JPH05209143A - Masking composition - Google Patents

Masking composition

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JPH05209143A
JPH05209143A JP11392492A JP11392492A JPH05209143A JP H05209143 A JPH05209143 A JP H05209143A JP 11392492 A JP11392492 A JP 11392492A JP 11392492 A JP11392492 A JP 11392492A JP H05209143 A JPH05209143 A JP H05209143A
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JP
Japan
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parts
hiding
composition
particles
binder
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JP11392492A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Uchino
昌洋 内野
Eiichi Okabe
鋭一 岡部
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Pentel Co Ltd
Original Assignee
Pentel Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject composition composed of a masking material, a binder, porous particles, etc., having excellent spacer effect and masking power and suitable as a film-forming material for correction sheet, etc. CONSTITUTION:The objective composition is composed of (A) preferably 40-80wt.% of a masking material such as rutile-type titanium oxide and zinc oxide, (B) preferably 10-60wt.% of a binder such as a (meth)acrylate resin emulsion and (C) preferably 1.0-20wt.% of porous particles and/or hollow particles of silicon dioxide, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、修正シート(テープ)
に用いる隠蔽用組成物に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a correction sheet (tape).
The present invention relates to a concealing composition used in.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、文字、図柄等の隠蔽修正を行うも
のとして修正液、修正シート(テープ)といったものが
知られている。特に、修正シート(テープ)は、修正液
に比較して隠蔽を行った後、再筆記までの待ち時間が不
要であり、また短時間で修正が出来るといった長所を有
している。修正シート(テープ)としては、隠蔽用組成
物を溶剤を用いて、または、熱を加えて液状となし、こ
の液状物を剥離紙(剥離テープ)上に塗布し、乾燥また
は冷却後、隠蔽用組成物層の表面に粘着剤を塗布したも
のが例示できる。このような修正シート(テープ)に用
いられ、隠蔽用転写被膜(以下、単に塗膜という)とな
る隠蔽用組成物は、隠蔽材と、結合材とを主成分として
いた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a correction liquid and a correction sheet (tape) have been known as those for concealing correction of characters, patterns and the like. In particular, the correction sheet (tape) has the advantages that it does not require a waiting time until rewriting after concealing it as compared with the correction liquid, and that it can be corrected in a short time. As the correction sheet (tape), the masking composition is made into a liquid by using a solvent or by applying heat, and the liquid is applied on a release paper (release tape), dried or cooled, and then used as a masking sheet. The thing which applied the adhesive on the surface of the composition layer can be illustrated. The hiding composition used as such a correction sheet (tape) and used as a hiding transfer coating (hereinafter, simply referred to as a coating film) mainly contains a hiding material and a binder.

【0003】隠蔽材は、酸化チタンのような高い隠蔽性
を示す顔料を用いていた。
As the hiding material, a pigment having a high hiding property such as titanium oxide is used.

【0004】結合材は、具体的には、アクリル樹脂、ビ
ニルアルキルエーテル樹脂、環化ゴム、スチレン−ブタ
ジエン共重合体系エラストマー、(メタ)アクリル酸エ
ステル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン共重合体
樹脂エマルジョン、エチレン酢酸ビニル樹脂エマルジョ
ンなどの樹脂系物質、またはパラフィンワックス、カル
ナバワックスなどのワックス系物質を用いていた。
Specific examples of the binder include acrylic resin, vinyl alkyl ether resin, cyclized rubber, styrene-butadiene copolymer type elastomer, (meth) acrylic acid ester type emulsion, styrene-butadiene copolymer resin emulsion, Resin-based substances such as ethylene vinyl acetate resin emulsion or wax-based substances such as paraffin wax and carnauba wax were used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】修正シート(テープ)
は、文字、図柄などを隠蔽修正を行うだけでなく、修正
を行った後の塗膜上に再筆記を行う場合が多いので、修
正面と紙面の高さに差がない方が好ましい。また、高さ
の差が大きいとコピーした場合修正した面の影が出てし
まうことがある。従って、薄い塗膜でも高い隠蔽力を持
つことが必要となる。
PROBLEM TO BE SOLVED BY THE INVENTION Correction sheet (tape)
In many cases, it is preferable that not only hiding correction of characters, patterns, etc. but also rewriting on the coating film after correction, so that there is no difference in height between the corrected surface and the paper surface. Also, if the height difference is large, the shadow of the corrected surface may appear when copying. Therefore, it is necessary to have a high hiding power even with a thin coating film.

