JPH0519455A - Method and device for mixing photo-resist for manufacturing color filter - Google Patents
Method and device for mixing photo-resist for manufacturing color filterInfo
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- JPH0519455A JPH0519455A JP3180965A JP18096591A JPH0519455A JP H0519455 A JPH0519455 A JP H0519455A JP 3180965 A JP3180965 A JP 3180965A JP 18096591 A JP18096591 A JP 18096591A JP H0519455 A JPH0519455 A JP H0519455A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/50—Mixing liquids with solids
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- Dispersion Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルタの製造
工程中基板上に染色層を形成することに使用されるフォ
トレジストのミキシング方法及びその装置に関し、特に
密閉された容器と窒素ガスを利用してフォトレジストを
ミキシングすることにより微粒子（Ｐａｒｔｉｃｌｅ）
及び気泡（Ｂｕｂｂｌｅ）の発生を最小限に押えること
ができるフォトレジストのミキシング方法及びその装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist mixing method and apparatus used for forming a dyed layer on a substrate during a color filter manufacturing process, and more particularly to a sealed container and nitrogen gas. And mix the photoresist to form fine particles (Particle).
Also, the present invention relates to a method and apparatus for mixing a photoresist capable of suppressing the generation of bubbles.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のフォトレジストのミキシング方法
及びその装置としては、ポンプを利用したポンプ循環式
によりミキシングする方法及び装置が使用されていた。
図１は、上記従来のポンプ循環式装置を示している。即
ち、このポンプ循環式装置は、フォトレジストの主成分
であるカゼイン（Ｃａｓｅｉｎ）やゼラチン（Ｇｅｌａ
ｔｉｎ）を貯蔵するタンク１と、感光剤（Ｓｅｎｓｉｔ
ｉｚｅｒ）の役目をする重クローム酸アンモニウムを貯
蔵するタンク２と、上記フォトレジストと重クローム酸
アンモニウムをミキシングするミキシング槽５と、ポン
プ３，４，６等で構成されている。このように構成され
たポンプ循環式装置を利用してフォトレジストをミキシ
ングする方法を簡単に説明する。2. Description of the Related Art As a conventional photoresist mixing method and apparatus, a method and apparatus for mixing by a pump circulation system using a pump have been used.
FIG. 1 shows the conventional pump circulation type device. That is, this pump circulation type device is used in the casein (Casein) and gelatin (Gela) which are the main components of the photoresist.
tin 1) and a photosensitizer (Sensit)
It is composed of a tank 2 for storing ammonium bichromate serving as an izer), a mixing tank 5 for mixing the photoresist and ammonium bichromate, pumps 3, 4, 6 and the like. A method of mixing the photoresist using the pump circulation system configured as described above will be briefly described.
【０００３】先ず、フォトレジストの主成分であるカゼ
インやゼラチンと重クローム酸アンモニウムを各々のタ
ンク１，２に必要量を入れる。次に、これらのタンク
１，２に装着されたポンプ３，４により、各々のタンク
１，２に入れられているフォトレジストと重クローム酸
アンモニウムとを、自動的にミキシング槽５にオーバー
フロー（Ｏｖｅｒｆｌｏｗ）されるまで供給する。First, casein and gelatin, which are the main components of the photoresist, and ammonium bichromate are placed in the tanks 1 and 2 in the required amounts. Next, the pumps 3 and 4 mounted on these tanks 1 and 2 automatically overflow the photoresist and ammonium bichromate contained in the respective tanks 1 and 2 into the mixing tank 5 (Overflow). ) Until supplied.
