JPH05189815A - Manufacture of roller for manufacture of substrate for optical recording medium - Google Patents
Manufacture of roller for manufacture of substrate for optical recording mediumInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 96
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 293
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 293
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 132
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 78
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 39
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 28
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 28
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 26
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 18
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 12
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract description 10
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 abstract description 7
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 abstract description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 28
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 8
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 8
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 8
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 8
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000669 Chrome steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 3
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 3
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229940044192 2-hydroxyethyl methacrylate Drugs 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOZRRDISQZGNHI-UHFFFAOYSA-N [(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)amino]methanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.NC1=NC(N)=NC(NCO)=N1 WOZRRDISQZGNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 2
- VTRHYFDNOLMPHD-UHFFFAOYSA-N (1-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(OC(=O)C=C)CCCCC1 VTRHYFDNOLMPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEZCCHVCBAZAQD-UHFFFAOYSA-N 2-(aziridin-1-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1CC1 XEZCCHVCBAZAQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxy 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOOC(=O)C(C)=C POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C(C)=C ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C=C ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOYQWSVSJIWFRV-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC(C)OC1=CC=CC=C1 LOYQWSVSJIWFRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWVYKHVCNBPGRA-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(CCOC(=O)C=C)OC1=CC=CC=C1 GWVYKHVCNBPGRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150079841 EXPA8 gene Proteins 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100502016 Streptococcus pneumoniae serotype 4 (strain ATCC BAA-334 / TIGR4) exp8 gene Proteins 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N [(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N)=NC(NCO)=N1 MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTNAQYPNHOEHCW-UHFFFAOYSA-N [1-(2-methylprop-2-enoyloxy)cyclohexyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(OC(=O)C(C)=C)CCCCC1 XTNAQYPNHOEHCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)butyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C(C)=C GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体用基板製造用
ローラーの製造方法に関し、詳しくは光学的に情報の記
録・再生を行なう光記録媒体の透明基板の製造用ローラ
ーの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium, and more particularly to a method for manufacturing a roller for manufacturing a transparent substrate of an optical recording medium for optically recording / reproducing information.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、各種情報の記録には、磁気テー
プ、磁気ディスク等の磁気材料、各種半導体メモリー等
が主として用いられてきた。この様な磁気メモリー、半
導体メモリーは情報の書き込みおよび読みだしが容易に
行なえるという利点はあるが、反面、情報の内容を容易
に改ざんされたり、また高密度記録ができないという問
題点があった。かかる問題点を解決するために、各種多
様の情報を効率良く取り扱う手段として、光記録媒体に
よる光学的情報記録方法が提案され、そのための光学的
情報記録担体、記録再生方法、記録再生装置が提案され
ている。2. Description of the Related Art Conventionally, magnetic materials such as magnetic tapes and magnetic disks, and various semiconductor memories have been mainly used for recording various information. Such magnetic memory and semiconductor memory have an advantage that information can be easily written and read, but on the other hand, there are problems that the contents of information are easily tampered with and high-density recording cannot be performed. .. In order to solve such a problem, an optical information recording method using an optical recording medium has been proposed as a means for efficiently handling various kinds of information, and an optical information recording carrier, a recording / reproducing method, and a recording / reproducing apparatus therefor are proposed. Has been done.
【0003】かかる情報記録担体としての光記録媒体
は、一般にレーザー光を用いて情報記録担体上の光記録
層の一部を揮散させるか、反射率の変化を生じさせる
か、あるいは変形を生じさせて、光学的な反射率や透過
率の差によって情報を記録し、あるいは再生を行なって
いる。この場合、光記録層は情報を書き込み後、現像処
理などの必要がなく、「書いた後に直読する」ことので
きる、いわゆるDRAW(ダイレクト リード アフタ
ー ライト)媒体であり、高密度記録が可能であり、ま
た追加書き込みも可能であることから、情報の記録・保
存媒体として有効である。Such an optical recording medium as an information recording carrier generally uses a laser beam to volatilize a part of the optical recording layer on the information recording carrier, cause a change in reflectance, or cause deformation. Then, information is recorded or reproduced by a difference in optical reflectance or transmittance. In this case, the optical recording layer is a so-called DRAW (direct read after write) medium that can be “directly read after writing” without requiring development processing after writing information, and high density recording is possible. Moreover, since additional writing is possible, it is effective as a recording / storing medium of information.