【0006】ところが、修正シート(テープ)の製造に
おいて隠蔽用組成物中の隠蔽材は、溶剤を用いたり、加
熱したりして液状となすため共凝集を起こし易い。共凝
集を起こした隠蔽材は、その隠蔽材が有する最大隠蔽力
を示す粒子径でなくなるため塗膜の隠蔽力が低下してし
まう。そこで、隠蔽材の共凝集を防止し本来の隠蔽材の
隠蔽力を得るために、球状シリカ、メラミン−ホルムア
ルデヒド微少球などといった球状粒子を添加するといっ
た方法が考えられる。
However, in the production of the correction sheet (tape), the hiding material in the hiding composition is in a liquid state by using a solvent or by heating, so that coagulation is likely to occur. The hiding material that has caused co-aggregation does not have a particle size that exhibits the maximum hiding power of the hiding material, and thus the hiding power of the coating film is reduced. Therefore, in order to prevent co-aggregation of the hiding material and obtain the original hiding power of the hiding material, a method of adding spherical particles such as spherical silica and melamine-formaldehyde microspheres can be considered.

【0007】しかし、修正シート(テープ)は塗膜が極
薄いため上記球状粒子を用い隠蔽材の共凝集を防止した
だけでは満足する隠蔽力は得られない。
However, since the correction sheet (tape) has a very thin coating film, a satisfactory hiding power cannot be obtained only by using the above-mentioned spherical particles to prevent co-aggregation of the hiding material.

【0008】本発明は、塗膜の隠蔽性を向上するために
なしたものであって、隠蔽材と、結合材と、多孔質粒子
及び/又は中空粒子とから少なくともなる隠蔽用組成物
を要旨とするものである。
The present invention has been made to improve the hiding property of a coating film, and is a gist of a hiding composition comprising at least a hiding material, a binder, and porous particles and / or hollow particles. It is what

【0009】以下、詳細に説明する。隠蔽材は、酸化チ
タン、酸化亜鉛などの隠蔽性の高い顔料を用いる。特
に、酸化チタンが良好である。酸化チタンとしては、ル
チル型、アナターゼ型などの各種の酸化チタンが使用で
きる。市販のものとしては、タイトーンSR−1、同R
−650、同R−3L、同A−110、同A−150,
同R−5N(以上、堺化学工業(株)製)、タイペーク
R−580、同R−550、同R−930、同A−10
0、同A−220、同CR−58(以上、石原産業
(株)製)、クロノスKR−310−310、同KR−
380、同KR−480、同KA−10、同KA−2
0、同KA−30(以上、チタン工業(株)製)、タイ
ピュアR−900、同R−931(以上、デュポン・ジ
ャパン・(株)製)などが挙げられる。使用量は隠蔽用
組成物全量に対して40〜80重量%が好ましい。
The details will be described below. As the hiding material, a pigment having a high hiding property such as titanium oxide or zinc oxide is used. Titanium oxide is particularly preferable. As titanium oxide, various titanium oxides such as rutile type and anatase type can be used. Commercially available products are Tytone SR-1 and R
-650, R-3L, A-110, A-150,
The same R-5N (above, Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), Taipaque R-580, the same R-550, the same R-930, the same A-10.
0, A-220, CR-58 (all manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), Kronos KR-310-310, and KR-.
380, KR-480, KA-10, KA-2
0, the same KA-30 (above, manufactured by Titanium Industry Co., Ltd.), TYPURE R-900, the same R-931 (above, manufactured by DuPont Japan Co., Ltd.) and the like. The amount used is preferably 40 to 80% by weight based on the total amount of the concealing composition.