【０００４】次に、上記ミキシング槽５の下部に設けた
ポンプ６により、フォトレジストと重クローム酸アンモ
ニウムとが循環通路７に沿って循環し、所定時間だけミ
キシング槽５内でフォトレジストと重クローム酸アンモ
ニウムとがミキシングされる。このような方法によりミ
キシングされたフォトレジストは、ミキシング時間が了
されると自動的にポンプ６により別の容器８に入れられ
た後、その次の工程で使用されることができるように保
管される。上記のようなポンプ循環式ミキシング装置に
よりフォトレジストをミキシングすると、フォトレジス
トと重クローム酸アンモニウムの供給とミキシング等が
ポンプにより行なわれるので、ポンプを作動する時ごと
に物理的な力が加えられる。従って、このような物理的
な力により、フォトレジストが空気と接触するようにな
り、微粒子及び気泡等が生じる原因となる。Next, the photoresist and ammonium bichromate are circulated along the circulation passage 7 by the pump 6 provided in the lower portion of the mixing tank 5, and the photoresist and the heavy chromium are kept in the mixing tank 5 for a predetermined time. Ammonium acid is mixed. The photoresist mixed by such a method is automatically put into another container 8 by the pump 6 when the mixing time is over, and then stored so that it can be used in the next step. It When the photoresist is mixed by the pump circulation type mixing device as described above, the supply of the photoresist and ammonium bichromate, mixing and the like are performed by the pump, so that a physical force is applied every time the pump is operated. Therefore, such a physical force causes the photoresist to come into contact with the air, which causes fine particles and bubbles.
【０００５】上記のような微粒子と気泡等が含まれたフ
ォトレジストを塗布すると、微粒子や気泡等により均一
に塗布することができない。そのため塗布膜が均一に形
成されずに塗布膜の厚さが異って、安定された分光特性
を得ることができないという問題があった。また、ミキ
シング槽に供給されるフォトレジスト及び重クローム酸
アンモニウムの供給量がオーバフローされた場合にのみ
ミキシングが行なわれるため、必要とする量だけフォト
レジストをミキシングすることが難しいという問題があ
った。さらに、ミキシングされたフォトレジストを後に
使用することができるように別の容器に入れておく過程
でも、ポンプの使用により微粒子及び気泡等が発生する
問題点があった。When the photoresist containing the fine particles and bubbles as described above is applied, it is impossible to apply the photoresist uniformly due to the fine particles and bubbles. Therefore, there is a problem that the coating film is not formed uniformly and the thickness of the coating film is different, so that stable spectral characteristics cannot be obtained. Further, since the mixing is performed only when the amounts of the photoresist and ammonium bichromate supplied to the mixing tank overflow, there is a problem that it is difficult to mix the photoresist by a required amount. Further, even in the process of putting the mixed photoresist in another container so that it can be used later, there is a problem that fine particles and bubbles are generated by using the pump.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題点
を解決するためのもので、この発明の目的は、窒素ガス
と密閉されたミキシング槽を利用してミキシングするこ
とにより、微粒子及び気泡発生を最小限に押え、それに
よって塗布時における均一性を向上させることができ、
かつ安定された分光特性を得ることのできるカラーフィ
ルタ製造用のフォトレジストのミキシング方法を提供す
ることにある。また、本発明の他の目的は、フォトレジ
ストをミキシングすることのできるミキシング装置を提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to solve the above problems, and an object of the present invention is to mix fine particles and bubbles by utilizing a mixing tank sealed with nitrogen gas. The generation can be suppressed to a minimum, which can improve the uniformity during coating,
Another object of the present invention is to provide a method for mixing a photoresist for manufacturing a color filter, which is capable of obtaining stable spectral characteristics. Another object of the present invention is to provide a mixing device capable of mixing photoresist.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するために、本発明に係るカラーフィルタの製造工程中
染色層の形成時に使用されるフォトレジストのミキシン
グ方法は、フォトレジストと重クローム酸アンモニウム
をミキシング槽に供給する工程と、上記ミキシング槽内
部を真空状態にする工程と、上記ミキシング槽内でフォ
トレジストと重クローム酸アンモニウムとをミキシング
する工程とから成ることを特徴とする。In order to achieve the above object, a method of mixing a photoresist used for forming a dyed layer during a manufacturing process of a color filter according to the present invention is a photoresist and a heavy chrome. The method is characterized by comprising a step of supplying ammonium acid to a mixing tank, a step of evacuating the inside of the mixing tank, and a step of mixing the photoresist and ammonium bichromate in the mixing tank.
