JPH05192862A - 片面ラッピング・ポリッシング装置 - Google Patents
片面ラッピング・ポリッシング装置Info
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- JPH05192862A JPH05192862A JP4007277A JP727792A JPH05192862A JP H05192862 A JPH05192862 A JP H05192862A JP 4007277 A JP4007277 A JP 4007277A JP 727792 A JP727792 A JP 727792A JP H05192862 A JPH05192862 A JP H05192862A
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- surface plate
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- holder
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は加工物を最適の加工条件で安定して
研磨することができ、極めて高い平滑性を有する平面を
容易に作製することができ、製品歩留りの高い信頼性、
生産性に優れた片面ラッピング・ポリッシング装置を目
的とする。 【構成】 本発明の片面ラッピング・ポリッシング装置
は、随時供給される砥粒と、前記砥粒を加工物２の加工
面に滞留させ研磨を行う定盤１と、前記定盤１を回転さ
せる定盤駆動系と、前記加工物２を固定し前記加工物２
の加工面を前記定盤１に圧接させる加工物ホルダー部Ｂ
と、前記加工物ホルダー部Ｂを直接回転させる加工物ホ
ルダー部駆動系と、を備えた構成からなる。
研磨することができ、極めて高い平滑性を有する平面を
容易に作製することができ、製品歩留りの高い信頼性、
生産性に優れた片面ラッピング・ポリッシング装置を目
的とする。 【構成】 本発明の片面ラッピング・ポリッシング装置
は、随時供給される砥粒と、前記砥粒を加工物２の加工
面に滞留させ研磨を行う定盤１と、前記定盤１を回転さ
せる定盤駆動系と、前記加工物２を固定し前記加工物２
の加工面を前記定盤１に圧接させる加工物ホルダー部Ｂ
と、前記加工物ホルダー部Ｂを直接回転させる加工物ホ
ルダー部駆動系と、を備えた構成からなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシリコンウエハ等の加工
物の加工面を研磨し、精密な平滑加工面とする片面ラッ
ピング・ポリッシング装置に関するものである。
物の加工面を研磨し、精密な平滑加工面とする片面ラッ
ピング・ポリッシング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、集積回路の集積度の向上等に伴
い、極めて高い平滑性を有するシリコンウエハが要求さ
れ、そのための高度な加工技術の開発が強く求められて
いる。
い、極めて高い平滑性を有するシリコンウエハが要求さ
れ、そのための高度な加工技術の開発が強く求められて
いる。
【０００３】このような平滑加工面を得ることのできる
加工装置として、回転する定盤と、定盤に随時供給され
る砥粒と、を用い、加工物ホルダー部に固定された加工
物の加工面を定盤に圧接させて研磨を行う片面ラッピン
グ・ポリッシング装置が知られている。
加工装置として、回転する定盤と、定盤に随時供給され
る砥粒と、を用い、加工物ホルダー部に固定された加工
物の加工面を定盤に圧接させて研磨を行う片面ラッピン
グ・ポリッシング装置が知られている。
【０００４】しかし、加工物ホルダー部自体を固定する
と、加工面の定盤中心に近い部分と、定盤中心から遠い
部分とで、加工面と定盤の相対速度が異なるために、加
工面内で加工レートに大きな差が現れ、加工面の平滑性
を損なってしまう。
と、加工面の定盤中心に近い部分と、定盤中心から遠い
部分とで、加工面と定盤の相対速度が異なるために、加
工面内で加工レートに大きな差が現れ、加工面の平滑性
を損なってしまう。
【０００５】そこで、これを防ぐために、加工物ホルダ
ー部を間接的に回転させることが行われていた。
ー部を間接的に回転させることが行われていた。
【０００６】以下に従来の片面ラッピング・ポリッシン