【0010】結合材は隠蔽用組成物が良好な塗膜を形成
するために使用するものである。具体例としては、(メ
タ)アクリル酸エステル系樹脂エマルジョン、スチレン
−ブタジエン共重合体系樹脂エマルジョン、エチレン酢
酸ビニル樹脂エマルジョン、アクリル樹脂、アルキッド
樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルアルキル
エーテル樹脂、環化ゴム、スチレン−ブタジエン系エラ
ストマーなどの樹脂系物質や、蜜蝋、鯨蝋、虫白蝋等の
動物系ワックス、キャンデリラワックス、カルナバワッ
クス、木蝋等の植物系ワックス、モンタンワックス、オ
ゾケライト等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、
マイクロクリスタリンワックス等の石油系ワックス等と
いったワックス系物質が挙げられる。その使用量は隠蔽
用組成物全量に対して10〜60重量%が好ましい。上
記結合材は、製造時の条件(例えば、溶剤を用いて液状
とする場合には、使用する溶剤に可溶な樹脂を使用する
とか、加熱して液状とする場合には、ワックス系物質を
多く使用するなど)や商品として要求される品質に基づ
いて適宜選択される。
The binder is used by the hiding composition to form a good coating. Specific examples include (meth) acrylic acid ester-based resin emulsion, styrene-butadiene copolymer-based resin emulsion, ethylene vinyl acetate resin emulsion, acrylic resin, alkyd resin, vinyl resin, polyester resin, vinyl alkyl ether resin, cyclized rubber. , Resin-based materials such as styrene-butadiene elastomer, animal-based waxes such as beeswax, spermaceti, and white wax, plant-based waxes such as candelilla wax, carnauba wax, wood wax, and mineral-based waxes such as montan wax and ozokerite. , Paraffin wax,
Wax-based substances such as petroleum-based waxes such as microcrystalline wax may be mentioned. The amount used is preferably 10 to 60% by weight with respect to the total amount of the hiding composition. The binder is a condition at the time of production (for example, when using a solvent to form a liquid, a resin soluble in the solvent used is used, or when heated to form a liquid, a wax-based substance is used). It is selected as appropriate based on the quality required for products).

【0011】本発明の特徴点である多孔質粒子、中空粒
子は、隠蔽材と結合材との屈折率の差を大きくし塗膜の
隠蔽性を向上するために使用するものであり、無機物質
であっても、有機物質であってもよい。具体例を以下に
記載する。
The porous particles and hollow particles, which are the features of the present invention, are used for increasing the difference in the refractive index between the hiding material and the binder to improve the hiding property of the coating film. Alternatively, it may be an organic substance. A specific example will be described below.

【0012】二酸化ケイ素よりなる多孔質粒子、または
中空粒子としてゴッドボールB−6C(平均粒子径2.
2μm)、同A−11C(平均粒子径3.5μm)、同
B−16C(平均粒子径6.5μm)、同B−25C
(平均粒子径14.0μm)、同E−2C(平均粒子径
0.7μm)、同E−6C(平均粒子径2.2μm)、
同D−11C(平均粒子径3.4μm)、同E−16C
(平均粒子径6.5μm)(以上、鈴木油脂工業(株)
製)、ハイプレシカUFタイプ(粒子径:2.0〜5.
0μmの範囲で0.1μm精度で調整可能)、同FQタ
イプ(0.2、0.3、0.5、1.0、2.0、3.
0、4.0、5.0μm)(以上、宇部日東化成(株)
製)などが挙げられる。
Porous particles of silicon dioxide or hollow particles such as Godball B-6C (average particle size 2.
2 μm), A-11C (average particle size 3.5 μm), B-16C (average particle size 6.5 μm), B-25C
(Average particle size 14.0 μm), E-2C (average particle size 0.7 μm), E-6C (average particle size 2.2 μm),
Same D-11C (average particle size 3.4 μm), same E-16C
(Average particle diameter 6.5 μm) (above, Suzuki Yushi Kogyo Co., Ltd.)
Made), high pressure UF type (particle size: 2.0-5.
Adjustable with 0.1 μm accuracy in the range of 0 μm), same FQ type (0.2, 0.3, 0.5, 1.0, 2.0, 3.
0, 4.0, 5.0 μm) (above, Ube Nitto Kasei Co., Ltd.)
Manufactured) and the like.

