。この伝搬の仕方は、コアの屈折
率分布によって差が生じ、ステップインデックス形、グ
レーデッドインデックス形ともコア径が数10μm以上
になると、光の入射角によって光の通路が異なり多数の
光路が生じる。また、コアの外径を5〜15μm程度に
すると、光がコアとクラッドの境界面で反射しないでコ
アの中を直進し光路が一つとなる。このような光ファイ
バがシングルモード光ファイバである。
2. Description of the Related Art Generally, in an optical fiber, light propagates in the core while being totally reflected at the boundary surface between the core and the clad of the optical fiber. The way of propagation varies depending on the refractive index distribution of the core, and when the core diameter is several tens of μm or more in both the step index type and the graded index type, the light path varies depending on the incident angle of light, and many optical paths occur. Further, when the outer diameter of the core is set to about 5 to 15 μm, the light does not reflect on the boundary surface between the core and the clad and goes straight through the core, and the optical path becomes one. Such an optical fiber is a single mode optical fiber.

【0003】このような光ファイバにおいては、入射し
た光の強さが減衰することなく出射されるのが理想的で
あるが、光が光ファイバのコアの中を伝搬していく間に
種々の原因で伝送損失を生じる。光ファイバ中を伝搬し
ていく間に光の強さが弱くなっていく度合が光ファイバ
の伝送損失である。光ファイバの伝送損失は、紫外線領
域における電子遷移による吸収、赤外領域における分子
振動による吸収、波長の4乗に反比例するレイリー散
乱、不純物特に水(水酸イオン・OH基)による吸収が
主なものであり、これら全体の和として波長依存性を有
している。
In such an optical fiber, it is ideal that the intensity of the incident light is emitted without being attenuated, but while the light propagates through the core of the optical fiber, various kinds of light are emitted. Transmission loss occurs due to the cause. The degree to which the intensity of light becomes weaker while propagating in an optical fiber is the transmission loss of the optical fiber. Transmission loss of an optical fiber is mainly due to absorption by electron transition in the ultraviolet region, absorption by molecular vibration in the infrared region, Rayleigh scattering inversely proportional to the fourth power of the wavelength, and impurities, especially water (hydroxy ion / OH group) absorption. The total of these has wavelength dependency.

【0004】また、光ファイバは、伝送帯域が広いほど
情報の伝送容量が大きい。すなわち、伝送帯域が広いほ
ど多くの信号を一度に送ることができる。この伝送帯域
は、長さ1Kmの光ファイバの片端に直流から高周波ま
での帯域をもつ振幅一定の信号を入力し、出力端での受
信信号の振幅が6dB低下した周波数の値で示したもの
である。
Further, the wider the transmission band of the optical fiber, the larger the information transmission capacity. That is, the wider the transmission band, the more signals can be sent at one time. In this transmission band, a signal with a constant amplitude having a band from DC to high frequency is input to one end of an optical fiber with a length of 1 km, and the amplitude of the received signal at the output end is shown by the value of the frequency reduced by 6 dB. is there.

【0005】これら伝送損失・伝送帯域は、光ファイバ
の性能に影響するものであるため、従来より光ファイバ
の製造方法において伝送損失・伝送帯域の向上を図る工
夫がなされている。コアの屈折率を上げるため、コアに
Geを添加することが知られている。しかし、このGe
は、光ファイバのコアにとっては不純物であり、コア内
を伝搬する光のレイリー散乱が生じ伝送損失を招来す
る。そこで、クラッド層にフッ素を添加し、コアから光
が散乱して減衰するのを少なくし、伝送損失の拡大を防
止しようとしている。
Since the transmission loss and the transmission band affect the performance of the optical fiber, a method for improving the transmission loss and the transmission band has been conventionally devised in the optical fiber manufacturing method. It is known to add Ge to the core in order to increase the refractive index of the core. But this Ge
Is an impurity in the core of the optical fiber, and Rayleigh scattering of the light propagating in the core occurs to cause a transmission loss. Therefore, it is attempted to prevent the expansion of transmission loss by adding fluorine to the clad layer to reduce the scattering and attenuation of light from the core.

【0006】このクラッド層にフッ素を添加して光ファ
イバ母材を製造する方法としては、従来、外付け法(O
VD法 Outside Vapor Deposition )による特開
平1−230445号に示す如き方法がある。この従来
例は、図4に示す如く、純石英あるいはGe含有石英棒
100上にトーチ110によってSiO2 ガラス微粒子
の堆積された多孔質母材120をSF6 を含んだ雰囲気
中で透明ガラス化して、クラッド層にはフッ素を添加す
るものである。
As a method for manufacturing an optical fiber preform by adding fluorine to this cladding layer, conventionally, an external attachment method (O
There is a method as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 1-230445 by VD method Outside Vapor Deposition). In this conventional example, as shown in FIG. 4, a porous base material 120 having SiO 2 glass particles deposited on a pure quartz or Ge-containing quartz rod 100 is transparent vitrified in an atmosphere containing SF 6 by a torch 110. Fluorine is added to the cladding layer.

