JPH05217374A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH05217374A
JPH05217374A JP1780992A JP1780992A JPH05217374A JP H05217374 A JPH05217374 A JP H05217374A JP 1780992 A JP1780992 A JP 1780992A JP 1780992 A JP1780992 A JP 1780992A JP H05217374 A JPH05217374 A JP H05217374A
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Abstract

PURPOSE:To reduce current consumption of a semiconductor memory in which a cache memory is incorporated. CONSTITUTION:When the two-way transfer gate BTG is operated, at least the clamp function of a clamp circuit which receives transferred data is stopped, out of the clamp circuit (CRS) which is provided at a pair of the SRAM bit line(SBL) and the clamp circuit (CRD) which is provided at the DRAMIO line(DIO). Therefore, since the clamp operation of the clamp circuit which receives transferred data is stopped, a path in which a through current flows from the clamp circuit to the driving transistor of the transfer gate at the time of data transfer is stopped, and current consumption is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、高速動作するメモリ
と比較的低速の大容量のメモリとが同一半導体チップ上
に集積化された半導体記憶装置に関し、特に、主メモリ
としての大容量ダイナミック・ランダム・アクセス・メ
モリ(DRAM)と、キャッシュメモリとしての小容量
のスタティック・ランダム・アクセス・メモリ(SRA
M)とが同一半導体チップ上に集積化されたキャッシュ
内蔵半導体記憶装置の構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device in which a high-speed operating memory and a relatively low-speed large-capacity memory are integrated on the same semiconductor chip, and more particularly to a large-capacity dynamic memory as a main memory. Random access memory (DRAM) and small capacity static random access memory (SRA) as cache memory
And M) are related to the configuration of a semiconductor memory device with a cache integrated on the same semiconductor chip.

【0002】より特定的には、このキャッシュ内蔵半導
体記憶装置の消費電流、特に高速メモリと大容量メモリ
との間のデータ転送時における消費電流を低減するため
の構成に関する。
More specifically, the present invention relates to a structure for reducing the current consumption of the semiconductor memory device with a built-in cache, especially the current consumption during data transfer between a high speed memory and a large capacity memory.

【0003】[0003]

【従来の技術】最近の16ビットまたは32ビットのマ
イクロプロセシングユニット(MPU)は、動作クロッ
ク周波数が25MHzまたはそれ以上と非常に高速にな
っている。データ処理システムにおいては、標準DRA
Mはビット単価が安いため、大記憶容量の主メモリとし
て用いられることが多い。標準DRAMは、アクセス時
間が短縮化されてきてはいるものの、MPUの高速化は
標準DRAMのそれを上回っている。
2. Description of the Related Art A recent 16-bit or 32-bit microprocessing unit (MPU) has a very high operating clock frequency of 25 MHz or higher. In data processing systems, standard DRA
Since M has a low bit unit price, it is often used as a main memory with a large storage capacity. Although the access time of the standard DRAM has been shortened, the speedup of the MPU is higher than that of the standard DRAM.

【0004】このため、標準DRAMを主メモリとして
用いるデータ処理システムは、ウエイトステート(待ち
状態)の増加などの犠牲を払う必要がある。このMPU
と標準DRAMの動作速度のギャップという問題は、標
準DRAMが次のような特徴を有しているために本質的
なものである。
Therefore, the data processing system using the standard DRAM as the main memory needs to sacrifice such as an increase in the wait state. This MPU
The problem of the operating speed gap between the standard DRAM and the standard DRAM is essential because the standard DRAM has the following features.

【0005】(i) 行アドレス信号と列アドレス信号
とが時分割的に多重化されて同一のアドレスピン端子へ
与えられる。行アドレス信号は、ローアドレスストロー
ブ信号/RASの降下エッジで装置内部へ取込まれる。
列アドレス信号は、コラムアドレスストローブ信号/C
ASの降下エッジで装置内部へ取込まれる。ローアドレ
スストローブ信号/RASがメモリサイクルの開始を規
定しかつ行選択系を活性化する。コラムアドレスストロ
ーブ信号/CASは列選択系を活性化する。
(I) Row address signals and column address signals are time-division multiplexed and applied to the same address pin terminal. The row address signal is taken into the inside of the device at the falling edge of row address strobe signal / RAS.
The column address signal is the column address strobe signal / C.
It is taken inside the device at the falling edge of AS. Row address strobe signal / RAS defines the start of a memory cycle and activates the row selection system. The column address strobe signal / CAS activates the column selection system.

【0006】信号/RASが活性状態となってから信号
/CASが活性状態となるまで「RAS−CAS遅延時
間(tRCD)」と呼ばれる所定の時間が必要とされ
る。この遅延時間tRCDにより、アクセス時間の短縮
化にも限度があるというアドレス多重化による制約が存
在する。
A predetermined time called "RAS-CAS delay time (tRCD)" is required from the activation of signal / RAS until the activation of signal / CAS. Due to this delay time tRCD, there is a limitation due to address multiplexing that the shortening of access time is also limited.

【0007】(ii) ローアドレスストローブ信号/
RASを一旦立上げてDRAMをスタンバイ状態に設定
した場合、このローアドレスストローブ信号/RASは
RASプリチャージ時間(tRP)と呼ばれる時間が経
過した後でなければ再び“L”へ立下げることはできな
い。RASプリチャージ時間tRPは、DRAMの様々
な信号線を確実に所定電位にプリチャージするために必
要とされる。このため、RASプリチャージ時間tRP
によりDRAMのサイクル時間を短くすることはできな
い。また、DRAMのサイクル時間を短くすることは、
DRAMにおいて信号線の充放電の回数が多くなるため
消費電流の増加にもつながる。
(Ii) Row address strobe signal /
When the RAS is once raised and the DRAM is set to the standby state, the row address strobe signal / RAS can be lowered to "L" only after the time called the RAS precharge time (tRP) has elapsed. .. The RAS precharge time tRP is required to surely precharge various signal lines of the DRAM to predetermined potentials. Therefore, RAS precharge time tRP
Therefore, the cycle time of DRAM cannot be shortened. Also, shortening the cycle time of DRAM is
In the DRAM, the number of times of charging / discharging the signal line increases, which leads to an increase in current consumption.

【0008】(iii) 回路の高集積化およびレイア
ウトの改良などの回路技術およびプロセス技術の向上ま
たは駆動方法の改良などの応用上の工夫・改良によりD
RAMの高速化を図ることはできる。しかしながら、M
PUの高速化の進展はDRAMのそれを大きく上回って
いる。ECLRAM(エミッタ・カップルド・RAM)
およびスタティックRAMなどのバイポーラトランジス
タを用いた高速のバイポーラRAMおよびMOSトラン
ジスタ(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)を用いた
比較的低速のDRAMというように、半導体メモリの動
作速度には階層構造がある。MOSを構成要素とする標
準DRAMでは数十nS(ナノ秒)のスピード(サイク
ル時間)を期待するのは非常に困難である。
(Iii) High integration of circuits and improvement of circuit technology such as layout improvement and process technology or improvement of application such as improvement of driving method
The speed of the RAM can be increased. However, M
The speeding up of PUs has greatly exceeded that of DRAMs. ECLRAM (emitter coupled RAM)
There is a hierarchical structure in the operating speed of a semiconductor memory such as a high speed bipolar RAM using a bipolar transistor such as a static RAM and a relatively low speed DRAM using a MOS transistor (insulated gate type field effect transistor). It is very difficult to expect a speed (cycle time) of several tens nS (nanoseconds) in a standard DRAM having MOS as a constituent element.

【0009】MPUと標準DRAMのスピードギャップ
(動作速度の差)を埋めるため、応用面から種々の改善
が行なわれている。このような改善の主なものとして
は、(1) DRAMの高速モードとインタリーブ方式
とを用いる、(2) 高速のキャッシュメモリ(SRA
M)を外部に設ける、がある。
In order to fill the speed gap (difference in operating speed) between the MPU and the standard DRAM, various improvements have been made in terms of application. The major improvements are (1) using the high-speed mode and interleaving method of DRAM, and (2) high-speed cache memory (SRA).
M) is provided outside.

【0010】上記方法(1)の場合、スタティックコラ
ムモードまたはページモードなどの高速モードを用いる
方法と、この高速モードとインタリーブ方式とを組合せ
る方法とがある。スタティックモードとは、1本のワー
ド線(1行)を選択した後、列アドレスのみを順次変化
させることによりこの1行のメモリセルを順次アクセス
する方法である。ページモードとは、1本のワード線を
選択した後、信号/CASをトグルして列アドレス信号
を順次取込み、この1本のワード線に接続されるメモリ
セルへ順次アクセスする方法である。これらのいずれの
モードも信号/RASのトグルを含まずにメモリセルへ
アクセスすることができ、通常の、信号/RASおよび
/CASを用いたアクセスよりも高速となる。
In the case of the above method (1), there are a method of using a high speed mode such as a static column mode or a page mode, and a method of combining the high speed mode and the interleave method. The static mode is a method in which one word line (one row) is selected and then only the column address is sequentially changed to sequentially access the memory cells in this one row. The page mode is a method in which, after selecting one word line, the signal / CAS is toggled to sequentially take in column address signals and sequentially access the memory cells connected to this one word line. In any of these modes, the memory cell can be accessed without including the toggle of the signal / RAS, which is faster than the usual access using the signals / RAS and / CAS.

【0011】インタリーブ方式とは、複数のメモリ装置
をデータバスに並列に設け、この複数のメモリ装置への
アクセスを交互または順次行なうことにより、実効的に
アクセス時間の短縮を図る方式である。DRAMの高速
モードを用いた方法および高速モードとインタリーブ方
式とを組合せる方法は、簡単にしかも比較的効率よく標
準DRAMを高速DRAMとして使用する方法として従
来からも知られている。
The interleave system is a system in which a plurality of memory devices are provided in parallel with a data bus and the plurality of memory devices are accessed alternately or sequentially to effectively shorten the access time. The method using the high-speed mode of the DRAM and the method combining the high-speed mode and the interleave method have been conventionally known as a method for easily and relatively efficiently using the standard DRAM as the high-speed DRAM.

【0012】上記方法(2)は、メインフレームでは昔
から幅広く利用されている方法である。高速キャッシュ
メモリは高価である。しかしながら、低価格ながらも高
性能をも要求されるパーソナルコンピュータの分野にお
いては、その動作速度を改善するために、ある程度高価
になるのを犠牲にしてやむなく一部で使用されている。
高速キャッシュメモリをどこに設けるかについては次の
3種類の可能性が存在する。
The above method (2) has been widely used for a long time in mainframes. High speed cache memory is expensive. However, in the field of personal computers, which are required to have high performance at a low price, they are unavoidably used in some areas at the expense of becoming expensive to some extent in order to improve the operating speed thereof.
There are the following three possibilities as to where the high-speed cache memory is provided.

【0013】(a) MPUそのものに内蔵する。 (b) MPU外部に設ける。(A) Built in the MPU itself. (B) Provided outside the MPU.

【0014】(c) 高速キャッシュメモリを別に設け
るのではなく、標準DRAMに内蔵されている高速モー
ドをキャッシュのように用いる(高速モードの擬似的キ
ャッシュメモリ化)。すなわち、キャッシュヒット時に
は高速モードで標準DRAMへアクセスし、キャッシュ
ミス時には通常モードで標準DRAMへアクセスする。
(C) Instead of separately providing a high-speed cache memory, the high-speed mode built in the standard DRAM is used like a cache (making the high-speed mode a pseudo cache memory). That is, the standard DRAM is accessed in the high speed mode when the cache hits, and the standard DRAM is accessed in the normal mode when the cache miss occurs.

【0015】上述の3つの方法(a)ないし(c)は何
らかの形で既にデータ処理システムにおいて採用されて
いる。しかしながら、価格の観点から、多くのMPUシ
ステムにおいては、DRAMに不可避なRASプリチャ
ージ時間(tRP)を実効的に表に現われないようにす
るために、メモリをバンク構成とし、このメモリバンク
毎にインタリーブする方法が用いられている。この方法
に従えば、実質的にDRAMのサイクル時間をスペック
値(仕様値)のほぼ半分にすることができる。
The above three methods (a) to (c) have already been adopted in a data processing system in some form or another. However, from the viewpoint of price, in many MPU systems, in order to prevent the unavoidable RAS precharge time (tRP) from appearing effectively in the table, the memory has a bank structure, and each memory bank has The method of interleaving is used. According to this method, the cycle time of the DRAM can be substantially halved to the specification value (specification value).

【0016】しかしながら、インタリーブの方法はメモ
リ装置へのアクセスがシーケンシャルに行なわれる場合
にしか効果的ではない。すなわち、同一のメモリバンク
へ連続してアクセスする場合には効果は得られない。ま
た、この方法では、DRAM自身のアクセス時間の実質
的向上を図ることはできない。また、メモリの最小単位
を少なくとも2バンクとする必要がある。
However, the interleaving method is effective only when the memory devices are accessed sequentially. That is, the effect cannot be obtained when the same memory bank is continuously accessed. In addition, this method cannot substantially improve the access time of the DRAM itself. Also, the minimum unit of memory must be at least two banks.

【0017】ページモードまたはスタティックコラムモ
ードなどの高速モードを用いる場合、MPUが或るペー
ジ(或る指定された1行のデータ)を連続してアクセス
する場合に限り実効的にアクセス時間を短縮することが
できる。この方法は、バンク数が2ないし4と比較的大
きい場合には、各バンク毎に異なる行をアクセスするこ
とができるため或る程度効果が得られる。与えられたペ
ージ内にMPUが要求するメモリデータが存在しない場
合を「ミスヒット(キャッシュミス)」と呼ぶ。通常、
データの1塊は近接したアドレスまたは逐次的アドレス
に格納される。高速モードにおいては、アドレスの半分
である行アドレスが既に指定されているため「ミスヒッ
ト(キャッシュミス)」が発生する確率は高い。
When using the high-speed mode such as the page mode or the static column mode, the access time is effectively shortened only when the MPU continuously accesses a certain page (a specified one row of data). be able to. This method is effective to some extent because different rows can be accessed for each bank when the number of banks is relatively large, 2 to 4. The case where the memory data requested by the MPU does not exist in the given page is called a “miss hit (cache miss)”. Normal,
A chunk of data is stored at adjacent or sequential addresses. In the high speed mode, since the row address which is half of the address is already designated, the probability of "miss hit (cache miss)" is high.

【0018】バンクの数が30ないし40と大きくなる
と、各バンク毎に異なるページのデータを格納すること
ができるため、「ミスヒット」率は激減する。しかしな
がら、データ処理システムにおいて30ないし40のバ
ンクを想定することは現実的ではない。また、「キャッ
シュミス」が発生した場合には、新たに行アドレスを選
択し直すために信号/RASを立上げてDRAMのプリ
チャージサイクルに戻る必要があり、バンク構成の性能
を犠牲にすることになる。
As the number of banks increases from 30 to 40, different pages of data can be stored in each bank, so that the "miss hit" rate is drastically reduced. However, it is not realistic to envision 30 to 40 banks in the data processing system. Further, when a "cache miss" occurs, it is necessary to raise the signal / RAS and return to the DRAM precharge cycle in order to newly select the row address, which sacrifices the bank configuration performance. become.

【0019】前述の方法(2)の場合、MPUと標準D
RAMとの間には高速キャッシュメモリが設けられる。
この場合、標準DRAMは比較的低速であっても構わな
い。一方、標準DRAMは4M(メガ)ビット、16M
ビットと大記憶容量のものが出現している。パーソナル
コンピュータなどの小規模システムにおいては、そのメ
インメモリを1チップないし数チップの標準DRAMに
より構成することができる。
In the case of the above method (2), MPU and standard D
A high speed cache memory is provided between the RAM and the RAM.
In this case, the standard DRAM may be relatively slow. On the other hand, standard DRAM is 4M (mega) bit, 16M
Bits and large storage capacity are emerging. In a small-scale system such as a personal computer, its main memory can be composed of one chip to several chips of standard DRAM.

【0020】外部に高速キャッシュメモリを設けた場
合、メインメモリがたとえば1個の標準DRAMにより
構成できるような小規模システムではこの方法は有効で
はない。標準DRAMをメインメモリとする場合、高速
キャッシュメモリとメインメモリとの間のデータ転送速
度がこの標準DRAMのデータ入出力端子数で制限さ
れ、システムの速度に対するネックになるからである。
When a high-speed cache memory is provided externally, this method is not effective in a small-scale system in which the main memory can be composed of, for example, one standard DRAM. This is because when the standard DRAM is used as the main memory, the data transfer rate between the high speed cache memory and the main memory is limited by the number of data input / output terminals of the standard DRAM, which becomes a bottleneck to the system speed.

【0021】また、高速モードの擬似的キャッシュメモ
リ化の場合、その動作速度は高速キャッシュメモリより
も遅いため、所望のシステムの性能を実現することは困
難である。
Further, in the case of using the pseudo cache memory in the high speed mode, its operating speed is slower than that of the high speed cache memory, so that it is difficult to realize the desired system performance.

【0022】上述のようなインタリーブ方式または高速
動作モードを使用した場合に生じるシステム性能の犠牲
を解消し、比較的安価で小規模なシステムを構築する方
法としては、高速キャッシュメモリ(SRAM)をDR
AMに内蔵することが考えられる。すなわち、図21に
示すように、DRAMをメインメモリとしかつSRAM
をキャッシュメモリとして備える階層的な構造の1チッ
プメモリを考えることができる。このような階層的な構
造の1チップメモリをキャッシュDRAM(CDRA
M)と称す。
A high-speed cache memory (SRAM) is a DR as a method of eliminating the sacrifice in system performance that occurs when the above-described interleave method or high-speed operation mode is used and constructing a relatively inexpensive and small-scale system.
It may be built into the AM. That is, as shown in FIG. 21, the DRAM is the main memory and the SRAM is
It is possible to consider a one-chip memory having a hierarchical structure that includes as a cache memory. A one-chip memory having such a hierarchical structure is used as a cache DRAM (CDR A
M).

【0023】図21はCDRAMの概略構成を示す図で
ある。図21において、CDRAM550は、ダイナミ
ック型メモリセルを含む大記憶容量のDRAM560
と、高速アクセス可能なスタティック型メモリセルを含
むSRAM580と、DRAM560の選択されたメモ
リセルとSRAM580の選択されたメモリセルとの間
でのデータ転送を行なうための転送ゲート570を含
む。転送ゲート570は双方向にデータの転送を行なう
ことができる。
FIG. 21 is a diagram showing a schematic structure of a CDRAM. In FIG. 21, a CDRAM 550 is a large storage capacity DRAM 560 including dynamic memory cells.
And a transfer gate 570 for performing data transfer between a selected memory cell of DRAM 560 and a selected memory cell of SRAM 580. Transfer gate 570 can transfer data bidirectionally.

【0024】図22は従来の標準的なCDRAMの要部
の構成を示す図である。DRAM560は、行および列
からなるマトリクス状に配列された複数のダイナミック
型メモリセルDMCを有するメモリセルアレイ500を
含む。1行のメモリセルDMCが1本のワード線DWL
に接続される。1列のメモリセルDMCが1本の列線C
Lに接続される。列線CLは、通常、1対のビット線か
ら構成される。1本のワード線DWLは、1対のビット
線のうちの一方のビット線との交点に位置するメモリセ
ルを選択状態とする。1MDRAMにおいては、メモリ
セルDMCは1024行×1024列のマトリクス状に
配列される。すなわち、このメモリセルアレイ500
は、1024本のワード線DWLと1024本の列線C
L(1024対のビット線)とを含む。
FIG. 22 is a diagram showing a structure of a main part of a conventional standard CDRAM. DRAM 560 includes a memory cell array 500 having a plurality of dynamic memory cells DMC arranged in a matrix of rows and columns. One row of memory cells DMC has one word line DWL
Connected to. One column memory cell DMC has one column line C
Connected to L. The column line CL is usually composed of a pair of bit lines. One word line DWL selects a memory cell located at an intersection with one bit line of a pair of bit lines. In the 1M DRAM, the memory cells DMC are arranged in a matrix of 1024 rows × 1024 columns. That is, this memory cell array 500
Is 1024 word lines DWL and 1024 column lines C
L (1024 pairs of bit lines).

【0025】DRAM560はさらに、外部から与えら
れる行アドレス信号(図示せず)をデコードし、メモリ
セルアレイ500の対応の行を選択するローデコーダ5
02と、ローデコーダ502により選択されたワード線
に接続されるメモリセルのデータを検知し増幅するセン
スアンプと、外部から与えられる列アドレス信号(図示
せず)をデコードし、メモリセルアレイ500の対応の
列を選択するコラムデコーダを含む。図22において
は、センスアンプとコラムデコーダとが1つのブロック
504に含まれるように示される。実際には、このロー
デコーダおよびコラムデコーダへはアドレスバッファか
らの内部アドレス信号が与えられるが、このアドレスバ
ッファは示していない。
The DRAM 560 further decodes a row address signal (not shown) given from the outside to select a corresponding row of the memory cell array 500.
02, a sense amplifier for detecting and amplifying data of a memory cell connected to the word line selected by the row decoder 502, and a column address signal (not shown) given from the outside to decode the data, and to correspond to the memory cell array 500. Includes a column decoder for selecting a column of. In FIG. 22, the sense amplifier and the column decoder are shown to be included in one block 504. Actually, an internal address signal from the address buffer is applied to the row decoder and column decoder, but this address buffer is not shown.

【0026】DRAM560がデータの入出力を1ビッ
ト単位で行なう×1ビット構成の場合、コラムデコーダ
により1本の列線(1つのビット線対)CLが選択され
る。DRAMが4ビット単位でデータの入出力を行なう
×4ビット構成の場合、コラムデコーダにより4本の列
線CLが選択される。ブロック504に含まれるセンス
アンプは各列線(ビット線対)CLに対して1個ずつ設
けられる。
When DRAM 560 has a × 1 bit structure for inputting / outputting data in 1-bit units, one column line (one bit line pair) CL is selected by the column decoder. When the DRAM has a × 4 bit structure for inputting / outputting data in units of 4 bits, four column lines CL are selected by the column decoder. One sense amplifier included in the block 504 is provided for each column line (bit line pair) CL.

【0027】DRAM560内のメモリセルDMCへデ
ータを書込むかまたは読出すメモリアクセス時において
は、以下の動作が行なわれる。まず、ローデコーダ50
2へ行アドレス信号(正確には内部行アドレス信号)が
与えられる。ローデコーダ502は、与えられた行アド
レス信号をデコードし、メモリセルアレイ500内の1
本のワード線DWLの電位を“H”に立上げる。選択さ
れたワード線DWLに接続される1024ビットのメモ
リセルDMCのデータが対応の列線CL上へ伝達され
る。列線CL上のデータは、ブロック504に含まれる
センスアンプにより増幅される。
At the time of memory access for writing or reading data to or from memory cell DMC in DRAM 560, the following operation is performed. First, the row decoder 50
A row address signal (to be exact, an internal row address signal) is given to 2. The row decoder 502 decodes a given row address signal, and
The potential of the word line DWL of the book is raised to "H". The data of the 1024-bit memory cell DMC connected to the selected word line DWL is transmitted onto the corresponding column line CL. The data on the column line CL is amplified by the sense amplifier included in the block 504.

【0028】選択されたワード線DWLに接続されるメ
モリセルのうち、データの書込または読出を受けるメモ
リセルの選択は、ブロック504に含まれるコラムデコ
ーダからの列選択信号により行なわれる。コラムデコー
ダは列アドレス信号(正確には内部列アドレス信号)を
デコードし、メモリセルアレイ500内の対応の列を選
択するための列選択信号を発生する。
Of the memory cells connected to the selected word line DWL, a memory cell to be written or read with data is selected by a column selection signal from a column decoder included in block 504. The column decoder decodes a column address signal (to be exact, an internal column address signal) and generates a column selection signal for selecting a corresponding column in the memory cell array 500.

【0029】SRAM580は、各々がDRAMメモリ
セルアレイ500の1行のデータを格納することのでき
るキャッシュレジスタ(SRAMセル)506a,50
6b,506cおよび506dを含む。SRAM580
のキャッシュレジスタ506a〜506dの各々では、
DRAMメモリセルアレイ500の各列線CLに対応し
てキャッシュレジスタが設けられる。すなわちSRAM
580は、4×1024個のキャッシュレジスタを含
む。キャッシュレジスタは、通常、スタティック型メモ
リセル(SRAMセル)により構成される。このCDR
AMは、4ウェイセットアソシアティブ方式のマッピン
グ方式を実現する。
The SRAM 580 is a cache register (SRAM cell) 506a, 50 capable of storing data of one row of the DRAM memory cell array 500.
6b, 506c and 506d. SRAM580
In each of the cash registers 506a-506d of
A cache register is provided corresponding to each column line CL of the DRAM memory cell array 500. Ie SRAM
580 includes 4 × 1024 cash registers. The cash register is usually composed of static memory cells (SRAM cells). This CDR
The AM realizes a 4-way set associative mapping method.

【0030】外部からキャッシュヒットを示す信号が与
えられた場合、SRAM580へのアクセスが行なわ
れ、高速でメモリセルへのアクセスが行なわれる。キャ
ッシュミス時においてはDRAM560へのアクセスが
行なわれる。ウェイの選択はウェイアドレス(外部から
与えられる)に従ってセレクタ510により行なわれ、
4つのキャッシュレジスタブロック506a〜506d
のうちの1つが選択される。このSRAMキャッシュの
容量は4Kビットとなる(キャッシュレジスタ506a
〜506dの各々は1×1024のキャッシュレジスタ
を含む)。
When a signal indicating a cache hit is externally applied, SRAM 580 is accessed and a memory cell is accessed at high speed. When a cache miss occurs, DRAM 560 is accessed. The way is selected by the selector 510 according to the way address (given from the outside),
Four cash register blocks 506a-506d
One of them is selected. The capacity of this SRAM cache is 4 Kbits (the cash register 506a.
~ 506d each include 1x1024 cash registers).

【0031】DRAM560とSRAM580との間に
転送ゲート570が設けられる。DRAMメモリセルア
レイ500の列線(ビット線対CL)とSRAM(キャ
ッシュメモリ)の各列線(ビット線対)とが1対1の対
応関係で転送ゲート570を介して接続される。
A transfer gate 570 is provided between the DRAM 560 and the SRAM 580. The column lines (bit line pairs CL) of the DRAM memory cell array 500 and the respective column lines (bit line pairs) of the SRAM (cache memory) are connected via the transfer gate 570 in a one-to-one correspondence relationship.

【0032】キャッシュのいわゆるブロックサイズは、
SRAM580において、1回のデータ転送動作により
その内容が書換えられるビットの数と考えることができ
る。したがって、このブロックサイズはDRAMメモリ
セルアレイ500の1本のワード線DWLに物理的に結
合されるメモリセルの数と同数となる。図22に示す構
成の場合、DRAMメモリセルアレイ500においては
1本のワード線DWLに1024個のメモリセルが物理
的に接続されているため、ブロックサイズは1024と
なる。
The so-called block size of the cache is
In the SRAM 580, it can be considered as the number of bits whose contents are rewritten by one data transfer operation. Therefore, this block size is the same as the number of memory cells physically coupled to one word line DWL of DRAM memory cell array 500. In the case of the configuration shown in FIG. 22, since 1024 memory cells are physically connected to one word line DWL in the DRAM memory cell array 500, the block size is 1024.

【0033】図23は1本の列線(ビット線対に関連す
るDRAMアレイ)とキャッシュレジスタの具体的構成
を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing a specific configuration of one column line (DRAM array associated with a bit line pair) and a cash register.

【0034】キャッシュレジスタを構成するSRAMセ
ルSMCは、インバータラッチを構成するMOS(絶縁
ゲート型電界効果)トランジスタSQ1、SQ2、SQ
3およびSQ4を含む。pチャネルMOSトランジスタ
SQ1とnチャネルMOSトランジスタSQ3が動作電
源電位Vccと他方電源電位(接地電位)Vssとの間
に相補接続され、一方のインバータ回路を構成する。
The SRAM cell SMC forming the cash register is composed of MOS (insulated gate type field effect) transistors SQ1, SQ2 and SQ forming the inverter latch.
3 and SQ4. The p-channel MOS transistor SQ1 and the n-channel MOS transistor SQ3 are complementarily connected between the operating power supply potential Vcc and the other power supply potential (ground potential) Vss to form one inverter circuit.

【0035】pチャネルMOSトランジスタSQ2とn
チャネルMOSトランジスタSQ4とが動作電源電位V
ccと接地電位Vssとの間に相補接続され、他方のイ
ンバータ回路を構成する。トランジスタSQ1およびS
Q3のゲートがノードSN1に接続され、トランジスタ
SQ2およびSQ4のゲートがノードSN2に接続され
る。ノードSN1は一方のインバータ回路(トランジス
タSQ1およびSQ3)の出力ノードであり、ノードS
N2は他方インバータ回路(トランジスタSQ2および
SQ4)の出力ノードである。
P-channel MOS transistors SQ2 and n
The channel MOS transistor SQ4 and the operating power supply potential V
Complementary connection is made between cc and the ground potential Vss to form the other inverter circuit. Transistors SQ1 and S
The gate of Q3 is connected to node SN1, and the gates of transistors SQ2 and SQ4 are connected to node SN2. Node SN1 is an output node of one inverter circuit (transistors SQ1 and SQ3), and node S
N2 is an output node of the other inverter circuit (transistors SQ2 and SQ4).