【0004】図9(a),(b)は、従来の光記録媒体
(光ディスク、光カード)の模式的断面図であり、図9
(a)はディスク状の光記録媒体、図9(b)はカード
状の光記録媒体を示す。同図9において、31は透明基
板、32はトラック溝部、33は光記録層、34はスペ
ーサー、35は接着剤層、36は保護基板である。図9
において、情報の記録・再生は透明基板31およびトラ
ック溝部32を通して光学的に書き込みと読みだしを行
なう。この際、トラック溝部の微細な凹凸を利用してレ
ーザー光の位相差によりトラッキングを行なえる様にし
てある。9A and 9B are schematic sectional views of a conventional optical recording medium (optical disk, optical card).
9A shows a disk-shaped optical recording medium, and FIG. 9B shows a card-shaped optical recording medium. In FIG. 9, 31 is a transparent substrate, 32 is a track groove portion, 33 is an optical recording layer, 34 is a spacer, 35 is an adhesive layer, and 36 is a protective substrate. Figure 9
In information recording / reproducing, information is optically written and read through the transparent substrate 31 and the track groove portion 32. At this time, tracking can be performed by the phase difference of the laser light by utilizing the fine unevenness of the track groove portion.
【0005】従来のビデオディスク、オーディオディス
クなどでは、熱可塑性樹脂であるポリ塩化ビニル樹脂
(PVC)やポリカーボネート樹脂(PC)を、情報が
記録されている成型ロールで加熱押圧して情報またはプ
リフォーマットパターンを転写して基板を連続成型して
いる(特開昭56−86721号公報)。あるいは、そ
の他の方法としては、射出成型法を用いて枚葉で成型す
る方法も用いられている。In conventional video discs, audio discs, etc., a thermoplastic resin such as polyvinyl chloride resin (PVC) or polycarbonate resin (PC) is heated and pressed by a molding roll on which information is recorded, or information or preformat is applied. The substrate is continuously molded by transferring the pattern (Japanese Patent Laid-Open No. 56-86721). Alternatively, as another method, there is also used a method of molding a sheet by using an injection molding method.
【0006】連続成型するときの成型ロールの製造方法
としては、ロールにパターンを直接形成する方法と、枚
葉のパターンを形成したスタンパー(コマ)を作製し
て、接着剤などを用いてロールに接着などの方法で固定
する方法(特公昭50−11518号公報)、および磁
力や吸着、機械的な方法で枚葉のスタンパーをロールに
固定する方法(実公昭53−15825号公報、実開昭
50−9568号公報、実開昭57−164839号公
報)が用いられている。その他、樹脂型を用いた紫外線
硬化樹脂によるCDおよびCD−ROMの製造法が提案
されている。(WO88/03311号) しかしながら、上記した様な従来のビデオディスク、オ
ーディオディスクの方法と異なって、光ディスク、光カ
ード・光テープなどの光記録媒体では、オーディオディ
スクなどよりもパターンの精度が微細であるために、レ
ーザー描画装置などのフォトリソ関係の装置を用いるこ
とが必要となる。As a method for producing a forming roll for continuous forming, a method of directly forming a pattern on the roll and a method of producing a stamper (coma) on which a sheet-shaped pattern is formed and using an adhesive or the like to form the roll A method of fixing by a method such as adhesion (Japanese Patent Publication No. 50-11518), and a method of fixing a single-wafer stamper to a roll by magnetic force, adsorption, or a mechanical method (Japanese Utility Model Publication No. 53-15825, Japanese Utility Model Publication No. Sho. 50-9568 and Japanese Utility Model Laid-Open No. 57-164839) are used. In addition, a method for manufacturing a CD and a CD-ROM using a resin type UV curable resin has been proposed. (WO88 / 03311) However, unlike the conventional methods of the video disc and the audio disc as described above, an optical recording medium such as an optical disc and an optical card / optical tape has a finer pattern accuracy than the audio disc. Therefore, it is necessary to use a photolithography-related device such as a laser drawing device.
【0007】ロールにパターンを直接形成する方法で
は、ロールの表面精度は精度良く加工することはできる
が、円筒状のロール表面に精度良くパターンを描画また
は転写するのは困難であるという問題点が生じている。
その他に、一般に、金属材料からなるロールに直接パタ
ーンが形成されているために、金属ロール表面が汚れた
り、傷が付いたりしたときに、ロールごと交換しなけれ
ばならないという問題点があり、ロール一本の製造費用
が高いという問題点もある。In the method of directly forming the pattern on the roll, the surface accuracy of the roll can be processed with high accuracy, but it is difficult to accurately draw or transfer the pattern on the surface of the cylindrical roll. Has occurred.