【０００８】上記の他の目的を達成するために、本発明
に係るカラーフィルタ製造工程中染色層の形成時に使用
されるフォトレジストをミキシングするためのミキシン
グ装置は、窒素ガスが貯蔵されたタンクと、フォトレジ
スト及び重クローム酸アンモニウムを入れておくタンク
と、上記タンク内部へガスを注入するガス供給ライン
と、モーターにより回転する供給されたフォトレジスト
と重クローム酸アンモニウムとをミキシングするための
ミキシング槽と、上記フォトレジストと重クローム酸ア
ンモニウムが入れられるタンクとミキシング槽を連結す
る供給ラインと、上記ミキシング槽内部に存在する空気
を排出させる空気排出ラインと、上記ミキシング槽下部
に設けられミキシング槽内でミキシングされたフォトレ
ジストを送出する送出ラインと、各々のラインに設けた
バルブとを有することを特徴とする。In order to achieve the above-mentioned other object, a mixing device for mixing a photoresist used in forming a dyeing layer in a color filter manufacturing process according to the present invention comprises a tank for storing nitrogen gas. A tank for storing the photoresist and ammonium bichromate, a gas supply line for injecting a gas into the tank, and a mixing tank for mixing the supplied photoresist and ammonium bichromate rotated by a motor. A supply line for connecting the tank containing the photoresist and ammonium bichromate and the mixing tank, an air discharge line for discharging the air existing inside the mixing tank, and a mixing tank provided under the mixing tank. Send out the photoresist mixed by And having a line and a valve provided in each line.
【０００９】[0009]
【実施例】以下、添付した図面を参照して本発明の実施
例について詳細に説明する。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.
【００１０】図２は、本発明によるフォトレジストのミ
キシング装置を示す構成図である。この装置は、窒素ガ
ス（Ｎ2 ）が貯蔵されているタンク２１，２２と、フォ
トレジストの主成分であるカゼインやゼラチンを入れて
おく密閉されたタンク２３と、感光剤の役目をする重ク
ローム酸アンモニウムを入れておく密閉されたタンク２
４とを備えている。上記窒素ガスタンク２１，２２とフ
ォトレジスト及び重クローム酸アンモニウムが貯蔵され
ているタンク２３，２４とは、窒素ガスを供給するガス
供給ライン２１ａ，２２ａにより各々連結されている。
また上記タンク２３，２４とミキシング槽２７とは、供
給ライン２５，２６で各々連結されており、この供給ラ
イン２５，２６には、バルブ３１，３２が装着されてい
る。FIG. 2 is a block diagram showing a photoresist mixing apparatus according to the present invention. This apparatus is composed of tanks 21 and 22 in which nitrogen gas (N 2 ) is stored, a sealed tank 23 in which casein and gelatin, which are the main components of photoresist, are stored, and a heavy chrome serving as a photosensitizer. Sealed tank 2 containing ammonium acidate
4 and. The nitrogen gas tanks 21 and 22 and the tanks 23 and 24 storing the photoresist and ammonium dichromate are connected by gas supply lines 21a and 22a for supplying nitrogen gas, respectively.
The tanks 23 and 24 and the mixing tank 27 are connected by supply lines 25 and 26, and valves 31 and 32 are attached to the supply lines 25 and 26.
【００１１】上記ミキシング槽２７は、下部に設けたモ
ーター３５により左右回転可能に構成されている。ま
た、ミキシング槽２７の上部には、ミキシング槽２７を
真空状態にするためにミキシング槽２７内部に存在する
空気を排出させる空気排出ライン２９が連結されてお
り、この空気排出ライン２９にもバルブ３３が装着され
ている。一方、上記ミキシング槽２７の下部に連結され
た送出ライン３７によりミキシング槽２７と別の容器３
９が連通する。上記送出ライン３７にもバルブ３４が装
着されている。The mixing tank 27 is configured to be rotatable left and right by a motor 35 provided at the bottom. Further, an air discharge line 29 for discharging the air existing in the mixing tank 27 to bring the mixing tank 27 into a vacuum state is connected to the upper portion of the mixing tank 27, and the valve 33 is also connected to the air discharge line 29. Is installed. On the other hand, a delivery line 37 connected to the lower portion of the mixing tank 27 separates the mixing tank 27 from the mixing tank 27.