【0036】SRAMセルSMCはさらに、SRAMワ
ード線SWL上の信号に応答して導通し、ノードSN1
およびSN2をそれぞれSRAMビット線SBLおよび
*SBLへ接続するnチャネルMOSトランジスタSQ
5およびSQ6を含む。ビット線SBLおよび*SBL
には、ダイオード接続されたnチャネルMOSトランジ
スタSQ7およびSQ8が設けられる。MOSトランジ
スタSQ7およびSQ8はビット線SBLおよび*SB
Lの“H”の電位をVcc−Vthの電位にクランプす
る。ここで、VthはトランジスタSQ7およびSQ8
のしきい値電圧である。このトランジスタSQ7および
SQ8はまた、SRAMビット線SBLおよび*SBL
の“L”の電位レベルを接地電位Vssよりも高いレベ
ルに設定する。
The SRAM cell SMC is further rendered conductive in response to a signal on the SRAM word line SWL, and the node SN1.
And SN2 are connected to SRAM bit lines SBL and * SBL, respectively, n channel MOS transistor SQ
5 and SQ6. Bit lines SBL and * SBL
Is provided with diode-connected n-channel MOS transistors SQ7 and SQ8. MOS transistors SQ7 and SQ8 are connected to bit lines SBL and * SB
The potential of "H" of L is clamped to the potential of Vcc-Vth. Here, Vth is the transistors SQ7 and SQ8.
Is the threshold voltage of. The transistors SQ7 and SQ8 are also connected to the SRAM bit lines SBL and * SBL.
The "L" potential level is set to a level higher than the ground potential Vss.

【0037】DRAMセルDMCは、1個の選択トラン
ジスタTMと、情報を記憶するためのキャパシタCを含
む。図23においては、DRAMワード線DWL1とD
RAMビット線*DBLとの交点に対応してDRAMセ
ルDMC1が設けられ、DRAMワード線DWL2とD
RAMビット線DBLとの交点にDRAMセルDMC2
が配置された場合が一例として示される。容量Cの一方
電極(セルプレート)は所定の電位Vgに接続される。
DRAMビット線DBLとDRAMビット線*DBLに
対して、この両者の電位をセンスアンプ活性化信号SA
に応答して差動的に増幅するためのDRAMセンスアン
プDSAが設けられる。DRAMセンスアンプDSAは
通常、pチャネルMOSトランジスタが交差結合された
Pセンスアンプと、nチャネルMOSトランジスタが交
差結合されたNセンスアンプを含む。
The DRAM cell DMC includes one select transistor TM and a capacitor C for storing information. In FIG. 23, the DRAM word lines DWL1 and DWL
The DRAM cell DMC1 is provided corresponding to the intersection with the RAM bit line * DBL, and the DRAM word lines DWL2 and DWL2.
The DRAM cell DMC2 is provided at the intersection with the RAM bit line DBL.
Is shown as an example. One electrode (cell plate) of the capacitor C is connected to a predetermined potential Vg.
The potentials of the DRAM bit line DBL and the DRAM bit line * DBL are set to the sense amplifier activation signal SA.
A DRAM sense amplifier DSA for differentially amplifying in response to is provided. DRAM sense amplifier DSA typically includes a P sense amplifier in which p channel MOS transistors are cross-coupled and an N sense amplifier in which n channel MOS transistors are cross coupled.

【0038】双方向転送ゲート507は、転送指示信号
φTに応答してSRAMセルからDRAMセルまたはD
RAMセルからSRAMセルへデータを転送する。ここ
で転送制御信号φTは1種類のみを総称的に示す。双方
向転送ゲートの構成については後に具体的に説明する。
次に、DRAMセルおよびSRAMセルの動作について
簡単に説明する。まず、SRAMセルのデータの書込お
よび読出時の動作について説明する。
Bidirectional transfer gate 507 responds to transfer instruction signal φT from SRAM cell to DRAM cell or D cell.
Data is transferred from the RAM cell to the SRAM cell. Here, only one type of transfer control signal φT is generically shown. The configuration of the bidirectional transfer gate will be specifically described later.
Next, operations of the DRAM cell and the SRAM cell will be briefly described. First, the operation of writing and reading data in the SRAM cell will be described.

【0039】データ書込時において、SRAMビット線
SBLと相補SRAMビット線*SBLには互いに相補
なデータが伝達される。今、ビット線SBLに“H”、
相補ビット線*SBLに“L”の電位が伝達された状態
を考える。SRAMワード線SWLの電位は“H”にあ
り、ノードSN1およびSN2はそれぞれ導通状態のト
ランジスタSQ5およびSQ6を介してビット線SBL
および*SBLにそれぞれ接続される。ノードSN1の
電位はトランジスタSQ2およびSQ4のゲートへ与え
られ、トランジスタSQ4が導通状態、トランジスタS
Q2が非導通状態となる。
During data writing, complementary data are transmitted to SRAM bit line SBL and complementary SRAM bit line * SBL. Now, "H" is applied to the bit line SBL,
Consider a state in which the potential of "L" is transmitted to the complementary bit line * SBL. The potential of the SRAM word line SWL is at "H", and the nodes SN1 and SN2 are respectively connected to the bit line SBL through the transistors SQ5 and SQ6 in the conductive state.
And * SBL respectively. The potential of the node SN1 is applied to the gates of the transistors SQ2 and SQ4, the transistor SQ4 is turned on, and the transistor SQ4 is turned on.
Q2 becomes non-conductive.

【0040】ノードSN2の“L”の電位は、トランジ
スタSQ1およびSQ3のゲートへ与えられ、トランジ
スタSQ1が導通状態、一方、トランジスタSQ3が非
導通状態となる。これにより、ノードSN1の電位が
“H”、ノードSN2の電位が“L”に設定され、これ
らの電位がトランジスタSQ1−SQ4からなるインバ
ータラッチ回路にラッチされる。SRAMワード線SW
Lの電位が“L”へ立下がることによりデータの書込が
完了する。
The "L" potential of node SN2 is applied to the gates of transistors SQ1 and SQ3, turning on transistor SQ1 and turning off transistor SQ3. As a result, the potential of the node SN1 is set to "H" and the potential of the node SN2 is set to "L", and these potentials are latched by the inverter latch circuit including the transistors SQ1 to SQ4. SRAM word line SW
Writing of data is completed when the potential of L falls to "L".

【0041】データ読出時においては、同様にSRAM
ワード線SWLの電位が“H”に立上がり、トランジス
タSQ5およびSQ6が導通状態となる。ノードSN1
およびSN2にそれぞれラッチされていた記憶データ
(電位)がそれぞれビット線SBLおよび*SBLへ伝
達される。ビット線SBLおよび*SBLには“H”と
“L”の相補なデータが伝達される。このビット線SB
Lおよび*SBLの信号電位は図示しないSRAMセン
スアンプにより増幅され、データ出力回路を介して読出
される。
When reading data, the SRAM is also used.
The potential of word line SWL rises to "H", and transistors SQ5 and SQ6 are rendered conductive. Node SN1
The stored data (potential) latched by SN2 and SN2 are transmitted to bit lines SBL and * SBL, respectively. Complementary data of "H" and "L" are transmitted to the bit lines SBL and * SBL. This bit line SB
The signal potentials of L and * SBL are amplified by an SRAM sense amplifier (not shown) and read via the data output circuit.

【0042】次にDRAMセルの動作について説明す
る。今、DRAMワード線DWL1が選択された場合を
考える。DRAMセルDMC1の選択トランジスタTM
がオン状態となり、セルDMC1のキャパシタがDRA
Mビット線*DBLに接続される。次いで、DRAMセ
ンスアンプDSAがセンスアンプ活性化信号SAにより
活性化され、ビット線*DBLおよびDBLの電位を差
動的に増幅する。今、DRAMビット線DBLにはメモ
リセルが接続されていないため、このビット線DBLの
電位は中間電位である。ビット線*DBLの電位がこの
中間電位よりも少し低い場合には、DRAMセンスアン
プDSAはビット線DBLを“H”に、ビット線*DB
Lを“L”に充放電する。逆の場合には、ビット線DB
Lの電位が“L”、ビット線*DBLの電位が“H”と
なる。
Next, the operation of the DRAM cell will be described. Now, consider the case where the DRAM word line DWL1 is selected. Select transistor TM of DRAM cell DMC1
Is turned on and the capacitor of cell DMC1 becomes DRA
Connected to M bit line * DBL. Then, the DRAM sense amplifier DSA is activated by the sense amplifier activation signal SA and differentially amplifies the potentials of the bit lines * DBL and DBL. Since no memory cell is connected to the DRAM bit line DBL, the potential of the bit line DBL is an intermediate potential. When the potential of the bit line * DBL is slightly lower than this intermediate potential, the DRAM sense amplifier DSA sets the bit line DBL to "H" and the bit line * DB.
Charge and discharge L to "L". In the opposite case, the bit line DB
The potential of L becomes "L" and the potential of the bit line * DBL becomes "H".

【0043】データ書込の場合には、図示しない書込回
路からのデータがこのビット線DBLおよび*DBL上
に伝達され、ビット線DBLおよび*DBLの電位が書
込データに対応した値となり、メモリセルDMC1へ書
込まれる。データ読出時においては、センスアンプDS
Aにより増幅されたデータが読出される。
In the case of data writing, data from a write circuit (not shown) is transmitted onto the bit lines DBL and * DBL, and the potentials of the bit lines DBL and * DBL become values corresponding to the write data. It is written in the memory cell DMC1. When reading data, the sense amplifier DS
The data amplified by A is read.

【0044】データ入出力回路の構成は明確に示してい
ない。これはCDRAMの構成に応じて異なるからであ
る。通常、図23に示すうような簡易キャッシュの場
合、SRAMビット線SBLおよび*SBLが内部デー
タ入出力線(IO線)に接続される。キャッシュミス時
においては、双方向転送ゲート507が開き、DRAM
アレイ500においてワード線の選択およびセンス動作
が行なわれ、その後双方向転送ゲート507を介してS
BLおよび*SBLを介してデータが読出されるかまた
はデータが書込まれる。
The structure of the data input / output circuit is not clearly shown. This is because it depends on the configuration of the CDRAM. Normally, in the case of the simple cache as shown in FIG. 23, the SRAM bit lines SBL and * SBL are connected to the internal data input / output line (IO line). In the case of a cache miss, the bidirectional transfer gate 507 opens and the DRAM
In the array 500, a word line is selected and a sensing operation is performed, and thereafter, the S line is transferred through the bidirectional transfer gate 507.
Data is read or written via BL and * SBL.

【0045】データの転送がDRAMアレイ500から
SRAMアレイ506への一方方向の場合には、双方向
転送ゲート507は1対のトランスファゲートトランジ
スタを含む。この場合DRAMセンスアンプDSAの駆
動能力がSRAMセルSMCのラッチ能力よりも大きく
される。DRAMセンスアンプDSAのラッチ能力より
もデータ書込回路(図示せず)の駆動能力は大きい。こ
れにより、キャッシュミス時にはDRAMへのアクセ
ス、キャッシュヒット時にはSRAMへのアクセスが行
なわれる。このような簡易構成のCDRAMは、たとえ
ば特開平1−146187号公報に示されている。次
に、トランジスタSQ7およびSQ8の機能についてそ
の動作機能を示す図24を参照して説明する。
When data is transferred from DRAM array 500 to SRAM array 506 in one direction, bidirectional transfer gate 507 includes a pair of transfer gate transistors. In this case, the drive capability of the DRAM sense amplifier DSA is made larger than the latch capability of the SRAM cell SMC. The drive capability of the data write circuit (not shown) is larger than the latch capability of the DRAM sense amplifier DSA. As a result, the DRAM is accessed in the case of a cache miss and the SRAM is accessed in the case of a cache hit. A CDRAM having such a simple structure is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-146187. Next, the functions of the transistors SQ7 and SQ8 will be described with reference to FIG. 24 showing the operating functions thereof.

【0046】トランジスタSQ7およびSQ8はダイオ
ード接続されており、ビット線SBLおよび*SBLの
“H”の電位を電位Vcc−Vthにクランプする。す
なわち、SRAMビット線SBLおよび*SBLの電位
振幅の“H”のレベルの電位レベルはVcc−Vthに
設定される。ノードSN1にラッチされた“H”のデー
タはVccレベルの電位を有する。この“H”のラッチ
データがビット線SBLに伝達された場合、その電位レ
ベルはトランジスタSQ5による信号損失により、Vc
c−Vthとなる。
Transistors SQ7 and SQ8 are diode-connected to clamp the "H" potential of bit lines SBL and * SBL to potential Vcc-Vth. That is, the potential level of the "H" level of the potential amplitude of SRAM bit lines SBL and * SBL is set to Vcc-Vth. The "H" data latched at the node SN1 has a potential of Vcc level. When this "H" latch data is transmitted to the bit line SBL, its potential level is Vc due to signal loss due to the transistor SQ5.
It becomes c-Vth.

【0047】一方、ビット線SBL(または*SBL)
の電位振幅の“L”レベルの電位VL1は、トランジス
タSQ4、SQ5およびSQ8(またはSQ3、SQ5
およびSQ7)の抵抗分割により決定される。このビッ
ト線電位振幅の“L”レベルの電位VL1は接地電位V
ssよりも高い。
On the other hand, the bit line SBL (or * SBL)
The potential VL1 at the “L” level of the potential amplitude of the transistors SQ4, SQ5 and SQ8 (or SQ3, SQ5
And SQ7) resistance division. This "L" level potential VL1 of the bit line potential amplitude is the ground potential V
Higher than ss.

【0048】すなわち、トランジスタSQ7およびSQ
8は、ビット線SBLおよび*SBLの“L”の電位を
高くする機能をも備える。このトランジスタSQ7およ
びSQ8はこのビット線SBLおよび*SBLの電位を
所定電位にクランプするため以下の説明ではクランプト
ランジスタと称す。
That is, the transistors SQ7 and SQ
8 also has a function of increasing the potential of "L" of the bit lines SBL and * SBL. The transistors SQ7 and SQ8 clamp the potentials of the bit lines SBL and * SBL to a predetermined potential, and are referred to as clamp transistors in the following description.

【0049】まず,比較のため、クランプトランジスタ
SQ7およびSQ8が設けられていない場合を考える。
この場合、ビット線SBLおよび*SBLの“L”レベ
ルの電位VL2は、トランジスタSQ6およびSQ4
(またはSQ5およびSQ3)により接地電位Vssに
放電され、ほぼ接地電位レベルとなる。トランジスタS
Q7およびSQ8が設けられていない場合のビット線S
BL(または*SBL)の“H”レベルの電位はVcc
−Vthで与えられる。この場合、ワード線SWLに与
えられる“H”のレベルは、動作電源電位Vccレベル
であり、トランジスタSQ5(またはSQ6)におい
て、このトランジスタSQ5またはSQ6のしきい値電
圧Vthの損失が存在していると仮定する。
First, for comparison, consider a case where the clamp transistors SQ7 and SQ8 are not provided.
In this case, the "L" level potential VL2 of the bit lines SBL and * SBL is the same as that of the transistors SQ6 and SQ4.
(Or SQ5 and SQ3) discharges to the ground potential Vss, and becomes almost the ground potential level. Transistor S
Bit line S when Q7 and SQ8 are not provided
BL (or * SBL) "H" level potential is Vcc
-Vth. In this case, the "H" level applied to word line SWL is the operating power supply potential Vcc level, and there is a loss in threshold voltage Vth of transistor SQ5 or SQ6 in transistor SQ5 (or SQ6). Suppose

【0050】図24において、時刻TWLでSRAMワ
ード線SWLの電位が“H”に立上がった状態を考え
る。トランジスタSQ7およびSQ8が設けられている
場合、ビット線SBL,*SBLへこのSRAMセルS
MCの記憶データが転送され、時刻T1においてビット
線SBLおよび*SBLの電位の“H”および“L”が
交差する。
In FIG. 24, assume that the potential of SRAM word line SWL rises to "H" at time TWL. If the transistors SQ7 and SQ8 are provided, the SRAM cell S is connected to the bit lines SBL and * SBL.
The data stored in MC is transferred, and the potentials "H" and "L" of the bit lines SBL and * SBL intersect at time T1.

【0051】一方、トランジスタSQ7およびSQ8が
設けられていない場合、このようなビット線SBLおよ
び*SBLにおける“H”と“L”の電位の交差するの
は時刻T2においてである。
On the other hand, when the transistors SQ7 and SQ8 are not provided, the potentials of "H" and "L" in the bit lines SBL and * SBL intersect at time T2.

【0052】このビット線SBLおよび*SBLの電位
“H”と電位“L”とが交差する時点より後の時刻で各
ビット線SBLおよび*SBLのデータが確定する。し
たがって、このトランジスタSQ7およびSQ8を設け
ることにより、ビット線SBLおよび*SBLの論理振
幅を小さくしてアクセス時間を高速にすることができ
る。特に、SRAMが複数行を備え、そのビット線が長
くなった場合においては、このクランプ機能が有効に発
揮される。
The data of each bit line SBL and * SBL is fixed at a time after the time point when the potential "H" and the potential "L" of the bit lines SBL and * SBL intersect. Therefore, by providing the transistors SQ7 and SQ8, the logical amplitude of the bit lines SBL and * SBL can be reduced and the access time can be shortened. In particular, when the SRAM has a plurality of rows and the bit line becomes long, this clamp function is effectively exhibited.

【0053】[0053]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、クラン
プトランジスタを用いることによりSRAMビット線の
論理振幅を小さくすることができ、高速アクセスのSR
AMをより高速で駆動することができる。しかしなが
ら、このようなクランプトランジスタを用いると、消費
電流が大きいという問題が生じる。以下この問題につい
て詳細に説明する。
As described above, by using the clamp transistor, the logical amplitude of the SRAM bit line can be reduced, and the SR for high speed access can be obtained.
The AM can be driven at a higher speed. However, the use of such a clamp transistor causes a problem of large current consumption. Hereinafter, this problem will be described in detail.

【0054】図25は、転送ゲート部の具体的構成の一
例を示す図である。図25において、転送ゲート570
は、SRAMビット線SBLとDRAMビット線DBL
との間に設けられる転送ゲートトランジスタTSQa
と、SRAMビット線*SBLとDRAMビット線*D
BLとの間に設けられる転送ゲートトランジスタTSQ
bを含む。この転送ゲートトランジスタTSQaおよび
TSQbは転送指示信号φTに応答して導通する。
FIG. 25 is a diagram showing an example of a specific configuration of the transfer gate section. In FIG. 25, the transfer gate 570
Is the SRAM bit line SBL and the DRAM bit line DBL
Transfer gate transistor TSQa provided between
And SRAM bit line * SBL and DRAM bit line * D
Transfer gate transistor TSQ provided between BL and
b is included. Transfer gate transistors TSQa and TSQb are rendered conductive in response to transfer instruction signal φT.

【0055】この構成は、DRAMセンスアンプDSA
の駆動力およびラッチ能力がSRAMセルSMCのラッ
チ能力よりも大きい場合における構成を示す。
This structure has a DRAM sense amplifier DSA.
2 shows the configuration in the case where the driving power and the latching capacity of the SRAM cell are larger than the latching capacity of the SRAM cell SMC.

【0056】DRAMセンスアンプDSAは、交差結合
されたnチャネルMOSトランジスタNQ100および
NQ101と、交差結合されたpチャネルMOSトラン
ジスタPQ100およびPQ101を含む。トランジス
タNQ100およびNQ101は、Nセンスアンプ活性
化信号SANに応答して活性化され、ビット線DBLお
よび*DBLの低電位のビット線電位を接地電位へと放
電する。
DRAM sense amplifier DSA includes cross-coupled n-channel MOS transistors NQ100 and NQ101 and cross-coupled p-channel MOS transistors PQ100 and PQ101. Transistors NQ100 and NQ101 are activated in response to N sense amplifier activation signal SAN to discharge the low potential bit line potentials of bit lines DBL and * DBL to the ground potential.

【0057】pチャネルMOSトランジスタPQ100
およびPQ101はPセンスアンプ活性化信号SAPに
応答して活性化され、ビット線DBLおよび*DBLの
高電位のビット線の電位を電源電位Vccレベルへと昇
圧する。
P-channel MOS transistor PQ100
And PQ101 are activated in response to P sense amplifier activation signal SAP to boost the potential of the high potential bit lines of bit lines DBL and * DBL to the power supply potential Vcc level.

【0058】上述のような構成の場合、キャッシュヒッ
ト時においては、SRAMへのアクセスのみが行なわれ
る。クランプトランジスタSQ7およびSQ8によりビ
ット線SBL,*SBLの論理振幅が小さくされるた
め、SRAMセルSMCのデータを高速で読出すことが
できる。またデータ書込時においても同様である。
In the case of the above structure, only the SRAM is accessed at the time of cache hit. Since the clamp transistors SQ7 and SQ8 reduce the logical amplitude of the bit lines SBL and * SBL, the data in the SRAM cell SMC can be read at high speed. The same applies when writing data.

【0059】今、キャッシュミスが生じ、データ転送信
号φTが発生した状態を考える。この転送指示信号φT
が発生されるのはDRAMセンスアンプDSAが活性化
された後である。すなわち、センスアンプ活性化信号S
ANおよび/SAPが活性状態となった後である。この
場合、DRAMセルDMCのデータがSRAMセルSM
Cへ伝達される。通常、DRAMセンスアンプDSAに
おいては、ビット線DBLおよび*DBLを“H”およ
び“L”に増幅した後、その信号電位のラッチ状態に入
るものの、センス動作完了後は貫通電流は生じない。す
なわち、今たとえばDRAMビット線DBLが“H”、
DRAMビット線*DBLが“L”の場合、トランジス
タNQ101はオフ状態であり、“H”のビット線DB
Lからセンスアンプ活性化信号伝達線SAN(その上の
信号と同一符号で示す)へは電流は流れない。一方、ト
ランジスタPQ101はオン状態となるものの、センス
アンプ活性化信号SAPは“H”であり、ビット線DB
LからトランジスタPQ101を介して電流が流れるこ
とはない。
Now, consider a state in which a cache miss has occurred and a data transfer signal φT has been generated. This transfer instruction signal φT
Is generated after the DRAM sense amplifier DSA is activated. That is, the sense amplifier activation signal S
After AN and / SAP are activated. In this case, the data in the DRAM cell DMC is the SRAM cell SM.
It is transmitted to C. Normally, in the DRAM sense amplifier DSA, after the bit lines DBL and * DBL are amplified to "H" and "L", the signal potential is latched, but no through current is generated after the sensing operation is completed. That is, for example, the DRAM bit line DBL is now "H",
When the DRAM bit line * DBL is "L", the transistor NQ101 is in the off state, and the "H" bit line DB
No current flows from L to the sense amplifier activation signal transmission line SAN (denoted by the same reference numeral as the signal above it). On the other hand, although the transistor PQ101 is turned on, the sense amplifier activation signal SAP is "H" and the bit line DB
No current flows from L through the transistor PQ101.

【0060】今、転送指示信号φTが“H”となった場
合、クランプトランジスタSQ8から電流を供給され、
トランジスタNQ100を介してセンスアンプ駆動活性
化信号線SANへ電流が流れる。このため、不必要に電
流が消費されるという問題が生じる。
Now, when the transfer instruction signal φT becomes "H", a current is supplied from the clamp transistor SQ8,
A current flows to the sense amplifier drive activation signal line SAN through the transistor NQ100. Therefore, there is a problem that the current is unnecessarily consumed.

【0061】また、上述のようにSRAMビット線対S
BLおよび*SBLとSRAMビット線対DBLおよび
*DBLとを1対1に設けるのではなく、DRAMアレ
イ500の1つのメモリセルブロックのみを選択してS
ARAMアレイ506とブロック単位でデータ転送を行
なう構成を考えることもできる。
As described above, the SRAM bit line pair S
BL and * SBL and SRAM bit line pair DBL and * DBL are not provided one to one, but only one memory cell block of DRAM array 500 is selected and S is selected.
A configuration in which data transfer is performed in block units with the ARAM array 506 can also be considered.

【0062】図26はこのようなSRAMアレイ506
とDRAMアレイ500の1つのブロックとの間でのデ
ータを転送を行なう構成を示す図である。図26におい
て、DRAMアレイ500は、4つのアレイブロックB
♯1、B♯2、B♯3、およびB♯4を含む。双方向転
送ゲート570はSRAMアレイ506の各ビット線対
に対応して設けられる単位ゲート回路を含む。双方向転
送ゲート570とDRAMアレイ500との間にDRA
MIO線575が設けられる。このDRAMIO線57
5へはDRAMアレイ500の1つのブロックB♯i
(i=1〜4の任意の整数)が接続される。これによ
り、DRAMアレイ500のうちの1つのブロックとS
RAMアレイ506との間でのデータ転送を実行するこ
とができる。
FIG. 26 shows such an SRAM array 506.
FIG. 10 is a diagram showing a configuration for transferring data between a block of DRAM array 500 and a block of DRAM array 500. In FIG. 26, the DRAM array 500 has four array blocks B
Includes # 1, B # 2, B # 3, and B # 4. Bidirectional transfer gate 570 includes a unit gate circuit provided corresponding to each bit line pair of SRAM array 506. DRA between the bidirectional transfer gate 570 and the DRAM array 500
An MIO line 575 is provided. This DRAM IO line 57
5 to one block B # i of the DRAM array 500
(I = 1 to 4). As a result, one block of the DRAM array 500 and S
Data transfer to and from the RAM array 506 can be performed.

【0063】図27は図26に示す装置の要部の構成を
示す図である。図27においては、1本のSRAMビッ
ト線SBLと1本のDRAMビット線DBLとの間の接
続形態のみが代表的に示される。双方向転送ゲート57
0は、転送指示信号φTAに応答してSRAMビット線
SBL上のデータをDRAMIO線DIO上へ伝達する
転送回路5702と、転送指示信号φTSに応答してD
RAMIO線DIO上のデータをSRAMビット線SB
Lへ伝達する転送回路5701を含む。この転送回路5
701およびけ5702が各SRAMビット線に対して
設けられる。DRAMアレイ500のアレイブロックB
♯はブロック選択ゲートBGを介してその中に含まれる
DRAMビット線DBLをDRAMIO線DIOへ接続
する。ブロック選択ゲートBGはブロック選択信号Bi
に応答して導通する。ブロック選択ゲートBGとDRA
Mビット線DBLとの間には列選択信号Yiに応答して
オン状態となる列選択ゲートYGが設けられる。これに
より、選択されたブロックB♯のビット線DBLはDR
AMIO線DIOを介して双方向転送ゲート570に接
続される。
FIG. 27 is a diagram showing a structure of a main part of the apparatus shown in FIG. In FIG. 27, only the connection form between one SRAM bit line SBL and one DRAM bit line DBL is representatively shown. Bidirectional transfer gate 57
0 is a transfer circuit 5702 for transmitting the data on the SRAM bit line SBL to the DRAM IO line DIO in response to the transfer instruction signal φTA, and D in response to the transfer instruction signal φTS.
The data on the RAMIO line DIO is transferred to the SRAM bit line SB
A transfer circuit 5701 for transmitting to L is included. This transfer circuit 5
701 and 5702 are provided for each SRAM bit line. Array block B of DRAM array 500
# Connects the DRAM bit line DBL included therein to the DRAM IO line DIO via the block selection gate BG. The block selection gate BG has a block selection signal Bi.
Conducts in response to. Block selection gates BG and DRA
A column selection gate YG which is turned on in response to a column selection signal Yi is provided between the M bit line DBL and the M bit line DBL. As a result, the bit line DBL of the selected block B # is DR
It is connected to the bidirectional transfer gate 570 via the AMIO line DIO.

【0064】DRAMIO線DIOにはクランプトラン
ジスタDQCが同様に設けられ、このDRAMIO線D
IOの論理振幅を小さくしこれによりデータ転送動作を
高速にする。
A clamp transistor DQC is similarly provided on the DRAMIO line DIO, and the DRAMIO line DIO
The logic amplitude of IO is reduced to speed up the data transfer operation.

【0065】上述のような構成を考えた場合、SRAM
アレイ506とDRAMアレイ500との間のデータ転
送はダイレクトマッピング方式のみに限定されることは
なくなり、柔軟性をもったマッピング方式を実現するこ
とができる。
Considering the configuration as described above, the SRAM
Data transfer between the array 506 and the DRAM array 500 is not limited to the direct mapping method, and a flexible mapping method can be realized.

【0066】しかしながらこのような構成の場合、クラ
ンプトランジスタSQCおよびDQCを常時オン状態と
した場合にやはり同様に消費電流の問題が生じる。すな
わち、転送回路5701および5702は通常MOSト
ランジスタを用いて構成されるため、その入力側におい
ては電流消費は生じない。しかしながら出力側の駆動ト
ランジスタにおいては、問題が生じる。
However, in the case of such a configuration, when the clamp transistors SQC and DQC are always turned on, the same problem of current consumption arises. That is, since the transfer circuits 5701 and 5702 are normally formed by using MOS transistors, current consumption does not occur on the input side thereof. However, a problem occurs in the drive transistor on the output side.

【0067】すなわち、たとえばDRAMアレイ500
のブロックB♯からSRAMアレイのSRAMビット線
SBLへデータを伝達する場合を考える。転送されるデ
ータが“L”の場合、DRAMアレイIO線DIOから
転送回路5701へは電流は流れ込まない。しかしなが
ら、この転送回路5701に含まれる駆動回路において
は接地電位へ放電するトランジスタがオン状態となって
おり、このオン状態のトランジスタおよびクランプトラ
ンジスタSQCを介して貫通電流が流れる。複数ビット
(たとえばブロック単位)でデータが転送される場合に
大きな消費電流となる。
That is, for example, the DRAM array 500
Consider a case where data is transmitted from block B # to the SRAM bit line SBL of the SRAM array. When the data to be transferred is “L”, no current flows from DRAM array IO line DIO to transfer circuit 5701. However, in the drive circuit included in this transfer circuit 5701, the transistor discharging to the ground potential is in the on state, and the through current flows through the transistor in the on state and the clamp transistor SQC. A large current consumption occurs when data is transferred in multiple bits (for example, in block units).