グ装置について説明する。図４は従来の片面ラッピング
・ポリッシング装置の概要図であり、図５は他の従来の
片面ラッピング・ポリッシング装置の概要図である。
グ装置について説明する。図４は従来の片面ラッピング
・ポリッシング装置の概要図であり、図５は他の従来の
片面ラッピング・ポリッシング装置の概要図である。
【０００７】１は駆動系（図示せず）によって回転させ
られ随時供給される砥粒（図示せず）によって研磨を行
う定盤、２は定盤１によって研磨される加工面を定盤１
に対面させて配設されたシリコンウエハ等の加工物、３
は加工物２を保持し定盤１へと圧接させる回転自在の加
工物保持部、４は加工物２の加工面と定盤１との間に追
従性を持たせ加工物２の回転軸が定盤１と垂直となるよ
うに保つユニバーサルジョイント、５はユニバーサルジ
ョイント４に連設された回転軸、６は重錘やエアー圧等
で加工物２を定盤１に圧接する加圧部、７は加工物を回
転させるモーター、８はモーター７の動力を伝達する半
強制駆動装置、９は加工物保持部３に嵌装され半強制駆
動装置８により伝えられる動力の一部を摩擦力によって
間接的に加工物保持部３に伝達する修正リング、Ａは加
工物保持部３等からなる加工物ホルダー部である。
られ随時供給される砥粒（図示せず）によって研磨を行
う定盤、２は定盤１によって研磨される加工面を定盤１
に対面させて配設されたシリコンウエハ等の加工物、３
は加工物２を保持し定盤１へと圧接させる回転自在の加
工物保持部、４は加工物２の加工面と定盤１との間に追
従性を持たせ加工物２の回転軸が定盤１と垂直となるよ
うに保つユニバーサルジョイント、５はユニバーサルジ
ョイント４に連設された回転軸、６は重錘やエアー圧等
で加工物２を定盤１に圧接する加圧部、７は加工物を回
転させるモーター、８はモーター７の動力を伝達する半
強制駆動装置、９は加工物保持部３に嵌装され半強制駆
動装置８により伝えられる動力の一部を摩擦力によって
間接的に加工物保持部３に伝達する修正リング、Ａは加
工物保持部３等からなる加工物ホルダー部である。
【０００８】以上のように構成された従来の片面ラッピ
ング・ポリッシング装置について、以下その動作を説明
する。
ング・ポリッシング装置について、以下その動作を説明
する。
【０００９】図４に示すものは、駆動系によって定盤１
を回転させ、定盤１上に砥粒（図示せず）を随時供給し
て研磨を行う。この時、定盤１に圧接された加工物２の
加工面に、定盤１との摩擦力がトルクとして加わる。こ
のトルクは加工面の定盤１の中心に近い部分と定盤１の
中心から遠い部分とで大きさが異なるため、加工物２に
回転運動（以下、つれまわり運動と呼ぶ）が生じ、加工
物２は回転自在な加工物ホルダー部Ａと共に回転しなが
ら定盤１によって研磨される。
を回転させ、定盤１上に砥粒（図示せず）を随時供給し
て研磨を行う。この時、定盤１に圧接された加工物２の
加工面に、定盤１との摩擦力がトルクとして加わる。こ
のトルクは加工面の定盤１の中心に近い部分と定盤１の
中心から遠い部分とで大きさが異なるため、加工物２に
回転運動（以下、つれまわり運動と呼ぶ）が生じ、加工
物２は回転自在な加工物ホルダー部Ａと共に回転しなが
ら定盤１によって研磨される。
【００１０】一方、図５に示すものは、このつれまわり
運動によって加工物２（図示せず）が同様に回転する
が、さらに、モーター７によって発生する動力を半強制
駆動装置８によって修正リング９に伝達し、その動力の
一部を摩擦力によって間接的に加工物保持部３へ伝達す
ることにより、加工物２（図示せず）のつれまわり運動
を一部助成して研磨が行われていた。
運動によって加工物２（図示せず）が同様に回転する
が、さらに、モーター７によって発生する動力を半強制
駆動装置８によって修正リング９に伝達し、その動力の
一部を摩擦力によって間接的に加工物保持部３へ伝達す
ることにより、加工物２（図示せず）のつれまわり運動
を一部助成して研磨が行われていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、つれまわり運動を利用した従来の片面ラッ
ピング・ポリッシング装置においては、つれまわり運動
が加圧力と定盤との摩擦力等に強く依存するために、加
工物を最適な回転数等の加工条件で研磨することができ
ないという問題点があった。又、つれまわり運動による