【0013】炭酸カルシウムよりなる多孔質粒子として
カルライトKT(平均粒子径2.3μm、白石カルシウ
ム(株)製)が挙げられる。
Examples of the porous particles made of calcium carbonate include Callite KT (average particle diameter 2.3 μm, manufactured by Shiraishi Calcium Co., Ltd.).

【0014】酸化チタンを70重量%以上含有するポリ
メタクリル酸メチルとの複合球状微粒子よりなる多孔質
粒子としてテクポリマーMBTP(5〜50μmの間で
調整可能)、テクポリマーMBTPを焼成した多孔質粒
子としてテクポリマーTP(5〜50μmの間で調整可
能)(以上、積水化成品工業(株)製)などが挙げられ
る。
Techpolymer MBTP (adjustable between 5 and 50 μm) as porous particles composed of composite spherical fine particles with polymethylmethacrylate containing 70% by weight or more of titanium oxide, and porous particles obtained by firing techpolymer MBTP Examples include Techpolymer TP (adjustable between 5 and 50 μm) (these are manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.).

【0015】スチレン−アクリル酸共重合体よりなる中
空粒子としてSX863(A)(粒子径0.3〜0.4
μm)、SX864(B)(粒子径0.4〜0.5μ
m)、SX865(B)(粒子径0.5〜0.6μ
m)、SX863(P)(0.3〜0.4μm)(以
上、日本合成ゴム(株)製)、ローペイクOP−84J
(平均粒子径0.55μm、ローム・アンド・ハース社
製)などが挙げられる。
Hollow particles of styrene-acrylic acid copolymer were used as SX863 (A) (particle size 0.3 to 0.4).
μm), SX864 (B) (particle size 0.4 to 0.5 μm
m), SX865 (B) (particle size 0.5-0.6μ)
m), SX863 (P) (0.3 to 0.4 μm) (above, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), Low Pake OP-84J.
(Average particle diameter 0.55 μm, manufactured by Rohm and Haas Co.) and the like.

【0016】ポリメタクリル酸メチルよりなる多孔質粒
子としてテクポリマーMBP(3〜50μmの間で調整
可能、積水化成品工業(株)製)が挙げられる。
As the porous particles made of poly (methyl methacrylate), Techpolymer MBP (adjustable between 3 and 50 μm, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) can be mentioned.

【0017】ポリスチレンよりなる多孔質粒子としてテ
クポリマーSBP(3〜50μmの間で調整可能、積水
化成品工業(株)製)が挙げられる。
Examples of the porous particles made of polystyrene include Techpolymer SBP (adjustable within 3 to 50 μm, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.).

【0018】上記粒子は、単独若しくは混合して使用可
能であり、その使用量は隠蔽用組成物全体に対して0.
1〜30重量%が好ましく、より好ましくは1.0〜2
0重量%である。
The above-mentioned particles can be used alone or in a mixture, and the amount thereof is 0.
1 to 30% by weight is preferable, and 1.0 to 2 is more preferable.
It is 0% by weight.

【0019】また、上記粒子の粒子径は0.2〜10μ
mが好ましい。
The particle size of the above particles is 0.2 to 10 μm.
m is preferred.

【0020】尚、隠蔽修正される紙(例えば、葉書や色
紙など)などの色調と合わせるために着色顔料を、塗膜
の硬さを調節するために可塑材、隠蔽材の分散のために
分散剤などといった従来知られている各種添加剤を適宜
添加することも出来る。
A coloring pigment is dispersed in order to match the color tone of the paper to be masked (such as postcards and colored papers), and a plasticizer is dispersed to adjust the hardness of the coating film, and a dispersion is dispersed to disperse the masking material. Various conventionally known additives such as agents can be appropriately added.