【0068】また同様にSRAMビット線SBLからD
RAMビット線DBLへデータを転送する場合、通常の
書込時と同様の動作がDRAMブロックB#に働いて転
送回路5702を介して行なわれる。この場合、同様に
このDRAMIO線DIOの電位をクランプするクラン
プトランジスタDQCから転送回路5702の駆動トラ
ンジスタへ電流が流れ込む。このため同様に消費電流が
大きくなるという問題が生じる。
Similarly, the SRAM bit lines SBL to D
When transferring data to RAM bit line DBL, an operation similar to that at the time of normal writing works on DRAM block B # and is performed via transfer circuit 5702. In this case, similarly, a current flows from the clamp transistor DQC that clamps the potential of the DRAM IO line DIO to the drive transistor of the transfer circuit 5702. Therefore, similarly, there arises a problem that the current consumption increases.

【0069】それゆえ、この発明の目的は、上述のCD
RAMの有する欠点を除去し、低消費電流で高速にデー
タを転送することのできる半導体記憶装置を提供するこ
とである。
Therefore, the object of the present invention is the above-mentioned CD.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of eliminating the drawbacks of a RAM and transferring data at high speed with low current consumption.

【0070】[0070]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置においては、データ転送時においてデータ転送を
受ける側に設けられたクランプトランジスタをオフ状態
とする。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the clamp transistor provided on the side receiving the data transfer is turned off during the data transfer.

【0071】すなわち、請求項1記載の半導体記憶装置
は、複数のスタティック型メモリセルを備える高速メモ
リアレイと、複数のダイナミック型メモリセルを含む大
記憶容量の大容量メモリアレイと、この高速メモリアレ
イの選択されたメモリセルと大容量メモリアレイの選択
されたメモリセルとの間でデータ転送を行なうデータ転
送手段を含む。大容量メモリアレイは高速メモリアレイ
よりも大きな記憶容量を備える。
That is, a semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention includes a high-speed memory array having a plurality of static memory cells, a large-capacity memory array having a large storage capacity including a plurality of dynamic memory cells, and the high-speed memory array. Data transfer means for transferring data between the selected memory cell of and the selected memory cell of the large capacity memory array. Large capacity memory arrays have greater storage capacity than high speed memory arrays.

【0072】この請求項1記載の半導体記憶装置は、さ
らに、大容量メモリアレイの選択されたメモリセルとデ
ータ転送手段とを接続するための信号線と、この信号線
の電位をクランプするためのクランプ手段と、高速メモ
リアレイから大容量メモリアレイへのデータ転送指示に
応答してこのクランプ手段のクランプ動作を禁止する制
御手段を備える。
According to the semiconductor memory device of the present invention, a signal line for connecting the selected memory cell of the large-capacity memory array and the data transfer means, and a potential for the signal line are clamped. A clamp means and a control means for inhibiting the clamp operation of the clamp means in response to a data transfer instruction from the high speed memory array to the large capacity memory array are provided.

【0073】請求項2記載の半導体記憶装置は、行列状
に配置された複数のスタティック型メモリセルを備える
高速メモリアレイと、複数のダイナミック型メモリセル
を有する大容量メモリアレイと、高速メモリアレイの選
択されたメモリセルと大容量メモリアレイの選択された
メモリセルとの間でデータ転送を行なうためのデータ転
送手段を含む。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, there are provided a high-speed memory array having a plurality of static memory cells arranged in a matrix, a large-capacity memory array having a plurality of dynamic memory cells, and a high-speed memory array. Included is data transfer means for transferring data between the selected memory cell and the selected memory cell of the mass memory array.

【0074】この請求項2記載の半導体記憶装置は、さ
らに、SRAM列線の各々に設けられ、対応のSRAM
列線の電位をクランプするためのクランプ手段と、大容
量メモリアレイから高速メモリアレイへのデータ転送指
示に応答して、このクランプ手段のクランプ動作を禁止
する制御手段を備える。
The semiconductor memory device according to the present invention is further provided in each of the SRAM column lines and has a corresponding SRAM.
Clamping means for clamping the potential of the column line and control means for inhibiting the clamping operation of the clamping means in response to a data transfer instruction from the large capacity memory array to the high speed memory array.

【0075】[0075]

【作用】請求項1および2記載の半導体記憶装置におい
て制御手段は、データ転送を受ける側に設けられたクラ
ンプ手段のクランプ動作を禁止している。これによりク
ランプ手段から転送手段へ電流が流れ込むことが防止さ
れ、低消費電流化が実現される。
In the semiconductor memory device according to the first and second aspects, the control means prohibits the clamp operation of the clamp means provided on the side receiving the data transfer. This prevents a current from flowing from the clamp means to the transfer means, and realizes low current consumption.

【0076】[0076]

【実施例】この発明の一実施例について説明する前に、
この発明が適用されるCDRAMの構成について説明す
る。しかしながら、この発明は以下に述べるCDRAM
への適用のみを意図するものではなく、SRAMとDR
AMとが同一半導体チップ上に集積化されかつSRAM
とDRAMとの間でのデータ転送が可能な半導体記憶装
置であれば適用することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Before describing an embodiment of the present invention,
The configuration of the CDRAM to which the present invention is applied will be described. However, the present invention is a CDRAM described below.
SRAM and DR are not intended to be applied only to
SRAM integrated with AM on the same semiconductor chip
The present invention can be applied to any semiconductor memory device that can transfer data between memory and DRAM.

【0077】図2はこの発明が適用されるCDRAMを
収納するパッケージのピン配置を示す図である。この図
2に示すパッケージは、4MビットDRAMと16Kビ
ットSRAMとが同一チップ上に集積化されたCDRA
Mを収納する。CDRAMは、リードピッチ0.8m
m、チップ長18.4mm、ピン端子数44の300m
il・TSOP(シン・スモール・アウトライン・パッ
ケージ)のタイプIIに収納される。
FIG. 2 is a diagram showing a pin arrangement of a package which houses a CDRAM to which the present invention is applied. The package shown in FIG. 2 is a CDRA in which a 4M bit DRAM and a 16K bit SRAM are integrated on the same chip.
Store M. CDRAM has a lead pitch of 0.8 m
m, chip length 18.4 mm, number of pin terminals 44 300 m
It is housed in Type II of il TSOP (Thin Small Outline Package).

【0078】CDRAMは、データの入出力方式として
D/Q分離およびマスクトライトの2種類を含む。D/
Q分離モードは、書込データDと読出データQとを別々
のピン端子を介して入出力する方式である。マスクトラ
イトモードは、書込データDと読出データQとを同一の
ピン端子を介して出力し、かつ外部からのデータの書込
をマスクすることのできる動作モードである。
The CDRAM includes two types of data input / output methods: D / Q separation and masked write. D /
The Q separation mode is a method in which the write data D and the read data Q are input / output via separate pin terminals. The masked write mode is an operation mode in which the write data D and the read data Q can be output via the same pin terminal and the writing of data from the outside can be masked.

【0079】CDRAMへ効率的に電源電位を供給し、
かつこの電源配線のレイアウトを容易にするために、電
源電位VccおよびGNDに対してそれぞれ3つのピン
端子が設けられる。ピン番号1、11および33のピン
端子に対し外部から電源電位Vccが供給される。ピン
番号1、11、33のピン端子へ与えられる電源電位V
ccは、このCDRAMにおける動作電源電位であって
もよい、また、内部で降圧される構成であってもよい。
接地電位GNDは、ピン番号12、22および34のピ
ン端子へ与えられる。ピン番号1、22のピンはDRA
M用電源ピン端子であり、ピン番号11、12、33、
および34のピンはSRAM用の電源ピン端子である。
ピン番号6ないし8、15ないし17、28ないし30
および37ないし39のピン端子にSRAMのためのア
ドレス信号Ac0〜Ac11が与えられる。DRAM用
のアドレス信号Aa0〜Aa9は、ピン番号2、3、1
9ないし21、24ないし26および42、43のピン
端子へ与えられる。ピン番号2および3のピン端子には
また、このCDRAMの各種動作モードを設定するため
のコマンドアドレスAr0およびAr1も与えられる。
The power supply potential is efficiently supplied to the CDRAM,
Further, in order to facilitate the layout of the power supply wiring, three pin terminals are provided for each of power supply potentials Vcc and GND. Power supply potential Vcc is externally supplied to the pin terminals of pin numbers 1, 11 and 33. Power supply potential V applied to the pin terminals of pin numbers 1, 11, and 33
cc may be the operating power supply potential in this CDRAM, or may be configured to be stepped down internally.
The ground potential GND is applied to the pin terminals of pin numbers 12, 22, and 34. Pins numbered 1 and 22 are DRA
It is a power supply pin terminal for M and has pin numbers 11, 12, 33,
Pins 34 and 34 are power supply pin terminals for SRAM.
Pin numbers 6-8, 15-17, 28-30
Address signals Ac0 to Ac11 for SRAM are applied to pin terminals 37 and 39. The address signals Aa0 to Aa9 for the DRAM have pin numbers 2, 3, 1
9 to 21, 24 to 26 and 42, 43 to the pin terminals. Command addresses Ar0 and Ar1 for setting various operation modes of this CDRAM are also given to the pin terminals of pin numbers 2 and 3.

【0080】ピン番号4のピン端子へは、キャッシュア
クセス禁止を示すキャッシュ禁止信号CI♯が与えられ
る。キャッシュ禁止信号CI♯が“L”に設定される
と、SRAMアレイへのアクセスが禁止され、DRAM
アレイへの直接アクセス(アレイアクセス)が可能にな
る。
A cache inhibition signal CI # indicating inhibition of cache access is applied to the pin terminal of pin number 4. When the cache inhibit signal CI # is set to "L", access to the SRAM array is inhibited and the DRAM
Direct access to the array (array access) becomes possible.

【0081】ピン番号5のピン端子へは、データ書込モ
ードを示すライトイネーブル信号W♯が与えられる。ピ
ン番号18のピン端子へは、このチップが選択されたこ
とを示すチップセレクト信号E♯が与えられる。
Write enable signal W # indicating the data write mode is applied to the pin terminal of pin number 5. A chip select signal E # indicating that this chip has been selected is applied to the pin terminal of pin number 18.

【0082】ピン番号23のピン端子へは、特殊モード
を指定するためのコマンドレジスタ指示信号CR♯が与
えられる。コマンドレジスタ指示信号CR♯が“L”の
とき、ピン番号2および3のピン端子へ与えられるコマ
ンドアドレスAr0およびArが有効となり、特殊モー
ドの設定(レジスタが選択)が行なわれる。また、この
ピン番号23のピン端子へは、外部に設けられた演算処
理装置がバーストモードに従ってデータを転送する際に
発生されるバーストモード指示信号BE♯も与えられ
る。バーストモード指示信号BE♯が活性状態となる
と、このCDRAMは内部でアドレス信号を自動的に発
生し、外部演算処理装置とCDRAMとの間でバースト
モードに従った一括データ転送が実行される。
Command register designating signal CR # for designating the special mode is applied to the pin terminal of pin number 23. When command register designating signal CR # is "L", command addresses Ar0 and Ar applied to the pin terminals of pin numbers 2 and 3 are valid, and the special mode is set (register is selected). A burst mode instruction signal BE # generated when an externally provided arithmetic processing unit transfers data according to the burst mode is also applied to the pin terminal of pin number 23. When burst mode instructing signal BE # is activated, this CDRAM automatically generates an address signal internally, and batch data transfer according to the burst mode is executed between the external arithmetic processing unit and CDRAM.

【0083】ピン番号27のピン端子へは、キャッシュ
ヒットを示すキャッシュヒット信号CH♯が与えられ
る。キャッシュヒット信号CH♯が“L”にあれば、キ
ャッシュ(SRAMアレイ)へアクセス可能である。ピ
ン番号40のピン端子へは、出力モードを示すアウトプ
ットイネーブル信号G♯が与えられる。ピン番号41の
ピンへは、クロック信号(たとえばシステムクロック)
Kが与えられる。
A cache hit signal CH # indicating a cache hit is applied to the pin terminal of pin number 27. If the cache hit signal CH # is at "L", the cache (SRAM array) can be accessed. Output enable signal G # indicating the output mode is applied to the pin terminal of pin number 40. A clock signal (for example, a system clock) is input to the pin number 41.
K is given.

【0084】ピン番号44のピン端子へは、DRAMア
レイのリフレッシュを指示するリフレッシュ指示信号R
EF♯が与えられる。リフレッシュ指示信号REF♯が
“L”となると、そのサイクルにおいて内部でDRAM
アレイのオートリフレッシュが行なわれる。CDRAM
は、オートリフレッシュモードとセルフリフレッシュモ
ードとを備える。リフレッシュモードの設定は、コマン
ドレジスタに設定されるリフレッシュモード設定信号に
より決定される。オートリフレッシュモード時には、上
述のリフレッシュ指示信号REF♯に従ったDRAMア
レイのリフレッシュが行なわれる。
A refresh instruction signal R for instructing refresh of the DRAM array is applied to the pin terminal of the pin number 44.
EF # is given. When the refresh instruction signal REF # becomes "L", the DRAM is internally used in that cycle.
The array is automatically refreshed. CDRAM
Has an auto refresh mode and a self refresh mode. The setting of the refresh mode is determined by the refresh mode setting signal set in the command register. In the auto refresh mode, the DRAM array is refreshed according to the above-described refresh instruction signal REF #.

【0085】セルフリフレッシュが指定された場合、こ
のピン番号44のピン端子が出力端子に切換えられる。
セルフリフレッシュ実行時には、このセルフリフレッシ
ュの実行を示す信号BUSY♯がピン番号4のピン端子
から出力される。この信号BUSY♯により、CDRA
M外部でセルフリフレッシュのタイミングを知ることが
可能となり、通常サイクルにおいてもセルフリフレッシ
ュを利用することができる。
When the self refresh is designated, the pin terminal of the pin number 44 is switched to the output terminal.
At the time of executing the self-refresh, a signal BUSY # indicating the execution of the self-refresh is output from the pin terminal of pin number 4. This signal BUSY # causes CDRA
It becomes possible to know the self-refresh timing outside the M, and the self-refresh can be used even in the normal cycle.

【0086】ピン番号9、10、13、14、31、3
2、35および36のピン端子へは、D/Q分離および
マスクトライトの2種類の動作モードに対応して、与え
られるデータが異なる。D/Q分離およびマスクトライ
トの動作モードはコマンドレジスタにより設定される。
Pin numbers 9, 10, 13, 14, 31, 3
Data to be supplied to the pin terminals of 2, 35 and 36 are different depending on two kinds of operation modes of D / Q separation and masked write. The operation mode of D / Q separation and masked write is set by the command register.

【0087】マスクトライトモードにおいては、ピン番
号10、13、32および35のピンがデータ入出力を
共通に行なうためのデータ入出力端子として用いられ
る。ピン番号9、14、31、35および36のピンへ
は、どの入出力ピンへ与えられたデータをマスクするか
を示すマスクトライト指示データM0、M1、M2およ
びM3がそれぞれ与えられる。
In the masked write mode, the pins of pin numbers 10, 13, 32 and 35 are used as data input / output terminals for common data input / output. Masked write instruction data M0, M1, M2, and M3 indicating which input / output pin is to be masked are supplied to the pins of pin numbers 9, 14, 31, 35, and 36, respectively.

【0088】D/Q分離モードにおいては、ピン番号
9、14、31および36のピン端子が、書込データD
0、D1、D2およびD3を入力するためのピン端子と
して用いられる。ピン番号10、13、32、および3
5のピン端子が、読出データQ0、Q1、Q2およびQ
3を出力するためのデータ出力ピン端子として用いられ
る。
In the D / Q separation mode, the pin terminals of the pin numbers 9, 14, 31 and 36 are the write data D.
Used as pin terminals for inputting 0, D1, D2 and D3. Pin numbers 10, 13, 32, and 3
The pin terminals of 5 are read data Q0, Q1, Q2 and Q.
It is used as a data output pin terminal for outputting 3.

【0089】SRAMアドレスAc0〜Ac11とDR
AMアドレス(アレイアドレス)Aa0〜Aa9とは、
それぞれ独立に別々のピン端子を介して与えられる。図
2に示すピン配置において、標準DRAMにおいて通常
用いられている外部動作制御信号すなわちローアドレス
ストローブ信号/RASおよびコラムアドレスストロー
ブ信号/CASは用いられていない。この図2に示すパ
ッケージに収納されるCDRAMにおいては、外部から
のクロック信号Kに応答して制御信号およびデータの入
力が実行される。
SRAM addresses Ac0 to Ac11 and DR
AM addresses (array addresses) Aa0 to Aa9 are
Each is independently provided through a separate pin terminal. In the pin arrangement shown in FIG. 2, the external operation control signals normally used in the standard DRAM, that is, the row address strobe signal / RAS and the column address strobe signal / CAS are not used. In the CDRAM housed in the package shown in FIG. 2, control signals and data are input in response to a clock signal K from the outside.

【0090】図3は、このパッケージに収納されるCD
RAMの概略構成を示す図である。図3において、CD
RAMは、行および列からなるマトリクス状に配列され
たダイナミック型メモリセルを含むDRAMアレイ1
と、行および列からなるマトリクス状に配列されたスタ
ティック型メモリセルからなるSRAMアレイ2と、こ
のDRAMアレイ1とSRAMアレイ2との間でのデー
タ転送を行なうための双方向転送ゲート回路3とを含
む。
FIG. 3 shows a CD housed in this package.
It is a figure which shows schematic structure of RAM. In Figure 3, the CD
The RAM is a DRAM array 1 including dynamic memory cells arranged in a matrix of rows and columns.
And an SRAM array 2 made up of static memory cells arranged in a matrix of rows and columns, and a bidirectional transfer gate circuit 3 for transferring data between the DRAM array 1 and the SRAM array 2. including.

【0091】DRAMアレイ1は、その記憶容量が1M
ビットの場合1024本のワード線DWLと1024対
のビット線BL,/BLを含む。ただし図3においては
ビット線対をDBLで示す。DRAMアレイ1は、行お
よび列方向にそれぞれ沿って複数のブロックに分割され
る。図3において、DRAMアレイ1は、列方向に8個
のブロックMBi1〜MBi8(i=1〜4)に分割さ
れ、かつ行方向に4つのブロックMB1j〜MB4j
(j=1〜8)に分割され、合計32個のメモリブロッ
クに分割された場合が一例として示される。
The DRAM array 1 has a storage capacity of 1M.
In the case of a bit, it includes 1024 word lines DWL and 1024 pairs of bit lines BL and / BL. However, in FIG. 3, the bit line pair is indicated by DBL. DRAM array 1 is divided into a plurality of blocks along the row and column directions, respectively. In FIG. 3, the DRAM array 1 is divided into eight blocks MBi1 to MBi8 (i = 1 to 4) in the column direction and four blocks MB1j to MB4j in the row direction.
An example is shown in which (j = 1 to 8) is divided into a total of 32 memory blocks.

【0092】列方向に分割された8個のブロックMBi
1〜MBi8は1つの行ブロック11を構成する。1つ
の行ブロック11に含まれるメモリブロックMBi1〜
MBi8は、1本のワード線DWLを共有する。同一の
列ブロック12に含まれるメモリブロックMB1j〜M
B4jはコラム選択線CSLを共有する。メモリブロッ
クMB11〜MB48それぞれにセンスアンプIOブロ
ック13が設けられる。コラム選択線CSLは同時に2
列(2対のビット線)を選択する。
Eight blocks MBi divided in the column direction
1 to MBi8 form one row block 11. Memory blocks MBi1 to MBi1 included in one row block 11
MBi8 shares one word line DWL. Memory blocks MB1j to M included in the same column block 12
B4j shares the column selection line CSL. A sense amplifier IO block 13 is provided in each of the memory blocks MB11 to MB48. Column select line CSL is 2 at the same time
Select a column (two pairs of bit lines).

【0093】CDRAMはさらに、内部アドレスint
−Aaに応答してDRAMアレイ1から対応の行を選択
するローデコーダ14と、内部列アドレスint−Aa
に応答して1本のコラム選択線CSLを選択するコラム
デコーダ15を含む。列ブロック12は、互いに独立な
2対のIO線16aおよび16bを介して双方向転送ゲ
ート回路3へ接続される。
The CDRAM further includes an internal address int
Row decoder 14 for selecting the corresponding row from DRAM array 1 in response to -Aa, and internal column address int-Aa
Column decoder 15 for selecting one column select line CSL in response to. The column block 12 is connected to the bidirectional transfer gate circuit 3 via two pairs of IO lines 16a and 16b which are independent of each other.

【0094】SRAMアレイ2は、双方向転送ゲート回
路3を介して16対のIO線(16aおよび16b)そ
れぞれに接続される16対のSRAMビット線対SBL
を含む。SRAMアレイ2は、4Kビットの容量の場
合、16対のビット線と256本のワード線とを含む。
この場合、SRAMアレイ2は、1行が16ビットとな
る。
The SRAM array 2 includes 16 pairs of SRAM bit line pairs SBL connected to the 16 pairs of IO lines (16a and 16b) via the bidirectional transfer gate circuit 3.
including. The SRAM array 2 includes 16 pairs of bit lines and 256 word lines for a capacity of 4 Kbits.
In this case, the SRAM array 2 has 16 bits per row.

【0095】CDRAMはさらに、外部から与えられる
SRAMアドレスint−Acをデコードし、SRAM
アレイ2の対応の行を選択するSRAMローデコーダ2
1と、この内部アドレス信号int−Acをデコード
し、SRAMアレイ2の対応の列を選択するSRAMコ
ラムデコーダ22と、データ読出時においてSRAMロ
ーデコーダ21およびSRAMコラムデコーダ22によ
り選択されたメモリセルのデータを増幅するセンスアン
プ回路23を含む。
The CDRAM further decodes the SRAM address int-Ac given from the outside to generate the SRAM.
SRAM row decoder 2 for selecting the corresponding row of array 2
1 and an SRAM column decoder 22 which decodes the internal address signal int-Ac and selects a corresponding column of the SRAM array 2, and a memory cell selected by the SRAM row decoder 21 and the SRAM column decoder 22 at the time of data reading. A sense amplifier circuit 23 for amplifying data is included.

【0096】SRAMコラムデコーダ22により選択さ
れたSRAMビット線対SBLは共通データバス251
へ接続される。入出力バッファ274を介してデータの
入出力が行なわれる。DRAMローデコーダ14および
DRAMコラムデコーダ15へ与えられるアドレスin
t−AaとSRAMローデコーダ21およびSRAMコ
ラムデコーダ22へ与えられるアドレスint−Acは
共に互いに独立なアドレスであり、前述のごとくそれぞ
れ異なるアドレスピンを介して与えられる。
The SRAM bit line pair SBL selected by the SRAM column decoder 22 is the common data bus 251.
Connected to. Data is input / output through the input / output buffer 274. Address in applied to DRAM row decoder 14 and DRAM column decoder 15
The addresses int-Ac applied to t-Aa and the SRAM row decoder 21 and the SRAM column decoder 22 are addresses independent of each other, and are applied via different address pins as described above.

【0097】CDRAMはさらに、チップイネーブル信
号Eに応答して活性化され、外部アドレスAa、および
Acに応答して内部アドレスint−Aaおよびint
−Acを発生するアドレスバッファ252と、内部制御
信号E、CH、CIおよびREFに応答してDRAMア
レイを駆動するDRAMアレイ駆動回路260と、チッ
プイネーブル信号Eに応答してSRAMアレイを駆動す
るSRAMアレイ駆動回路264と、内部制御信号E、
CH、CIおよびWに応答して双方向転送ゲート回路3
の転送動作を制御する転送ゲート制御回路262を含
む。この図3に示す構成においては、DRAMアレイ1
の選択された列は双方向転送ゲート回路3を介して内部
データ線(共通データバス)251に接続される(アレ
イアクセスの場合)。この双方向転送ゲート回路3を介
してのDRAMアレイ1と内部データ線251との接続
は、DRAMコラムデコーダ15からの列選択信号によ
り双方向転送ゲート回路3に設けられた列選択ゲートを
用いて行なわれてもよい。また別の構成が用いられても
よい。DRAMアレイ1と内部データ線251との接続
およびSRAMアレイ2と内部データ線251との接続
については後に詳細に説明する。
CDRAM is further activated in response to chip enable signal E, and responds to external addresses Aa and Ac with internal addresses int-Aa and int.
An address buffer 252 that generates -Ac; a DRAM array drive circuit 260 that drives the DRAM array in response to internal control signals E, CH, CI and REF; and an SRAM that drives the SRAM array in response to the chip enable signal E. Array drive circuit 264, internal control signal E,
Bidirectional transfer gate circuit 3 in response to CH, CI and W
A transfer gate control circuit 262 for controlling the transfer operation of. In the structure shown in FIG. 3, DRAM array 1
The selected column is connected to the internal data line (common data bus) 251 via the bidirectional transfer gate circuit 3 (in the case of array access). Connection between the DRAM array 1 and the internal data line 251 via the bidirectional transfer gate circuit 3 is performed by using a column selection gate provided in the bidirectional transfer gate circuit 3 in response to a column selection signal from the DRAM column decoder 15. May be done. Other configurations may also be used. The connection between the DRAM array 1 and the internal data line 251 and the connection between the SRAM array 2 and the internal data line 251 will be described later in detail.

【0098】また双方向転送ゲート回路3とSRAMア
レイ2との間にSRAMコラムデコーダ22が設けられ
ているが、SRAMコラムデコーダ22は、双方向転送
ゲート回路3とDRAMアレイ1との間に設けられる構
成であってもよい。
Although the SRAM column decoder 22 is provided between the bidirectional transfer gate circuit 3 and the SRAM array 2, the SRAM column decoder 22 is provided between the bidirectional transfer gate circuit 3 and the DRAM array 1. It may be configured to be.

【0099】次にこの図3に示すCDRAMデータ転送
動作について概略的に説明する。まずDRAM部分の動
作について説明する。外部から与えられる行アドレスA
aに従ってローデコーダ14が行選択動作を行ない、1
本のワード線DWLの電位を“H”に立上げる。この選
択された1本のワード線DWLに接続されるメモリセル
から対応の1024本のビット線BL(または/BL)
にデータが読出される。
Next, the CDRAM data transfer operation shown in FIG. 3 will be schematically described. First, the operation of the DRAM portion will be described. Row address A given from outside
The row decoder 14 performs a row selection operation according to a.
The potential of the word line DWL of the book is raised to "H". From the memory cells connected to the selected one word line DWL, the corresponding 1024 bit lines BL (or / BL)
The data is read.

【0100】次いで、この選択されたDRAMワード線
DWLを含む行ブロック11に含まれるセンスアンプ
(ブロック13に含まれる)が一斉に活性化され、各ビ
ット線対の電位差を差動的に増幅する。このように4つ
の行ブロック11のうち1つの行ブロックのみが活性化
されるのはセンス動作時におけるビット線の充放電に伴
う消費電流(電力)を低減するためである(この選択行
を含む行ブロックのみを活性化する動作方式をブロック
分割動作方式と称す)。
Then, the sense amplifiers (included in block 13) included in row block 11 including the selected DRAM word line DWL are activated all at once, and the potential difference between each bit line pair is differentially amplified. .. In this way, only one row block among the four row blocks 11 is activated in order to reduce the current consumption (power) associated with the charging / discharging of the bit line during the sensing operation (including this selected row). An operation method that activates only row blocks is called a block division operation method).

【0101】次に外部から与えられる列アドレスに従っ
てDRAMコラムデコーダ15が列選択動作を行なう。
各列ブロック12において1本のコラム選択線CSLが
選択状態とされる。1本のコラム選択線CSLは2対の
DRAMビット線DBLを選択し、この2対のビット線
を該列ブロック対応に設けられた2対のDRAMIO線
16aおよび16bにそれぞれ接続する。これにより、
DRAMアレイ1から複数ビット(この実施例において
は16ビット)のデータが複数のDRAMIO線対16
aおよび16b上に読出される。
Then, DRAM column decoder 15 performs a column selecting operation according to a column address applied from the outside.
In each column block 12, one column selection line CSL is brought into a selected state. One column select line CSL selects two pairs of DRAM bit lines DBL, and connects the two pairs of bit lines to two pairs of DRAM IO lines 16a and 16b provided corresponding to the column block. This allows
A plurality of bits (16 bits in this embodiment) of data from the DRAM array 1 are transferred to a plurality of DRAM IO line pairs 16.
read on a and 16b.

【0102】一方、SRAM部分については以下の動作
が実行される。外部から与えられるSRAMアドレスに
従って、SRAMローデコーダ21が行選択動作を行な
い、SRAMアレイ2から1本のワード線を選択する。
1本のSRAMワード線には、前述のごとく16ビット
のメモリセルが接続される。したがって、この1本のワ
ード線の選択動作時より16個のスタティック型メモリ
セル(SRAMセル)が16対のSRAMビット線SB
Lに接続される。
On the other hand, the following operation is executed for the SRAM part. The SRAM row decoder 21 performs a row selection operation according to an SRAM address given from the outside, and selects one word line from the SRAM array 2.
A 16-bit memory cell is connected to one SRAM word line as described above. Therefore, 16 static memory cells (SRAM cells) have 16 pairs of SRAM bit lines SB from the selection operation of this one word line.
Connected to L.

【0103】DRAMIO線対16aおよび16bに1
6ビットのデータが伝達された後に双方向転送ゲート回
路3がオン状態となり、16対のDRAMIO線対16
aおよび16bとSRAMの16対のビット線SBLと
がそれぞれ接続される。これにより、SRAMアレイ2
において既に選択されていた16ビットのメモリセルに
対し16対のDRAMIO線対16aおよび16b上に
伝達されていたデータがそれぞれ書込まれる(または逆
のデータ転送が実行される)。
1 for DRAMIO line pair 16a and 16b
After 6-bit data is transmitted, the bidirectional transfer gate circuit 3 is turned on, and 16 pairs of DRAMIO line pairs 16
a and 16b and 16 pairs of SRAM bit lines SBL are connected to each other. As a result, the SRAM array 2
The data transmitted on 16 pairs of DRAM IO line pairs 16a and 16b are written (or the reverse data transfer is executed) into the 16-bit memory cell already selected in.