In addition, in general, since a pattern is directly formed on a roll made of a metal material, there is a problem that the roll must be replaced when the surface of the metal roll becomes dirty or scratched. There is also a problem that the manufacturing cost of one piece is high.
【0008】枚葉のスタンパーを作製して、ロールに接
着などの方法で固定する方法では、一枚ごとにスタンパ
ーを作ることができるため、平面のスタンパーをフォト
リソを用いて作製することができて、パターン精度を良
く作製することは可能である。得られた枚葉のスタンパ
ーは接着剤または機械的な固定方法を用いてロール表面
に固定しているが、一般にこれらのスタンパーは金属材
料から形成されているために、スタンパーをロールに沿
わせて曲げ加工をしてから接着などを行なわなければな
らず、ロールの曲面にきっちりと沿うように加工するの
が困難であり、きっちりとロールの曲面に合わせてない
とロールの表面精度が悪くなるという問題点がある。そ
の他に、枚葉のスタンパーはフォトリソを用いて製造し
ているために、工程数が多く、生産性が良くないという
問題点があり、そのため製造費用も高くなるという問題
点もある。In the method of manufacturing a single-sheet stamper and fixing it to a roll by a method such as adhesion, a stamper can be prepared for each individual sheet, and thus a flat stamper can be prepared using photolithography. It is possible to fabricate with high pattern accuracy. The obtained single-wafer stamper is fixed to the roll surface by using an adhesive or a mechanical fixing method.However, since these stampers are generally formed of a metal material, the stamper is placed along the roll. Since it is necessary to perform bending and then bonding, it is difficult to work along the curved surface of the roll exactly, and the surface accuracy of the roll will deteriorate unless it is fitted exactly to the curved surface of the roll. There is a problem. In addition, since the single-wafer stamper is manufactured by using photolithography, there are problems that the number of steps is large and the productivity is not good, and thus the manufacturing cost is high.
【0009】いずれの方法でも、成型するロールスタン
パーの表面精度が悪いか不均一であると、押し出した樹
脂が、成型時に十分加圧された状態にならないために、
微細なパターンが精度良く転写されなかったり、ディス
クの面内でも基板の厚さが不均一になったりするという
問題点が生じている。また、成型時の圧力のムラは、例
えば樹脂にポリカーボネートなどを用いた場合には、複
屈折のムラになって現れてきて品質が低下してしまう。In any of the methods, if the surface accuracy of the roll stamper to be molded is poor or uneven, the extruded resin will not be sufficiently pressurized during molding,
There are problems that a fine pattern is not transferred accurately and that the thickness of the substrate becomes uneven within the surface of the disk. In addition, the unevenness of the pressure at the time of molding appears as the unevenness of the birefringence when the resin such as polycarbonate is used, and the quality deteriorates.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題を
解決する目的でなされたものであり、パターン精度およ
び平面性が良い光記録媒体用基板を製造することができ
るローラーを安価に提供することを目的とするものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made for the purpose of solving the above problems, and provides at low cost a roller capable of manufacturing an optical recording medium substrate having good pattern accuracy and flatness. The purpose is that.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、光
ビームの照射によって、光学特性を変化させて情報の記
録・再生を行なう光記録媒体の製造で、ローラー状の型
を用いて成型を行なってプリフォーマット付き透明基板
を連続的に形成するローラーの製造方法において、記録
すべき情報に対応した凹凸パターンが形成された原盤の
凹凸パターンを、一つまたは複数個、樹脂シート表面に
転写して樹脂スタンパーを形成する工程、該樹脂スタン
パーをロール基材表面に凹凸パターンを外側にして固定
する工程を有することを特徴とする光記録媒体用基板製
造用ローラーの製造方法である。さらに、本発明のロー
ラーの製造方法の第1の特徴は、記録すべき情報に対応
した凹凸パターンが形成された原盤の上に紫外線または
電子線などの放射線で硬化する樹脂液を塗布する工程、
必要に応じて前記樹脂液の厚さが均一になるように加熱
してレベリングする工程、前記塗布した樹脂液に気泡が
入らないように、樹脂からなるベースシートを合わせ
て、その間に樹脂液を充填させる工程、必要に応じて前
記樹脂液の厚さが均一になるように加圧する工程、前記
塗布した樹脂液に紫外線または電子線などの放射線を照
射して樹脂液を硬化させて原盤の凹凸パターンを樹脂液
に転写させる工程、前記硬化した樹脂液を原盤から剥離
する工程、前記原盤から剥離した樹脂液をベースシート
と共にローラーに固定する工程を行なうようにした点に
ある。That is, the present invention is to manufacture an optical recording medium in which optical characteristics are changed by irradiation of a light beam to record / reproduce information, and molding is performed using a roller-shaped mold. In a method for manufacturing a roller that sequentially forms a transparent substrate with a preformat, the uneven pattern of the master on which the uneven pattern corresponding to the information to be recorded is formed is transferred to the surface of the resin sheet. And a step of forming the resin stamper on the surface of the roll substrate with the concavo-convex pattern on the outside, and a step of forming the resin stamper. Further, the first feature of the roller manufacturing method of the present invention is a step of applying a resin liquid which is cured by radiation such as ultraviolet rays or electron beams onto a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded.