加工物の回転がすべりを伴った不安定なものであるため
に、加工面内の加工量にバラツキを生じ、偏研磨状態と
なり、加工面の平滑性を損なうという問題点があった。
更に研磨液を用いて湿式ラップを行う際に、加工物の回
転が不安定なために、加工物が定盤と液膜を介して浮上
する姿勢が不安定となり、液膜が定盤上に一様に広がる
ことができず、定盤上の砥粒分布が不均一になる結果、
加工面内の加工量にバラツキが生じ、加工面の平滑性を
損なうという問題点があった。
の構成では、つれまわり運動を利用した従来の片面ラッ
ピング・ポリッシング装置においては、つれまわり運動
が加圧力と定盤との摩擦力等に強く依存するために、加
工物を最適な回転数等の加工条件で研磨することができ
ないという問題点があった。又、つれまわり運動による
加工物の回転がすべりを伴った不安定なものであるため
に、加工面内の加工量にバラツキを生じ、偏研磨状態と
なり、加工面の平滑性を損なうという問題点があった。
更に研磨液を用いて湿式ラップを行う際に、加工物の回
転が不安定なために、加工物が定盤と液膜を介して浮上
する姿勢が不安定となり、液膜が定盤上に一様に広がる
ことができず、定盤上の砥粒分布が不均一になる結果、
加工面内の加工量にバラツキが生じ、加工面の平滑性を
損なうという問題点があった。
【００１２】一方、つれまわり運動を一部助成する他の
従来の片面ラッピング・ポリッシング装置においては、
モーターで発生した動力を修正リングと加工物保持部と
の間の摩擦力によって間接的に伝達しているために、両
者の間で常にすべりが発生し、加工物の回転が不安定な
ものとなり、加工面の加工量にバラツキが生じ、偏研磨
状態となり、加工面の平滑性を損なうという問題点があ
った。又、湿式ラップを行う際に、加工物の回転が不安
定なために、前述の場合と同様に定盤上の砥粒分布が不
均一となり、加工面の平滑性を損なうという問題点があ
った。
従来の片面ラッピング・ポリッシング装置においては、
モーターで発生した動力を修正リングと加工物保持部と
の間の摩擦力によって間接的に伝達しているために、両
者の間で常にすべりが発生し、加工物の回転が不安定な
ものとなり、加工面の加工量にバラツキが生じ、偏研磨
状態となり、加工面の平滑性を損なうという問題点があ
った。又、湿式ラップを行う際に、加工物の回転が不安
定なために、前述の場合と同様に定盤上の砥粒分布が不
均一となり、加工面の平滑性を損なうという問題点があ
った。
【００１３】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、加工物を所要の回転数で安定して研磨することがで
き、極めて高い平滑性を有する平面を容易に作製するこ
とができ、製品歩留りの高い信頼性、生産性に優れた片
面ラッピング・ポリッシング装置を提供することを目的
とする。
で、加工物を所要の回転数で安定して研磨することがで
き、極めて高い平滑性を有する平面を容易に作製するこ
とができ、製品歩留りの高い信頼性、生産性に優れた片
面ラッピング・ポリッシング装置を提供することを目的
とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の請求項１の片面ラッピング・ポリッシング
装置は、随時供給される砥粒と、前記砥粒を加工物の加
工面に滞留させ研磨を行う定盤と、前記定盤を回転させ
る定盤駆動系と、前記加工物を固定し前記加工物の加工
面を前記定盤に圧接させる加工物ホルダー部と、前記加
工物ホルダー部の加工物保持部を直接回転させる加工物
ホルダー部駆動系と、を備えた構成を有しており、請求
項２の片面ラッピング・ポリッシング装置は、請求項１
の片面ラッピング・ポリッシング装置の前記加工物ホル
ダー部が、前記加工物を保持する加工物保持部と、前記
加工物保持部に連設され前記加工物保持部を前記定盤と
垂直に保ちながら前記加工物ホルダー部駆動系の回転力
を伝達する回転軸と、前記回転軸の他端に配設され前記
加工物を最適の加圧力で定盤に圧接させる加圧部と、前
記回転軸を回転自在に挿着支持する支持棹と、前記支持
棹の他端に配設されたバランス用重錘部とからなる構成
を有しており、請求項３の片面ラッピング・ポリッシン
グ装置は、請求項１の片面ラッピング・ポリッシング装
置の前記加工物ホルダー部が、前記加工物を保持しその