【0104】SRAMに設けられているセンスアンプ回
路23およびコラムデコーダ22は、SRAMアレイ2
におけるメモリセルと外部データを入出力するための内
部データ線251との間のデータの授受のために用いら
れる。
The sense amplifier circuit 23 and the column decoder 22 provided in the SRAM are provided in the SRAM array 2
It is used for exchanging data between the memory cell in and the internal data line 251 for inputting / outputting external data.

【0105】SRAMアレイ2におけるSRAMセルを
選択するためのアドレスAcは、DRAMアレイ1にお
けるダイナミック型メモリセル(DRAMセル)を選択
するためのアドレスAaとは全く独立に設定することが
可能である。このため、DRAMアレイ1において選択
された16ビットのメモリセルはSRAMアレイ2の任
意の位置(行)のメモリセルとデータの授受を行なうこ
とが可能となり、ダイレクトマッピング方式、セットア
ソシアティブ方式およびフルアソシアティブ方式のすべ
てのマッピング方式をアレイの配置および構成を変更す
ることなく実現することができる。
The address Ac for selecting the SRAM cell in the SRAM array 2 can be set completely independently of the address Aa for selecting the dynamic memory cell (DRAM cell) in the DRAM array 1. Therefore, the 16-bit memory cell selected in the DRAM array 1 can transfer data to and from the memory cell at an arbitrary position (row) of the SRAM array 2, and the direct mapping method, the set associative method, and the full associative method can be used. All mapping schemes of the scheme can be realized without changing the arrangement and configuration of the array.

【0106】上述の説明のように、このSRAMアレイ
2とDRAMアレイ1との間では16ビットのデータの
一括転送が実行される。本発明はSRAMビット線対S
BLおよびDRAMIO線対16aおよび16bにおけ
るクランプ手段を設けてデータの転送、書込および読出
を高速化するとともにデータ転送時の消費電流の低減を
図るものである。次に各部の構成について説明する。
As described above, batch transfer of 16-bit data is executed between the SRAM array 2 and the DRAM array 1. The present invention relates to SRAM bit line pair S
A clamp means is provided in the BL and DRAM IO line pairs 16a and 16b to speed up data transfer, writing and reading, and to reduce current consumption during data transfer. Next, the configuration of each part will be described.

【0107】図4は、図3に示すCDRAMのアドレス
の分配の一例を示す図である。この図4に示す構成にお
いては、DRAMアレイ1のデータの書込/読出は双方
向転送ゲート回路3を介して行なわれ、この場合16ビ
ットのメモリセルから4ビットのメモリセルを選択する
ためにSRAMコラムデコーダ22が利用される。
FIG. 4 is a diagram showing an example of address distribution in the CDRAM shown in FIG. In the structure shown in FIG. 4, writing / reading of data in DRAM array 1 is performed through bidirectional transfer gate circuit 3, and in this case, in order to select a 4-bit memory cell from a 16-bit memory cell. The SRAM column decoder 22 is used.

【0108】図4において、DRAMアドレスバッファ
252aは、外部からのDRAM用アドレスAa0〜A
a9を受けて内部アドレスint−Aaを発生する。D
RAMローデコーダ14は、この内部アドレスint−
Aaのうち内部行アドレスをデコードしDRAMアレイ
から対応のワード線を選択するワード線駆動信号DWL
を発生する。
In FIG. 4, a DRAM address buffer 252a is provided with external DRAM addresses Aa0-Aa.
Upon receiving a9, the internal address int-Aa is generated. D
The RAM row decoder 14 uses the internal address int-
Word line drive signal DWL for decoding the internal row address of Aa and selecting the corresponding word line from the DRAM array
To occur.

【0109】DRAMコラムデコーダ15は、DRAM
アドレスバッファ252aからの内部列アドレスの一部
を受け、DRAMアレイから列選択線を選択する列選択
線選択信号CSLを発生する。DRAMアドレスバッフ
ァ252aからの内部列アドレスの残りの一部はマルチ
プレクサ30へ与えられる。
The DRAM column decoder 15 is a DRAM
It receives a part of the internal column address from address buffer 252a and generates a column selection line selection signal CSL for selecting a column selection line from the DRAM array. The remaining part of the internal column address from DRAM address buffer 252a is applied to multiplexer 30.

【0110】マルチプレクサ30は、その他方入力にS
RAMアドレスバッファ252bからの内部列アドレス
を受ける。マルチプレクサ30は、内部制御信号CHお
よびCIに応答してこのDRAM用内部列アドレスおよ
びSRAM用内部列アドレスの一方を通過させてSRA
Mコラムデコーダ22に与える。SRAMコラムデコー
ダ22から列選択信号CDが発生される。
The multiplexer 30 has an S input at the other input.
It receives an internal column address from RAM address buffer 252b. Multiplexer 30 passes one of the DRAM internal column address and the SRAM internal column address in response to internal control signals CH and CI to pass SRA.
It is given to the M column decoder 22. The column selection signal CD is generated from the SRAM column decoder 22.

【0111】SRAMローデコーダ21はSRAMアド
レスバッファ252bからの内部行アドレスをデコード
し、SRAMアレイの対応の行を選択状態とするSRA
Mワード線駆動信号SWLを発生する。
The SRAM row decoder 21 decodes the internal row address from the SRAM address buffer 252b to bring the corresponding row of the SRAM array into the selected state.
The M word line drive signal SWL is generated.

【0112】通常、キャッシュヒット指示信号CHが発
生された場合、SRAMアレイへのアクセスが許可さ
れ、DRAMへのアクセスが禁止される。キャッシュア
クセス禁止信号CIが発生された場合、DRAMアレイ
へのアクセスが許可され、このDRAMアレイのメモリ
セルへのデータの書込/読出が実行される。
Normally, when the cache hit instruction signal CH is generated, access to the SRAM array is permitted and access to the DRAM is prohibited. When cache access prohibition signal CI is generated, access to the DRAM array is permitted, and writing / reading of data to / from the memory cell of this DRAM array is executed.

【0113】したがって、マルチプレクサ30は、信号
CHが発生された場合SRAMアドレスバッファ252
bからの内部列アドレスを選択してSRAMコラムデコ
ーダ22へ伝達する。また、マルチプレクサ30は、信
号CIが発生された場合には、DRAMアドレスバッフ
ァ252aからの内部列アドレスを選択してSRAMコ
ラムデコーダ22へ伝達する。
Therefore, the multiplexer 30 receives the SRAM address buffer 252 when the signal CH is generated.
The internal column address from b is selected and transmitted to the SRAM column decoder 22. When signal CI is generated, multiplexer 30 selects the internal column address from DRAM address buffer 252a and transmits it to SRAM column decoder 22.

【0114】図5は図3に示すCDRAMの要部の具体
的構成を示す図である。図5においては、DRAMアレ
イの1つのメモリブロックMBijのデータ転送に関連
する部分が代表的に示される。図5において、DRAM
メモリブロックMBijは、行列状に配置された複数の
DRAMセルDMCを含む。1行のDRAMセルDMC
が1本のDRAMワード線DWLに接続される。1列の
DRAMセルDMCがDRAMビット線対DBLに接続
される。DRAMビット線対DBLは、2本のDRAM
ビット線DBLaおよび*DBLaを含む。DRAMビ
ット線DBLaと相補ビット線*DBLaには互いに相
補な信号が伝達される。DRAMセルDMCは、DRA
Mワード線DWLとDRAMビット線対DBLとの交点
に対応して配置される。
FIG. 5 is a diagram showing a specific structure of a main part of the CDRAM shown in FIG. In FIG. 5, a portion related to data transfer of one memory block MBij of the DRAM array is representatively shown. In FIG.
Memory block MBij includes a plurality of DRAM cells DMC arranged in a matrix. One row DRAM cell DMC
Are connected to one DRAM word line DWL. One column of DRAM cells DMC is connected to DRAM bit line pair DBL. The DRAM bit line pair DBL is two DRAMs.
Includes bit lines DBLa and * DBLa. Signals complementary to each other are transmitted to the DRAM bit line DBLa and the complementary bit line * DBLa. DRAM cell DMC is DRA
It is arranged corresponding to the intersection of M word line DWL and DRAM bit line pair DBL.

【0115】DRAMビット線対DBLそれぞれに対し
て対応のビット線対上の電位差を検知し増幅するための
DRAMセンスアンプDSAが設けられる。DRAMセ
ンスアンプDSAは、センスアンプ活性化信号/SAP
EおよびSANEに応答してセンスアンプ駆動信号SA
PおよびSANを発生するセンスアンプ活性化回路SA
Kによりその動作が制御される。
A DRAM sense amplifier DSA for detecting and amplifying the potential difference on the corresponding bit line pair is provided for each DRAM bit line pair DBL. The DRAM sense amplifier DSA has a sense amplifier activation signal / SAP.
Sense amplifier drive signal SA in response to E and SANE
Sense amplifier activation circuit SA for generating P and SAN
Its operation is controlled by K.

【0116】DRAMセンスアンプDSAは図25に示
すように、交差結合されたpチャネルMOSトランジス
タと、交差結合されたnチャネルMOSトランジスタを
含む。
As shown in FIG. 25, DRAM sense amplifier DSA includes cross-coupled p-channel MOS transistors and cross-coupled n-channel MOS transistors.

【0117】センスアンプ活性化回路SAKは、センス
アンプ活性化信号/SAPEに応答してオン状態とな
り、DRAMセンスアンプDSAのPセンスアンプを活
性化するためのセンスアンプ活性化トランジスタTR1
と、センスアンプ活性化信号SANEに応答してオン状
態となり、DRAMセンスアンプDSAのNセンスアン
プを活性化するセンスアンプ活性化トランジスタTR2
を含む。トランジスタTR1は、pチャネルMOSトラ
ンジスタにより構成され、トランジスタTR2はnチャ
ネルMOSトランジスタにより構成される。トランジス
タTR1はオン状態となったときに動作電源電位Vcc
レベルの駆動信号/SAPをセンスアンプDSAへ伝達
する。トランジスタTR2はオン状態となったとき、D
RAMセンスアンプの他方ノードへ電位Vssレベルの
信号SANを伝達する。
Sense amplifier activating circuit SAK is turned on in response to sense amplifier activating signal / SAPE, and sense amplifier activating transistor TR1 for activating P sense amplifier of DRAM sense amplifier DSA.
And a sense amplifier activation transistor TR2 which is turned on in response to the sense amplifier activation signal SANE and activates the N sense amplifier of the DRAM sense amplifier DSA.
including. Transistor TR1 is formed of a p-channel MOS transistor, and transistor TR2 is formed of an n-channel MOS transistor. When the transistor TR1 is turned on, the operating power supply potential Vcc
The level drive signal / SAP is transmitted to the sense amplifier DSA. When the transistor TR2 is turned on, D
Signal SAN of potential Vss level is transmitted to the other node of the RAM sense amplifier.

【0118】センスアンプ活性化回路SAKから信号/
SAPおよびSANが伝達される信号線/SAPおよび
SANとの間にイコライズ指示信号φEQに応答して両
信号線の電位をイコライズするイコライズトランジスタ
TEQが設けられる。これにより、センスアンプ駆動信
号線/SAPおよびSANはスタンバイ時には(Vcc
+Vss)/2の中間電位にプリチャージされる。ここ
で、信号線とその上の信号とを同一の符号で示す。
Signal from sense amplifier activation circuit SAK /
Equalizing transistor TEQ for equalizing the potentials of both signal lines in response to equalize instruction signal φEQ is provided between signal lines / SAP and SAN to which SAP and SAN are transmitted. As a result, the sense amplifier drive signal lines / SAP and SAN are set to (Vcc
It is precharged to an intermediate potential of + Vss) / 2. Here, the signal line and the signal on it are indicated by the same reference numeral.

【0119】DRAMビット線対DBL各々に対して、
プリチャージ・イコライズ指示信号φEQに応答して活
性化され、対応のビット線対の各ビット線を所定のプリ
チャージ電位VBLにプリチャージしかつイコライズす
るプリチャージ/イコライズ回路PEが設けられる。
For each DRAM bit line pair DBL,
A precharge / equalize circuit PE is provided which is activated in response to precharge / equalize instructing signal φEQ and precharges and equalizes each bit line of the corresponding bit line pair to a predetermined precharge potential VBL.

【0120】DRAMメモリブロックMBijはさら
に、DRAMビット線対DBLそれぞれに対して設けら
れて、列選択線CSL上の信号電位に応答してオン状態
となり、対応のDRAMビット線対DBLをローカルI
O線対LIOへ接続する列選択ゲートCSGを含む。列
選択線CSLは2対のDRAMビット線に対して共通に
設けられ、これにより同時に2つのDRAMビット線対
DBLが選択される。
DRAM memory block MBij is further provided for each DRAM bit line pair DBL and turned on in response to the signal potential on column select line CSL, and the corresponding DRAM bit line pair DBL is set to local I.
It includes a column select gate CSG connected to the O line pair LIO. The column selection line CSL is provided in common for two pairs of DRAM bit lines, whereby two DRAM bit line pairs DBL are simultaneously selected.

【0121】MBijはさらに、ブロック活性化信号φ
BAに応答してローカルIO線対LIOaおよびLIO
bをそれぞれグローバルIO線対GIOaおよびGIO
bへ接続するIOゲートIOGaおよびIOGbを含
む。列選択線CSLは図3に示す1つの列ブロックにわ
たって行方向に延在し、またグローバルIO線対GIO
aおよびGIObは、1つの列ブロックにわたって行方
向に延在する。ローカルIO線対LIOaおよびLIO
bは1つのメモリブロック内においてのみ列方向に延在
する。
MBij further has a block activation signal φ.
Local IO line pair LIOa and LIO in response to BA
b are global IO line pairs GIOa and GIO, respectively
Includes IO gates IOGa and IOGb connected to b. The column selection line CSL extends in the row direction over one column block shown in FIG. 3, and also has a global IO line pair GIO.
a and GIOb extend in the row direction over one column block. Local IO line pair LIOa and LIO
b extends in the column direction only within one memory block.

【0122】図3との対応において、DRAMIO線対
16aおよび16bはそれぞれ、ローカルIO線対LI
OaおよびLIObと、LIOゲートIOGaおよびI
OGbと、グローバルIO線対GIOaおよびGIOb
に対応する。
Corresponding to FIG. 3, DRAM IO line pairs 16a and 16b are local IO line pairs LI, respectively.
Oa and LIOb and LIO gates IOGa and I
OGb and global IO line pair GIOa and GIOb
Corresponding to.

【0123】DRAMIO線対に対しクランプ手段が設
けられる。このクランプ手段はグローバルIO線対GI
Oaに設けられるクランプ回路CRDaとグローバルI
O線対GIObに設けられるクランプ回路CRDbを含
む。このクランプ回路は図において破線で示すようにロ
ーカルIO線対LIOaおよびLIObにそれぞれ設け
られてもよい。この両方に設けられる構成であってもよ
い。このクランプ回路CRDa、CRDb(および/ま
たはCRDa′およびCRDb′)は図23に示すクラ
ンプトランジスタSQ7およびSQ8と同様の構成を備
え、対応の信号線の電位を所定電位にクランプする。
Clamping means is provided for the DRAMIO line pair. This clamp means is a global IO line pair GI
Clamp circuit CRDa and global I provided in Oa
It includes a clamp circuit CRDb provided in O line pair GIOb. This clamp circuit may be provided for each of the local IO line pairs LIOa and LIOb as shown by the broken line in the figure. The structure provided in both may be sufficient. The clamp circuits CRDa, CRDb (and / or CRDa 'and CRDb') have the same structure as the clamp transistors SQ7 and SQ8 shown in FIG. 23 and clamp the potential of the corresponding signal line to a predetermined potential.

【0124】SRAMアレイは、それぞれに1行のSR
AMセルSMCが接続されるSRAMワード線SWL
と、それぞれに1列のSRAMセルSMCが接続される
SRAMビット線対SBLと、SRAMビット線対SB
Lそれぞれに設けられ、対応のビット線対の電位差を検
知し増幅するSRAMセンスアンプSSAを含む。SR
AMビット線対SBLに対してそれぞれ対応のビット線
の電位をクランプするクランプ回路CRSが設けられ
る。クランプ回路CRSは図23に示す構成と同様の構
成を備える。
The SRAM array has one row of SRs each.
SRAM word line SWL to which AM cell SMC is connected
, An SRAM bit line pair SBL to which one row of SRAM cells SMC are connected, and an SRAM bit line pair SB
Each L includes an SRAM sense amplifier SSA for detecting and amplifying the potential difference between the corresponding bit line pair. SR
A clamp circuit CRS for clamping the potential of the corresponding bit line is provided for the AM bit line pair SBL. The clamp circuit CRS has a configuration similar to that shown in FIG.

【0125】双方向転送ゲート回路3は、SRAMビッ
ト線対SBLとグローバルIO線対GIOaおよびGI
Obとの間に設けられる双方向転送ゲートBTGaおよ
びBTGbを含む。双方向転送ゲートBTGaおよびB
TGbは共に、データ転送指示信号DTSおよびDTA
に応答してSRAMビット線対SBLとグローバルIO
線対GIOaおよびGIObとの間でのデータ転送を行
なう。データ転送指示信号DTSはDRAMからSRA
Mへのデータ転送を指示し、データ転送指示信号DTA
はSRAMからDRAMへのデータ転送を指示する。
Bidirectional transfer gate circuit 3 includes SRAM bit line pair SBL and global IO line pair GIOa and GI.
It includes bidirectional transfer gates BTGa and BTGb provided between it and Ob. Bidirectional transfer gates BTGa and B
Both TGb are data transfer instruction signals DTS and DTA.
In response to the SRAM bit line pair SBL and global IO
Data transfer between line pair GIOa and GIOb is performed. The data transfer instruction signal DTS is from DRAM to SRA.
Data transfer instruction signal DTA for instructing data transfer to M
Indicates data transfer from SRAM to DRAM.

【0126】クランプ回路CRSはデータ転送指示信号
DTSの反転信号/DTSによりそのオン/オフが制御
される。
ON / OFF of clamp circuit CRS is controlled by an inverted signal / DTS of data transfer instruction signal DTS.

【0127】DRAMに対して設けられたクランプ回路
CRDa,CRDbはデータ転送指示信号DTAの反転
信号/DTAによりオン/オフが制御される。
The clamp circuits CRDa and CRDb provided for the DRAM are on / off controlled by an inverted signal / DTA of the data transfer instruction signal DTA.

【0128】DRAMからSRAMへのデータ転送時に
は、転送指示信号DTSが活性状態の“H”となり、S
RAMアレイに設けられたクランプ回路CRSが不活性
状態となり、そのクランプ動作が禁止される。一方、S
RAMからDRAMへのデータ転送時には転送指示信号
DTAが“H”の活性状態となり、クランプ回路CRD
aおよびCRDb(および/またはCRDa′およびC
RDb′)が不活性状態となる。
At the time of data transfer from the DRAM to the SRAM, the transfer instruction signal DTS becomes the active state of "H", and S
The clamp circuit CRS provided in the RAM array becomes inactive and the clamp operation is prohibited. On the other hand, S
At the time of data transfer from the RAM to the DRAM, the transfer instruction signal DTA becomes the active state of "H", and the clamp circuit CRD
a and CRDb (and / or CRDa ′ and C
RDb ') becomes inactive.

【0129】図1は図5に示す構成において1つのデー
タ転送ゲートに関連する部分の構成を示す図である。図
1においては、ローカルIO線対LIOおよびグローバ
ルIO線対GIOをまとめてDRAMIO線対DIOと
して示す。ローカルIO線対は1つのメモリブロックに
対してのみ設けられ、グローバルIO線対GIOは列ブ
ロック内のメモリブロックに共通に設けられる。このた
め、好ましくはクランプ回路CRDは少なくともグロー
バルIO線対GIOに設けられる。また、図5において
は、ブロック選択ゲートIOGaおよびIOGbが設け
られるが、図1においては、ローカルIO線対LIOお
よびグローバルIO線対GIOがまとめてDRAMIO
線対DIOとして示されるため、これに対応して、ブロ
ック選択ゲートIOGと列選択ゲートCSGとを1つの
選択ゲートSGとして示す。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a portion related to one data transfer gate in the structure shown in FIG. In FIG. 1, the local IO line pair LIO and the global IO line pair GIO are collectively shown as a DRAM IO line pair DIO. The local IO line pair is provided only for one memory block, and the global IO line pair GIO is commonly provided for the memory blocks in the column block. Therefore, the clamp circuit CRD is preferably provided in at least the global IO line pair GIO. 5, block select gates IOGa and IOGb are provided, but in FIG. 1, local IO line pairs LIO and global IO line pairs GIO are collectively DRAMIO.
Since it is shown as a line pair DIO, correspondingly, the block selection gate IOG and the column selection gate CSG are shown as one selection gate SG.

【0130】DRAMIO線対DIOは1つの双方向転
送ゲートBTGに接続されるもののみが示されるため、
列選択線CSL上に伝達される列選択信号CSLは図1
においては1つの選択ゲートSGのみを選択する。
Since only the DRAMIO line pair DIO connected to one bidirectional transfer gate BTG is shown,
The column selection signal CSL transmitted on the column selection line CSL is shown in FIG.
In, only one select gate SG is selected.

【0131】DRAMビット線対DBLはビット線DB
Laおよび*DBLaを含み、SRAMビット線対SB
Lはビット線SBLaおよび*SBLaを含む。DRA
Mビット線対DBLa,*DBLaは、ビット線対DB
La0,*DBLa0〜DBLan,*DBLanを含
む。SRAMアレイはまた、SRAMワード線SWL0
〜SWLnを含み、DRAMアレイはDRAMワード線
DWL0〜DWLpを含む。
The DRAM bit line pair DBL is a bit line DB.
SRAM bit line pair SB including La and * DBLa
L includes bit lines SBLa and * SBLa. DRA
M bit line pair DBLa, * DBLa is a bit line pair DB
This includes La0, * DBLa0 to DBLan, * DBlan. The SRAM array also includes the SRAM word line SWL0.
-SWLn, the DRAM array includes DRAM word lines DWL0-DWLp.

【0132】SRAMクランプ回路CRSは、SRAM
ビット線SBLaに設けられるnチャネルMOSトラン
ジスタSQ70と、SRAMビット線*SBLaに設け
られるnチャネルMOSトランジスタSQ80を含む。
トランジスタSQ70およびSQ80のゲートに転送指
示信号DTSの反転信号/DTSが与えられる。
The SRAM clamp circuit CRS is an SRAM
It includes an n-channel MOS transistor SQ70 provided on bit line SBLa and an n-channel MOS transistor SQ80 provided on SRAM bit line * SBLa.
Inversion signal / DTS of transfer instruction signal DTS is applied to the gates of transistors SQ70 and SQ80.

【0133】DRAMクランプ回路CRDは、DRAM
IO線*DIOaに接続されるnチャネルMOSトラン
ジスタDQ80と、DRAMIO線DIOaに接続され
るnチャネルMOSトランジスタDQ70を含む。トラ
ンジスタDQ70およびDQ80のゲートに転送指示信
号DTAの反転信号/DTAが与えられる。
The DRAM clamp circuit CRD is a DRAM
It includes an n-channel MOS transistor DQ80 connected to IO line * DIOa and an n-channel MOS transistor DQ70 connected to DRAM IO line DIOa. Inversion signal / DTA of transfer instruction signal DTA is applied to the gates of transistors DQ70 and DQ80.

【0134】双方向転送ゲートBTGの構成としては種
々の構成を考えることができる。以下の動作説明におい
てはまず図6に示す構成を備える双方向転送ゲートを考
える。
Various configurations can be considered as the configuration of the bidirectional transfer gate BTG. In the following description of the operation, first consider a bidirectional transfer gate having the configuration shown in FIG.

【0135】図6において、双方向転送ゲートBTGは
データ転送指示信号DTAに応答してSRAMビット線
SBLa(*SBLa)上のデータをDRAMIO線D
IOa(*DIOa)へ伝達する転送回路TGAと、デ
ータ転送指示信号DTSに応答してDRAMIO線DI
Oa(*DIOa)上のデータをSRAMビット線SB
La(*SBLa)へ伝達する転送回路TGSを含む。
この図6に示す構成においては1本のSRAMビット線
と1本のDRAMIO線との間の転送回路が示される。
In FIG. 6, bidirectional transfer gate BTG transfers data on SRAM bit line SBLa (* SBLa) to DRAMIO line D in response to data transfer instruction signal DTA.
Transfer circuit TGA transmitting to IOa (* DIOa) and DRAM IO line DI in response to data transfer instruction signal DTS
Data on Oa (* DIOa) is transferred to SRAM bit line SB
It includes a transfer circuit TGS for transmitting to La (* SBLa).
In the structure shown in FIG. 6, a transfer circuit between one SRAM bit line and one DRAM IO line is shown.

【0136】次に動作について説明する。まず、図7に
示す動作波形図を参照してDRAMアレイからSRAM
アレイへのデータ転送の動作について説明する。このD
RAMアレイからSRAMアレイへのデータ転送はキャ
ッシュミス時(信号CIが“H”の活性時)に実行され
る。
Next, the operation will be described. First, referring to the operation waveform diagram shown in FIG. 7, from the DRAM array to the SRAM.
The operation of data transfer to the array will be described. This D
Data transfer from the RAM array to the SRAM array is executed at the time of cache miss (when the signal CI is active at "H").

【0137】時刻t1以前においては、プリチャージ指
示信号φEQが活性状態の“H”にあり、センスアンプ
駆動信号線SAN、/SAPはVcc/2のプリチャー
ジ電位にイコライズトランジスタTEQによりイコライ
ズされる。また、DRAMビット線対DBL(ビット線
DBLa,*DBLa)はプリチャージ/イコライズ回
路PEによりVcc/2の中間電位にプリチャージ/イ
コライズされる。
Before time t1, precharge instructing signal φEQ is in the active state of "H", and sense amplifier drive signal lines SAN and / SAP are equalized to the precharge potential of Vcc / 2 by equalizing transistor TEQ. The DRAM bit line pair DBL (bit lines DBLa, * DBLa) is precharged / equalized to an intermediate potential of Vcc / 2 by the precharge / equalize circuit PE.

【0138】DRAMIO線DIOaおよび*DIOa
はクランプ回路CRDにより電位Vcc−Vthの
“H”レベルにプリチャージされている。SRAMビッ
ト線SBLaおよび*SBLaも同様にクランプ回路C
RSによりVcc−Vthの電位レベルにプリチャージ
されている。
DRAMIO lines DIOa and * DIOa
Is precharged to the "H" level of the potential Vcc-Vth by the clamp circuit CRD. The SRAM bit lines SBLa and * SBLa are similarly clamped by the clamp circuit C.
Precharged to a potential level of Vcc-Vth by RS.

【0139】時刻t1においてプリチャージ指示信号φ
EQが立下がるとプリチャージ/イコライズ回路PEお
よびイコライズトランジスタTEQが不活性状態とな
る。これにより、センスアンプ駆動信号線SANおよび
/SAPのイコライズ動作が完了し、かつDRAMビッ
ト線対DBLのイコライズ/プリチャージ動作が停止
し、DRAMビット線DBLa,*DBLaおよびセン
スアンプ駆動信号線SANおよび/SAPは中間電位V
cc/2でフローティング状態となる。
At time t1, precharge instruction signal φ
When EQ falls, precharge / equalize circuit PE and equalize transistor TEQ are inactivated. As a result, the equalizing operation of the sense amplifier drive signal lines SAN and / SAP is completed, the equalizing / precharging operation of the DRAM bit line pair DBL is stopped, and the DRAM bit lines DBLa, * DBLa and the sense amplifier drive signal line SAN and / SAP is the intermediate potential V
It becomes a floating state at cc / 2.

【0140】次いで、外部から与えられるアドレスに従
ってローデコーダ14(図3参照)による行選択動作が
行なわれる。時刻t1から少し経った後、DRAMアレ
イ1によって1本のワード線DWLが選択され、このワ
ード線DWLの電位が“H”に立上がる。この選択ワー
ド線DWL(DWL0〜DWLpのいずれか)に接続さ
れる1行のDRAMメモリセルDMCがそれぞれ対応の
DRAMビット線対DBL(DBLaまたは*DBL
a)に接続され、各DRAMビット線対DBLの電位が
その接続されるメモリセルのデータに従って変化する。
Then, row decoder 14 (see FIG. 3) performs a row selecting operation in accordance with an externally applied address. Shortly after time t1, one word line DWL is selected by the DRAM array 1, and the potential of this word line DWL rises to "H". One row of DRAM memory cells DMC connected to the selected word line DWL (any one of DWL0 to DWLp) corresponds to a corresponding DRAM bit line pair DBL (DBLa or * DBL).
connected to a), the potential of each DRAM bit line pair DBL changes according to the data of the connected memory cell.

【0141】図7においては、“H”のデータを記憶す
るメモリセルが選択された場合のDRAMビット線DB
La(または*DBLa)の電位変化を示す。
In FIG. 7, the DRAM bit line DB when the memory cell storing "H" data is selected.
The potential change of La (or * DBLa) is shown.

【0142】時刻t2においてセンスアンプ活性化信号
SANEが接地電位Vssから動作電源電位Vccレベ
ルへと立上がり、センスアンプ活性化回路SAKに含ま
れるトランジスタTR2がオン状態となる。これにより
センスアンプ駆動信号SANが中間電位Vcc/2から
接地電位Vssレベルへ立上がり、DRAMセンスアン
プDSに含まれるNセンスアンプ部が活性化される。こ
の結果、DRAMビット線対DBLの低電位側のビット
線の電位が接地電位Vssレベルへと放電される。
At time t2, sense amplifier activation signal SANE rises from ground potential Vss to operating power supply potential Vcc level, and transistor TR2 included in sense amplifier activation circuit SAK is turned on. As a result, sense amplifier drive signal SAN rises from the intermediate potential Vcc / 2 to the ground potential Vss level, and the N sense amplifier portion included in DRAM sense amplifier DS is activated. As a result, the potential of the bit line on the low potential side of the DRAM bit line pair DBL is discharged to the ground potential Vss level.