9 communicate. A valve 34 is also attached to the delivery line 37.
【００１２】このように構成されたフォトレジストミキ
シング装置を利用してフォトレジストをミキシングする
方法を詳細に説明する。先ず、フォトレジストの主成分
であるカゼインやゼラチンと重クローム酸アンモニウム
を各々のタンク２３，２４に必要量ほど入れた後、これ
らのタンク２３，２４を密閉する。この時上記タンク２
３，２４と窒素ガスが入れられているタンク２１，２２
とは、ガス供給ライン２１ａ，２２ａで連通している。
上記タンク２３，２４に入れられているフォトレジスト
と重クローム酸アンモニウムは、窒素ガスの圧力により
供給ライン２５，２６を通って必要量ほどミキシング槽
２７へ供給される。上記フォトレジストの主成分である
カゼインやゼラチン等は、その成分を動物性蛋白質から
抽出しているため、パターンの形成に必要な感光剤が含
まれていない。従って、上記フォトレジストに感光剤の
役割をする重クローム酸アンモニウムを適宜な比率でミ
キシングして使用する。また、上記カゼインやゼラチン
フォトレジストは、物理的な力が加えられると空気と接
触して多くの微粒子や気泡が発生する特性を持ってい
る。従って、本発明では、従来使用したポンプの代りに
窒素ガスを使用し、この窒素ガスで加圧してフォトレジ
ストと重クローム酸アンモニウムを供給するようにして
いる。この窒素ガスは、異なるどの物質とも反応しない
不活性ガスであるので、酸化反応を防止して微粒子及び
気泡発生を最小限に押える。その後、上記フォトレジス
トと空気との接触を防止するために、ミキシング槽２７
の上部に設けた排出ライン２９を介して、ミキシング槽
２７内部に存在する空気を完全に排出して真空状態で作
る。その後、ミキシング槽２７の下部に設けたモーター
３５を利用して、上記ミキシング槽２７に供給されたフ
ォトレジストと重クローム酸アンモニウムが完全にミキ
シングされるまでミキシング槽２７を左右に回転させて
ミキシングする。その後、上記のような工程によりミキ
シングされたフォトレジストは、その次の工程で供給さ
れるラインに送られるか、あるいは送出ライン３７を通
って別の容器３９に貯蔵されて保管される。A method of mixing the photoresist using the photoresist mixing device thus constructed will be described in detail. First, casein and gelatin, which are the main components of the photoresist, and ammonium bichromate are put into the respective tanks 23 and 24 in a required amount, and then these tanks 23 and 24 are sealed. At this time, the above tank 2
Tanks 21,22 containing 3,24 and nitrogen gas
And are communicated with each other via gas supply lines 21a and 22a.
The photoresist and ammonium bichromate contained in the tanks 23 and 24 are supplied to the mixing tank 27 in the required amount through the supply lines 25 and 26 by the pressure of nitrogen gas. Casein, gelatin, and the like, which are the main components of the photoresist, do not contain a photosensitizer necessary for forming a pattern, because the components are extracted from animal protein. Therefore, ammonium bichromate, which functions as a photosensitizer, is mixed with the photoresist at an appropriate ratio. In addition, the casein and gelatin photoresists have the property of being in contact with air to generate many fine particles and bubbles when a physical force is applied. Therefore, in the present invention, nitrogen gas is used instead of the conventionally used pump, and the nitrogen gas is pressurized to supply the photoresist and ammonium bichromate. Since this nitrogen gas is an inert gas that does not react with any different substance, it prevents the oxidation reaction and suppresses the generation of fine particles and bubbles. Then, in order to prevent contact between the photoresist and air, the mixing tank 27
The air existing inside the mixing tank 27 is completely discharged through a discharge line 29 provided at the upper part of the chamber to create a vacuum state. Then, using the motor 35 provided below the mixing tank 27, the mixing tank 27 is rotated left and right to mix until the photoresist and ammonium bichromate supplied to the mixing tank 27 are completely mixed. . After that, the photoresist mixed by the above process is sent to a line to be supplied in the next process, or is stored and stored in another container 39 through the sending line 37.