【0021】[0021]

【作用】本発明に係わる隠蔽用組成物に含まれる多孔質
粒子、中空粒子は、使用している隠蔽材の一次粒子の共
凝集を抑制するスペーサー効果を持っているので本来の
隠蔽材の隠蔽力が得られると共に、多孔質粒子の孔や中
空粒子の中空部の中に含まれる空気が結合材の平均屈折
率を下げるので、隠蔽材と結合材の屈折率の差が大きく
なるため塗膜の隠蔽力が高くなる。
The porous particles and hollow particles contained in the masking composition according to the present invention have a spacer effect of suppressing the co-aggregation of the primary particles of the masking agent used, and therefore the masking of the masking agent originally intended. As the force is obtained, the air contained in the pores of the porous particles and the hollow portion of the hollow particles lowers the average refractive index of the binder, so that the difference in the refractive index between the hiding material and the binder becomes large, and thus the coating film The hiding power of is increased.

【0022】[0022]

【実施例】以下、単に「部」とあるのは「重量部」を示
す。
EXAMPLES Hereinafter, simply referring to "parts" means "parts by weight".

【0023】実施例1 クロノスKR−380 65部 アクリロイドB−66(米国ローム&ハース社製、アクリル樹脂) 25部 メチルシクロヘキサン 120部 ゴッドボールE−2C 18部 ホモゲノールL−18(花王石鹸(株)製、分散剤) 1.2部 上記各成分をボールミルにて24時間分散後、隠蔽用組
成物(溶剤溶解型)を得た。
Example 1 Chronos KR-380 65 parts Acryloid B-66 (acrylic resin manufactured by Rohm & Haas Company, USA) 25 parts Methylcyclohexane 120 parts Godball E-2C 18 parts Homogenol L-18 (Kao Soap Co., Ltd.) 1.2 parts of the above components were dispersed in a ball mill for 24 hours to obtain a hiding composition (solvent-soluble type).

【0024】実施例2 クロノスKR−380 60部 アクリロイドB−66 13部 1,1,1−トリクロロエタン 100部 ゴッドボールB−6C 15部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶
剤溶解型)を得た。
Example 2 Chronos KR-380 60 parts Acryloid B-66 13 parts 1,1,1-Trichloroethane 100 parts Godball B-6C 15 parts Homogenol L-18 1.2 parts The above components were used as in Example 1. In the same manner, a masking composition (solvent-soluble type) was obtained.

【0025】実施例3 クロノスKR−380 60部 アクリロイドB−66 12部 メチルシクロヘキサン 100部 SX863(P) 15部 ホモゲノールL−18 2部 上記各成分を実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶
剤溶解型)を得た。
Example 3 Chronos KR-380 60 parts Acryloid B-66 12 parts Methylcyclohexane 100 parts SX863 (P) 15 parts Homogenol L-18 2 parts The same ingredients as in Example 1 were used for the concealing composition. (Solvent-soluble type) was obtained.

【0026】実施例4 クロノスKR−480 63部 カリフレックスTR−1107(シェル化学(株)製、スチレン系熱可塑性エ ラストマー) 13部 1,1,1−トリクロロエタン 100部 テクポリマーMBP(平均粒子径3.0μm) 15部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶
剤溶解型)を得た。
Example 4 Chronos KR-480 63 parts Califlex TR-1107 (Shell Chemical Co., Ltd., styrene thermoplastic elastomer) 13 parts 1,1,1-trichloroethane 100 parts Techpolymer MBP (average particle diameter) 3.0 μm) 15 parts Homogenol L-18 1.2 parts The above components were treated in the same manner as in Example 1 to obtain a hiding composition (solvent-soluble type).

【0027】実施例5 クロノスKR−380 63部 アクリロイドB−66 13部 メチルシクロヘキサン 100部 ゴッドボールB−25C 15部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶
剤溶解型)を得た。
Example 5 Chronos KR-380 63 parts Acryloid B-66 13 parts Methylcyclohexane 100 parts Godball B-25C 15 parts Homogenol L-18 1.2 parts The above components are concealed in the same manner as in Example 1. A composition (solvent-soluble type) was obtained.