【0143】時刻t3においてセンスアンプ活性化信号
/SAPEが電位Vccから接地電位Vssレベルへと
立下がり、センスアンプ活性化回路SAKに含まれるト
ランジスタTR1がオン状態となる。これに応答して、
中間電位のセンスアンプ駆動信号/SAPが中間電位V
cc/2から電源電位Vccレベルへと上昇し、DRA
MセンスアンプDSAのPセンスアンプ部が活性化さ
れ、DRAMビット線対DBLの高電位のビット線の電
位が電位Vccレベルにまで昇圧される。
At time t3, sense amplifier activation signal / SAPE falls from the potential Vcc to the ground potential Vss level, and transistor TR1 included in sense amplifier activation circuit SAK is turned on. In response to this,
The intermediate potential sense amplifier drive signal / SAP is the intermediate potential V
cc / 2 rises to the power supply potential Vcc level, and DRA
The P sense amplifier portion of the M sense amplifier DSA is activated, and the potential of the high potential bit line of the DRAM bit line pair DBL is boosted to the potential Vcc level.

【0144】時刻t4において、DRAMコラムデコー
ダ15(図3参照)による列選択動作に従って列選択信
号CSLiが発生される。これにより、選択ゲートSG
iが導通状態となり、対応のDRAMビット線対DBL
i(DBLai,*DBLai)がDRAMIO線対D
IO(DIOa,*DIOa)へ接続される。DRAM
センスアンプDSAの駆動能力はこのクランプ回路CR
Dの電流供給能力よりも十分に大きい。これにより、D
RAMIO線対DIOの電位はセンスアンプDSAによ
り増幅された“H”および“L”に応じた電位レベルと
なる。
At time t4, column select signal CSLi is generated in accordance with the column select operation by DRAM column decoder 15 (see FIG. 3). As a result, the selection gate SG
i becomes conductive, and the corresponding DRAM bit line pair DBL
i (DBLai, * DBLai) is the DRAMIO line pair D
It is connected to IO (DIOa, * DIOa). DRAM
The driving capability of the sense amplifier DSA is the clamp circuit CR.
It is sufficiently larger than the current supply capacity of D. This gives D
The potential of the RAMIO line pair DIO becomes a potential level according to "H" and "L" amplified by the sense amplifier DSA.

【0145】この場合、クランプ回路CRDからは電流
が供給されているため、クランプ回路CRDのプルアッ
プ機能により、DRAMIO線DIOの“L”レベルは
接地電位レベルよりも少し高い。このレベルはクランプ
用トランジスタDQ70およびDQ80、選択ゲートS
GiのトランジスタDRAMセンスアンプDSAに含ま
れる放電用トランジスタ(nチャネルMOSトランジス
タ;図23参照)の電流駆動能力により決定される。選
択ゲートSGiの抵抗値は高く、DRAMIO線DIO
の論理振幅はこのクランプトランジスタDQ70(DQ
80)と選択ゲートSGi内のトランジスタのオン抵抗
との比により決定される。DRAMビット線ではセンス
アンプDSAによりその論理振幅は、ほぼVccとな
る。
In this case, since current is supplied from clamp circuit CRD, the "L" level of DRAM IO line DIO is slightly higher than the ground potential level due to the pull-up function of clamp circuit CRD. This level is used for clamping transistors DQ70 and DQ80 and select gate S
Gi transistor Determined by the current driving capability of the discharging transistor (n-channel MOS transistor; see FIG. 23) included in the DRAM sense amplifier DSA. The resistance value of the select gate SGi is high, and the DRAMIO line DIO
Of the clamp transistor DQ70 (DQ
80) and the on resistance of the transistor in the select gate SGi. The sense amplifier DSA causes the DRAM bit line to have a logical amplitude of approximately Vcc.

【0146】DRAMIO線DIOa(または/DIO
a)の容量はDRAMビット線DBLa(または*DB
La)の容量よりも十分に大きい。このため、列選択信
号CSLiが立上がったとき、DRAMビット線DBL
a(または*DBLa)の“L”レベルは少し上昇する
ものの、この小容量を駆動するDRAMセンスアンプD
SAによりすぐ接地電位Vssレベルに放電することは
できる。これは通常のDRAMにおいて内部データ線
(I/O線)を“H”レベルにプリチャージしたときの
データ読出時と同様と考えることができる。したがっ
て、クランプトランジスタDQ70およびDQ80がオ
ン状態であったとしても、このクランプトランジスタD
Q70,DQ80からの電流がDRAMのメモリセルデ
ータを破壊することはない。
DRAMIO line DIOa (or / DIO
The capacity of a) is DRAM bit line DBLa (or * DB
It is sufficiently larger than the capacity of La). Therefore, when the column selection signal CSLi rises, the DRAM bit line DBL
The "L" level of a (or * DBLa) rises a little, but the DRAM sense amplifier D that drives this small capacity
It is possible to immediately discharge to the ground potential Vss level by SA. It can be considered that this is the same as the data reading when the internal data line (I / O line) is precharged to the "H" level in the normal DRAM. Therefore, even if the clamp transistors DQ70 and DQ80 are in the ON state, the clamp transistor DQ70
The current from Q70 and DQ80 does not destroy the memory cell data of the DRAM.

【0147】一方、SRAMアレイにおいては、時刻t
s1においてSRAMローデコーダ21(図3参照)に
よる行選択動作が行なわれ、1本のSRAMワード線S
WL(SWL0〜SWLmのうちのいずれか)が選択さ
れ、この選択されたSRAMワード線SWLの電位が
“H”に立上がる。DRAMにおける行選択動作とSR
AMにおける行選択動作とは非同期的に行なわれる。S
RAMワード線SWLに接続されるSRAMセルのデー
タがそれぞれ対応のSRAMビット線対SBL上に伝達
される。これにより、SRAMビット線SBLa,*S
BLaの電位はクランプ電位Vcc−Vthからそれぞ
れ対応のSRAMセルの記憶情報に対応した電位へ変化
する。
On the other hand, in the SRAM array, time t
In s1, the row selection operation by the SRAM row decoder 21 (see FIG. 3) is performed, and one SRAM word line S
WL (one of SWL0 to SWLm) is selected, and the potential of the selected SRAM word line SWL rises to “H”. Row selection operation in DRAM and SR
The row selection operation in AM is performed asynchronously. S
The data of the SRAM cells connected to the RAM word line SWL are transmitted onto the corresponding SRAM bit line pair SBL. As a result, the SRAM bit lines SBLa, * S
The potential of BLa changes from the clamp potential Vcc-Vth to the potential corresponding to the stored information of the corresponding SRAM cell.

【0148】時刻t5においてDRAMアレイからSR
AMアレイへのデータ転送を指示するデータ転送指示信
号DTSが“H”へと立上がる。この時刻t5以前にお
いては既にDRAMIO線DIOaおよび*DIOaに
はDRAMセルのデータが伝達されている。またSRA
Mビット線対SBLには既にSRAMセルが接続されて
いる。このデータ転送指示信号DTSに応答して図6に
示す転送回路TGSが活性化されてDRAMIO線DI
Oa(および*DIOa)のデータをSRAMビット線
SBLa(および*SBLa)へ伝達する。
At time t5, the DRAM array outputs SR
Data transfer instruction signal DTS for instructing data transfer to the AM array rises to "H". Before this time t5, the data of the DRAM cell has already been transmitted to the DRAM IO lines DIOa and * DIOa. Also SRA
An SRAM cell is already connected to the M bit line pair SBL. In response to the data transfer instruction signal DTS, the transfer circuit TGS shown in FIG. 6 is activated to activate the DRAM IO line DI.
The data of Oa (and * DIOa) is transmitted to the SRAM bit line SBLa (and * SBLa).

【0149】このとき、SRAMクランプ回路CRSに
含まれるクランプトランジスタSQ70およびSQ80
はオフ状態となる。したがってこのSRAMビット線S
BLaおよび*SBLaの“H”および“L”レベルは
転送回路TGSが与える電位レベルとなる。
At this time, the clamp transistors SQ70 and SQ80 included in the SRAM clamp circuit CRS.
Is turned off. Therefore, this SRAM bit line S
"H" and "L" levels of BLa and * SBLa become potential levels given by the transfer circuit TGS.

【0150】このデータ転送指示信号DTSが活性化さ
れる時刻t5が列選択信号CSLiが発生されてDRA
MIO線DIO上のデータの電位が確定する時刻および
SRAMワード線SWLの選択が行なわれる時刻ts1
の両者よりも後の時点であるという関係を満足する限
り、時刻ts1と時刻t1ないし時刻t5との前後関係
は任意である。SRAMからDRAMへのデータ転送を
指示する信号DTAはこのサイクルにおいては非活性状
態の“L”に維持される。
At time t5 when the data transfer instruction signal DTS is activated, the column selection signal CSLi is generated and DRA is generated.
Time ts1 when the potential of the data on the MIO line DIO is determined and when the SRAM word line SWL is selected
As long as the relationship that is later than both of the above is satisfied, the front-rear relationship between time ts1 and time t1 to time t5 is arbitrary. Signal DTA instructing data transfer from SRAM to DRAM is maintained in the inactive state of "L" in this cycle.

【0151】時刻t6において、選択されたDRAMワ
ード線DWLの電位が立下がり、また転送指示信号DT
Sも“L”へ立下がる。これによりSRAMビット線対
SBLのクランプ回路CRSが再び活性化され、このS
RAMビット線SBLaおよび*SBLaの電位の
“L”レベルが上昇する。
At time t6, the potential of the selected DRAM word line DWL falls and transfer instruction signal DT
S also falls to "L". As a result, the clamp circuit CRS of the SRAM bit line pair SBL is activated again, and this S
The "L" level of the potentials of the RAM bit lines SBLa and * SBLa rises.

【0152】時刻t7において、センスアンプ駆動信号
SANおよび/SAPは共に中間電位Vcc/2へと復
帰し、センスアンプDSAによるラッチ動作が停止さ
れ、これによりDRAMIO線DIOに設けられたDR
AMクランプ回路CRDの機能によりDRAMIO線D
IOaおよび*DIOaも共にVcc−Vthの“H”
レベルに復帰する。この後、列選択信号CSLiが
“L”に立下がり、DRAMビット線対とDRAMIO
線対との分離が行なわれる。
At time t7, sense amplifier drive signals SAN and / SAP are both returned to the intermediate potential Vcc / 2, and the latch operation by sense amplifier DSA is stopped, whereby the DR provided in DRAMIO line DIO is stopped.
The function of the AM clamp circuit CRD causes the DRAM IO line D
IOa and * DIOa are both “H” of Vcc-Vth
Return to the level. After this, the column selection signal CSLi falls to "L", and the DRAM bit line pair and the DRAMIO
Separation from line pairs is performed.

【0153】SRAMにおいてはSRAMワード線SW
Lの電位が時刻ts2において“L”へ立下がり、DR
AMからSRAMへのデータ転送サイクルが完了する。
In the SRAM, the SRAM word line SW
The potential of L falls to “L” at time ts2, and DR
The data transfer cycle from AM to SRAM is completed.

【0154】クランプ回路CRDおよびCRSを用いて
信号線の論理振幅を小さくすればSRAMビット線SB
La、*SBLaおよびDRAMIO線DIOa、*D
IOaの電位を高速で確定状態とし、これにより高速で
データを転送することができる。
If the logical amplitude of the signal line is reduced by using the clamp circuits CRD and CRS, the SRAM bit line SB
La, * SBLa and DRAM IO lines DIOa, * D
The potential of IOa is set to a definite state at high speed, which allows data to be transferred at high speed.

【0155】このとき、クランプ回路CRSおよびCR
Dのクランプ動作をデータ転送中においても維持した場
合、SRAMビット線クランプ用のトランジスタSQ7
0(またはSQ80)から転送回路TGSの駆動トラン
ジスタを介して接地線へと電流が流れ、消費電流が増加
する。1ビット単位でのデータの転送のみが行なわれる
のであればこの貫通電流はそれほど大きな値とはならな
いと考えられるものの、16ビット等の複数ビットのデ
ータが1つのブロックとして一括転送される場合、この
貫通電流が大きくなり、低消費電流性が損なわれる。
At this time, the clamp circuits CRS and CR
When the clamp operation of D is maintained even during data transfer, the transistor SQ7 for clamping the SRAM bit line is used.
Current flows from 0 (or SQ80) to the ground line via the drive transistor of the transfer circuit TGS, and the current consumption increases. It is considered that this shoot-through current will not be so large if only data is transferred in 1-bit units. However, when multiple bits of data such as 16 bits are collectively transferred as one block, The through current becomes large, and low current consumption is impaired.

【0156】そこで、上述のように、データ転送を受け
るSRAMビット線に対して設けられたSRAMクラン
プ回路CRSのクランプ動作をデータ転送中禁止するこ
とにより、この貫通電流を小さくすることができる。
Therefore, as described above, the shoot-through current can be reduced by prohibiting the clamp operation of SRAM clamp circuit CRS provided for the SRAM bit line receiving the data transfer during the data transfer.

【0157】データ転送側のDRAMにおいてはクラン
プ回路CRDは動作している。このクランプ回路は、通
常のプルアップ機能動作のみを行なう。このクランプト
ランジスタDQ70およびDQ80の電流供給力は小さ
く、センスアンプDSAのその電流駆動力は関連のDR
AMビット線を駆動する能力のみが必要とされる。選択
ゲートSGiのオン抵抗は比較的大きい。このためクラ
ンプ回路CRDからの電流は、それほど大きくなく、小
さな値となる。
In the DRAM on the data transfer side, the clamp circuit CRD is operating. This clamp circuit only performs a normal pull-up function operation. The current supply capability of the clamp transistors DQ70 and DQ80 is small, and the current drive capability of the sense amplifier DSA is related DR.
Only the ability to drive AM bit lines is required. The on resistance of the select gate SGi is relatively large. Therefore, the current from the clamp circuit CRD is not so large and has a small value.

【0158】双方向転送ゲートBTGの電流駆動力は十
分大きいため、SRAMメモリセルSMCに含まれるト
ランジスタの放電能力(またはラッチ能力)よりもその
電流駆動力が十分大きい。このため、双方向転送ゲート
BTGが動作したときにはクランプトランジスタSQ7
0またはSQ80から双方向転送ゲートBTGの駆動ト
ランジスタを介して比較的大きな電流が流れることにな
り、ブロックサイズでの複数ビットのデータ転送が行な
われる場合、この電流がより大きくなる。この比較的大
きな電流がクランプ回路CRSを不活性化することによ
り節約される。
Since the current driving capability of bidirectional transfer gate BTG is sufficiently large, the current driving capability is sufficiently larger than the discharging capability (or latching capability) of the transistor included in SRAM memory cell SMC. Therefore, when the bidirectional transfer gate BTG operates, the clamp transistor SQ7
A relatively large current flows from 0 or SQ80 through the drive transistor of the bidirectional transfer gate BTG, and this current becomes larger when a plurality of bits of data are transferred in the block size. This relatively large current is saved by deactivating the clamp circuit CRS.

【0159】なお上述のDRAMからSRAMデータ転
送においては、転送指示信号DTSに同期してSRAM
ビット線対SBLに設けられたクランプ回路CRSのク
ランプ動作を禁止している。しかしながら、これはSR
AMワード線SWLの電位が“H”に立上がり、SRA
Mビット線対SBLのクランプ動作が行なわれている状
態ではカラム電流(SRAMメモリセルSMCとクラン
プ用トランジスタ(SQ70およびSQ80)との間に
流れる貫通電流)が流れる。このカラム電流をもさらに
減少させるためには、SRAMワード線SWLの選択動
作と同期してこのSRAMクランプ回路CRSのクラン
プ動作を禁止する。この構成は、DRAMからSRAM
へのデータ転送指示時においてこのデータ転送指示信号
(これはキャッシュミス時の動作であり、SRAMワー
ド線選択動作前に知ることができる)とSRAMワード
線駆動信号SWLとの論理積信号をトランジスタSQ7
0およびSQ80のゲートに与える構成により実現され
る。
In the SRAM data transfer from the DRAM described above, the SRAM is synchronized with the transfer instruction signal DTS.
The clamp operation of the clamp circuit CRS provided in the bit line pair SBL is prohibited. However, this is SR
The potential of the AM word line SWL rises to "H" and SRA
A column current (a through current flowing between the SRAM memory cell SMC and the clamping transistors (SQ70 and SQ80)) flows while the M bit line pair SBL is being clamped. In order to further reduce the column current, the clamp operation of the SRAM clamp circuit CRS is prohibited in synchronization with the selection operation of the SRAM word line SWL. This configuration is from DRAM to SRAM
At the time of instructing the data transfer to, the AND signal of this data transfer instruction signal (this is the operation at the time of cache miss and can be known before the SRAM word line selection operation) and the SRAM word line drive signal SWL is applied to the transistor SQ7.
It is realized by the configuration given to the gates of 0 and SQ80.

【0160】次にSRAMからDRAMへのデータ転送
動作についてその動作波形図である図8を参照して説明
する。
Next, the data transfer operation from SRAM to DRAM will be described with reference to the operation waveform diagram of FIG.

【0161】DRAMにおいては、時刻t1から時刻t
4までは先に図7を参照して説明したDRAMからSR
AMへのデータ転送動作時と同じ動作が実行される。S
RAMにおいても、時刻ts1においてSRAMワード
線SWLが選択されてその電位が“H”に立上がるのは
同様である。
In the DRAM, from time t1 to time t
Up to 4, the DRAM to SR previously described with reference to FIG.
The same operation as the data transfer operation to AM is executed. S
In the RAM as well, the SRAM word line SWL is selected at time ts1 and its potential rises to "H".

【0162】時刻t4およびts1の後にSRAMから
DRAMへのデータ転送を許可する転送指示信号DTA
が時刻t5から一定期間活性化される。この転送指示信
号DTAに応答して図6に示す転送回路TGAが活性化
されて、既にSRAMビット線SBLa(および*SB
La)上に現われていた信号電位がDRAMIO線DI
Oa(および*DIOa)上へ伝達される。このとき、
DRAMIO線DIOaおよび*DIOaの電位レベル
はこの転送回路TGAの大きな駆動力によりVccレベ
ルの“H”および接地電位Vssレベルの“L”レベル
となる。このDRAMIO線DIOaおよび*DIOa
上の信号電位は選択ゲートSGiを介して選択されたD
RAMビット線DBLaおよび*DBLa上へ伝達され
る。転送回路TGAの駆動能力はDRAMセンスアンプ
DSAのラッチ能力よりも十分大きいため、このDRA
Mビット線DBLaおよび*DBLaの電位はSRAM
から伝達されたデータに対応した値となる。
Transfer instruction signal DTA for permitting data transfer from SRAM to DRAM after times t4 and ts1.
Is activated for a certain period from time t5. The transfer circuit TGA shown in FIG. 6 is activated in response to the transfer instruction signal DTA, and the SRAM bit line SBLa (and * SB) has already been activated.
The signal potential appearing on La) is the DRAMIO line DI.
Transmitted on Oa (and * DIOa). At this time,
The potential levels of DRAMIO lines DIOa and * DIOa are set to Vcc level "H" and ground potential Vss level "L" level due to the large driving force of transfer circuit TGA. These DRAM IO lines DIOa and * DIOa
The upper signal potential is D selected via the selection gate SGi.
It is transmitted onto RAM bit lines DBLa and * DBLa. Since the drive capability of the transfer circuit TGA is sufficiently larger than the latch capability of the DRAM sense amplifier DSA, this DRA
The potentials of the M bit lines DBLa and * DBLa are SRAM
The value corresponds to the data transmitted from.

【0163】この時刻t5におけるデータ転送許可信号
DTAに応答してDRAMクランプ回路CRDはそのク
ランプ動作が禁止されている。すなわち、トランジスタ
DQ70およびDQ80はオフ状態となっている。これ
により、このクランプ用トランジスタDQ70およびD
Q80からは電流は流れず、転送回路TGAの駆動トラ
ンジスタへ流れ込む貫通電流は存在せず、消費電流が低
減される。
In response to the data transfer permission signal DTA at time t5, the clamp operation of the DRAM clamp circuit CRD is prohibited. That is, the transistors DQ70 and DQ80 are in the off state. As a result, the clamping transistors DQ70 and DQ
No current flows from Q80, there is no through current flowing into the drive transistor of the transfer circuit TGA, and the current consumption is reduced.

【0164】時刻t6において転送指示信号DTAが
“L”へ立上がるとほぼ同様のタイミングでDRAMワ
ード線DWLも“L”へと立上がる。DRAMワード線
DWLの電位の立下がりにより、選択メモリセルへのデ
ータの書込は完了する。一方、クランプ回路CRDが再
び活性化され、そのクランプ動作により、DRAMIO
線DIOaおよび*DIOaの電位のうちローレベルの
電位が上昇する。一方DRAMビット線DBLaおよび
*DBLaの電位レベルはセンスアンプDSAが活性状
態とされているため少しは上昇するかもしれないもの
の、依然“H”および“L”レベルを保持している。
When transfer instruction signal DTA rises to "L" at time t6, DRAM word line DWL also rises to "L" at almost the same timing. Writing of data to the selected memory cell is completed by the fall of the potential of the DRAM word line DWL. On the other hand, the clamp circuit CRD is activated again, and its clamp operation causes the DRAMIO
Of the potentials on lines DIOa and * DIOa, the low-level potential rises. On the other hand, the potential levels of the DRAM bit lines DBLa and * DBLa may be slightly raised because the sense amplifier DSA is in the active state, but still retain the "H" and "L" levels.

【0165】時刻t7においてセンスアンプ駆動信号S
ANおよび/SAPが不活性状態となり、続いて列選択
信号CSLiが“L”と立上がることにより、DRAM
はプリチャージ状態へと復帰する。SRAMにおいては
時刻ts2においてSRAMワード線SWLが“L”へ
と立上がり、メモリセルとビット線とが切り離され、ビ
ット線電位SBLaおよび*SBLaの電位はクランプ
トランジスタSQ70およびSQ80により規定される
“H”レベルとなる。
At time t7, the sense amplifier drive signal S
When AN and / SAP become inactive and the column selection signal CSLi rises to "L", the DRAM
Returns to the precharged state. In SRAM, at time ts2, SRAM word line SWL rises to "L", the memory cell is disconnected from the bit line, and the potentials of bit line potentials SBLa and * SBLa are "H" defined by clamp transistors SQ70 and SQ80. It becomes a level.

【0166】上述のようにSRAMからDRAMのデー
タ転送時においてDRAMのクランプ回路CRDのクラ
ンプ動作を禁止することにより大きな駆動能力を有する
転送回路TGAの駆動トランジスタを介して流れる放電
電流(貫通電流)の発生を防止することができ、低消費
電流を実現することができる。
As described above, when the clamp operation of the clamp circuit CRD of the DRAM is prohibited during the data transfer from the SRAM to the DRAM, the discharge current (penetration current) flowing through the drive transistor of the transfer circuit TGA having a large drive capability is obtained. Generation can be prevented, and low current consumption can be realized.

【0167】図9はこの発明の他の実施例であるCDR
AMの構成を示す図である。図9において、SRAMビ
ット線クランプ回路CRSはそのゲートにデータ転送許
可信号DTSを受けるpチャネルMOSトランジスタS
Q71およびSQ81を含む。DRAMIO線クランプ
回路CRDは、そのゲートにデータ転送許可信号DTA
をゲートに受けるpチャネルMOSトランジスタDQ7
1およびDQ81を含む。トランジスタSQ71はSR
AMビット線SBLaに設けられ、トランジスタSQ8
1はSRAMビット線*SBLaに設けられる。トラン
ジスタDQ71はDRAMIO線DIOaに設けられ、
トランジスタDQ81はDRAMIO線DIOaに設け
られる。図9に示すようにクランプトランジスタとして
pチャネルMOSトランジスタを用いても先の図1に示
す構成と同様の効果を得ることができる。
FIG. 9 shows a CDR which is another embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the structure of AM. In FIG. 9, the SRAM bit line clamp circuit CRS receives a data transfer enable signal DTS at its gate and is a p-channel MOS transistor S.
Includes Q71 and SQ81. The DRAM IO line clamp circuit CRD has a gate to which a data transfer enable signal DTA is sent.
P-channel MOS transistor DQ7 which receives at its gate
1 and DQ81. Transistor SQ71 is SR
The transistor SQ8 provided on the AM bit line SBLa
1 is provided on the SRAM bit line * SBLa. The transistor DQ71 is provided in the DRAMIO line DIOa,
Transistor DQ81 is provided on DRAMIO line DIOa. Even if a p-channel MOS transistor is used as the clamp transistor as shown in FIG. 9, the same effect as that of the configuration shown in FIG. 1 can be obtained.

【0168】ここで、DRAMIO線に設けられたクラ
ンプ回路CRDの動作電源電位は電源電位Vccまたは
中間電位Vcc/2または(Vcc/2)+Vthのい
ずれであってもよい。このいずれのレベルであっても選
択されたDRAMビット線対DBLに設けられたDRA
MセンスアンプDSAによりDRAMIO線DIOの電
位はそれぞれ選択されたDRAMセルのデータに対応す
る電位に増幅される。この場合においても、クランプ機
能は発揮されるため、その“L”レベルは接地電位Vs
sよりも高くなり高速動作性は保証される。また消費電
流もさらに低減される(Vcc/2プリチャージの場
合)。
Here, the operating power supply potential of clamp circuit CRD provided on the DRAMIO line may be power supply potential Vcc or intermediate potential Vcc / 2 or (Vcc / 2) + Vth. DRA provided in the selected DRAM bit line pair DBL at any of these levels
The M sense amplifier DSA amplifies the potential of the DRAM IO line DIO to the potential corresponding to the data of the selected DRAM cell. Even in this case, since the clamp function is exerted, the "L" level is the ground potential Vs.
It is higher than s, and high-speed operability is guaranteed. Further, current consumption is further reduced (in the case of Vcc / 2 precharge).

【0169】図10は双方向転送ゲートの他の構成例を
示す図である。先に図6に示した双方向転送ゲートの構
成においてはデータ転送方向はDRAMからSRAMま
たはSRAMからDRAMと常に一方方向である。この
ためたとえばSRAMアレイの選択されたメモリセルD
RAMアレイとの対応のメモリセルとの間でのデータの
交換を行なう場合には2つのデータ転送動作を必要とす
る。この図10に示す構成の場合SRAMからDRAM
へのデータ転送と並行してDRAMからSRAMへデー
タの転送を行なうことができる。
FIG. 10 is a diagram showing another configuration example of the bidirectional transfer gate. In the structure of the bidirectional transfer gate shown in FIG. 6, the data transfer direction is always one direction from DRAM to SRAM or SRAM to DRAM. Therefore, for example, the selected memory cell D of the SRAM array is
Two data transfer operations are required when exchanging data between a RAM array and a corresponding memory cell. In the case of the configuration shown in FIG. 10, SRAM to DRAM
Data can be transferred from the DRAM to the SRAM in parallel with the data transfer to.

【0170】図10において、双方向転送ゲートBTG
は、データ転送許可信号DTA0に応答して活性状態と
なり、SRAMビット線SBLa(または*SBLa)
上の信号データを伝達するドライブ回路TGA0と、ド
ライブ回路TGA0の出力をバッファ処理するバッファ
BU2と、データ転送許可信号DTA1に応答して活性
化され、バッファBU2の出力をDRAMIO線DIO
a上へ伝達するドライブ回路TGA1を含む。データ転
送許可信号DTA0およびDTA1は互いに異なるタイ
ミングで発生される。
In FIG. 10, the bidirectional transfer gate BTG is shown.
Becomes the active state in response to the data transfer enable signal DTA0, and the SRAM bit line SBLa (or * SBLa)
The drive circuit TGA0 for transmitting the above signal data, the buffer BU2 for buffering the output of the drive circuit TGA0, and the buffer BU2 which is activated in response to the data transfer enable signal DTA1 and outputs the output of the buffer BU2 to the DRAMIO line DIO
A drive circuit TGA1 for transmitting on the a is included. The data transfer permission signals DTA0 and DTA1 are generated at different timings.

【0171】この転送ゲートBTGはさらに、データ転
送許可信号DTS0に応答して活性化され、DRAMI
O線DIOa(または*DIOa)上の信号を伝達する
ドライブ回路TGS0と、ドライブ回路TGS0の出力
をバッファ処理するバッファBU1と、データ転送許可
信号DTS1に応答して活性化されてバッファBU1の
出力をSRAMビット線SBLa(または*SBLa)
上へ伝達するドライブ回路TGS1を含む。転送許可信
号DTA0と転送許可信号DTS0とがほぼ同一のタイ
ミングで発生され、転送許可信号DTA1と転送許可信
号DTS1とがほぼ同様のタイミングで発生される(D
RAMからSRAMおよびSRAMからDRAMへのD
RAM転送がともに実行される時)。
Transfer gate BTG is further activated in response to data transfer enable signal DTS0, and DRAMI
A drive circuit TGS0 that transmits a signal on the O line DIOa (or * DIOa), a buffer BU1 that buffers the output of the drive circuit TGS0, and an output of the buffer BU1 that is activated in response to the data transfer enable signal DTS1. SRAM bit line SBLa (or * SBLa)
It includes a drive circuit TGS1 for transmitting upward. The transfer permission signal DTA0 and the transfer permission signal DTS0 are generated at substantially the same timing, and the transfer permission signal DTA1 and the transfer permission signal DTS1 are generated at substantially the same timing (D
D from RAM to SRAM and SRAM to DRAM
When RAM transfer is performed together).