【００１３】[0013]
【発明の効果】上述したように、本発明によるフォトレ
ジストミキシング方法及びその装置は窒素ガスと密閉さ
れたミキシング槽とを利用することにより、微粒子及び
気泡発生を最小限に押えることができる。従って、上記
工程により微粒子及び気泡の発生が最小限に押えられた
フォトレジストを使用すると、フォトレジストを均一に
塗布することができるので、スピードボート（Speed bo
at）現像が発生することなく、かつ現像後均一なパター
ンを得ることができ、カラーフィルタの安定された分光
特性が得られる。その結果、歩留りの向上は勿論、原価
節減及びプロセスの安定化を図ることができる利点があ
る。As described above, the photoresist mixing method and apparatus according to the present invention can minimize the generation of fine particles and bubbles by using nitrogen gas and a sealed mixing tank. Therefore, if the photoresist in which the generation of fine particles and bubbles is suppressed to the minimum by the above process is used, the photoresist can be uniformly applied.
at) It is possible to obtain a uniform pattern after development without causing development, and to obtain stable spectral characteristics of the color filter. As a result, there is an advantage that not only the yield can be improved, but also the cost can be saved and the process can be stabilized.
【図１】従来のフォトレジストミキシング装置を示す構
成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing a conventional photoresist mixing apparatus.
【図２】本発明の実施例に係るフォトレジストミキシン
グ装置を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a photoresist mixing device according to an embodiment of the present invention.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 パーク、 ハン−スー 大韓民国 キユンキ−ド スオン市 ジヤ ンガン−ク ユルゴン−ドン 109 ジヤ ンガン アパートメント ナ−213 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Park, Han-Sue Kyunky-do Suong City, Republic of Korea Ngan-ku Yurgon-don 109 Jiya Ngan Apartment Na-213
Claims (5)
成時に使用されるフォトレジストミキシング方法におい
て、フォトレジストと重クローム酸アンモニウムをミキ
シング槽に供給する工程と、上記ミキシング槽内部を真
空状態にする工程と、上記ミキシング槽内でフォトレジ
ストと重クローム酸アンモニウムとをミキシングする工
程とから成るカラーフィルタ製造用フォトレジストのミ
キシング方法。1. A photoresist mixing method used for forming a dyed layer during a color filter manufacturing process, comprising supplying photoresist and ammonium bichromate to a mixing tank, and evacuating the inside of the mixing tank. A method for mixing a photoresist for producing a color filter, which comprises the steps of: mixing a photoresist and ammonium bichromate in the mixing tank.
モニウムは、窒素ガス（Ｎ2 ）を利用したガス圧力によ
りミキシング槽に供給されるようになっていることを特
徴とする請求項１記載のカラーフィルタ製造用のフォト
レジストのミキシング方法。2. The color filter according to claim 1, wherein the photoresist and ammonium bichromate are supplied to the mixing tank by a gas pressure using nitrogen gas (N 2 ). Method for mixing photoresist for manufacturing.
して左右に回転させながら供給されたフォトレジストと
重クローム酸アンモニウムをミキシングすることを特徴
とする請求項１記載のカラーフィルタ製造用のフォトレ
ジストのミキシング方法。3. The photoresist for producing a color filter according to claim 1, wherein in the mixing tank, the supplied photoresist is mixed with ammonium bichromate while being rotated left and right by using a motor. Mixing method.