外周面の少なくとも一ヶ所に係合部を形成した加工物保
持部と、前記加工物保持部の中央部に連設された回転軸
と、前記回転軸の他端に形成され前記加工物を前記定盤
に圧接させる加圧部と、前記加工物保持部を嵌装し前記
加工物ホルダー部駆動系の回転力を伝達し内周面に前記
加工物保持部の係合部との係合手段が形成された修正リ
ングと、からなる構成を有している。
に、本発明の請求項１の片面ラッピング・ポリッシング
装置は、随時供給される砥粒と、前記砥粒を加工物の加
工面に滞留させ研磨を行う定盤と、前記定盤を回転させ
る定盤駆動系と、前記加工物を固定し前記加工物の加工
面を前記定盤に圧接させる加工物ホルダー部と、前記加
工物ホルダー部の加工物保持部を直接回転させる加工物
ホルダー部駆動系と、を備えた構成を有しており、請求
項２の片面ラッピング・ポリッシング装置は、請求項１
の片面ラッピング・ポリッシング装置の前記加工物ホル
ダー部が、前記加工物を保持する加工物保持部と、前記
加工物保持部に連設され前記加工物保持部を前記定盤と
垂直に保ちながら前記加工物ホルダー部駆動系の回転力
を伝達する回転軸と、前記回転軸の他端に配設され前記
加工物を最適の加圧力で定盤に圧接させる加圧部と、前
記回転軸を回転自在に挿着支持する支持棹と、前記支持
棹の他端に配設されたバランス用重錘部とからなる構成
を有しており、請求項３の片面ラッピング・ポリッシン
グ装置は、請求項１の片面ラッピング・ポリッシング装
置の前記加工物ホルダー部が、前記加工物を保持しその
外周面の少なくとも一ヶ所に係合部を形成した加工物保
持部と、前記加工物保持部の中央部に連設された回転軸
と、前記回転軸の他端に形成され前記加工物を前記定盤
に圧接させる加圧部と、前記加工物保持部を嵌装し前記
加工物ホルダー部駆動系の回転力を伝達し内周面に前記
加工物保持部の係合部との係合手段が形成された修正リ
ングと、からなる構成を有している。
【００１５】
【作用】この構成によって、加工物の材質に応じた最適
の加圧力や回転数で加工物を安定して研磨することがで
きる。
の加圧力や回転数で加工物を安定して研磨することがで
きる。
【００１６】
（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【００１７】図１（ａ）は本発明の一実施例における片
面ラッピング・ポリッシング装置の要部側面図であり、
図１（ｂ）はその片面ラッピング・ポリッシング装置の
要部斜視図である。
面ラッピング・ポリッシング装置の要部側面図であり、
図１（ｂ）はその片面ラッピング・ポリッシング装置の
要部斜視図である。
【００１８】１は定盤、２は加工物、３は加工物保持
部、４はユニバーサルジョイント、５は回転軸、７はモ
ーターでありこれらは従来例と同様なものなので同一の
番号を付し説明を省略する。１０は加工物２を定盤１に
圧接する最適な加圧力を発生させる重錘やエアー圧等か
らなる加圧部、１１はモーター７の動力を伝達するベル
ト、１２は加圧部１０以外のモーター７等の重量を相殺
させるためのバランス用重錘部、１３は支持棹保持部１
３′に回動自在に保持され回転軸５を回転自在に挿着支
持する支持棹、Ｂは加工物保持部３や回転軸５，加圧部
１０，バランス用重錘部１２，支持棹１３等からなる加
工物ホルダー部である。
部、４はユニバーサルジョイント、５は回転軸、７はモ
ーターでありこれらは従来例と同様なものなので同一の
番号を付し説明を省略する。１０は加工物２を定盤１に
圧接する最適な加圧力を発生させる重錘やエアー圧等か
らなる加圧部、１１はモーター７の動力を伝達するベル
ト、１２は加圧部１０以外のモーター７等の重量を相殺
させるためのバランス用重錘部、１３は支持棹保持部１
３′に回動自在に保持され回転軸５を回転自在に挿着支
持する支持棹、Ｂは加工物保持部３や回転軸５，加圧部
１０，バランス用重錘部１２，支持棹１３等からなる加
工物ホルダー部である。
【００１９】ここで、砥粒としては、アルミナ，ダイヤ
モンド，コロイダルシリカ等からなる微粒子が好適に用
いられる。
モンド，コロイダルシリカ等からなる微粒子が好適に用
いられる。
【００２０】以上のように構成された本実施例における
片面ラッピング・ポリッシング装置について、以下その
動作を説明する。
片面ラッピング・ポリッシング装置について、以下その
動作を説明する。