【0172】この図10に示す双方向転送ゲートBTG
の構成の場合、転送制御信号DTA0およびDTS0が
まず最初に発生される。それまでのSRAMアレイおよ
びDRAMにおける選択動作は図7および8に示したも
のと同様である。転送許可信号DTS0およびDTA0
が発生されるとSRAMの選択されたメモリセルデータ
がバッファBU2へ伝達されてバッファ処理される。一
方DRAMの選択されたメモリセルデータはバッファB
U1へ与えられてバッファ処理される。このバッファB
U1およびBU2の出力が確定した後、データ転送許可
信号DTA1およびDTS1を活性状態とする。これに
より、バッファBU1の出力データがドライブ回路TG
S1を介してSRAMビット線SBLa(または*SB
La)へ伝達される。
Bidirectional transfer gate BTG shown in FIG.
In the case of the above structure, transfer control signals DTA0 and DTS0 are first generated. The selection operation in the SRAM array and the DRAM up to that point is similar to that shown in FIGS. Transfer enable signals DTS0 and DTA0
Is generated, the selected memory cell data of the SRAM is transmitted to the buffer BU2 and buffered. On the other hand, the selected memory cell data of the DRAM is stored in the buffer B.
It is given to U1 and buffered. This buffer B
After the outputs of U1 and BU2 are determined, the data transfer permission signals DTA1 and DTS1 are activated. As a result, the output data of the buffer BU1 is changed to the drive circuit TG.
SRAM bit line SBLa (or * SB) via S1
La).

【0173】一方バッファBU2の出力データはドライ
ブ回路TGA1を介してDRAMビット線へDRAMI
O線DIOa(または*DIOa)を介して伝達され
る。この転送許可信号DTA0、DTA1、DTS1お
よびDTS0は、図7および図8において転送指示信号
DTAおよびDTSそれぞれを2つのパルス信号とみな
せばよい。この構成により、DRAMからSRAMへの
データ転送とSRAMからDRAMへのデータ転送とを
並行に行なうことができ、効率的なデータ転送を行なう
ことができる。
On the other hand, the output data of the buffer BU2 is transferred to the DRAM bit line via the drive circuit TGA1 to the DRAMI.
It is transmitted through the O line DIOa (or * DIOa). Regarding transfer permission signals DTA0, DTA1, DTS1 and DTS0, each of transfer instruction signals DTA and DTS in FIGS. 7 and 8 may be regarded as two pulse signals. With this configuration, data transfer from DRAM to SRAM and data transfer from SRAM to DRAM can be performed in parallel, and efficient data transfer can be performed.

【0174】転送許可信号DTA0,DTA1,DTS
1,DTS1の発送タイミングはDRAMからSRAM
とSRAMからDRAMへのデータ転送が一部重複する
ように決定されてもよい。データ転送動作をより高速で
行なうためにSRAMビット線SBLa(*SBLa)
にクランプ用トランジスタSQ75が設けられ、一方D
RAMIO線DIOa(または*DIOa)にはクラン
プ用トランジスタDQ85が設けられる。トランジスタ
SQ75はSRAMクランプ回路CRSを構成し、トラ
ンジスタDQ85はDRAMIO線クランプ回路CRD
を構成する。この場合、データ転送を受けるとき、ドラ
イブ回路TGS1の駆動トランジスタへクランプトラン
ジスタSQ75から電流が流れ込むのを防止するため
に、このクランプ回路CRSは転送許可信号DTS1の
反転信号によりそのクランプ動作が禁止される。すなわ
ち、トランジスタSQ75のゲートへ信号/DTS1が
与えられる。一方、同様に、DRAMIO線のクランプ
回路CRDは許可信号DTA1の反転信号/DTA1に
よりそのクランプ動作が禁止される。すなわち、トラン
ジスタDQ85のゲートへ信号/DTA1が与えられ
る。
Transfer enable signals DTA0, DTA1, DTS
1, DTS1 shipping timing is from DRAM to SRAM
The data transfer from the SRAM to the DRAM may be determined to partially overlap. SRAM bit line SBLa (* SBLa) for faster data transfer operation
Is provided with a clamp transistor SQ75, while D
A clamp transistor DQ85 is provided on the RAMIO line DIOa (or * DIOa). The transistor SQ75 constitutes the SRAM clamp circuit CRS, and the transistor DQ85 is the DRAM IO line clamp circuit CRD.
Make up. In this case, when receiving data transfer, in order to prevent the current from flowing from the clamp transistor SQ75 to the drive transistor of the drive circuit TGS1, the clamp circuit CRS is prohibited from its clamp operation by the inverted signal of the transfer permission signal DTS1. .. That is, signal / DTS1 is applied to the gate of transistor SQ75. On the other hand, similarly, the clamp operation of the clamp circuit CRD of the DRAMIO line is prohibited by the inverted signal / DTA1 of the enable signal DTA1. That is, signal / DTA1 is applied to the gate of transistor DQ85.

【0175】この構成により、低消費電流でデータ転送
を効率的に行なうことができる。他の構成および動作は
先に図1ないし図9で示したものと同様である。
With this structure, data transfer can be efficiently performed with low current consumption. Other configurations and operations are similar to those shown in FIGS. 1 to 9 above.

【0176】図10に示す双方向転送ゲートの場合、1
データ転送サイクルでは、SRAMアレイにおける選択
されたメモリセルとDRAMアレイの選択されたメモリ
セルとデータを交換することができるだけである。キャ
ッシュミス時においては、キャッシュミスのメモリセル
データをDRAMの対応のデータメモリセルへ書込み、
また外部演算装置(外部CPU)がアクセス要求したD
RAMのメモリセルのデータを対応のSRAMセルへ書
込むことが必要となる。この場合いわゆるコピーバック
動作が実行される。
In the case of the bidirectional transfer gate shown in FIG. 10, 1
The data transfer cycle can only exchange data with selected memory cells in the SRAM array and selected memory cells in the DRAM array. At the time of cache miss, write the memory cell data of cache miss to the corresponding data memory cell of DRAM,
In addition, D requested by the external computing device (external CPU) for access
It is necessary to write the data of the memory cell of the RAM to the corresponding SRAM cell. In this case, a so-called copy back operation is executed.

【0177】通常このときには、SRAMのキャッシュ
ミスしたメモリセルデータを格納するDRAMのメモリ
セルと、外部CPUがアクセスしたデータを格納するD
RAMセルとが異なっている。このときにはDRAMへ
2度アクセスしてメモリセルを選択する必要がある。こ
の動作を高速で行なうためにいわゆる「ファーストコピ
ーバック」と呼ばれる動作モードがある。このファース
トコピーバックのデータ転送モードは1サイクルでDR
AMのデータをSRAMへ格納し、SRAMからデータ
を読出すデータ転送モードである。このファーストコピ
ーバックモードを実現する双方向転送ゲートについて説
明する。
Normally, at this time, the DRAM memory cell for storing the cache miss memory cell data of the SRAM and the D for storing the data accessed by the external CPU.
It is different from a RAM cell. At this time, it is necessary to access the DRAM twice and select the memory cell. In order to perform this operation at high speed, there is an operation mode called "first copy back". The data transfer mode of this first copy back is DR in one cycle.
This is a data transfer mode in which the AM data is stored in the SRAM and the data is read from the SRAM. A bidirectional transfer gate that realizes the first copy back mode will be described.

【0178】図11は双方向転送ゲートBTGのさらに
他の構成を示す図である。図11(A)はこのファース
トコピーバック動作を実現する双方向転送ゲートの構成
をブロック図で示し、図11(B)はその詳細な回路構
成を示す。
FIG. 11 is a diagram showing still another structure of the bidirectional transfer gate BTG. FIG. 11A is a block diagram showing the configuration of a bidirectional transfer gate that realizes this first copy back operation, and FIG. 11B shows its detailed circuit configuration.

【0179】図11(A)において、双方向転送ゲート
BTGは、転送制御信号DTLに応答してSRAMビッ
ト線SBLa,*SBLaをラッチ回路1811へ接続
するゲート回路1810と、転送制御信号DTAに応答
してラッチ回路1811のラッチデータをDRAMIO
線DIOaおよび*DIOaへ伝達するゲート回路18
12と、転送制御信号DTSに応答してDRAMIO線
DIOa,*DIOa上の信号電位を増幅するアンプ回
路1814と、転送制御信号DTSに応答してアンプ回
路1814で増幅されたデータをSRAMビット線SB
La,*SBLaへ伝達するゲート回路1815を含
む。
In FIG. 11A, a bidirectional transfer gate BTG is responsive to a transfer control signal DTL and a gate circuit 1810 for connecting SRAM bit lines SBLa, * SBLa to a latch circuit 1811 and a transfer control signal DTA. The latched data of the latch circuit 1811 to DRAMIO
Gate circuit 18 transmitting to lines DIOa and * DIOa
12, an amplifier circuit 1814 that amplifies the signal potential on the DRAM IO lines DIOa and * DIOa in response to the transfer control signal DTS, and the data amplified by the amplifier circuit 1814 in response to the transfer control signal DTS to the SRAM bit line SB.
A gate circuit 1815 for transmitting to La and * SBLa is included.

【0180】ゲート回路1812は、転送制御信号DT
Aに応答して活性化され、SRAMアレイからのデータ
(ラッチ回路1811にラッチされている)をDRAM
アレイへ複数ビットのブロック単位で一括してデータ転
送を行なう際のタイミング調整のために用いられる。同
様にして、ゲート回路1815はDRAMアレイからS
RAMアレイへ複数ビットのブロック単位で一括してデ
ータ転送を行なう際のタイミング調整のために用いられ
る。
The gate circuit 1812 uses the transfer control signal DT.
When activated in response to A, the data (latched in the latch circuit 1811) from the SRAM array is transferred to the DRAM.
It is used for timing adjustment when collectively transferring data to the array in units of blocks of multiple bits. Similarly, the gate circuit 1815 is connected to the S from the DRAM array.
It is used for timing adjustment when collectively transferring data to the RAM array in units of blocks of a plurality of bits.

【0181】図11(B)において、ゲート回路181
0は、SRAMビット線SBLa,*SBLa上の信号
電位を増幅するnチャネルMOSトランジスタT10
2,T103と、転送制御信号DTLに応答して導通状
態となり、トランジスタT102,T103で増幅され
たデータをラッチ回路1811へ伝達するnチャネルM
OSトランジスタT100,T101を含む。トランジ
スタT102はそのゲートがSRAMビット線SBLa
に接続され、その一方導通端子が接地電位Vssに接続
され、その他方導通端子がトランジスタT100の一方
導通端子に接続される。トランジスタT103は、その
ゲートがSRAMビット線*SBLaに接続され、その
一方導通端子が接地電位Vssに接続され、その他方導
通端子がトランジスタT101の一方導通端子に接続さ
れる。
In FIG. 11B, the gate circuit 181
0 is an n-channel MOS transistor T10 that amplifies the signal potential on the SRAM bit lines SBLa and * SBLa.
2, T103, and an n-channel M that becomes conductive in response to the transfer control signal DTL and transmits the data amplified by the transistors T102 and T103 to the latch circuit 1811.
It includes OS transistors T100 and T101. The gate of the transistor T102 is the SRAM bit line SBLa.
, And one conduction terminal thereof is connected to the ground potential Vss, and the other conduction terminal thereof is connected to one conduction terminal of the transistor T100. Transistor T103 has its gate connected to SRAM bit line * SBLa, one conduction terminal thereof connected to ground potential Vss, and the other conduction terminal thereof connected to one conduction terminal of transistor T101.

【0182】ラッチ回路1811はそれぞれの入力が他
方の出力に接続されたインバータ回路HA10,HA1
1を含む。インバータ回路HA11およびHA10はイ
ンバータラッチを構成する。ラッチ回路1811はさら
に、インバータラッチ(インバータ回路HA10および
HA11で構成される)のラッチデータを反転するイン
バータ回路HA12およびHA13を含む。
The latch circuit 1811 has inverter circuits HA10 and HA1 whose inputs are connected to the outputs of the other.
Including 1. Inverter circuits HA11 and HA10 form an inverter latch. Latch circuit 1811 further includes inverter circuits HA12 and HA13 that invert the latch data of an inverter latch (composed of inverter circuits HA10 and HA11).

【0183】ゲート回路1812は、DRAMIO線D
IOaへデータを伝達するためのゲート回路1812b
と、DRAMIO線*DIOaへデータを伝達するため
のゲート回路1812aを含む。ゲート回路1812a
は、nチャネルMOSトランジスタT105から構成さ
れ、ゲート回路1812bはnチャネルMOSトランジ
スタT106から構成される。トランジスタT105お
よびT106のゲートへ転送制御信号DTAが与えられ
る。
The gate circuit 1812 is used for the DRAM IO line D.
Gate circuit 1812b for transmitting data to IOa
And a gate circuit 1812a for transmitting data to DRAMIO line * DIOa. Gate circuit 1812a
Is composed of an n-channel MOS transistor T105, and the gate circuit 1812b is composed of an n-channel MOS transistor T106. Transfer control signal DTA is applied to the gates of transistors T105 and T106.

【0184】アンプ回路1814は、DRAMIO線*
DIOa上の電位を増幅するためのnチャネルMOSト
ランジスタT113と、転送制御信号DTSに応答して
オン状態となり、トランジスタT113で増幅されたデ
ータをノードN100へ伝達するnチャネルMOSトラ
ンジスタT112と、転送制御信号DTSに応答してノ
ードN110を電源電位Vccにプリチャージするnチ
ャネルMOSトランジスタT111と、電源電位Vcc
とノードN100との間にトランジスタT111と並列
に接続されるpチャネルMOSトランジスタT110を
含む。
The amplifier circuit 1814 uses the DRAM IO line *.
An n-channel MOS transistor T113 for amplifying the potential on DIOa, an n-channel MOS transistor T112 which is turned on in response to the transfer control signal DTS, and which transfers the data amplified by the transistor T113 to the node N100, and a transfer control. N channel MOS transistor T111 for precharging node N110 to power supply potential Vcc in response to signal DTS, and power supply potential Vcc
And a node N100, a p-channel MOS transistor T110 connected in parallel with transistor T111 is included.

【0185】アンプ回路1814は、また、DRAMI
O線DIOa上の信号電位を増幅するためのnチャネル
MOSトランジスタT117と、転送制御信号DTSに
応答してオン状態となり、トランジスタT117で増幅
されたDRAMIO線DIOa上の信号電位をノードN
110へ伝達するnチャネルMOSトランジスタT11
6と、転送制御信号DTSに応答してノードN110を
電源電位VccにプリチャージするpチャネルMOSト
ランジスタT114と、電源電位VccとノードN11
0との間にトランジスタT114と並列に接続されるp
チャネルMOSトランジスタT115を含む。
The amplifier circuit 1814 also includes the DRAMI
The n-channel MOS transistor T117 for amplifying the signal potential on the O line DIOa and the ON state in response to the transfer control signal DTS, the signal potential on the DRAM IO line DIOa amplified by the transistor T117 is transferred to the node N.
N-channel MOS transistor T11 transmitting to 110
6, a p-channel MOS transistor T114 for precharging the node N110 to the power supply potential Vcc in response to the transfer control signal DTS, the power supply potential Vcc and the node N11.
P connected in parallel with the transistor T114 between 0 and
It includes a channel MOS transistor T115.

【0186】トランジスタT110はそのゲートがノー
ドN110に接続され、トランジスタT115はそのゲ
ートがノードN100に接続される。トランジスタT1
10とトランジスタT115は差動増幅回路を構成す
る。
Transistor T110 has its gate connected to node N110, and transistor T115 has its gate connected to node N100. Transistor T1
10 and the transistor T115 form a differential amplifier circuit.

【0187】ゲート回路1815は、SRAMビット線
SBLaへデータを転送するためのゲート回路1815
aと、SRAMビット線*SBLaへデータを転送する
ためのゲート回路1815bを含む。ゲート回路181
5aは転送制御信号DTAに応答してオン状態となり、
ノードN100上の信号電位をSRAMビット線SBL
aへ伝達するnチャネルMOSトランジスタT120を
含む。ゲート回路1815bは、転送制御信号DTSに
応答してオン状態となり、ノードN110上の信号電位
をSRAMビット線*SBLaへ伝達するnチャネルM
OSトランジスタT121を含む。次にこの双方向転送
ゲートの動作について説明する。
Gate circuit 1815 is a gate circuit 1815 for transferring data to SRAM bit line SBLa.
a and a gate circuit 1815b for transferring data to the SRAM bit line * SBLa. Gate circuit 181
5a is turned on in response to the transfer control signal DTA,
The signal potential on the node N100 is applied to the SRAM bit line SBL
It includes an n-channel MOS transistor T120 transmitting to a. The gate circuit 1815b is turned on in response to the transfer control signal DTS, and transmits the signal potential on the node N110 to the SRAM bit line * SBLa n channel M.
It includes an OS transistor T121. Next, the operation of this bidirectional transfer gate will be described.

【0188】図11に示す双方向転送ゲートは2つの動
作サイクルを含む。第1の動作サイクルでは、SRAM
アレイの選択されたメモリセルのデータをラッチ回路1
811でラッチしかつ同時にDRAMアレイの選択され
たメモリセルデータをSRAMアレイの該選択されたメ
モリセルへ書込む動作が行なわれる。第2のサイクルに
おいては、ラッチ回路1811にラッチされたデータが
DRAMアレイの別の選択されたメモリセルへ伝達され
る。まず、図12を参照してこの第1の動作サイクルに
ついて説明する。
The bidirectional transfer gate shown in FIG. 11 includes two operation cycles. In the first operation cycle, the SRAM
Latch circuit 1 for data of a selected memory cell in the array
The operation of latching at 811 and simultaneously writing the selected memory cell data of the DRAM array to the selected memory cell of the SRAM array is performed. In the second cycle, the data latched by latch circuit 1811 is transmitted to another selected memory cell in the DRAM array. First, the first operation cycle will be described with reference to FIG.

【0189】時刻t1以前において、DRAMはプリチ
ャージサイクルを完了しメモリサイクルに入る。DRA
Mにおいては与えられた内部行アドレスに従ってDRA
Mワード線DWLが選択される。
Before time t1, the DRAM completes the precharge cycle and enters the memory cycle. DRA
In M, DRA according to the given internal row address
M word line DWL is selected.

【0190】時刻t1において、DRAMワード線DW
Lが選択状態となりその電位が“H”へ上昇する。これ
に応答してDRAMビット線対DBL上の信号電位が変
化すると、時刻t2およびt3においてセンスアンプ駆
動信号SANおよび/SAPがそれぞれ活性化され、D
RAMビット線対上の信号電位が読出されたメモリセル
のデータに対応した電位レベルとなる。
At time t1, DRAM word line DW
L becomes the selected state and its potential rises to "H". When the signal potential on DRAM bit line pair DBL changes in response to this, sense amplifier drive signals SAN and / SAP are activated at times t2 and t3, respectively, and D
The signal potential on the RAM bit line pair becomes a potential level corresponding to the data of the read memory cell.

【0191】SRAMにおいては、時刻ts1において
SRAMワード線SWLが選択され、この選択ワード線
SWLに接続されるメモリセルのデータが対応のSRA
Mビット線対SBLへ伝達される。SRAMビット線対
SBL上の信号電位が確定すると、時刻ts2において
転送制御信号DTLが“H”へ立上がり、ゲート回路1
810が活性化され、SRAMビット線対SBL上の信
号電位がラッチ回路1811へ伝達される。
In the SRAM, the SRAM word line SWL is selected at time ts1, and the data of the memory cell connected to this selected word line SWL corresponds to the corresponding SRA.
It is transmitted to the M bit line pair SBL. When the signal potential on SRAM bit line pair SBL is determined, transfer control signal DTL rises to "H" at time ts2, and gate circuit 1
810 is activated, and the signal potential on the SRAM bit line pair SBL is transmitted to the latch circuit 1811.

【0192】すなわち図11(B)に示す回路構成にお
いて転送制御信号DTLに応答してトランジスタT10
0およびT101がオン状態となり、トランジスタT1
02およびT103の一方がオン状態となりかつ他方が
オフ状態となり、このオン状態のトランジスタ(T10
2またはT103)を介して“L”の電位がラッチ回路
1811へ伝達される。ラッチ回路1811はこの与え
られた“L”の信号電位を対応のノードにラッチする。
That is, in the circuit structure shown in FIG. 11B, the transistor T10 responds to the transfer control signal DTL.
0 and T101 are turned on and the transistor T1
02 and T103 are turned on and the other is turned off, the transistor (T10
2 or T103), the potential of "L" is transmitted to the latch circuit 1811. The latch circuit 1811 latches the supplied “L” signal potential to the corresponding node.

【0193】DRAMにおいてはこのラッチ回路181
1によるデータラッチ動作と並行してDRAMビット線
対DBLの選択が行なわれ、時刻t4において列選択信
号CSLiが“H”に立上がる。これにより選択された
DRAMビット線対DBL上の信号電位がDRAMIO
線対DIO上へ伝達される。
In the DRAM, this latch circuit 181
The DRAM bit line pair DBL is selected in parallel with the data latch operation by 1, and the column selection signal CSLi rises to "H" at time t4. As a result, the signal potential on the selected DRAM bit line pair DBL is
It is transmitted onto the line pair DIO.

【0194】時刻t5において、DRAMIO線対DI
O上の信号電位が確定すると、転送制御信号DTSが
“H”に立上がる。これによりアンプ回路1814が活
性化されてDRAMIO線対DIO上の信号電位を増幅
しゲート回路1815へ伝達する。ゲート回路1815
はこの転送制御信号DTSに応答して活性化され、アン
プ回路1814で増幅されたデータをSRAMビット線
対SBL上へ伝達する。
At time t5, DRAMIO line pair DI
When the signal potential on O is determined, the transfer control signal DTS rises to "H". As a result, amplifier circuit 1814 is activated to amplify the signal potential on DRAMIO line pair DIO and transmit it to gate circuit 1815. Gate circuit 1815
Is activated in response to the transfer control signal DTS, and transmits the data amplified by the amplifier circuit 1814 onto the SRAM bit line pair SBL.

【0195】すなわち、図11(B)において、転送制
御信号DTSに応答してトランジスタT111およびT
114がオフ状態となり、ノードN100およびN11
0のプリチャージを停止する。一方、トランジスタT1
10およびT115がトランジスタT112およびT1
16を介して伝達されたDRAMIO線DIOaおよび
*DIOa上の信号電位を差動的に増幅する。これによ
り、ノードN100およびN110の信号電位がDRA
MIO線*DIOaおよびDIOa上の信号電位を反転
した電位となる。
That is, in FIG. 11B, the transistors T111 and T111 are responsive to the transfer control signal DTS.
114 is turned off and nodes N100 and N11
Stop precharge to 0. On the other hand, the transistor T1
10 and T115 are transistors T112 and T1.
The signal potentials on DRAMIO lines DIOa and * DIOa transmitted via 16 are differentially amplified. As a result, the signal potentials of the nodes N100 and N110 become DRA.
It becomes a potential obtained by inverting the signal potential on the MIO lines * DIOa and DIOa.

【0196】たとえば、今、DRAMIO線DIOa上
の信号電位が“H”、DRAMIO線*DIOa上の信
号電位が“L”の場合を考える。このとき、トランジス
タT117がオン状態、トランジスタT113がオフ状
態となり、ノードN110の電位が“L”となり、ノー
ドN100の電位は“H”となる。このノードN110
の“L”の電位はトランジスタT110をオン状態と
し、ノードN100の“H”の電位はトランジスタT1
15をオフ状態とする。トランジスタT110およびT
115によりノードN100およびN110の信号電位
が差動的に増幅されかつラッチされる。
Consider, for example, the case where the signal potential on DRAMIO line DIOa is "H" and the signal potential on DRAMIO line * DIOa is "L". At this time, the transistor T117 is turned on, the transistor T113 is turned off, the potential of the node N110 becomes “L”, and the potential of the node N100 becomes “H”. This node N110
Potential of "L" turns on the transistor T110, and potential of "H" at the node N100 changes to the transistor T1.
15 is turned off. Transistors T110 and T
The signal potentials of nodes N100 and N110 are differentially amplified and latched by 115.

【0197】このアンプ回路1814における増幅動作
と並行してゲート回路1815aおよび1815bのト
ランジスタT120およびT121がオン状態となり、
ノードN100上の信号電位がSRAMビット線SBL
a上へ、ノードN110上の信号電位がSRAMビット
線*SBLa上へ伝達される。このとき、転送制御信号
DTAは“L”に固定されているため、ゲート回路18
12aおよび1812bは閉状態であり、ラッチ回路1
811でラッチされたデータはDRAMIO線DIOa
および*DIOaへは伝達されない。
In parallel with the amplification operation in the amplifier circuit 1814, the transistors T120 and T121 of the gate circuits 1815a and 1815b are turned on,
The signal potential on the node N100 is the SRAM bit line SBL
The signal potential on node N110 is transmitted onto SRAM bit line * SBLa. At this time, since the transfer control signal DTA is fixed at "L", the gate circuit 18
12a and 1812b are in the closed state, and the latch circuit 1
The data latched at 811 is the DRAM IO line DIOa.
And * DIOa are not transmitted.

【0198】時刻t6においてDRAMワード線DWL
の電位が“L”に立上がり、ほぼ同じタイミングで転送
制御信号DTSが“L”に立下がる。これにより、SR
AMビット線対SBLに設けられていたクランプ回路C
RSが活性化され、SRAMビット線対SBLの電位が
クランプ回路CRSによりその“L”レベルが接地電位
Vssのレベルよりも上昇する。
At time t6, DRAM word line DWL
Rises to "L" and the transfer control signal DTS falls to "L" at almost the same timing. This makes SR
Clamp circuit C provided in the AM bit line pair SBL
RS is activated, and the "L" level of the potential of the SRAM bit line pair SBL rises above the level of the ground potential Vss by the clamp circuit CRS.

【0199】時刻t7においてDRAMは、そのメモリ
サイクルが完了しプリチャージ期間へ入る。SRAMに
おいては時刻ts4においてSRAMワード線SWLの
電位が“L”に立下がり1つのサイクルが完了する。
At time t7, the DRAM completes its memory cycle and enters the precharge period. In SRAM, the potential of SRAM word line SWL falls to "L" at time ts4, and one cycle is completed.

【0200】この時刻t5において転送制御信号DTS
が“H”へ立上がることにより、SRAMビット線SB
Laおよび*SBLaに設けられていたクランプ用トラ
ンジスタSQ70およびSQ80がオフ状態となる。図
11(B)に示す構成においてトランジスタT120、
T112およびT113の経路またはトランジスタT1
21およびT116およびT117の経路を介してクラ
ンプトランジスタSQ70またはSQ80から貫通電流
は流れず、消費電流が低減される。時刻t6において転
送制御信号DTSが“L”に立下がるとトランジスタT
120およびT121がオフ状態となるため、クランプ
回路CRSが再び活性化されてもSRAMビット線クラ
ンプ用トランジスタSQ70およびSQ80からこの双
方向転送ゲートBTG内へ流れる貫通電流の経路が遮断
される。
At time t5, transfer control signal DTS
Rises to "H", the SRAM bit line SB
The clamp transistors SQ70 and SQ80 provided in La and * SBLa are turned off. In the structure shown in FIG. 11B, the transistor T120,
Path of T112 and T113 or transistor T1
Through current does not flow from clamp transistor SQ70 or SQ80 through the paths 21 and T116 and T117, and the current consumption is reduced. When the transfer control signal DTS falls to "L" at time t6, the transistor T
Since 120 and T121 are turned off, even if the clamp circuit CRS is activated again, the path of the through current flowing from the SRAM bit line clamping transistors SQ70 and SQ80 into the bidirectional transfer gate BTG is cut off.

【0201】転送制御信号DTSが“L”に立下がった
時刻t6以降の時点においてはDRAMアレイとSRA
Mアレイとは分離され、SRAMアレイへアクセスする
ことができ、DRAMアレイから転送されたデータを高
速で読出すことができる。
At and after time t6 when transfer control signal DTS falls to "L", the DRAM array and SRA
Separated from the M array, the SRAM array can be accessed, and the data transferred from the DRAM array can be read at high speed.

【0202】上述のようにラッチ回路181を設けるこ
とにより、キャッシュミス時において、外部処理装置
(たとえばCPU)がアクセス要求したデータをDRA
MからSRAMへ転送して高速で読出すことができ、キ
ャッシュミス時におけるアクセス時間を短縮することが
できる。
By providing the latch circuit 181 as described above, in the case of a cache miss, the data requested by the external processing device (eg, CPU) to access is DRAed.
The data can be transferred from M to the SRAM and read at high speed, and the access time at the time of a cache miss can be shortened.

【0203】次いで、このSRAMアレイからラッチ回
路1811へ伝達されたデータがDRAMへ伝達される
第2のサイクルが実行される。この第2の動作サイクル
の動作についてその動作波形図である図1、図11およ
び図13を参照して説明する。
Then, the second cycle in which the data transmitted from the SRAM array to latch circuit 1811 is transmitted to the DRAM is executed. The operation of the second operation cycle will be described with reference to the operation waveform charts of FIGS. 1, 11, and 13.

【0204】DRAMにおいては、時刻t5までは先の
図12に示す場合と同様の動作が行なわれ、DRAMビ
ット線対DBL上のデータがDRAMIO線対DIO上
へ伝達される。
In the DRAM, the operation similar to that shown in FIG. 12 is performed until time t5, and the data on DRAM bit line pair DBL is transmitted to DRAM IO line pair DIO.