【0007】同様に、クラッド層にフッ素を添加して光
ファイバ母材を製造する方法として従来、軸付け法(V
AD法 Vapor Phase Axial Deposition )によ
る特開平1−270533号に示す如き方法もある。こ
の製法は図5に示す如く、コア用トーチ200によって
SiCl4 の蒸気を可燃ガス(H2 )と酸素を用いて加
水分解し空気を多く含んだSiO2 のスートを多層に堆
積させて多孔質コア部210を得る。この多孔質コア部
210の上にクラッド用トーチ220によってSiCl
4 の蒸気を可燃ガス(H2 )と酸素を用いて加水分解し
て空気を多く含んだSiO2 を堆積させて多孔質クラッ
ド部230を得る。このときコアを製造するときの製造
条件と、クラッドを製造するときの製造条件とを変える
ことにより多孔質母材全体の密度分布を図6に示す如
く、コア部分を高く、クラッド部分が低くなるよう制御
してSF6 の雰囲気中で透明化する。こうすることによ
り雰囲気中のSF6 がコア中に侵入するのを防止してい
る。
Similarly, as a method for manufacturing an optical fiber preform by adding fluorine to the cladding layer, a conventional axial attachment method (V
There is also a method as disclosed in JP-A-1-270533 by AD method Vapor Phase Axial Deposition). In this manufacturing method, as shown in FIG. 5, the core torch 200 hydrolyzes the vapor of SiCl 4 using combustible gas (H 2 ) and oxygen to deposit SiO 2 soot containing a large amount of air in multiple layers to form a porous structure. The core part 210 is obtained. On the porous core portion 210, a cladding torch 220 is used to form SiCl
The vapor of 4 is hydrolyzed using combustible gas (H 2 ) and oxygen to deposit SiO 2 containing a large amount of air to obtain the porous clad portion 230. At this time, by changing the manufacturing conditions when manufacturing the core and the manufacturing conditions when manufacturing the clad, the density distribution of the entire porous base material becomes high in the core part and low in the clad part as shown in FIG. Control is performed to make it transparent in the atmosphere of SF 6 . By doing so, SF 6 in the atmosphere is prevented from entering the core.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
前者の方法によったのでは、コア部を構成するSiO2
ガラス微粒子を堆積するために、予め純石英またはGe
含有石英棒を作成しておく必要があり、光ファイバ母材
の製造工程が複雑になるという問題点を有している。ま
た、コア部分を堆積させる出発材である純石英またはG
e含有石英棒は、SiO2 ガラス微粒子を堆積させる際
に、その表面が火炎130に晒され、コア部分にOH基
が混入することになり、光ファイバの伝送損失の増加を
招来するという問題点を有している。
However, according to the former method of the prior art, SiO 2 forming the core portion is formed.
In order to deposit glass particles, pure quartz or Ge is used in advance.
Since it is necessary to prepare the containing quartz rod, there is a problem that the manufacturing process of the optical fiber preform becomes complicated. In addition, pure quartz or G which is a starting material for depositing the core portion
The e-containing quartz rod has a problem in that, when SiO 2 glass fine particles are deposited, the surface thereof is exposed to the flame 130 and OH groups are mixed in the core portion, which causes an increase in transmission loss of the optical fiber. have.

【0009】従来の後者の方法によったのでは、多孔質
母材全体の密度分布に段差を作ることによって雰囲気中
のSF6 がコア中に侵入するのを防止することはできる
が、コア内に含まれるOH基を除去する脱水を目的とし
たCl2 等のガスもコア中に侵入することができず、O
H基を除去することができない。すなわち、コア用トー
チ200によってSiCl4 の蒸気を可燃ガス(H2
と酸素を用いて加水分解して堆積させた際にSiO2
スート中に含まれるOH基のような不純物が多孔質コア
部210自体に残留し、伝送損失を増大させるという問
題点を有している。
According to the latter method of the prior art, it is possible to prevent SF 6 in the atmosphere from entering the core by forming a step in the density distribution of the entire porous base material, but Gases such as Cl 2 for the purpose of removing the OH group contained in the core cannot penetrate into the core,
The H group cannot be removed. That is, vapor of SiCl 4 is converted into combustible gas (H 2 ) by the core torch 200.
However, impurities such as OH groups contained in the soot of SiO 2 remain in the porous core portion 210 itself when it is hydrolyzed and deposited using oxygen and oxygen, which increases the transmission loss. ing.

【0010】本発明は、クラッド層にフッ素を添加して
もコア部にフッ素が侵入することなく、伝送損失の少な
い光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバ母材の製造
装置を提供することを目的としている。
The present invention provides a method for producing an optical fiber preform and an apparatus for producing the optical fiber preform, in which fluorine does not penetrate into the core portion even if fluorine is added to the cladding layer and the transmission loss is small. Has a purpose.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、光ファイバ母材の製造方法においては、純SiO2
コアスート上にSiO2 −GeO2 スキン層を一様に堆
積させ、所定のクラッド量を堆積して作成された多孔質
母材をCl2 によって火炎加水分解して脱水処理し、そ
の後SiO2 の焼結温度よりも低い温度で加熱処理して
前記スキン層のみを焼結し、しかる後SF6 を含有する
雰囲気ガスを投入しながらSiO2 の透明化温度で加熱
処理してクラッド層を焼結するようにしたものである。
In order to achieve the above object, in the method of manufacturing an optical fiber preform, pure SiO 2 is used.
A porous base material formed by uniformly depositing a SiO 2 —GeO 2 skin layer on the core soot and depositing a predetermined amount of clad is subjected to flame hydrolysis with Cl 2 and dehydration treatment, and then firing of SiO 2 Only the skin layer is sintered by heating at a temperature lower than the binding temperature, and then the cladding layer is sintered by heating at the transparentizing temperature of SiO 2 while introducing an atmosphere gas containing SF 6. It was done like this.