【００２１】加工物ホルダー部Ｂはモーター７等からな
る駆動系によって直接駆動され、定盤１の定盤駆動系と
は無関係に、加工物２を直接最適の加工条件で安定して
研磨する。
る駆動系によって直接駆動され、定盤１の定盤駆動系と
は無関係に、加工物２を直接最適の加工条件で安定して
研磨する。
【００２２】又、モーター７等の重量をバランス用重錘
部１２によって相殺しているために、加圧部１０によっ
て加工物２の材質等に応じた最適の加圧力でかつ加工物
２の加工面の全面を定盤１に押しつけて加工することが
できる。
部１２によって相殺しているために、加圧部１０によっ
て加工物２の材質等に応じた最適の加圧力でかつ加工物
２の加工面の全面を定盤１に押しつけて加工することが
できる。
【００２３】上記の本実施例における片面ラッピング・
ポリッシング装置と、つれまわり運動を利用した従来の
片面ラッピング・ポリッシング装置について、性能比較
試験を行った。以下その結果について説明する。
ポリッシング装置と、つれまわり運動を利用した従来の
片面ラッピング・ポリッシング装置について、性能比較
試験を行った。以下その結果について説明する。
【００２４】（実験例）加工物２としてアルミニウム基
板を用い、次の加工条件で加工した。 砥粒：平均粒径０．５（μｍ）のアルミナ粒子 定盤回転数：１００（ｒｐｍ） 加圧力：３５０（ｇ／cm2 ） 加工時間：３００（ｓｅｃ） 上記の条件によって研磨されたアルミニウム基板の加工
面の表面形状を、非接触の光学式表面粗さ計を用いて倍
率５０万倍の条件で測定した。その測定結果を図２
（ａ）に示す。
板を用い、次の加工条件で加工した。 砥粒：平均粒径０．５（μｍ）のアルミナ粒子 定盤回転数：１００（ｒｐｍ） 加圧力：３５０（ｇ／cm2 ） 加工時間：３００（ｓｅｃ） 上記の条件によって研磨されたアルミニウム基板の加工
面の表面形状を、非接触の光学式表面粗さ計を用いて倍
率５０万倍の条件で測定した。その測定結果を図２
（ａ）に示す。
【００２５】図２（ａ）は実験例の表面形状を示すグラ
フである。 （比較例）つれまわり運動を利用した従来の片面ラッピ
ング・ポリッシング装置を用い、加工物２をつれまわり
運動によって回転させた他は、実験例と同一の条件でア
ルミニウム基板を研磨加工した。
フである。 （比較例）つれまわり運動を利用した従来の片面ラッピ
ング・ポリッシング装置を用い、加工物２をつれまわり
運動によって回転させた他は、実験例と同一の条件でア
ルミニウム基板を研磨加工した。
【００２６】このアルミニウム基板の加工面の表面形状
を実験例と同様にして測定した。その測定結果を図２
（ｂ）に示す。
を実験例と同様にして測定した。その測定結果を図２
（ｂ）に示す。
【００２７】図２（ｂ）は比較例の表面形状を示すグラ
フである。図２（ａ）より明らかなように、実験例の表
面形状は、加工面内の加工量が均一であるために、極め
て高い平滑性を有していることがわかる。一方、比較例
の表面形状は、加工面内の加工量にバラツキが生じたた
めに、多数の凹凸部や偏研磨された部分（右下部等）が
存在し、その平滑性は実験例に対して明らかに劣ってい
ることがわかる。
フである。図２（ａ）より明らかなように、実験例の表
面形状は、加工面内の加工量が均一であるために、極め
て高い平滑性を有していることがわかる。一方、比較例
の表面形状は、加工面内の加工量にバラツキが生じたた
めに、多数の凹凸部や偏研磨された部分（右下部等）が
存在し、その平滑性は実験例に対して明らかに劣ってい
ることがわかる。
【００２８】以上のように本実施例によれば、極めて高
い平滑性を有する平面を容易に作製することができる。
い平滑性を有する平面を容易に作製することができる。
【００２９】（実施例２）以下本発明の第二の実施例に
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
【００３０】図３（ａ）は本発明の第二の実施例におけ
る片面ラッピング・ポリッシング装置の要部斜視図であ
り、図３（ｂ）は片面ラッピング・ポリッシング装置の
要部平面図である。
る片面ラッピング・ポリッシング装置の要部斜視図であ
り、図３（ｂ）は片面ラッピング・ポリッシング装置の
要部平面図である。
【００３１】１は定盤、５は回転軸、６は加圧部、７は
モーター、１１はベルトであり、これらは従来例と同様