【0205】時刻t5において転送制御信号DTAが
“H”に立上がる。この転送サイクルにおいては転送制
御信号DTSおよびDTLは共に“L”である。この転
送制御信号DTAに応答して図11(A)に示すゲート
回路1812が導通状態となる。すなわち、図11
(B)においてトランジスタT105およびT106が
オン状態となり、ラッチ回路1811にラッチされてい
たデータがDRAMIO線対DIO上へ伝達される。こ
のとき、DRAMIO線対DIOに設けられているクラ
ンプ回路CRDは不活性状態となり、そのクランプ動作
は禁止されている。これにより、DRAMIO線対DI
Oおよび上の信号電位はラッチ回路1811にラッチさ
れていたデータに対応した“H”および“L”レベルと
なる。
At time t5, transfer control signal DTA rises to "H". In this transfer cycle, transfer control signals DTS and DTL are both "L". In response to the transfer control signal DTA, the gate circuit 1812 shown in FIG. 11A becomes conductive. That is, FIG.
In (B), the transistors T105 and T106 are turned on, and the data latched by the latch circuit 1811 is transmitted onto the DRAMIO line pair DIO. At this time, the clamp circuit CRD provided in the DRAMIO line pair DIO is inactivated, and its clamp operation is prohibited. As a result, the DRAMIO line pair DI
The signal potentials of O and above become "H" and "L" levels corresponding to the data latched by the latch circuit 1811.

【0206】このとき、転送制御信号DTAが“H”で
あるため、図1に示すクランプトランジスタDQ70お
よびDQ80はオフ状態にある。これにより、DRAM
IO線DIOa、トランジスタT106およびインバー
タ回路HA13(図11(B)参照)またはDRAMI
O線*DIOa、トランジスタT105およびインバー
タ回路HA12(図11(B)参照)を介したクランプ
電流(貫通電流)が流れる経路は遮断されており、消費
電流が低減される。
At this time, since the transfer control signal DTA is "H", the clamp transistors DQ70 and DQ80 shown in FIG. 1 are off. This allows the DRAM
IO line DIOa, transistor T106 and inverter circuit HA13 (see FIG. 11B) or DRAMI
The path through which the clamp current (through current) flows via the O line * DIOa, the transistor T105, and the inverter circuit HA12 (see FIG. 11B) is cut off, and the current consumption is reduced.

【0207】このDRAMIO線対DIO上へ転送され
たラッチ回路1811からのデータは列選択信号CSL
iにより選択されたDRAMビット線対DBLへ伝達さ
れ、DRAMビット線対DBLの電位がラッチ回路18
11からDRAMIO線対DIOを介して伝達された信
号電位に対応した値となる。
The data from the latch circuit 1811 transferred onto the DRAMIO line pair DIO is the column selection signal CSL.
It is transmitted to the DRAM bit line pair DBL selected by i, and the potential of the DRAM bit line pair DBL is latched by the latch circuit 18.
It has a value corresponding to the signal potential transmitted from 11 through the DRAMIO line pair DIO.

【0208】時刻t6においてDRAMワード線DWL
の電位が立下がり、ほぼ同様のタイミングで転送制御信
号DTAも“L”へ立下がる。これによりDRAMIO
線対DIOに設けられていたクランプ回路CRDが再び
活性化され、このDRAMIO線対DIOの“L”の電
位レベルが上昇する。
At time t6, DRAM word line DWL
Potential falls, and the transfer control signal DTA also falls to "L" at almost the same timing. This allows DRAMIO
The clamp circuit CRD provided for the line pair DIO is activated again, and the potential level of "L" of the DRAMIO line pair DIO rises.

【0209】時刻t7においてDRAMのメモリサイク
ルが完了し、列選択信号CSLiも続いて“L”に立下
がり、DRAMIO線対DIOの電位レベルはクランプ
回路CRDが決定する“H”レベルとなる。
At time t7, the memory cycle of the DRAM is completed, the column selection signal CSLi subsequently falls to "L", and the potential level of the DRAM IO line pair DIO becomes "H" level determined by the clamp circuit CRD.

【0210】この転送サイクルにおいては、転送制御信
号DTSおよびDTLは共に“L”である。したがっ
て、DRAMアレイとSRAMアレイとは分離されてい
る。DRAMとSRAMとは互いに独立にアドレスを設
定することができる。したがって、このラッチ回路18
11からDRAMアレイへのデータ転送時においては、
SRAMにおいてこの転送動作と独立に、SRAMセル
へアクセスし、データの書込/読出を実行することがで
きる。すなわち、SRAMにおいては、外部アクセスに
従って、時刻ts1によりワード線SWLの選択が行な
われ、SRAMビット線対SBLの電位がクランプ回路
CRSによりクランプされた電位レベルから選択された
メモリセルデータに応じて変化し、この選択されたメモ
リセルへのアクセスおよびデータの読出が実行される。
In this transfer cycle, transfer control signals DTS and DTL are both at "L". Therefore, the DRAM array and the SRAM array are separated. Addresses can be set in the DRAM and SRAM independently of each other. Therefore, this latch circuit 18
When transferring data from 11 to the DRAM array,
In the SRAM, the SRAM cell can be accessed and data writing / reading can be executed independently of this transfer operation. That is, in SRAM, word line SWL is selected at time ts1 in accordance with external access, and the potential of SRAM bit line pair SBL changes from the potential level clamped by clamp circuit CRS according to the selected memory cell data. Then, access to the selected memory cell and data reading are executed.

【0211】時刻ts4においてSRAMワード線SW
Lの電位は“L”に立下がり、SRAMビット線対SB
Lの電位レベルはクランプ回路CRSが決定する電位レ
ベルへ復帰する。
At time ts4, SRAM word line SW
The potential of L falls to "L", and the SRAM bit line pair SB
The potential level of L returns to the potential level determined by the clamp circuit CRS.

【0212】上述のように、ラッチ回路1811からD
RAMアレイへのデータ転送時にDRAMIO線対DI
Oに設けられたクランプ回路CRDのクランプ動作を禁
止することによりクランプ電流が双方向転送ゲートの駆
動トランジスタ(図11(B)におけるインバータ回路
HA12およびHA13の放電用トランジスタ)へ流れ
込むことがなくなり消費電流が低減される。DRAMに
おいて選択ゲートSGを構成するトランジスタのオン抵
抗値は比較的大きくされている。したがってクランプ回
路CRDの動作時において、このクランプトランジスタ
DQ70およびDQ80から選択されたDRAMビット
線対へ流れ込む電流は極めて小さい。一方、双方向転送
ゲートBTGに含まれるデータ転送用の駆動回路はその
駆動能力が十分に大きくされている。DRAMIO線D
IOa,*DIOaの高速の充放電および選択されたD
RAMビット線対のセンスアンプDSAのラッチデータ
の反転を行なう必要がある。したがって、このクランプ
回路CRDから双方向転送ゲートの駆動トランジスタへ
流れ込む電流は遙かに大きく、無視できない値となる。
これは複数ビット単位でブロック単位のデータ一括転送
が行なわれるとき無視できない値となる。したがって上
述のようにデータ転送時においてデータ転送を受ける側
のクランプ回路のクランプ動作を禁止することにより、
消費電流を大幅に低減することが可能となる。
As described above, the latch circuits 1811 to D
DRAMIO line pair DI during data transfer to RAM array
By prohibiting the clamp operation of the clamp circuit CRD provided in O, the clamp current does not flow into the drive transistor of the bidirectional transfer gate (the discharge transistor of the inverter circuits HA12 and HA13 in FIG. 11B) and the consumption current is reduced. Is reduced. In the DRAM, the on resistance value of the transistor forming the selection gate SG is relatively large. Therefore, when the clamp circuit CRD operates, the current flowing from the clamp transistors DQ70 and DQ80 to the selected DRAM bit line pair is extremely small. On the other hand, the drive circuit for data transfer included in the bidirectional transfer gate BTG has a sufficiently large drive capability. DRAMIO line D
High-speed charging / discharging of IOa and * DIOa and selected D
It is necessary to invert the latch data of the sense amplifier DSA of the RAM bit line pair. Therefore, the current flowing from the clamp circuit CRD to the drive transistor of the bidirectional transfer gate is much larger and has a non-negligible value.
This is a non-negligible value when a block-unit data batch transfer is performed in units of a plurality of bits. Therefore, as described above, by prohibiting the clamp operation of the clamp circuit on the data receiving side during data transfer,
It is possible to significantly reduce current consumption.

【0213】図14は、この発明の他の実施例であるC
DRAMの要部の構成を示す図である。図14に示すC
DRAMは、高速のデータ転送、キャッシュミス時にお
ける高速のデータ読出および高速コピーバックモードを
実現する。図14においては1つのメモリブロックに関
連する部分の構成のみが示される。
FIG. 14 shows another embodiment C of the present invention.
It is a figure which shows the structure of the principal part of DRAM. C shown in FIG.
The DRAM realizes high-speed data transfer, high-speed data read at the time of cache miss, and high-speed copyback mode. In FIG. 14, only the configuration of the portion related to one memory block is shown.

【0214】DRAMにおいてはデータ読出経路とデー
タ書込経路とが別々に設けられ、DRAMはIO分離構
造を備える。このため、グローバルIO線は、図5に示
す構成と異なり、DRAMアレイから読出されたデータ
を伝達するためのグローバル読出線対GOLaおよびG
OLbと、DRAMアレイへの書込データを伝達するた
めのグローバル書込線対GILaおよびGILbを含
む。グローバル読出線対GOLaとグローバル書込線対
GILaが互いに並行に配列され、グローバル読出線対
GOLbとグローバル書込線対GILbとが互いに並行
に配列される。このグローバル読出線対GOL(グロー
バル読出線対を総称的に示す)とグローバル書込線対G
IL(グローバル書込線対を総称的に示す)が図5に示
すグローバルIO線対GIOに対応する。
In the DRAM, a data read path and a data write path are separately provided, and the DRAM has an IO separation structure. Therefore, unlike the structure shown in FIG. 5, global IO line has global read line pairs GOLa and G for transmitting the data read from the DRAM array.
It includes OLb and a global write line pair GILa and GILb for transmitting write data to the DRAM array. Global read line pair GOLa and global write line pair GILa are arranged in parallel with each other, and global read line pair GOLb and global write line pair GILb are arranged in parallel with each other. The global read line pair GOL (generally indicates the global read line pair) and the global write line pair G
IL (generally indicates a global write line pair) corresponds to global IO line pair GIO shown in FIG.

【0215】グローバル読出線対GOLaおよびGOL
bにそれぞれ対応してローカル読出線対LOLaおよび
LOLbが設けられる。グローバル書込線対GILaお
よびGILbに対応してローカル書込線対LILaおよ
びLILbが設けられる。
Global read line pair GOLa and GOL
Local read line pairs LOLa and LOLb are provided corresponding to b. Local write line pairs LILa and LILb are provided corresponding to global write line pairs GILa and GILb.

【0216】グローバル読出線対GOLaとローカル読
出線対LOLaとの間に読出ブロック選択信号φRBA
に応答してオン状態となる読出ゲートROGaが設けら
れる。グローバル読出線対GOLbとローカル読出線対
LOLbとの間に読出ブロック選択信号φRBAに応答
してオン状態となる読出ゲートROGbが設けられる。
A read block selection signal φRBA is provided between the global read line pair GOLa and the local read line pair LOLa.
A read gate ROGa that is turned on in response to is provided. A read gate ROGb which is turned on in response to a read block selection signal φRBA is provided between global read line pair GOLb and local read line pair LOLb.

【0217】グローバル書込線対GILaとローカル書
込線対LILbとの間に書込ブロック選択信号φWBA
に応答してオン状態となる書込ブロック選択ゲートWI
Gaが設けられる。グローバル書込線対GILbとロー
カル書込線対LILbとの間に、書込ブロック選択信号
φWBAに応答してオン状態となる書込ブロック選択ゲ
ートWIGbが設けられる。
A write block select signal φWBA is provided between global write line pair GILa and local write line pair LILb.
Write block select gate WI which is turned on in response to
Ga is provided. A write block selection gate WIGb which is turned on in response to a write block selection signal φWBA is provided between global write line pair GILb and local write line pair LILb.

【0218】DRAMビット線対DBLに対して、選択
されたメモリセルデータをローカル読出線対LOLへ伝
達するためのローカル転送ゲートLTGと、選択メモリ
セルをローカル書込線対LILへ接続する書込ゲートI
Gが設けられる。
For the DRAM bit line pair DBL, a local transfer gate LTG for transmitting selected memory cell data to the local read line pair LOL, and a write for connecting the selected memory cell to the local write line pair LIL. Gate I
G is provided.

【0219】ローカル転送ゲートLTGおよび書込ゲー
トIGを選択状態(導通状態)とするために、書込コラ
ム選択線WCSLと読出コラム選択線RCSLが設けら
れる。書込コラム選択線WCSLおよび読出コラム選択
線RCSLは、対をなして並行に配設される。書込コラ
ム選択線WCSL上には、DRAMコラムデコーダから
のデータ書込時に発生される書込コラム選択信号が伝達
される。読出コラム選択線RCSLには、このDRAM
アレイからデータを読出すときにDRAMコラムデコー
ダから発生される読出コラム選択信号が伝達される。書
込コラム選択線WCSLおよび読出コラム選択線RCS
Lはそれぞれ2列を選択するように配置される。この構
成は図5に示す列選択線CSLが書込用の列を選択する
信号線と読出用の列を選択する信号線の2つに分割され
た構成に対応する。
A write column selection line WCSL and a read column selection line RCSL are provided to bring local transfer gate LTG and write gate IG into a selected state (conductive state). Write column select line WCSL and read column select line RCSL form a pair and are arranged in parallel. A write column select signal generated at the time of writing data from the DRAM column decoder is transmitted onto write column select line WCSL. The read column select line RCSL has this DRAM
A read column select signal generated from the DRAM column decoder is transmitted when data is read from the array. Write column select line WCSL and read column select line RCS
L is arranged so as to select two columns each. This structure corresponds to a structure in which the column selection line CSL shown in FIG. 5 is divided into two, a signal line for selecting a writing column and a signal line for selecting a reading column.

【0220】ローカル転送ゲートLTGは、DRAMビ
ット線対DBLの信号を差動的に増幅するトランジスタ
LTR3およびLTR4と、読出コラム選択線RCSL
の信号電位に応答してオン状態となり、このトランジス
タLTR3およびLTR4により増幅された信号をロー
カル読出線対LOLへ伝達するスイッチングトランジス
タLTR1およびLTR2を含む。トランジスタLTR
3およびLTR4の一方端子はたとえば接地電位である
固定電位Vssに接続される。この構成においては、ロ
ーカル転送ゲートLTGはDRAMビット線対DBLの
電位を反転してローカル読出線対LOLへ伝達する。ト
ランジスタLTR3およびLTR4はMOSトランジス
タで構成されており、そのゲートがDRAMビット線対
DBLに接続される。したがって、このローカル転送ゲ
ートLTGは、DRAMビット線対DBL上の信号電位
に悪影響を及ぼすことなくローカル読出線対LOLへD
RAMビット線対DBL上の信号電位を高速で伝達す
る。
Local transfer gate LTG includes transistors LTR3 and LTR4 for differentially amplifying the signal of DRAM bit line pair DBL, and read column select line RCSL.
It includes switching transistors LTR1 and LTR2 which are turned on in response to the signal potential of and transmit the signals amplified by transistors LTR3 and LTR4 to local read line pair LOL. Transistor LTR
One terminal of 3 and LTR4 is connected to a fixed potential Vss, which is a ground potential, for example. In this structure, local transfer gate LTG inverts the potential of DRAM bit line pair DBL and transmits it to local read line pair LOL. Transistors LTR3 and LTR4 are formed of MOS transistors, and their gates are connected to DRAM bit line pair DBL. Therefore, the local transfer gate LTG is driven to the local read line pair LOL without adversely affecting the signal potential on the DRAM bit line pair DBL.
The signal potential on the RAM bit line pair DBL is transmitted at high speed.

【0221】書込ゲートIGは、書込コラム選択線WC
SL上の信号電位に応答してオン状態となり、DRAM
ビット線対DBLをローカル書込線対LILへ接続する
スイッチングトランジスタIGR1およびIGR2を含
む。残りのDRAMにおける構成は図5に示すものと同
様であり、対応する部分には同様の参照番号を付す。
The write gate IG is connected to the write column selection line WC.
In response to the signal potential on SL, it is turned on and the DRAM
It includes switching transistors IGR1 and IGR2 connecting bit line pair DBL to local write line pair LIL. The structure of the remaining DRAM is similar to that shown in FIG. 5, and the corresponding portions bear the same reference numerals.

【0222】双方向転送ゲートBTGaおよびBTGb
はそれぞれグローバル書込線対およびグローバル読出線
対GILおよびGOLに対応して設けられる。この双方
向転送ゲートBTGaおよびBTGbへは転送制御信号
DTL、DTAおよびDTSが与えられる。
Bidirectional transfer gates BTGa and BTGb
Are provided corresponding to a global write line pair and a global read line pair GIL and GOL, respectively. Transfer control signals DTL, DTA and DTS are applied to these bidirectional transfer gates BTGa and BTGb.

【0223】双方向転送ゲートBTGはその構成を後に
説明するが、グローバル読出線対GOLおよびローカル
読出線対LOLの電位をプルアップするためのプルアッ
プ手段を備える。この双方向転送ゲートに含まれるプル
アップ手段はまたクランプ機能を備える。
Bidirectional transfer gate BTG, the structure of which will be described later, includes pull-up means for pulling up the potentials of global read line pair GOL and local read line pair LOL. The pull-up means included in this bidirectional transfer gate also has a clamp function.

【0224】グローバル書込線対GILにはこのグロー
バル書込線対GILの電位をクランプするためのクラン
プ回路CRDWが設けられる。このクランプ回路CRD
Wへは転送制御信号DTAの反転信号/DTAが与えら
れる。このクランプ回路CRDWはまたローカル書込線
対LILに設けられてもよく、両書込線対GILおよび
LILに設けられてもよい。
Global write line pair GIL is provided with a clamp circuit CRDW for clamping the potential of global write line pair GIL. This clamp circuit CRD
An inverted signal / DTA of transfer control signal DTA is applied to W. The clamp circuit CRDW may be provided in the local write line pair LIL or both write line pairs GIL and LIL.

【0225】SRAMアレイにおいては、各SRAMビ
ット線対SBLに対して転送制御信号DTSの反転信号
/DTSに応答してそのクランプ動作が制御されるクラ
ンプ回路CRSが設けられる。
In the SRAM array, each SRAM bit line pair SBL is provided with a clamp circuit CRS whose clamp operation is controlled in response to an inverted signal / DTS of transfer control signal DTS.

【0226】図15は、双方向転送ゲートBTGにおけ
るDRAMアレイからSRAMアレイへのデータ転送を
行なう部分の構成を示す図である。図15を参照して、
双方向転送ゲートのDRAMアレイからSRAMアレイ
へのデータ転送系BTGRは、グローバル読出線GOL
および*GOL(ここで符号GOLおよび*GOLは1
本の信号線を示す)上の信号電位を差動的に増幅するた
めのpチャネルMOSトランジスタTr500およびT
r501と、転送制御信号DTSに応答してグローバル
読出線GOLおよび*GOL上の信号電位をSRAMビ
ット線SBLaおよび*SBLaへ伝達するスイッチン
グトランジスタTr502およびTr503を含む。ト
ランジスタTr500のゲートはまたグローバル読出線
*GOLに結合される。グローバル読出線GOLおよび
*GOLはローカル読出線LOLおよび*LOLへそれ
ぞれ結合される。この図15に示す構成において読出ブ
ロック選択ゲートは省略している。
FIG. 15 shows a structure of a portion of bidirectional transfer gate BTG for transferring data from the DRAM array to the SRAM array. Referring to FIG.
The data transfer system BTGR from the DRAM array of the bidirectional transfer gate to the SRAM array is a global read line GOL.
And * GOL (where the symbols GOL and * GOL are 1
P signal MOS transistors Tr500 and T for differentially amplifying the signal potential on the signal line).
r501, and switching transistors Tr502 and Tr503 for transmitting the signal potentials on global read lines GOL and * GOL to SRAM bit lines SBLa and * SBLa in response to transfer control signal DTS. The gate of transistor Tr500 is also coupled to global read line * GOL. Global read lines GOL and * GOL are coupled to local read lines LOL and * LOL, respectively. In the structure shown in FIG. 15, the read block select gate is omitted.

【0227】この転送ゲート回路部分BTGRは、トラ
ンジスタTr500およびTr501がカレントミラー
回路を構成しており、グローバル読出線GOLおよび*
GOLへ同一の電流量を供給する。
In transfer gate circuit portion BTGR, transistors Tr500 and Tr501 form a current mirror circuit, and global read lines GOL and * are used.
Supply the same amount of current to GOL.

【0228】ローカル転送ゲートLTGにおいて、DR
AMビット線DBLaの電位がビット線*DBLaの電
位よりも高くなったとき、トランジスタLTR4の導電
率がトランジスタLTR3の導電率よりも大きくなる。
読出列選択信号RCSLが“H”の状態においては、し
たがってトランジスタTr500からトランジスタLT
R2およびLTR4を介して流れる電流量がトランジス
タTr501、LTR1およびLTR3を介して流れる
電流量よりも大きくなる。これにより、グローバル読出
線*GOLの電位はグローバル読出線GOLの電位より
も低下する。このグローバル読出線*GOLの電位低下
に応答してトランジスタTr500およびTr501の
導電率がさらに大きくなり、このグローバル読出線GO
Lの電位は“H”レベルへ上昇し、読出線*GOLの電
位は“L”へ低下する。この回路部分BTGRおよびロ
ーカル転送ゲートLTGはカレントミラー型センスアン
プを構成する。このグローバル読出線GOLおよび*G
OLの信号電位が十分に“H”および“L”まで増幅さ
れた後に、転送制御信号DTSが“H”に立上がり、グ
ローバル読出線GOLおよび*GOLの信号電位がSR
AMビット線*SBLaおよびSBLaへそれぞれ伝達
される。
In the local transfer gate LTG, DR
When the potential of the AM bit line DBLa becomes higher than that of the bit line * DBLa, the conductivity of the transistor LTR4 becomes higher than that of the transistor LTR3.
When the read column selection signal RCSL is "H", the transistors Tr500 to LT
The amount of current flowing through R2 and LTR4 becomes larger than the amount of current flowing through transistors Tr501, LTR1 and LTR3. As a result, the potential of the global read line * GOL becomes lower than the potential of the global read line GOL. In response to the decrease in the potential of global read line * GOL, the conductivity of transistors Tr500 and Tr501 further increases, and global read line GO
The potential of L rises to "H" level, and the potential of the read line * GOL falls to "L". The circuit portion BTGR and the local transfer gate LTG form a current mirror type sense amplifier. These global read lines GOL and * G
After the signal potential of OL is sufficiently amplified to "H" and "L", the transfer control signal DTS rises to "H" and the signal potentials of the global read lines GOL and * GOL are SR.
It is transmitted to AM bit lines * SBLa and SBLa, respectively.

【0229】この図15に示す読出ゲートを用いた場
合、DRAMビット線対DBLに微小な電位差が生じた
ときにこのビット線対DBLの電位に悪影響を及ぼすこ
となくこのDRAMビット線対DBLの信号電位をSR
AMビット線対SBLへ伝達することができる。これに
より、高速でDRAMアレイからSRAMアレイへデー
タを転送することができる。
When the read gate shown in FIG. 15 is used, when a minute potential difference occurs in the DRAM bit line pair DBL, the signal of the DRAM bit line pair DBL is not adversely affected without adversely affecting the potential of the bit line pair DBL. SR potential
It can be transmitted to the AM bit line pair SBL. As a result, data can be transferred from the DRAM array to the SRAM array at high speed.

【0230】この状態において、SRAMアレイにおい
てクランプ回路CRSが作動状態にあったとき、トラン
ジスタTr502またはTr503からローカル転送ゲ
ートLTGへ電流が流れ込み、トランジスタLTR4ま
たはLTR3を介して放電される。このクランプ回路C
RSからの流入電流を防止するために、転送制御信号D
TSに応答してSRAMビット線対に設けられたクラン
プ回路CRSのクランプ動作を禁止する。これによりデ
ータ転送時における消費電流の低減を図る。
In this state, when the clamp circuit CRS in the SRAM array is in the operating state, a current flows from the transistor Tr502 or Tr503 to the local transfer gate LTG and is discharged through the transistor LTR4 or LTR3. This clamp circuit C
In order to prevent the inflow current from RS, the transfer control signal D
In response to TS, the clamp operation of the clamp circuit CRS provided for the SRAM bit line pair is prohibited. This reduces the current consumption during data transfer.

【0231】図16は、この双方向転送ゲートBTGの
SRAMアレイからDRAMアレイへのデータ転送を行
なうための回路部分を示す図である。
FIG. 16 shows a circuit portion of the bidirectional transfer gate BTG for transferring data from the SRAM array to the DRAM array.

【0232】図16においてこの回路部分BTGWは、
図11(A)に示すゲート回路1810、ラッチ回路1
811およびゲート回路1812と同様の構成を備え
る。このため図16においては同一の参照番号を付し、
その詳細説明は省略する。DRAMの書込線GILおよ
び/またはLILにはクランプ回路CRDWが設けられ
ている。したがって、SRAMアレイからDRAMアレ
イへのデータ転送時にこのゲート回路1812を介して
ラッチ回路1811に含まれるインバータ回路の放電用
トランジスタを介して貫通電流が流れる。したがってこ
の場合、SRAMアレイからDRAMアレイへのデータ
転送時には、転送制御信号DTAに応答してクランプ回
路CRDWのクランプ動作を禁止する。
In FIG. 16, this circuit portion BTGW is
The gate circuit 1810 and the latch circuit 1 illustrated in FIG.
811 and the gate circuit 1812 are provided. Therefore, in FIG. 16, the same reference numerals are given,
Detailed description thereof will be omitted. A clamp circuit CRDW is provided on the write lines GIL and / or LIL of the DRAM. Therefore, when data is transferred from the SRAM array to the DRAM array, a through current flows through the gate circuit 1812 and the discharging transistor of the inverter circuit included in the latch circuit 1811. Therefore, in this case, when the data is transferred from the SRAM array to the DRAM array, the clamp operation of clamp circuit CRDW is prohibited in response to transfer control signal DTA.

【0233】図17は書込コラム選択信号線WCSLお
よび読出コラム選択信号線RCSLを駆動するための回
路構成を示す図である。図17において、DRAMコラ
ムデコーダ103(図3のコラムデコーダ15に対応)
からのコラム選択線CSLに対して信号線駆動回路51
10が設けられる。信号線駆動回路5110は、DRA
Mコラムデコーダ103からの列選択信号CSLと内部
書込イネーブル信号*Wとを受けるゲート回路5111
と、コラム選択信号CSLとセンス完了信号SCと内部
書込イネーブル信号Wとを受けるゲート回路5112を
含む。ゲート回路5111から読出コラム選択線RCS
Lを駆動するための信号が出力される。ゲート回路51
12から書込コラム選択線WCSLを駆動するための信
号が出力される。
FIG. 17 shows a circuit structure for driving write column select signal line WCSL and read column select signal line RCSL. 17, the DRAM column decoder 103 (corresponding to the column decoder 15 in FIG. 3)
To the column selection line CSL from the signal line drive circuit 51
10 are provided. The signal line driver circuit 5110 is a DRA.
Gate circuit 5111 receiving column selection signal CSL from M column decoder 103 and internal write enable signal * W
And a column circuit 5112 receiving a column selection signal CSL, a sense completion signal SC and an internal write enable signal W. From gate circuit 5111 to read column select line RCS
A signal for driving L is output. Gate circuit 51
A signal for driving write column select line WCSL is output from 12.

【0234】内部書込イネーブル信号*WおよびWは、
外部から与えられる制御信号W♯に応答してクロックK
に同期して内部に取込まれる信号であってもよい。また
所定のタイミングで発生されるワンショットのパルス信
号であってもよい。センス完了信号SCは、DRAMア
レイにおけるセンスアンプDSAのセンス動作の完了を
示す信号であり、センスアンプ活性化信号SANEまた
は/SAPEを所定時間遅延して発生される信号であ
る。この図17に示す構成を用いることにより、DRA
MからSRAMへのデータ書込時には読出コラム選択線
RCSLが選択され、DRAMアレイへのデータ書込
(外部から直接またはSRAMアレイからのデータ転
送)の場合には書込コラム選択線WCSLを選択する構
成が得られる。
Internal write enable signals * W and W are
Clock K in response to externally applied control signal W #
It may be a signal that is taken in in synchronization with. Alternatively, it may be a one-shot pulse signal generated at a predetermined timing. Sense completion signal SC is a signal indicating the completion of the sense operation of sense amplifier DSA in the DRAM array, and is a signal generated by delaying sense amplifier activation signal SANE or / SAPE by a predetermined time. By using the configuration shown in FIG. 17, the DRA
The read column select line RCSL is selected at the time of writing data from M to the SRAM, and the write column select line WCSL is selected in the case of data writing to the DRAM array (data transfer directly from the outside or data transfer from the SRAM array). The configuration is obtained.

【0235】図18は、ブロック選択信号φRBAおよ
びφWBAを発生する回路の構成を示す図である。読出
ブロック選択信号φRBAを発生する回路は、読出コラ
ム選択信号RCSLを所定時間遅延する遅延回路512
0と、遅延回路5120の出力とブロック選択信号φB
A(図5参照)を受けるゲート回路5121を含む。ゲ
ート回路5121から読出ブロック選択信号φRBAが
出力される。
FIG. 18 shows a structure of a circuit generating block select signals φRBA and φWBA. The circuit that generates read block selection signal φRBA is a delay circuit 512 that delays read column selection signal RCSL for a predetermined time.
0, the output of the delay circuit 5120 and the block selection signal φB
A gate circuit 5121 for receiving A (see FIG. 5) is included. Gate circuit 5121 outputs read block selection signal φRBA.

【0236】書込ブロック選択信号φWBAを発生する
ための回路は、書込コラム選択信号WCSLを所定時間
遅延させる遅延回路5130と、遅延回路5130の出
力とブロック選択信号φBAを受けるゲート回路513
1を含む。ゲート回路5131から書込ブロック選択信
号φWBAが発生される。ゲート回路5121および5
131は共にその両入力が“H”となったときに“H”
の信号を発生する。
The circuit for generating write block selection signal φWBA is a delay circuit 5130 for delaying write column selection signal WCSL for a predetermined time, and a gate circuit 513 receiving the output of delay circuit 5130 and block selection signal φBA.
Including 1. Write block selection signal φWBA is generated from gate circuit 5131. Gate circuits 5121 and 5
131 is "H" when both inputs become "H"
Generate the signal.