If necessary, the step of heating and leveling the resin solution so that the thickness of the resin solution becomes uniform, the base sheets made of resin are combined so that air bubbles do not enter the applied resin solution, and the resin solution is placed between them. The step of filling, the step of pressurizing the resin liquid so that the thickness of the resin liquid becomes uniform if necessary, and the resin liquid is cured by irradiating the applied resin liquid with radiation such as ultraviolet rays or electron beams to make the master disk uneven. The point is that the step of transferring the pattern to the resin liquid, the step of peeling the cured resin liquid from the master, and the step of fixing the resin liquid peeled from the master together with the base sheet to the roller are performed.
【0012】本発明のローラーの製造方法の第2の特徴
は、記録すべき情報に対応した凹凸パターンが形成され
た原盤の上に、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂からな
るベースシートを密着させる工程、前記ベースシートを
原盤と密着しながら加熱・加圧して原盤の凹凸パターン
をベースシートに転写させる工程、前記ベースシートを
原盤から剥離する工程、前記原盤から剥離したベースシ
ートをローラーに固定する工程を行なうようにした点に
ある。A second feature of the roller manufacturing method of the present invention is that a base sheet made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin is brought into close contact with a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded. Step, heating and pressing the base sheet in close contact with the master to transfer the uneven pattern of the master to the base sheet, peeling the base sheet from the master, fixing the base sheet peeled from the master to the roller The point is that the process is performed.
【0013】また、前記ベースシートに、必要に応じて
成型性のよい樹脂層を設ける工程、前記成型用樹脂層を
設けたベースシートを原盤に密着させる工程、前記ベー
スシートを原盤と密着させたまま加熱・加圧して原盤の
凹凸パターンをベースシートに転写させる工程、前記ベ
ースシートを原盤から剥離する工程、前記原盤から剥離
したベースシートをローラーに固定する工程を行なうよ
うにした点にある。Further, a step of providing a resin layer having good moldability on the base sheet, if necessary, a step of adhering the base sheet provided with the molding resin layer to a master, and a step of adhering the base sheet to the master. The steps are to heat and press as it is to transfer the uneven pattern of the master onto the base sheet, to peel the base sheet from the master, and to fix the base sheet peeled from the master to the rollers.
【0014】本発明のローラーの製造方法の第3の特徴
は、記録すべき情報に対応した凹凸パターンが形成され
た原盤の上に紫外線または電子線などの放射線で硬化
し、かつ熱成型性を有する樹脂液を塗布して樹脂液の層
を形成する工程、必要に応じて前記樹脂液層の厚さが均
一になるように加熱レベリングする工程、前記塗布した
樹脂液層に気泡が入らないように、樹脂からなるベース
シートを合わせる工程、必要に応じて前記樹脂液層の厚
さが均一になるように加圧する工程、前記樹脂液を塗布
したベースシートを原盤と密着しながら加熱・加圧して
原盤の凹凸パターンをベースシート上の樹脂液層に転写
させる工程、前記ベースシート上の樹脂液層に紫外線ま
たは電子線などの放射線を照射して硬化させて原盤の凹
凸パターンを樹脂液に転写させる工程、前記硬化したベ
ースシート上の樹脂液層を原盤から剥離する工程、前記
原盤から剥離したベースシート上の樹脂液層をローラー
に固定する工程を行なうようにした点にある。The third feature of the roller manufacturing method of the present invention is that it is cured by radiation such as ultraviolet rays or electron beams on a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded, and has thermoformability. A step of applying a resin liquid having the above to form a layer of the resin liquid, a step of heating and leveling the resin liquid layer so that the thickness of the resin liquid layer becomes uniform if necessary, and preventing bubbles from entering the applied resin liquid layer In addition, a step of combining a base sheet made of resin, a step of applying pressure so that the thickness of the resin liquid layer becomes uniform if necessary, and a base sheet coated with the resin solution is heated and pressed while being in close contact with the master. The step of transferring the concavo-convex pattern of the master onto the resin liquid layer on the base sheet, irradiating the resin liquid layer on the base sheet with radiation such as ultraviolet rays or an electron beam to cure the concavo-convex pattern of the master onto the resin liquid layer. Step of transferring, the step of stripping the resin solution layer on the cured base sheet from the master, there resin liquid layer on the base sheet was peeled from the master in that to perform the step of fixing the roller.