【0028】実施例6 クロノスKR−380 63部 アクリロイドB−66 15部 メチルシクロヘキサン 100部 ゴッドボールE−2C 7.5部 SX863(P) 7.5部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶
剤溶解型)を得た。
Example 6 Chronos KR-380 63 parts Acryloid B-66 15 parts Methylcyclohexane 100 parts Godball E-2C 7.5 parts SX863 (P) 7.5 parts Homogenol L-18 1.2 parts Each of the above components In the same manner as in Example 1, a concealing composition (solvent-soluble type) was obtained.

【0029】実施例7 タイペークCR−58 60部 130°Fパラフィンワックス 13部 ゴッドボールE−2C 15部 上記各成分を80℃に加熱した二本ロールで混合分散を
行い隠蔽用組成物(加熱溶融型)を得た。
Example 7 Taipaque CR-58 60 parts 130 ° F paraffin wax 13 parts Godball E-2C 15 parts The above components were mixed and dispersed with a two-roll roller heated to 80 ° C. to conceal the composition (heat melting Type).

【0030】実施例8 クロノスKR−380 60部 カルナバワックス 13部 ゴッドボールB−6C 15部 上記各成分を実施例7と同様になして隠蔽用組成物(加
熱溶融型)を得た。
Example 8 Chronos KR-380 60 parts Carnauba wax 13 parts Godball B-6C 15 parts The above components were treated in the same manner as in Example 7 to obtain a concealing composition (heat melting type).

【0031】実施例9 クロノスKR−380 60部 キャンデリラワックス 12部 SX863(P) 15部 上記各成分を実施例7と同様になして隠蔽用組成物(加
熱溶融型)を得た。
Example 9 Chronos KR-380 60 parts Candelilla wax 12 parts SX863 (P) 15 parts The above components were treated in the same manner as in Example 7 to obtain a hiding composition (heat melting type).

【0032】実施例10 タイペークCR−58 60部 モンタンワックス 15部 テクポリマーMBP(平均粒子径3.0μm) 10部 上記各成分を実施例7と同様になして隠蔽用組成物(加
熱溶融型)を得た。
Example 10 Taipaque CR-58 60 parts Montan wax 15 parts Techpolymer MBP (average particle size 3.0 μm) 10 parts The same components as in Example 7 were used for the concealing composition (heat melting type). Got

【0033】実施例11 クロノスKR380 60部 130°Fパラフィンワックス 15部 ゴッドボールB−25C 12部 上記各成分を実施例7と同様になして隠蔽用組成物(加
熱溶融型)を得た。
Example 11 Chronos KR380 60 parts 130 ° F paraffin wax 15 parts Godball B-25C 12 parts The above components were treated in the same manner as in Example 7 to obtain a hiding composition (heat melting type).

【0034】実施例12 クロノスKR−380 60部 130°Fパラフィンワックス 15部 ゴッドボールE−2C 6部 SX863(P) 6部 上記各成分を実施例7と同様になして隠蔽用組成物(加
熱溶融型)を得た。
Example 12 Chronos KR-380 60 parts 130 ° F paraffin wax 15 parts Godball E-2C 6 parts SX863 (P) 6 parts The above components were treated in the same manner as in Example 7 (heating). Melted type) was obtained.

【0035】比較例1 実施例1においてゴッドボールE−2Cを除いた以外は
実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶剤溶解型)を
得た。
Comparative Example 1 A concealing composition (solvent-soluble type) was obtained in the same manner as in Example 1 except that Godball E-2C was omitted.

【0036】比較例2 実施例1においてゴッドボールE−2Cの代わりに球状
シリカであるシーホスターKE−P30(平均粒子径
0.3μm、日本触媒化学工業(株)製)を用いた以外
は実施例1と同様になして隠蔽用組成物(溶剤溶解型)
を得た。
Comparative Example 2 Example 3 except that Seahost KE-P30 (average particle diameter 0.3 μm, manufactured by Nippon Shokubai Chemical Industry Co., Ltd.), which is spherical silica, was used in place of Godball E-2C in Example 1. In the same manner as in 1, the concealing composition (solvent-soluble type)
Got

【0037】比較例3 実施例7においてゴッドボールE−2Cを除いた以外は
実施例7と同様になして隠蔽用組成物(加熱溶融型)を
得た。
Comparative Example 3 A concealing composition (heat-melting type) was obtained in the same manner as in Example 7 except that Godball E-2C was omitted.