【0012】また、上記目的を達成するために、光ファ
イバ母材の製造装置においては、純SiO2 コアスート
を堆積させるコア用トーチと、前記コア用トーチによっ
て形成された純SiO2 コアスート上にSiO2 −Ge
2 のクラッド層を堆積させるクラッド層用トーチを備
えた多孔質母材製造装置と、該多孔質母材製造装置によ
って製造された多孔質母材を脱水・透明化する脱水・透
明化処理装置とによって構成される光ファイバ母材の製
造装置において、上記多孔質母材製造装置に上記コア用
トーチによって形成された純SiO2 コアスート上にS
iO2 −GeO2 スキン層を堆積させるスキン層用トー
チを設けたものである。
In order to achieve the above object, in a manufacturing apparatus for an optical fiber preform, a core torch for depositing pure SiO 2 core soot, and SiO on the pure SiO 2 core soot formed by the core torch. 2- Ge
Porous base material manufacturing apparatus provided with a torch for a cladding layer for depositing an O 2 cladding layer, and dehydration / clearing treatment apparatus for dehydrating / clearing the porous base material manufactured by the porous base material manufacturing apparatus In an apparatus for producing an optical fiber preform constituted by: and S on a pure SiO 2 core soot formed by the core torch in the porous preform production apparatus.
The skin layer torch for depositing the iO 2 -GeO 2 skin layer is provided.

【0013】[0013]

【作用】純SiO2 コアスート上にモル分率として3%
以下のSiO2 −GeO2 スキン層を一様に堆積させ、
更にこのスキン層の上にクラッドを堆積する。このよう
にして作成された多孔質母材をスキン層、コア部も含
め、Cl2 によって脱水処理する。そして、SiO2
焼結温度よりも低いSiO2 −GeO2 の焼結温度(1
400℃程度)で加熱処理してスキン層のみを焼結す
る。さらに、SF6 を含む雰囲気ガスを投入しながらS
iO2 の透明化温度(約1450℃)で加熱処理してコ
ア及びクラッド層を焼結する。
[Function] 3% as a mole fraction on pure SiO 2 core soot
It is uniformly deposited following SiO 2 -GeO 2 skin layer,
Further, a clad is deposited on this skin layer. The porous base material thus prepared, including the skin layer and the core, is dehydrated with Cl 2 . Then, below the sintering temperature of the SiO 2 SiO 2 -GeO 2 sintering temperature (1
Only the skin layer is sintered by heat treatment at about 400 ° C. Further, while introducing an atmosphere gas containing SF 6 , S
The core and clad layers are sintered by heat treatment at the transparentizing temperature of iO 2 (about 1450 ° C.).

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1には、本発明に係る光ファイバ母材の製造方法の実施
例を示す処理フローチャートが示されている。図に示さ
れる処理手順にしたがって光ファイバ母材の製造方法を
説明する。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 is a process flowchart showing an embodiment of the method for manufacturing an optical fiber preform according to the present invention. A method of manufacturing an optical fiber preform will be described according to the procedure shown in the figure.

【0015】まず、ステッブ1において、SiCl4
蒸気を可燃ガス(H2 )と酸素を用いて加水分解して純
SiO2 コアスートを堆積させる。このとき得られる純
SiO2 コアは、空気を多く含んだ多孔質コアとなって
いる。このステップ1において多孔質コアの形成が行わ
れると、ステップ2において、SiCl4 とGeCl4
の蒸気を可燃ガス(H2 )と酸素を用いて加水分解して
モル分率として3%以下のSiO2 −GeO2 スキン層
を多孔質コアの上に一様に堆積させる。このスキン層は
厚く形成する必要はない。そしてステップ3において、
SiCl4 の蒸気を可燃ガス(H2 )と酸素を用いて加
水分解してSiO2 を堆積させてクラッド層を形成し、
多孔質母材が形成される。このクラッド層は、空気を多
く含んだ多孔質クラッドとなっている。
First, in step 1, the vapor of SiCl 4 is hydrolyzed using combustible gas (H 2 ) and oxygen to deposit pure SiO 2 core soot. The pure SiO 2 core obtained at this time is a porous core containing a large amount of air. When the porous core is formed in step 1, SiCl 4 and GeCl 4 are formed in step 2.
Is hydrolyzed with combustible gas (H 2 ) and oxygen to uniformly deposit a SiO 2 —GeO 2 skin layer having a molar fraction of 3% or less on the porous core. The skin layer does not need to be thick. And in step 3,
The vapor of SiCl 4 is hydrolyzed using combustible gas (H 2 ) and oxygen to deposit SiO 2 to form a clad layer,
A porous matrix is formed. This clad layer is a porous clad containing a large amount of air.