なものなので同一の番号を付し説明を省略する。１４は
その外周の少なくとも１ヵ所に係合用凹部ａが形成され
た加工物保持部、１５はその内周に係合用凸部ｂが係合
用凹部ａと係合して加工物保持部１４を嵌装しモーター
７の動力を直接加工物保持部１４に伝達する修正リン
グ、１６はベルト１１，ローラー１７等からなりモータ
ー７の動力を修正リング１５に伝達する強制駆動装置、
Ｃは加工物保持部１４等からなる加工物ホルダー部であ
る。
モーター、１１はベルトであり、これらは従来例と同様
なものなので同一の番号を付し説明を省略する。１４は
その外周の少なくとも１ヵ所に係合用凹部ａが形成され
た加工物保持部、１５はその内周に係合用凸部ｂが係合
用凹部ａと係合して加工物保持部１４を嵌装しモーター
７の動力を直接加工物保持部１４に伝達する修正リン
グ、１６はベルト１１，ローラー１７等からなりモータ
ー７の動力を修正リング１５に伝達する強制駆動装置、
Ｃは加工物保持部１４等からなる加工物ホルダー部であ
る。
【００３２】以上のように構成された本実施例における
片面ラッピング・ポリッシング装置について、以下その
動作を説明する。
片面ラッピング・ポリッシング装置について、以下その
動作を説明する。
【００３３】加工物保持部１４と修正リング１５は係合
用凹部ａと係合用凸部ｂとで嵌合されているので、モー
ター７によって加工物ホルダー部Ｃを直接駆動でき、定
盤１の定盤駆動系とは無関係に、加工物を最適の加工条
件で安定して研磨することができ、実施例１と同様な優
れた効果を得ることができる。
用凹部ａと係合用凸部ｂとで嵌合されているので、モー
ター７によって加工物ホルダー部Ｃを直接駆動でき、定
盤１の定盤駆動系とは無関係に、加工物を最適の加工条
件で安定して研磨することができ、実施例１と同様な優
れた効果を得ることができる。
【００３４】尚、本実施例においては、加工物保持部１
４に係合用凹部ａを修正リング１５に係合用凸部ｂを形
成しているがこれらが逆であってもよく、又、螺着等他
の係合方法によるものでもよい。
４に係合用凹部ａを修正リング１５に係合用凸部ｂを形
成しているがこれらが逆であってもよく、又、螺着等他
の係合方法によるものでもよい。
【００３５】以上のように本実施例によれば、つれまわ
り運動を一部助成する他の従来の片面ラッピング・ポリ
ッシング装置を改良することにより、極めて高い平滑性
を有する平面を容易に作製することができる。
り運動を一部助成する他の従来の片面ラッピング・ポリ
ッシング装置を改良することにより、極めて高い平滑性
を有する平面を容易に作製することができる。
【００３６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、定盤を回
転させる駆動系とは独立して回転数を制御できる駆動系
による動力を用いて、加工物ホルダー部を直接回転させ
ることにより、加工物を最適の加工条件で安定して研磨
することができ、極めて高い平滑性を有する平面を容易
に作製することのできる製品歩留りの高い信頼性、生産
性に優れた片面ラッピング・ポリッシング装置を実現で
きるものである。
転させる駆動系とは独立して回転数を制御できる駆動系
による動力を用いて、加工物ホルダー部を直接回転させ
ることにより、加工物を最適の加工条件で安定して研磨
することができ、極めて高い平滑性を有する平面を容易
に作製することのできる製品歩留りの高い信頼性、生産
性に優れた片面ラッピング・ポリッシング装置を実現で
きるものである。
【図１】（ａ）本発明の一実施例における片面ラッピン
グ・ポリッシング装置の要部側面図 （ｂ）本発明の一実施例における片面ラッピング・ポリ
ッシング装置の要部斜視図
グ・ポリッシング装置の要部側面図 （ｂ）本発明の一実施例における片面ラッピング・ポリ
ッシング装置の要部斜視図
【図２】（ａ）実験例の表面形状を示すグラフ （ｂ）比較例の表面形状を示すグラフ
【図３】（ａ）本発明の第二の実施例における片面ラッ
ピング・ポリッシング装置の要部斜視図 （ｂ）本発明の第二の実施例における片面ラッピング・
ポリッシング装置の要部平面図
ピング・ポリッシング装置の要部斜視図 （ｂ）本発明の第二の実施例における片面ラッピング・
ポリッシング装置の要部平面図
【図４】従来の片面ラッピング・ポリッシング装置の概
要図
要図
【図５】他の従来例の片面ラッピング・ポリッシング装