【0015】本発明のローラーの製造方法の第4の特徴
は、記録すべき情報に対応した凹凸パターンが形成され
た原盤の上に熱、圧力などで反応して重合して硬化する
樹脂液を塗布する工程、前記塗布した樹脂液に気泡が入
らないように、一定の大きさの隙間を開けて裏材料を合
わせて、その間に樹脂液を充填させる工程、必要に応じ
て前記樹脂液の厚さが均一になるように加熱または/お
よび加圧して樹脂液を硬化させて原盤の凹凸パターンを
樹脂液に転写させる工程、前記硬化した樹脂液を原盤か
ら剥離する工程、前記原盤から剥離した樹脂液をベース
シートと共にローラーに固定する工程を行なうようにし
た点にある。The fourth characteristic of the method for manufacturing a roller of the present invention is that a resin liquid which reacts by heat, pressure, etc. to polymerize and harden on a master on which an uneven pattern corresponding to information to be recorded is formed. The step of applying, the step of filling the resin solution between the backing materials by opening a gap of a certain size so that air bubbles do not enter the applied resin solution, and the thickness of the resin solution as necessary. So that the resin liquid is cured by heating or / and pressurizing the resin liquid so as to obtain a uniform pattern, and the uneven pattern of the master is transferred to the resin liquid; the step of peeling the cured resin liquid from the master; the resin peeled from the master The point is that the step of fixing the liquid to the roller together with the base sheet is performed.
【0016】本発明のローラーの製造方法の第5の特徴
は、記録すべき情報に対応した凹凸パターンが形成され
た可撓性原盤または/およびローラーの上に紫外線また
は電子線などの放射線または加熱、加圧で硬化性を有す
る樹脂液を塗布する工程、必要に応じて前記樹脂液の厚
さが均一になるようにレベリングする工程、前記塗布し
た樹脂液に気泡が入らないように、前記可撓性原盤とロ
ーラーを合わせて樹脂をその間に充填させる工程、必要
に応じて前記樹脂液の厚さが均一になるように加圧する
工程、前記樹脂液を充填した原盤とローラー密着させ
て、原盤の凹凸パターンをベースシートに転写させる工
程、前記原盤とローラーの間に充填した樹脂液に紫外線
または電子線などの放射線または熱、圧力を加えて硬化
させて原盤の凹凸パターンを樹脂液に転写させて樹脂液
をローラー表面に固定する工程、前記硬化した樹脂液か
ら原盤を剥離させる工程を行なうようにした点にある。The fifth feature of the roller manufacturing method of the present invention is that radiation or heating such as ultraviolet rays or electron beams is applied on a flexible master or / and roller on which an uneven pattern corresponding to information to be recorded is formed. , A step of applying a curable resin liquid under pressure, a step of leveling the resin liquid so that the thickness of the resin liquid becomes uniform if necessary, and A step of filling a flexible master and a roller together to fill the resin between them, a step of applying pressure so that the thickness of the resin liquid becomes uniform if necessary, a master and a roller filled with the resin liquid, and a master, The step of transferring the concave-convex pattern of the master to the base sheet, and the resin liquid filled between the master and the roller is cured by applying radiation such as ultraviolet rays or electron beams, heat, or pressure to cure the master surface. Certain over down step of fixing by transferring the liquid resin of the resin solution on the roller surface, in that to perform the step of stripping the stamper from the cured resin solution.