【0016】次に、ステップ4において、形成された多
孔質母材をHeガスと酸素に混合して加熱したCl2
スで脱水処理する。このときクラッド層、スキン層、コ
ア部も含め脱水処理される。このステップ4において脱
水処理が行われると、ステップ5において、SiO2
焼結温度よりも低い、SiO2 −GeO2 の焼結温度で
加熱処理してスキン層のみを焼結する。これは、SiO
2 −GeO2 の焼結温度がSiO2 の焼結温度よりも低
いという性質を利用したものである。この加熱処理の温
度は、1400℃程度である。このSiO2 −GeO2
の焼結温度による加熱処理によっては、コア及びクラッ
ド層は多孔質体の状態のままで、しかも、すでにステッ
プ4において脱水処理が行われているためコア及びクラ
ッド層からはOH基は既に除去されている状態となって
いる。
Next, in step 4, the formed porous base material is dehydrated by mixing He gas and oxygen and heating with Cl 2 gas. At this time, the clad layer, the skin layer, and the core portion are also dehydrated. When the dehydration process is performed in step 4, in step 5, below the sintering temperature of the SiO 2, sintering only the skin layer is heat treated at a sintering temperature of SiO 2 -GeO 2. This is SiO
This utilizes the property that the sintering temperature of 2- GeO 2 is lower than the sintering temperature of SiO 2 . The temperature of this heat treatment is about 1400 ° C. The SiO 2 -GeO 2
By the heat treatment at the sintering temperature of, the core and the clad layer remain in a porous state, and since the dehydration treatment has already been performed in step 4, the OH group has already been removed from the core and the clad layer. It is in the state of being.

【0017】そして、ステップ5においてスキン層のみ
の焼結が行われると、ステップ6において、スキン層の
焼結された多孔質母材をHe、Cl2 、SF6 のガスを
連続的に供給するガス雰囲気中に入れ、SiO2 の透明
化温度で所定時間加熱処理し、コア、クラッド層を焼結
する。このSiO2 の透明化温度は約1450℃であ
る。このステップ6における透明化加熱処理のときに
は、クラッド層へフッ素が添加され、それと同時にスキ
ン層へフッ素が拡散する。しかし、スキン層はステップ
5において既に半焼結されているので、クラッド層に添
加されたフッ素がスキン層でガードされコアへ侵入する
のを防御している。また、スキン層自体も、スキン層に
残留したGeO2 に対し、フッ素が混入することとなる
ため、屈折率はGeとフッ素の二成分によって相殺さ
れ、全体として良好なRI分布を持つ光ファイバ母材を
得る。このステップ6において透明化加熱処理がなさ
れ、ステップ7において、コア、スキン層、クラッド層
が透明化すると良好なRI分布を持つ光ファイバ母材の
製造を終了する。
Then, when only the skin layer is sintered in step 5, in step 6, the sintered porous base material of the skin layer is continuously supplied with He, Cl 2 and SF 6 gases. It is placed in a gas atmosphere and heat-treated for a predetermined time at the transparentizing temperature of SiO 2 to sinter the core and clad layers. The clearing temperature of this SiO 2 is about 1450 ° C. At the time of the transparentizing heat treatment in step 6, fluorine is added to the cladding layer, and at the same time fluorine is diffused into the skin layer. However, since the skin layer has already been semi-sintered in step 5, the fluorine added to the cladding layer is protected by the skin layer to prevent it from entering the core. Further, in the skin layer itself, since fluorine is mixed with GeO 2 remaining in the skin layer, the refractive index is canceled by the two components of Ge and fluorine, and the optical fiber matrix having a good RI distribution as a whole. Get the wood. In step 6, the transparentizing heat treatment is performed, and in step 7, when the core, the skin layer, and the clad layer are transparentized, the production of the optical fiber preform having a favorable RI distribution is completed.

【0018】図2〜図3には、本発明に係る光ファイバ
母材の製造装置の一実施例が示されている。
2 to 3 show an embodiment of an apparatus for manufacturing an optical fiber preform according to the present invention.

【0019】図において、10は多孔質母材製造装置
で、純SiO2 コアスートの上にSiO2 −GeO2
キン層を堆積させ、このスキン層の上にSiO2 のクラ
ッド層を堆積させて多孔質母材を製造するものである。
11はコア用トーチで、下方から上方に向かって純Si
2 コアスートを供給するものである。すなわち、コア
用トーチ11は、SiCl4 の蒸気を可燃ガス(H2
と酸素を用いて加水分解して純SiO2 コアスートを発
生させ、種になる石英棒の先端に純SiO2 コアスート
を堆積させるためのものである。この石英棒を回転しな
がら引き上げるとコア用トーチ11から供給される空気
を多く含んだ純SiO2 コアスートが連続的に堆積され
て成長していく。このとき得られる純SiO2 コアは、
空気を多く含んだ多孔質コア14となっている。
In the figure, 10 is a porous base material manufacturing apparatus, in which a SiO 2 --GeO 2 skin layer is deposited on a pure SiO 2 core soot, and a SiO 2 clad layer is deposited on this skin layer to form a porous layer. It is for producing a quality base material.
Numeral 11 is a core torch, which is pure Si from bottom to top.
It supplies O 2 core soot. That is, the core torch 11 uses vapor of SiCl 4 as a combustible gas (H 2 ).
Oxygen to generate pure SiO 2 core soot was hydrolyzed using the is intended for depositing pure SiO 2 core soot on the tip of a quartz rod to be species. When this quartz rod is pulled up while rotating, pure SiO 2 core soot containing a large amount of air supplied from the core torch 11 is continuously deposited and grows. The pure SiO 2 core obtained at this time is
The porous core 14 contains a large amount of air.