成時に使用されるフォトレジストをミキシングするため
のミキシング装置であって、Ｎ2 が貯蔵されたタンク
と、フォトレジスト及び重クローム酸アンモニウムを入
れておくタンクと、上記タンク内部へガスを注入するガ
ス供給ラインと、モーターにより回転しながら供給され
るフォトレジストと重クローム酸アンモニウムをミキシ
ングするためのミキシング槽と、上記フォトレジストと
重クローム酸アンモニウムが入れているタンクとミキシ
ング槽を連結する供給ラインと、上記ミキシング槽内部
に存在する空気を排出させる空気排出ラインと、上記ミ
キシング槽の下部に設けられ該ミキシング槽内でミキシ
ングされるフォトレジストを送出する送出ラインと、各
々のラインに設けたバルブとを有することを特徴とする
カラーフィルタ製造用のフォトレジストミキシング装
置。4. A mixing device for mixing a photoresist used for forming a dyed layer during a color filter manufacturing process, comprising a tank storing N 2 and a photoresist and ammonium bichromate. Tank, a gas supply line for injecting gas into the tank, a mixing tank for mixing the photoresist and ammonium bichromate supplied while being rotated by a motor, the photoresist and ammonium bichromate A supply line connecting the tank and the mixing tank, an air discharge line for discharging the air existing in the mixing tank, and a photoresist provided in the lower portion of the mixing tank and mixed in the mixing tank. The sending line to send and the bar provided on each line Photoresist mixing device for manufacturing a color filter characterized by having a drive.
気が完全に排出された真空状態であることを特徴とする
請求項４記載のカラーフィルタ製造用のフォトレジスト
ミキシング装置。5. The photoresist mixing apparatus for manufacturing a color filter according to claim 4, wherein the mixing tank is in a vacuum state in which air existing therein is completely discharged.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910009584A KR940000192B1 (en) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | Method and apparatus of mixing |
| KR1991-9584 | 1991-06-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519455A true JPH0519455A (en) | 1993-01-29 |
Family
ID=19315625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3180965A Pending JPH0519455A (en) | 1991-06-11 | 1991-07-22 | Method and device for mixing photo-resist for manufacturing color filter |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0519455A (en) |
| KR (1) | KR940000192B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100322685B1 (en) * | 1994-12-06 | 2002-06-24 | 박영구 | Spin coater |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972410A (en) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of color light separating filter |
| JPS5974513A (en) * | 1982-10-21 | 1984-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of color filter |
| JPH01109302A (en) * | 1987-10-23 | 1989-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of color filter |
| JPH02212545A (en) * | 1989-02-10 | 1990-08-23 | Nitto Denko Corp | Casting epoxy resin composition |
| JPH02263613A (en) * | 1989-04-05 | 1990-10-26 | Teijin Ltd | Reaction injection molding method |
| JPH02297402A (en) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Masahiro Abe | Manufacture of coagulated molding |
| JPH039818A (en) * | 1989-06-06 | 1991-01-17 | Mitsubishi Electric Corp | Casting device |
| JPH04204656A (en) * | 1990-11-30 | 1992-07-27 | Fuji Yakuhin Kogyo Kk | Negative type photosensitive composition and formation of color filter using same |
-
1991
- 1991-06-11 KR KR1019910009584A patent/KR940000192B1/en active IP Right Grant
- 1991-07-22 JP JP3180965A patent/JPH0519455A/en active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972410A (en) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of color light separating filter |
| JPS5974513A (en) * | 1982-10-21 | 1984-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of color filter |
| JPH01109302A (en) * | 1987-10-23 | 1989-04-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of color filter |
| JPH02212545A (en) * | 1989-02-10 | 1990-08-23 | Nitto Denko Corp | Casting epoxy resin composition |
| JPH02263613A (en) * | 1989-04-05 | 1990-10-26 | Teijin Ltd | Reaction injection molding method |
| JPH02297402A (en) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Masahiro Abe | Manufacture of coagulated molding |
| JPH039818A (en) * | 1989-06-06 | 1991-01-17 | Mitsubishi Electric Corp | Casting device |
| JPH04204656A (en) * | 1990-11-30 | 1992-07-27 | Fuji Yakuhin Kogyo Kk | Negative type photosensitive composition and formation of color filter using same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940000192B1 (en) | 1994-01-12 |
| KR930000150A (en) | 1993-01-15 |
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