置の概要図
置の概要図
１ 定盤 ２ 加工物 ３ 加工物保持部 ４ ユニバーサルジョイント ５ 回転軸 ６ 加圧部 ７ モーター ８ 半強制駆動装置 ９ 修正リング １０ 加圧部 １１ ベルト １２ バランス用重錘部 １３ 支持棹 １４ 加工物保持部 １５ 修正リング １６ 強制駆動装置 １７ ローラー Ａ 加工物ホルダー部 Ｂ 加工物ホルダー部 Ｃ 加工物ホルダー部 ａ 係合用凹部 ｂ 係合用凸部
Claims (3)
- 【請求項１】随時供給される砥粒と、前記砥粒をシリコ
ンウエハ等の加工物の加工面に滞留させ研磨を行う定盤
と、前記定盤を回転させる定盤駆動系と、前記加工物を
固定し前記加工物の加工面を前記定盤に圧接させる加工
物ホルダー部と、前記加工物ホルダー部の加工物保持部
を直接回転させる加工物ホルダー部駆動系と、を備えた
ことを特徴とする片面ラッピング・ポリッシング装置。 - 【請求項２】前記加工物ホルダー部が、前記加工物を保
持する加工物保持部と、前記加工物保持部に連設され前
記加工物保持部を前記定盤と垂直に保ちながら前記加工
物ホルダー部駆動系の回転力を伝達する回転軸と、前記
回転軸の他端に配設され前記加工物を最適の加圧力で定
盤に圧接させる加圧部と、前記回転軸を回転自在に挿着
支持する支持棹と、前記支持棹の他端に配設されたバラ
ンス用重錘部と、からなることを特徴とする請求項１に
記載の片面ラッピング・ポリッシング装置。 - 【請求項３】前記加工物ホルダー部が、前記加工物を保
持しその外周面の少なくとも一ヶ所に係合部が形成され
た加工物保持部と、前記加工物保持部の中央部に連設さ
れた回転軸と、前記回転軸の他端に形成され前記加工物
を前記定盤に圧接させる加圧部と、前記加工物保持部を
嵌装し前記加工物ホルダー部駆動系の回転力を伝達し内
周面に前記加工物保持部の係合部との係合手段が形成さ
れた修正リングと、からなることを特徴とする請求項１
に記載の片面ラッピング・ポリッシング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4007277A JPH05192862A (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | 片面ラッピング・ポリッシング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4007277A JPH05192862A (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | 片面ラッピング・ポリッシング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05192862A true JPH05192862A (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=11661538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4007277A Pending JPH05192862A (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | 片面ラッピング・ポリッシング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05192862A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004188546A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Hamai Co Ltd | 平行平面研磨装置 |
-
1992
- 1992-01-20 JP JP4007277A patent/JPH05192862A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004188546A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Hamai Co Ltd | 平行平面研磨装置 |
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