【0020】12はスキン層用トーチで、コア用トーチ
11よりも上方に設けられており、SiO2 −GeO2
を連続的に供給するものである。すなわち、このスキン
層用トーチ12は、SiCl4 とGeCl4 の蒸気を可
燃ガス(H2 )と酸素を用いて加水分解してモル分率と
して3%以下のSiO2 −GeO2 スキン層15を多孔
質コア14の上に一様に堆積させるためのものである。
このスキン層用トーチ12から供給されるSiO2 −G
eO2 は、石英棒を回転しながら引き上げることによっ
て、薄い膜となって多孔質コア14の上に一様に連続的
に堆積されて成長していく。このスキン層15は厚く形
成する必要はない。
Reference numeral 12 is a skin layer torch, which is provided above the core torch 11 and is made of SiO 2 --GeO 2.
Is continuously supplied. That is, the skin layer torch 12 hydrolyzes vapors of SiCl 4 and GeCl 4 using combustible gas (H 2 ) and oxygen to form a SiO 2 —GeO 2 skin layer 15 having a molar fraction of 3% or less. It is for uniformly depositing on the porous core 14.
SiO 2 -G supplied from this skin layer torch 12
By pulling up the quartz rod while rotating, eO 2 becomes a thin film and is continuously and uniformly deposited on the porous core 14 to grow. The skin layer 15 does not need to be thick.

【0021】13はクラッド層用トーチで、スキン層用
トーチ12よりも上方に設けられており、SiO2 を連
続的に供給するものである。すなわち、このクラッド層
用トーチ13は、SiCl4 の蒸気を可燃ガス(H2
と酸素を用いて加水分解してSiO2 をスキン層15の
上に堆積させるためのものである。このとき得られるS
iO2 クラッドは、空気を多く含んだ多孔質クラッド層
16となっている。
A cladding layer torch 13 is provided above the skin layer torch 12 and continuously supplies SiO 2 . That is, the cladding layer torch 13 converts the vapor of SiCl 4 into a combustible gas (H 2 ).
And for hydrolyzing with oxygen to deposit SiO 2 on the skin layer 15. S obtained at this time
The iO 2 clad is a porous clad layer 16 containing a large amount of air.

【0022】この多孔質コア14、スキン層15、多孔
質クラッド層16によって多孔質母材20が構成されて
いる。
The porous core 14, the skin layer 15, and the porous clad layer 16 constitute a porous base material 20.

【0023】30は脱水・透明化処理装置で、多孔質母
材製造装置10によって製造された多孔質母材20を脱
水・透明化してプリフォーム(光ファイバ母材)を製造
するものである。31は石英管で、多孔質母材20を脱
水・透明化するための容器である。32は発熱体で、石
英管31内に挿入した多孔質母材20を加熱しクラッド
層16、スキン層15、コア14の脱水処理・加熱焼結
処理をするためのものである。
Reference numeral 30 denotes a dehydration / transparency treatment apparatus for dehydrating / transparentizing the porous base material 20 produced by the porous preform producing apparatus 10 to produce a preform (optical fiber preform). Reference numeral 31 is a quartz tube, which is a container for dehydrating and making the porous base material 20 transparent. Reference numeral 32 is a heating element for heating the porous base material 20 inserted in the quartz tube 31 to perform dehydration treatment / heat sintering treatment of the clad layer 16, the skin layer 15, and the core 14.

【0024】33は雰囲気ガス導入口で、クラッド層1
6、スキン層15、コア14の脱水処理を行う場合に石
英管31内に送入する雰囲気ガス、クラッド層16、ス
キン層15、コア14の加熱焼結処理を行う場合に石英
管31内に送入する雰囲気ガスを導入するためのもので
ある。34は雰囲気ガス排出口で、石英管31内で脱水
処理に使用された使用済雰囲気ガス、加熱焼結処理に使
用された使用済雰囲気ガスを石英管31の外に排出する
ためのものである。35は昇降装置で、多孔質母材20
を脱水・透明化する際に矢印Aに示す如く回転差せると
共に、多孔質母材20を脱水・透明化することによって
製造された光ファイバ母材40を上方に引き上げるため
のものである。
Reference numeral 33 denotes an atmosphere gas inlet, which is the cladding layer 1
6, the atmospheric gas sent into the quartz tube 31 when the skin layer 15 and the core 14 are dehydrated, and the quartz gas 31 inside the quartz tube 31 when the clad layer 16, the skin layer 15 and the core 14 are heat-sintered. This is for introducing the atmospheric gas to be sent. Reference numeral 34 denotes an atmosphere gas discharge port for discharging the used atmosphere gas used for dehydration in the quartz tube 31 and the used atmosphere gas used for heating and sintering treatment to the outside of the quartz tube 31. .. Reference numeral 35 is an elevating device, which is the porous base material 20.
In order to dehydrate / transparent, the optical fiber preform 40 produced by spin-drying the porous preform 20 and pulling it up is rotated as shown by an arrow A.