【0237】上述のDRAMアレイにおけるデータ書込
経路と読出経路とを別々にする構成においては、できる
だけ早くDRAMアレイからSRAMアレイへデータを
転送するのが好ましい。このため、ブロック選択信号φ
RBAおよび読出コラム選択線RCSLをできるだけ早
いタイミングで駆動するのが好ましい。この構成とする
ためには、DRAMアレイとSRAMアレイのアドレス
信号を共有する構成を用いるのが最も効果的である。こ
の構成に従えば、DRAMアレイへの行アドレス信号と
列アドレス信号とのマルチプレクス方式に従って与える
ことができ、読出コラム選択信号RCSLをDRAMア
レイのワード線DWLが選択された直後に発生させ、ロ
ーカル転送ゲートLTGを導通状態とし、DRAMビッ
ト線対DBLをローカル読出線対LOLおよびグローバ
ル読出線対GOLを介して転送ゲートBTGへ結合する
ことができる。
In the above-described structure in which the data write path and the read path in the DRAM array are separate, it is preferable to transfer data from the DRAM array to the SRAM array as soon as possible. Therefore, the block selection signal φ
It is preferable to drive RBA and read column select line RCSL at the earliest possible timing. To achieve this configuration, it is most effective to use a configuration in which the address signals of the DRAM array and the SRAM array are shared. According to this structure, a row address signal and a column address signal can be applied to the DRAM array in accordance with a multiplexing method, a read column selection signal RCSL is generated immediately after the word line DWL of the DRAM array is selected, and the local address signal is generated. Transfer gate LTG can be rendered conductive, and DRAM bit line pair DBL can be coupled to transfer gate BTG via local read line pair LOL and global read line pair GOL.

【0238】次にこの図14に示すCDRAMのデータ
転送動作について説明する。まず図19を参照してDR
AMアレイからSRAMアレイへのデータ転送動作につ
いて説明する。
The data transfer operation of the CDRAM shown in FIG. 14 will be described. First, referring to FIG. 19, DR
The data transfer operation from the AM array to the SRAM array will be described.

【0239】まず時刻t1においてイコライズ信号EQ
が“L”に立下がり、DRAMアレイにおけるプリチャ
ージ状態が完了する。次いで、時刻t2においてDRA
Mワード線DWLが選択され、選択ワード線の電位が立
上がる。一方、時刻ts1においてSRAMアレイにお
いては行選択動作が行なわれており、選択されたSRA
Mワード線SWLの電位が“H”に立上がり、この選択
ワード線に接続されるメモリセルデータがSRAMビッ
ト線SBL上へ伝達される。SRAMビット線対SBL
上の信号電位は転送指示信号DTLに応答して転送ゲー
トに含まれるラッチ手段へ転送されそこでラッチされ
る。
First, at time t1, equalize signal EQ
Falls to "L", and the precharge state in the DRAM array is completed. Next, at time t2, DRA
The M word line DWL is selected and the potential of the selected word line rises. On the other hand, at time ts1, the row selection operation is performed in the SRAM array, and the selected SRA
The potential of M word line SWL rises to "H", and the memory cell data connected to this selected word line is transmitted onto SRAM bit line SBL. SRAM bit line pair SBL
The upper signal potential is transferred to the latch means included in the transfer gate in response to the transfer instruction signal DTL and latched there.

【0240】一方、DRAMにおいては、時刻t2にお
いて選択ワード線DWLの信号電位が“H”に立上が
り、DRAMビット線対DBLの信号電位が十分な大き
さに達すると、時刻t3においてセンスアンプ駆動信号
SANが“L”に立下がり、時刻t4においてセンスア
ンプ駆動信号/SAPが“H”へ立上がる。これによ
り、DRAMビット線対DBLの信号電位がそれぞれ読
出されたデータに対応して“H”と“L”に設定され
る。ローカル転送ゲートLTGはDRAMビット線対D
BLの信号電位を直接受けている。
On the other hand, in the DRAM, when the signal potential of the selected word line DWL rises to "H" at time t2 and the signal potential of the DRAM bit line pair DBL reaches a sufficient level, the sense amplifier drive signal is reached at time t3. SAN falls to "L", and sense amplifier drive signal / SAP rises to "H" at time t4. As a result, the signal potentials of the DRAM bit line pair DBL are set to "H" and "L" corresponding to the respective read data. The local transfer gate LTG is a DRAM bit line pair D
It directly receives the signal potential of BL.

【0241】時刻t3におけるセンスアンプ駆動信号S
ANの立下がり前に、読出コラム選択線WCSLの信号
電位が“H”に立上がる。これにより、DRAMビット
線対DBLに生じたセンス動作前の小さな信号電位の変
化がローカル転送ゲートLTGで高速に増幅され、ロー
カル読出線対LOLへ伝達される。ここで図2は明確に
していないが、図19に示す動作波形図においてはロー
カル読出線LOLおよびグローバル読出線GOLが共に
“H”にプリチャージされている状態を示す。このグロ
ーバル読出線GOLにおいてクランプトランジスタが設
けられていてもよい。これは双方向転送ゲートの回路部
分BTGRにおいてトランジスタTr500およびTr
501と並列にクランプ用のトランジスタを設けること
により実現される。
Sense amplifier drive signal S at time t3
Before the fall of AN, the signal potential of the read column select line WCSL rises to "H". As a result, a small change in signal potential before the sensing operation, which has occurred in the DRAM bit line pair DBL, is rapidly amplified by the local transfer gate LTG and transmitted to the local read line pair LOL. Although not clearly shown in FIG. 2, the operation waveform diagram shown in FIG. 19 shows a state in which both the local read line LOL and the global read line GOL are precharged to “H”. A clamp transistor may be provided in this global read line GOL. This is because the transistors Tr500 and Tr are included in the circuit portion BTGR of the bidirectional transfer gate.
It is realized by providing a clamping transistor in parallel with 501.

【0242】ローカル読出線対LOLへDRAMビット
線対DBLの信号電位が伝達されると、時刻t7′にお
いて、読出ブロック選択信号φRBAが“H”に立上が
る。これにより、ローカル読出線対LOLがグローバル
読出線対GOLへ接続され、DRAMビット線対DBL
へ発生した信号電位変化がグローバル読出線対GOLを
介して転送ゲートBTGへ伝達される。
When the signal potential of DRAM bit line pair DBL is transmitted to local read line pair LOL, read block selection signal φRBA rises to "H" at time t7 '. As a result, the local read line pair LOL is connected to the global read line pair GOL, and the DRAM bit line pair DBL is connected.
The signal potential change generated at is transmitted to the transfer gate BTG via the global read line pair GOL.

【0243】時刻t7′においてグローバル読出線対G
OLの信号電位変化が生じる前に、時刻t3において転
送制御信号DTSが発生される。グローバル読出線対G
OLに発生した信号電位変化は高速でSRAMアレイの
対応のメモリセルへ伝達される。このとき、SRAMア
レイにおいてクランプ回路が動作していれば、グローバ
ル読出線対GOLの信号電位変化が生じる前にクランプ
用トランジスタSQ70およびSQ80を介して電流が
流れ込み、このグローバル読出線対を充電し、ローカル
転送ゲートLTGを介してこのクランプ回路CRSから
貫通電流が流れる。このため、転送制御信号DTSに応
答して、SRAMビット線対のクランプ回路CRSはそ
の動作が停止される。これにより、高速でSRAMビッ
ト線対SBLは双方向転送ゲートに含まれるカレントミ
ラー型回路(トランジスタTr500およびTr50
1)により充放電され、対応のDRAMセルのデータに
対応した電位状態となる。
At time t7 ', global read line pair G
The transfer control signal DTS is generated at time t3 before the change in the signal potential of OL occurs. Global read line pair G
The signal potential change generated in the OL is transmitted at high speed to the corresponding memory cell of the SRAM array. At this time, if the clamp circuit is operating in the SRAM array, a current flows through the clamping transistors SQ70 and SQ80 before the signal potential change of the global read line pair GOL occurs to charge the global read line pair, A through current flows from the clamp circuit CRS via the local transfer gate LTG. Therefore, in response to the transfer control signal DTS, the operation of the clamp circuit CRS for the SRAM bit line pair is stopped. As a result, the SRAM bit line pair SBL can operate at high speed by using the current mirror type circuit (transistors Tr500 and Tr50) included in the bidirectional transfer gate.
It is charged / discharged by 1) and becomes a potential state corresponding to the data of the corresponding DRAM cell.

【0244】したがって、この図19に示す動作波形図
において時刻t5においてDRAMセンスアンプDSA
によるDRAMビット線対DBLの増幅動作(センス動
作)が完了した時点においては、既にSRAMアレイへ
のデータ転送が完了している。
Therefore, in the operation waveform diagram shown in FIG. 19, DRAM sense amplifier DSA at time t5.
By the time the amplification operation (sense operation) of the DRAM bit line pair DBL is completed, the data transfer to the SRAM array has already been completed.

【0245】上述のようにローカル転送ゲートLTGを
設け、DRAMビット線対DBLを直接転送ゲートBT
Gへ接続する構成とすることによりDRAMセンスアン
プDSAのセンスアンプ動作完了を待つことなくデータ
転送を実行することができる。
As described above, the local transfer gate LTG is provided and the DRAM bit line pair DBL is directly connected to the transfer gate BT.
By connecting to G, data transfer can be executed without waiting for the completion of the sense amplifier operation of the DRAM sense amplifier DSA.

【0246】このとき、SRAMアレイのクランプ回路
CRSのクランプ動作をデータ転送指示信号に応答して
禁止することにより、低消費電流でこのローカル転送ゲ
ートによる増幅動作に悪影響を及ぼすことなく確実に高
速でデータ転送を行なうことができる。
At this time, by prohibiting the clamp operation of the clamp circuit CRS of the SRAM array in response to the data transfer instruction signal, the current consumption is low and the amplification operation by the local transfer gate is not adversely affected and the operation is surely performed at high speed. Data can be transferred.

【0247】この図19に示す信号波形図において矢印
はデータの転送方向を示し、破線で示す信号波形図は図
5に示すCDRAMにおけるデータ転送時の動作を示
す。この信号波形図の比較から明らかなように、DRA
MをIO分離構造とすることにより、DRAMセンスア
ンプDSAの活性化前に双方向転送ゲートBTGを活性
化する(制御信号DTSを発生する)ことができ、高速
でデータの転送を行なうことができる。ここで信号φR
BAは時刻t3において発生されてもよい。
In the signal waveform diagram shown in FIG. 19, arrows indicate the data transfer direction, and the signal waveform diagram shown by the broken line shows the data transfer operation in the CDRAM shown in FIG. As is clear from the comparison of the signal waveform diagrams, DRA
By making M an IO isolation structure, the bidirectional transfer gate BTG can be activated (generate the control signal DTS) before the DRAM sense amplifier DSA is activated, and data can be transferred at high speed. .. Where signal φR
BA may be generated at time t3.

【0248】SRAMアレイはこのDRAMアレイから
のデータ転送をすぐにアクセスすることができる。した
がって、キャッシュミス時においても高速でSRAMア
レイへアクセスすることができる。次に、SRAMアレ
イからDRAMアレイへのデータ転送動作についてその
動作タイミング図である図20を参照して説明する。
The SRAM array is ready to access data transfers from this DRAM array. Therefore, the SRAM array can be accessed at high speed even when there is a cache miss. Next, the data transfer operation from the SRAM array to the DRAM array will be described with reference to the operation timing chart of FIG.

【0249】このSRAMアレイからDRAMアレイへ
のデータ転送はグローバル書込線対GILを介して行な
われる。この場合、グローバル読出線対GOLおよびロ
ーカル読出線対LOLは利用されない。
Data transfer from the SRAM array to the DRAM array is performed via global write line pair GIL. In this case, the global read line pair GOL and the local read line pair LOL are not used.

【0250】図20に示す動作においては、ローカル書
込線対LILおよびグローバル書込線対GILが共にク
ランプ回路CRWDによりVcc−Vthのレベルにプ
ルアップされている場合の動作が示される。
The operation shown in FIG. 20 shows the operation when both local write line pair LIL and global write line pair GIL are pulled up to the level of Vcc-Vth by clamp circuit CRWD.

【0251】時刻t1において、DRAMアレイのプリ
チャージサイクルが完了する。時刻t2においてDRA
Mワード線DWLの選択が行なわれ、選択されたワード
線の電位が“H”に立上がる。時刻t3および時刻t4
においてセンスアンプ駆動信号SANおよび/SAPが
それぞれ活性状態となり、DRAMビット線対DBL上
の信号電位が選択されたメモリセルのデータに対応した
値となる。
At time t1, the DRAM array precharge cycle is completed. DRA at time t2
The M word line DWL is selected, and the potential of the selected word line rises to "H". Time t3 and time t4
In, the sense amplifier drive signals SAN and / SAP are activated respectively, and the signal potential on the DRAM bit line pair DBL becomes a value corresponding to the data of the selected memory cell.

【0252】時刻t5において書込コラム選択線WCS
Lが選択され、選択された書込コラム選択線WCSLの
信号電位が“H”に立上がる。これにより、書込ゲート
IGがオン状態となり、ローカル書込線対LOLと選択
されたDRAMビット線対DBLとが接続される。この
とき書込ゲートIGは大きな抵抗値を有しており、DR
AMビット線対DBLの電位はその内部のDRAMセン
スアンプDSAにより“H”および“L”のレベルにフ
ルスィングし、一方、ローカル書込線対LILはそのク
ランプ回路の動作によりそのLレベルは接地電位Vss
レベルよりも上昇する。
At time t5, write column select line WCS
L is selected, and the signal potential of the selected write column select line WCSL rises to "H". As a result, the write gate IG is turned on, and the local write line pair LOL is connected to the selected DRAM bit line pair DBL. At this time, the write gate IG has a large resistance value, and DR
The potential of the AM bit line pair DBL is fully swung to "H" and "L" levels by the internal DRAM sense amplifier DSA, while the local write line pair LIL is grounded at its L level by the operation of its clamp circuit. Potential Vss
Rise above the level.

【0253】時刻t6において書込ブロック選択信号φ
WBAが“H”に立上がる。これによりローカル書込線
対LILとグローバル書込線対GILとが接続され、グ
ローバル書込線対GILの信号電位がローカル書込線対
LILの信号電位に対応したレベルとなる。このとき、
ゲートWIGの抵抗がゲートIGよりも大きければこの
グローバル書込線対GILの“L”の電位レベルはロー
カル書込線対LILの“L”レベルよりも高くなる(ク
ランプ回路がグローバル書込線対にのみ設けられている
場合)。
At time t6, write block selection signal φ
WBA rises to "H". As a result, the local write line pair LIL and the global write line pair GIL are connected, and the signal potential of the global write line pair GIL becomes a level corresponding to the signal potential of the local write line pair LIL. At this time,
If the resistance of the gate WIG is larger than that of the gate IG, the "L" potential level of the global write line pair GIL becomes higher than the "L" level of the local write line pair LIL (the clamp circuit is the global write line pair). Only when provided).

【0254】時刻t7において転送制御信号DTAが
“H”に立上がり、双方向転送ゲートBTGにラッチさ
れていたデータがグローバル書込線対GILおよびロー
カル書込線対LILを介してDRAMビット線対DBL
へ伝達される。
At time t7, transfer control signal DTA rises to "H", and the data latched in bidirectional transfer gate BTG is transferred to DRAM bit line pair DBL via global write line pair GIL and local write line pair LIL.
Transmitted to.

【0255】このとき書込線対GIL(およびLIL)
に設けられているクランプ回路CRDWはそのクランプ
動作が禁止されている。これにより、このクランプ回路
CRDWから双方向転送ゲートのラッチ回路に含まれる
インバータ回路の放電用トランジスタへの貫通電流が生
じる経路は遮断され、消費電流が低減されるとともに、
ローカル書込線対LILおよびグローバル書込線対GI
Lの電位レベルはこのラッチ回路1811にラッチされ
ていた電位レベル“H”および“L”レベルとなる。
At this time, the write line pair GIL (and LIL)
The clamp operation of the clamp circuit CRDW provided in is prohibited. As a result, the path from the clamp circuit CRDW to the discharge transistor of the inverter circuit included in the latch circuit of the bidirectional transfer gate is cut off, and the current consumption is reduced.
Local write line pair LIL and global write line pair GI
The potential level of L becomes the potential levels "H" and "L" level latched by the latch circuit 1811.

【0256】時刻t8においてセンスアンプ活性化信号
SANEおよび/SAPEが不活性状態となり、センス
アンプ駆動信号SANおよび/SAPがそれぞれ中間電
位のVcc/2の電位レベルへ復帰し(時刻t9)、続
いて書込コラム選択線WCSLの電位レベルが“L”へ
立下がり、ブロック選択信号φWBAも“L”と立下が
る。これによりデータ転送サイクルが完了する。
At time t8, sense amplifier activation signals SANE and / SAPE are inactivated, sense amplifier drive signals SAN and / SAP are restored to the potential level of Vcc / 2 which is the intermediate potential (time t9), and subsequently, The potential level of write column selection line WCSL falls to "L" and block selection signal φWBA also falls to "L". This completes the data transfer cycle.

【0257】ここで、グローバル書込線対GILはロー
カル書込線対LILよりもその寄生容量が大きい(グロ
ーバル書込線対GILは複数のブロックにわたって延在
しており、ローカル書込線対LILは1つのメモリブロ
ックに対してのみ設けられる)。このため、データ転送
制御信号DTAが“L”に立下がっても、その信号電位
の変化はグローバル書込線対GILのほうがローカル書
込線対LILよりも遅くなる。
Here, the global write line pair GIL has a parasitic capacitance larger than that of the local write line pair LIL (the global write line pair GIL extends over a plurality of blocks, and the local write line pair LIL. Is provided for only one memory block). Therefore, even if the data transfer control signal DTA falls to "L", the change of the signal potential is slower in the global write line pair GIL than in the local write line pair LIL.

【0258】上述のように、IO分離構造のDRAM構
成においても、データ書込を受ける信号線GILおよび
LILにクランプ回路を設けており、このクランプ回路
のクランプ動作をデータ転送時において禁止することに
より、低消費電流でかつ高速にこのラッチ回路にラッチ
されたデータをDRAMアレイの選択されたビット線対
DBL上へ伝達することが可能となる。
As described above, also in the DRAM structure having the IO separation structure, the clamp circuits are provided for the signal lines GIL and LIL receiving the data write, and the clamp operation of the clamp circuits is prohibited during the data transfer. It becomes possible to transmit the data latched by the latch circuit to the selected bit line pair DBL of the DRAM array with low current consumption and at high speed.

【0259】すなわちデータを受ける側に設けられたク
ランプ回路のクランプ動作を禁止することにより、双方
向転送ゲート回路に含まれる放電用トランジスタへの貫
通電流を生じさせることがなくなり、大幅に消費電流を
低減することができる。
That is, by prohibiting the clamp operation of the clamp circuit provided on the data receiving side, a through current to the discharging transistor included in the bidirectional transfer gate circuit is not generated, and the current consumption is significantly reduced. It can be reduced.

【0260】図14ないし図20に示すCDRAMにお
いて、グローバル書込線対GILおよびローカル書込線
対LILが共に中間電位のVcc/2の電位レベルにプ
リチャージされるクランプ回路が用いられてもよい。
In the CDRAM shown in FIGS. 14 to 20, a clamp circuit in which both global write line pair GIL and local write line pair LIL are precharged to the potential level of Vcc / 2 which is the intermediate potential may be used. ..

【0261】さらに、グローバル読出線対GOLおよび
ローカル読出線対LOLはそれぞれ中間電位のVcc/
2の電位レベルにプリチャージされる構成が用いられて
もよく、またこの読出線対GOLおよびLOL両者にレ
ベルVcc−Vthにクランプするクランプ回路が設け
られていてもよい。
Further, global read line pair GOL and local read line pair LOL each have an intermediate potential of Vcc /.
A structure precharged to the potential level of 2 may be used, and a clamp circuit for clamping the read line pair GOL and LOL to the level Vcc-Vth may be provided.

【0262】なお上記実施例においては、CDRAMに
おいて、SRAMアドレスとDRAMアドレスとがそれ
ぞれ独立に設定することのできる構成が説明されてい
る。しかしながら、本発明は、SRAMアレイとDRA
Mアレイとの間でのデータ転送を行なうことができ、そ
の転送経路にクランプ回路が設けられている半導体記憶
装置であれば上記実施例と同様の効果を得ることができ
る。
In the above embodiment, the structure in which the SRAM address and the DRAM address can be independently set in the CDRAM is described. However, the present invention is not limited to SRAM arrays and DRAs.
If the semiconductor memory device can transfer data to and from the M array and the clamp circuit is provided in the transfer path, the same effect as the above embodiment can be obtained.

【0263】[0263]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、SR
AMとDRAMとが集積化された半導体装置において、
SRAMアレイとDRAMアレイとのデータ転送時にデ
ータ転送を受ける側に設けられたクランプ回路のクラン
プ動作を禁止するようにしたので、このクランプ回路か
ら双方向転送ゲートに含まれる駆動トランジスタ(放電
用トランジスタ)を介して流れる貫通電流の発生を防止
することができ、高速データ転送動作性能を損なうこと
なく、大幅に消費電流を低減することのできる半導体記
憶装置を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the SR
In a semiconductor device in which AM and DRAM are integrated,
Since the clamp operation of the clamp circuit provided on the side receiving the data transfer is prohibited during the data transfer between the SRAM array and the DRAM array, the drive transistor (discharging transistor) included in the bidirectional transfer gate from this clamp circuit. It is possible to obtain a semiconductor memory device capable of preventing the occurrence of a through current flowing through the semiconductor memory device and significantly reducing the current consumption without impairing the high-speed data transfer operation performance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例である半導体記憶装置の要
部の構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明による半導体記憶装置を収納するパッ
ケージの外観を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an external appearance of a package that houses a semiconductor memory device according to the present invention.

【図3】この発明の一実施例である半導体記憶装置の全
体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing an overall configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図4】この発明による半導体記憶装置におけるアドレ
スの分配系を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an address distribution system in a semiconductor memory device according to the present invention.

【図5】図3に示す半導体記憶装置の要部の詳細構成を
示す図である。
5 is a diagram showing a detailed configuration of a main part of the semiconductor memory device shown in FIG.

【図6】双方向転送ゲートの一実施例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an embodiment of a bidirectional transfer gate.

【図7】この発明による半導体記憶装置の動作を示す信
号波形図である。
FIG. 7 is a signal waveform diagram representing an operation of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図8】この発明による半導体記憶装置の動作を示す信
号波形図である。
FIG. 8 is a signal waveform diagram representing an operation of the semiconductor memory device according to the present invention.

【図9】この発明の他の実施例である半導体記憶装置の
要部の構成を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図10】双方向転送ゲートの他の構成例を示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing another configuration example of a bidirectional transfer gate.

【図11】双方向転送ゲートのさらに他の構成例を示す
図である。
FIG. 11 is a diagram showing still another configuration example of the bidirectional transfer gate.

【図12】図11に示す双方向転送ゲートを用いた際の
データ転送動作を示す信号波形図である。
12 is a signal waveform diagram showing a data transfer operation when the bidirectional transfer gate shown in FIG. 11 is used.

【図13】図11に示す双方向転送ゲートを用いた際の
データ転送動作を示す信号波形図である。
13 is a signal waveform diagram showing a data transfer operation when the bidirectional transfer gate shown in FIG. 11 is used.

【図14】この発明の他の実施例である半導体記憶装置
の要部の構成を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図15】図14に示す双方向転送ゲートのDRAMか
らSRAMへのデータ転送系を示す図である。
15 is a diagram showing a data transfer system from the DRAM to the SRAM of the bidirectional transfer gate shown in FIG.

【図16】図14に示す双方向転送ゲートのSRAMか
らDRAMへのデータ転送系を示す図である。
16 is a diagram showing a data transfer system of the bidirectional transfer gate shown in FIG. 14 from SRAM to DRAM.

【図17】図14に示す半導体記憶装置における列選択
信号発生系を示す図である。
17 is a diagram showing a column selection signal generation system in the semiconductor memory device shown in FIG.

【図18】図14に示す半導体記憶装置におけるブロッ
ク選択信号発生系の構成の一例を示す図である。
18 is a diagram showing an example of a configuration of a block selection signal generation system in the semiconductor memory device shown in FIG.

【図19】図14に示す半導体記憶装置の動作を示す信
号波形図である。
19 is a signal waveform diagram representing an operation of the semiconductor memory device shown in FIG.

【図20】図14に示す半導体記憶装置の動作を示す信
号波形図である。
20 is a signal waveform diagram representing an operation of the semiconductor memory device shown in FIG.

【図21】一般的なキャッシュ内蔵半導体記憶装置の概
略構成を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing a schematic configuration of a general semiconductor memory device with a built-in cache.

【図22】従来のキャッシュ内蔵半導体記憶装置のアレ
イ配置を示す図である。
FIG. 22 is a diagram showing an array arrangement of a conventional semiconductor memory device with a built-in cache.

【図23】図22に示すキャッシュ内蔵半導体記憶装置
の要部の構成を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing a configuration of a main part of the cache built-in semiconductor memory device shown in FIG. 22;

【図24】図23に示す半導体記憶装置におけるSRA
Mアレイのクランプ回路の機能を説明するための図であ
る。
FIG. 24 is an SRA in the semiconductor memory device shown in FIG. 23.
It is a figure for demonstrating the function of the clamp circuit of M array.

【図25】図23に示すDRAMセンスアンプと転送ゲ
ートの具体的構成例を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing a specific configuration example of the DRAM sense amplifier and the transfer gate shown in FIG. 23.

【図26】キャッシュ内蔵半導体記憶装置の他の構成例
を示す図である。
FIG. 26 is a diagram showing another configuration example of a semiconductor memory device with a built-in cache.

【図27】図26に示す構成の半導体記憶装置の要部の
具体的構成例を示す図である。
FIG. 27 is a diagram showing a specific configuration example of a main part of the semiconductor memory device having the configuration shown in FIG. 26.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 DRAMアレイ 2 SRAMアレイ 3 双方向転送ゲート回路 BTG 双方向転送ゲート CRS SRAMビット線クランプ回路 CRD DRAMIO線クランプ回路 SMC SRAMメモリセル DMC DRAMメモリセル GIO グローバルIO線 LIO ローカルIO線 CRDW DRAM書込線クランプ回路 GIL グローバル書込線 GOL グローバル読出線 LIL ローカル書込線 LOL ローカル読出線 1 DRAM array 2 SRAM array 3 Bidirectional transfer gate circuit BTG Bidirectional transfer gate CRS SRAM Bit line clamp circuit CRD DRAM IO line clamp circuit SMC SRAM memory cell DMC DRAM memory cell GIO Global IO line LIO Local IO line CRDW DRAM write line clamp Circuit GIL Global write line GOL Global read line LIL Local write line LOL Local read line

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のスタティック型メモリセルを備え
る高速メモリアレイと、 複数のダイナミック型メモリセルを備え、かつ前記高速
メモリアレイよりも大きな記憶容量を有する大容量メモ
リアレイ、 前記高速メモリアレイの選択されたメモリセルと前記大
容量メモリアレイの選択されたメモリセルとの間でのデ
ータ転送を行なうためのデータ転送手段、 前記大容量メモリアレイの前記選択されたメモリセルと
前記データ転送手段とを接続するための信号線、 前記信号線の電位をクランプするためのクランプ手段、
および前記高速メモリアレイから前記大容量メモリアレ
イへのデータ転送指示に応答して、前記クランプ手段の
クランプ動作を禁止する制御手段を備える、半導体記憶
装置。
1. A high-speed memory array having a plurality of static memory cells, a large-capacity memory array having a plurality of dynamic memory cells and having a storage capacity larger than that of the high-speed memory array, and selecting the high-speed memory array. Data transfer means for performing data transfer between the selected memory cell and the selected memory cell of the large capacity memory array, the selected memory cell of the large capacity memory array and the data transfer means. A signal line for connection, a clamp means for clamping the potential of the signal line,
And a control means for prohibiting a clamp operation of the clamp means in response to a data transfer instruction from the high speed memory array to the large capacity memory array.
【請求項2】 行列状に配置された複数のスタティック
型メモリセルを備える高速メモリアレイを備え、前記高
速メモリアレイは各々に一列のスタティック型メモリセ
ルが接続されるSRAM列線を含み、 複数のダイナミック型メモリセルを備え、前記高速メモ
リアレイよりも大きな記憶容量を備える大容量メモリア
レイ、 前記高速メモリアレイの選択されたメモリセルと前記大
容量メモリアレイの選択されたメモリセルとの間でのデ
ータ転送を行なうためのデータ転送手段、 前記SRAM列線の各々に設けられ、対応のSRAM列
線の電位をクランプするためのクランプ手段、および前
記大容量メモリアレイから前記高速メモリアレイへのデ
ータ転送指示に応答して、前記クランプ手段のクランプ
動作を禁止する制御手段を備える、半導体記憶装置。
2. A high-speed memory array comprising a plurality of static memory cells arranged in rows and columns, said high-speed memory array including SRAM column lines to which one row of static memory cells are connected, respectively. A large-capacity memory array having a dynamic memory cell and having a storage capacity larger than that of the high-speed memory array; between a selected memory cell of the high-speed memory array and a selected memory cell of the large-capacity memory array; Data transfer means for performing data transfer, clamp means provided in each of the SRAM column lines for clamping the potential of the corresponding SRAM column line, and data transfer from the large capacity memory array to the high speed memory array. A semiconductor device including control means for prohibiting a clamp operation of the clamp means in response to an instruction. Storage device.
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