【0038】比較例4 実施例7においてゴッドボールE−2Cの代わりに球状
シリカであるマイクロシリカ980Uを用いた以外は実
施例7と同様になして隠蔽用組成物(加熱溶融型)を得
た。
Comparative Example 4 A concealing composition (heat-melting type) was obtained in the same manner as in Example 7 except that micro silica 980U, which was spherical silica, was used in place of Godball E-2C. ..

【0039】(修正シートの製造)上記、実施例1〜
4、比較例1、2で得られた隠蔽用組成物を離型紙上に
50μmのアプリケーターで塗布し、乾燥後隠蔽用組成
物上にSKダインE−3008BC(綜研化学(株)
製、エマルジョン型粘着剤)を塗布し乾燥して修正シー
トを得た。また、実施例5〜8、比較例3、4で得られ
た隠蔽用組成物を80℃に加熱して溶融し、離型紙上に
50μmのアプリケーターで塗布し、冷却後その上にS
KダインE−3008BCを塗布し乾燥して修正シート
を得た。以上で得られた修正シートについて隠蔽性試験
を行った。実施例1〜4、比較例1、2による修正シー
トの試験結果を表1に示し、実施例5〜8、比較例3、
4による修正シートの試験結果を表2に示す。
(Production of Correction Sheet) Above-mentioned Examples 1 to 1
4, the hiding composition obtained in Comparative Examples 1 and 2 was applied onto a release paper with an applicator of 50 μm, and after drying, the hiding composition was SK Dyne E-3008BC (Soken Chemical Co., Ltd.).
Manufactured, emulsion type adhesive) and dried to obtain a correction sheet. Further, the concealing compositions obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 3 and 4 were heated to 80 ° C. to be melted, coated on a release paper with a 50 μm applicator, and after cooling, S
K Dyne E-3008BC was applied and dried to obtain a correction sheet. A hiding test was conducted on the modified sheet obtained above. The test results of the correction sheets of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1, and Examples 5 to 8 and Comparative Example 3,
Table 2 shows the test results of the correction sheet according to No. 4.

【0040】隠蔽性試験: ・塗膜形成:修正シートを、粘着剤層側を隠蔽率測定用
紙(JIS K 5400)に向けて載せ、剥離紙側か
ら押圧して塗膜を転着する。 ・隠蔽率測定:上記のように塗膜を形成した隠蔽率測定
用紙の45°、0°拡散反射率をカラーコンピューター
で測定し隠蔽率を算出した。
Concealment test: Coating film formation: The correction sheet is placed with the pressure-sensitive adhesive layer side facing the concealment ratio measurement paper (JIS K 5400), and the coating is transferred by pressing from the release paper side. -Measurement of hiding ratio: The hiding ratio was calculated by measuring the 45 ° and 0 ° diffuse reflectance of the hiding ratio measuring paper on which the coating film was formed as described above with a color computer.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】[0042]

【表2】 [Table 2]

【0043】[0043]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
隠蔽用組成物は隠蔽力が高く、修正シート(テープ)に
用いた場合、良好な品質を示す。
As described above in detail, the concealing composition of the present invention has a high concealing power and exhibits good quality when used as a correction sheet (tape).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 隠蔽材と、結合材と、多孔質粒子及び/
又は中空粒子とから少なくともなる隠蔽用組成物。
1. A hiding material, a binder, porous particles and / or
Alternatively, a hiding composition comprising at least hollow particles.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012092289A (en) * 2010-09-29 2012-05-17 Nippon Paint Co Ltd Aqueous coating composition
JP2013208898A (en) * 2012-02-29 2013-10-10 General Co Ltd Pressure-sensitive correction tape

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