【0025】次に、脱水・透明化処理装置30の動作に
ついて説明する。まず、多孔質母材製造装置10におい
て製造された多孔質母材20を石英管31内に収納し、
石英管31内に雰囲気ガス導入口33からHeとCl2
の混合ガスを酸素と共に連続的に送り込む。このガスを
送り込みながら発熱体32で加熱して多孔質母材20の
脱水処理を行う。この脱水処理によって多孔質母材20
は、クラッド層16、スキン層15、コア14を含め脱
水処理される。この脱水処理が行われると、SiO2
GeO2 の焼結温度(約1400℃)がSiO2 の焼結
温度(約1450℃)よりも低いという性質を利用し、
発熱体32を作動させ石英管31内をSiO2 の焼結温
度(約1450℃)よりも低いSiO2 −GeO2 の焼
結温度(約1400℃)で加熱処理してスキン層15の
みを焼結する。このスキン層15のみを焼結した段階で
は、コア14及びクラッド層16は多孔質体の状態のま
まとなっている。
Next, the operation of the dehydration / clearing processing device 30 will be described. First, the porous base material 20 manufactured in the porous base material manufacturing apparatus 10 is housed in a quartz tube 31,
He and Cl 2 are introduced into the quartz tube 31 through the atmospheric gas inlet 33.
The mixed gas of is continuously fed together with oxygen. The porous base material 20 is dehydrated by heating with the heating element 32 while feeding this gas. By this dehydration treatment, the porous base material 20
Is subjected to dehydration treatment including the clad layer 16, the skin layer 15, and the core 14. When this dehydration treatment is performed, SiO 2
Utilizing the property that the sintering temperature of GeO 2 (about 1400 ° C.) is lower than the sintering temperature of SiO 2 (about 1450 ° C.),
The heating element 32 is operated to heat the inside of the quartz tube 31 at a sintering temperature of SiO 2 —GeO 2 (about 1400 ° C.) lower than the sintering temperature of SiO 2 (about 1450 ° C.) to burn only the skin layer 15. Conclude. At the stage where only the skin layer 15 is sintered, the core 14 and the clad layer 16 remain in a porous state.

【0026】スキン層のみの焼結を行うと、石英管31
内に雰囲気ガス導入口33からHe、Cl2 、SF6
混合ガスを連続的に供給し、発熱体32を作動させ石英
管31内をSiO2 の透明化温度(約1450℃)で所
定時間加熱してコア14、クラッド層16を焼結する。
この透明化加熱処理を行う際のコア14、クラッド層1
6は、前工程の脱水処理においてOH基が既に除去され
た状態となっている。この透明化加熱処理がなされる
と、クラッド層16にはフッ素が添加され、これと同時
にスキン層(SiO2 −GeO2 )15にはフッ素が拡
散してスキン層15からGeO2 が揮発する。しかし、
クラッド層16に添加されたフッ素は、スキン層15が
すでに半焼結された状態になっており、スキン層15で
ガードされコア14へは侵入しない。また、スキン層1
5自体は、スキン層15に残留したGeO2 に対し、フ
ッ素が混入することとなるため、屈折率はGeとフッ素
の二成分によって相殺され、全体として良好なRI分布
が得られる。このようにして光ファイバ母材40が製造
され、昇降装置35によって上方に引き上げることによ
って連続した棒状の光ファイバ母材40が得られる。
When only the skin layer is sintered, the quartz tube 31
A mixed gas of He, Cl 2 , and SF 6 is continuously supplied from the atmosphere gas inlet 33 to activate the heating element 32 and the quartz tube 31 is heated at a transparentizing temperature of SiO 2 (about 1450 ° C.) for a predetermined time. The core 14 and the clad layer 16 are sintered by heating.
The core 14 and the clad layer 1 at the time of performing the transparentizing heat treatment
In No. 6, the OH group has already been removed in the dehydration treatment in the previous step. When this heat treatment for clearing is performed, fluorine is added to the cladding layer 16, and at the same time, fluorine is diffused into the skin layer (SiO 2 —GeO 2 ) 15 and GeO 2 is volatilized from the skin layer 15. But,
The fluorine added to the clad layer 16 is in a state where the skin layer 15 is already semi-sintered, is protected by the skin layer 15, and does not enter the core 14. Also, the skin layer 1
In 5 itself, since fluorine is mixed with GeO 2 remaining in the skin layer 15, the refractive index is offset by the two components of Ge and fluorine, and a good RI distribution is obtained as a whole. In this way, the optical fiber preform 40 is manufactured, and the rod-shaped optical fiber preform 40 is obtained by pulling the optical fiber preform 40 upward by the elevating device 35.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されるような効果を奏する。
Since the present invention is constructed as described above, it has the following effects.

【0028】純SiO2 コアスート上にSiO2 −Ge
2 スキン層を一様に堆積させ、所定のクラッド量を堆
積して作成された多孔質母材をCl2 によって火炎加水
分解して脱水処理し、その後SiO2 の焼結温度よりも
低い温度で加熱処理して前記スキン層のみを焼結し、し
かる後SF6 を含有する雰囲気ガスを投入しながらSi
2 の透明化温度で加熱処理してクラッド層を焼結する
ようにして製造するため、コア部にフッ素が侵入するこ
となくクラッド層にフッ素を添加することができ、伝送
損失の少ない光ファイバ母材を得ることができる。
[0028] SiO 2 -Ge on the pure SiO 2 core soot
A porous base material formed by uniformly depositing an O 2 skin layer and depositing a predetermined amount of clad is subjected to flame hydrolysis with Cl 2 and dehydration treatment, and then a temperature lower than the sintering temperature of SiO 2. And heat only to sinter the skin layer, and then while introducing an atmosphere gas containing SF 6 , Si
Since the cladding layer is manufactured by heat treatment at a transparentizing temperature of O 2 , it is possible to add fluorine to the cladding layer without invading the core portion, and an optical fiber with less transmission loss. The base material can be obtained.

【0029】また、純SiO2 コアスートを堆積させる
コア用トーチと、このコア用トーチによって形成された
純SiO2 コアスート上にSiO2 −GeO2 のクラッ
ド層を堆積させるクラッド層用トーチを備えた多孔質母
材製造装置と、この多孔質母材製造装置によって製造さ
れた多孔質母材を脱水・透明化する脱水・透明化処理装
置とによって構成される光ファイバ母材の製造装置の多
孔質母材製造装置にコア用トーチによって形成された純
SiO2 コアスート上にSiO2 −GeO2 スキン層を
堆積させるスキン層用トーチを設けているため、コア部
の上にスキン層を形成することができ、このスキン層に
よってクラッド層にフッ素を添加した際にコア部にフッ
素が侵入するのを防止することができるので、フッ素を
クラッド層のみに添加することができ、伝送損失の少な
い光ファイバ母材を得ることができる。
[0029] The porous having a core torch to deposit a pure SiO 2 core soot, the cladding layer torch for depositing a cladding layer of SiO 2 -GeO 2 on pure SiO 2 core soot formed by the core torch Of the optical fiber preform, which is composed of a high-quality preform manufacturing device and a dehydration / clearing treatment device for dehydrating / clearing the porous preform manufactured by the porous preform manufacturing device. Since the material manufacturing apparatus is provided with the skin layer torch for depositing the SiO 2 —GeO 2 skin layer on the pure SiO 2 core soot formed by the core torch, the skin layer can be formed on the core portion. Since this skin layer can prevent fluorine from entering the core when fluorine is added to the clad layer, fluorine is added only to the clad layer. It is possible to obtain an optical fiber preform with less transmission loss.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る光ファイバ母材の製造方法の実施
例を示す処理フローチャートである。
FIG. 1 is a process flowchart showing an embodiment of a method for manufacturing an optical fiber preform according to the present invention.

【図2】本発明に係る光ファイバ母材の製造装置の多孔
質母材製造装置の実施例を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic view showing an embodiment of a porous preform manufacturing apparatus of an optical fiber preform manufacturing apparatus according to the present invention.

【図3】本発明に係る光ファイバ母材の製造装置の脱水
・透明化処理装置の実施例を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic view showing an embodiment of a dehydration / clearing treatment device of an optical fiber preform manufacturing device according to the present invention.

【図4】従来の外付け法によるクラッド層にフッ素を添
加して光ファイバ母材を製造する方法を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a method for producing an optical fiber preform by adding fluorine to a cladding layer by a conventional external attachment method.

【図5】従来のVAD法によるクラッド層にフッ素を添
加して光ファイバ母材を製造する方法を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a method of manufacturing an optical fiber preform by adding fluorine to a cladding layer by a conventional VAD method.

【図6】図5に図示の多孔質母材全体の密度分布を示す
図である。
FIG. 6 is a diagram showing a density distribution of the entire porous base material shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…………………………………………………多孔質母
材製造装置 11…………………………………………………コア用ト
ーチ 12…………………………………………………スキン層
用トーチ 13…………………………………………………クラッド
層用トーチ 14…………………………………………………多孔質コ
ア 15…………………………………………………スキン層 16…………………………………………………多孔質ク
ラッド層 20…………………………………………………多孔質母
材 30…………………………………………………脱水・透
明化処理装置 31…………………………………………………石英管 32…………………………………………………発熱体 33…………………………………………………雰囲気ガ
ス導入口 34…………………………………………………雰囲気ガ
ス排出口 35…………………………………………………昇降装置 40…………………………………………………光ファイ
バ母材
10 ………………………………………………………… Porous base material manufacturing equipment 11 …………………………………………………… Torch for core 12 ……………………………………………………… Skin layer torch 13 …………………………………………………… Cladding layer torch 14 …… ………………………………………………… Porous core 15 …………………………………………………… Skin layer 16 ………………… …………………………………… Porous clad layer 20 …………………………………………………… Porous matrix 30 ………………………… ………………………… Dewatering / clearing treatment equipment 31 …………………………………………………… Quartz tube 32 ………………………………… …………………… Heating element 33 …………………………………………………… Atmosphere gas introduction 34 ………………………………………………………… Atmosphere gas outlet 35 ……………………………………………… Lifting device 40 ……… ……………………………………………… Optical fiber base material

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成4年7月10日[Submission date] July 10, 1992

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0017】そして、ステップ5においてスキン層のみ
の焼結が行われると、ステップ6において、スキン層の
焼結された多孔質母材をHe、Cl2 、SF6 のガスを
連続的に供給するガス雰囲気中に入れ、SiO2 の透明
化温度で所定時間加熱処理し、コア、クラッド層を焼結
する。このSiO2 の透明化温度は約1450℃であ
る。このステップ6における透明化加熱処理のときに
は、クラッド層へフッ素が添加され、それと同時にスキ
ン層へフッ素が拡散する。しかし、スキン層はステップ
5において既に半焼結されているので、クラッド層に添
加されたフッ素がスキン層でガードされコアへ侵入する
のを防御している。また、スキン層自体も、スキン層に
残留したGeO2 に対し、フッ素が混入することとなる
ため、屈折率はGeとフッ素の二成分によって相殺さ
れ、全体として良好なRI分布を持つ光ファイバ母材を
得る。このステップ6において透明化加熱処理がなさ
れ、コア、スキン層、クラッド層が透明化すると良好な
RI分布を持つ光ファイバ母材の製造を終了する。
Then, when only the skin layer is sintered in step 5, in step 6, the sintered porous base material of the skin layer is continuously supplied with He, Cl 2 and SF 6 gases. It is placed in a gas atmosphere and heat-treated for a predetermined time at the transparentizing temperature of SiO 2 to sinter the core and clad layers. The clearing temperature of this SiO 2 is about 1450 ° C. At the time of the transparentizing heat treatment in step 6, fluorine is added to the cladding layer, and at the same time fluorine is diffused into the skin layer. However, since the skin layer has already been semi-sintered in step 5, the fluorine added to the cladding layer is protected by the skin layer to prevent it from entering the core. Further, in the skin layer itself, since fluorine is mixed with GeO 2 remaining in the skin layer, the refractive index is canceled by the two components of Ge and fluorine, and the optical fiber matrix having a good RI distribution as a whole. Get the wood. No clearing heat treatment in step 6
Is, core, skin layers, the clad layer has finished the production of optical fiber preform having a good RI distribution when transparent.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図1[Name of item to be corrected] Figure 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図1】 [Figure 1]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 純SiO2 コアスート上にSiO2 −G
eO2 スキン層を一様に堆積させ、所定のクラッド量を
堆積して作成された多孔質母材をCl2 によって火炎加
水分解して脱水処理し、その後SiO2 の焼結温度より
も低い温度で加熱処理して前記スキン層のみを焼結し、
しかる後SF6 を含有する雰囲気ガスを投入しながらS
iO2 の透明化温度で加熱処理してクラッド層を焼結す
るようにしたことを特徴とする光ファイバ母材の製造方
法。
1. SiO 2 -G on pure SiO 2 core soot.
The eO 2 skin layer is uniformly deposited, and the porous base material prepared by depositing a predetermined amount of cladding is hydrolyzed by flame hydrolysis with Cl 2 and then subjected to a temperature lower than the sintering temperature of SiO 2. Heat treatment to sinter only the skin layer,
Then, while introducing an atmosphere gas containing SF 6 , S
A method for producing an optical fiber preform, characterized in that the cladding layer is sintered by heat treatment at a transparentizing temperature of iO 2 .
【請求項2】 純SiO2 コアスートを堆積させるコア
用トーチと、前記コア用トーチによって形成された純S
iO2 コアスート上にSiO2 −GeO2 のクラッド層
を堆積させるクラッド層用トーチを備えた多孔質母材製
造装置と、該多孔質母材製造装置によって製造された多
孔質母材を脱水・透明化する脱水・透明化処理装置とに
よって構成される光ファイバ母材の製造装置において、
上記多孔質母材製造装置に上記コア用トーチによって形
成された純SiO2 コアスート上にSiO2 −GeO2
スキン層を堆積させるスキン層用トーチを設けたことを
特徴とする光ファイバ母材の製造装置。
2. A core torch for depositing pure SiO 2 core soot, and pure S formed by the core torch.
A porous base material manufacturing apparatus equipped with a torch for a cladding layer for depositing a cladding layer of SiO 2 —GeO 2 on an iO 2 core soot, and dehydration / transparency of the porous base material manufactured by the porous base material manufacturing apparatus. In the manufacturing apparatus of the optical fiber preform, which is composed of the dehydrating / clearing processing apparatus
SiO 2 —GeO 2 is formed on the pure SiO 2 core soot formed by the core torch in the porous base material manufacturing apparatus.
An apparatus for producing an optical fiber preform, comprising a skin layer torch for depositing a skin layer.
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