【0017】以下、本発明を詳細に説明する。本発明
は、レーザービームなどの光ビームの照射によって、反
射率、透過率などの光学特性を変化させて、情報の記録
・再生を行なう光記録媒体で、ローラー状の型を用いて
成型を行なってプリフォーマット付き透明基板を連続的
に形成する光記録媒体の製造方法において、外周表面
に、記録すべき情報に対応した凹凸パターンが、一つま
たは複数個形成された樹脂スタンパー(樹脂材料層)を
有する光記録媒体用基板製造用ローラーの製造方法であ
る。本発明のローラーを用いることによって、図7、図
8に示される、押し出し成型方法および紫外線または電
子線硬化樹脂方法において良好な光記録媒体用基板を安
価に得ることができる。The present invention will be described in detail below. The present invention is an optical recording medium that records and reproduces information by changing optical characteristics such as reflectance and transmittance by irradiation with a light beam such as a laser beam, and molding is performed using a roller-shaped mold. In a method of manufacturing an optical recording medium in which a transparent substrate with a preformat is continuously formed, a resin stamper (resin material layer) having one or a plurality of concavo-convex patterns corresponding to information to be recorded is formed on the outer peripheral surface. A method for manufacturing a roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium having the above. By using the roller of the present invention, a good optical recording medium substrate can be obtained at low cost by the extrusion molding method and the ultraviolet or electron beam curing resin method shown in FIGS.
【0018】以下、本発明を図面に基づいて説明する。
図1は本発明の方法により製造された光記録媒体用基板
製造用ローラーの実施態様を示す断面模式図である。同
図1に示すように、成型用ローラー1の外周表面に、樹
脂スタンパー2が形成されていて、その樹脂スタンパー
2には凹凸パターン3が形成されている。The present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a roller for producing a substrate for an optical recording medium produced by the method of the present invention. As shown in FIG. 1, a resin stamper 2 is formed on the outer peripheral surface of the molding roller 1, and an uneven pattern 3 is formed on the resin stamper 2.
【0019】図2〜図5は本発明の光記録媒体用基板製
造用ローラーに用いる樹脂スタンパーの製造方法を示す
説明図である。本発明では樹脂スタンパー2の製造方法
は図2〜図5の4種類を示している。いづれの方法を用
いるにしても、本発明の樹脂スタンパー2は可撓性の材
料から成るベースシート5の上にパターンが一つまたは
複数個形成されている。2 to 5 are explanatory views showing a method for producing a resin stamper used in the roller for producing a substrate for an optical recording medium of the present invention. In the present invention, the method of manufacturing the resin stamper 2 has four types shown in FIGS. Whichever method is used, the resin stamper 2 of the present invention has one or a plurality of patterns formed on a base sheet 5 made of a flexible material.
【0020】本発明の樹脂スタンパー2の第1の製造方
法は、図2に示す様に、以下の一連の工程を経て樹脂ス
タンパーを製造する。記録すべき情報に対応した凹凸パ
ターンが形成された原盤4の上に、紫外線または電子線
などの放射線で硬化する樹脂液6を塗布する。必要に応
じて、前記樹脂液の厚さが均一になるように加熱レベリ
ングする。塗布した樹脂液に気泡が入らないように、樹
脂からなるベースシート5を合わせて、その間に樹脂液
を充填させる。必要に応じて、前記樹脂液の厚さが均一
になるように加圧する。塗布した樹脂液に紫外線または
電子線などの放射線を必要なだけ照射して樹脂液を硬化
させて原盤の凹凸パターンを樹脂液に転写させる。硬化
した樹脂液を原盤から剥離させる工程、前記原盤から剥
離した樹脂液をベースシートと共にローラーに固定す
る。このようにして硬化した樹脂は三次元架橋硬化をな
すため、耐熱性、耐溶剤性の高いものとなる。As shown in FIG. 2, the first method of manufacturing the resin stamper 2 of the present invention manufactures the resin stamper through the following series of steps. A resin liquid 6 that is cured by radiation such as ultraviolet rays or electron beams is applied onto a master 4 on which an uneven pattern corresponding to information to be recorded is formed. If necessary, heating leveling is performed so that the resin liquid has a uniform thickness. The base sheet 5 made of a resin is put together so that air bubbles do not enter the applied resin liquid, and the resin liquid is filled between them. If necessary, pressure is applied so that the resin liquid has a uniform thickness. The applied resin solution is irradiated with radiation such as ultraviolet rays or electron beams as necessary to cure the resin solution and transfer the concavo-convex pattern of the master to the resin solution. The step of peeling the cured resin liquid from the master, and fixing the resin liquid peeled from the master together with the base sheet to the roller. The resin cured in this way undergoes three-dimensional cross-linking curing, and therefore has high heat resistance and solvent resistance.
【0021】本発明における、原盤4は、一般にCD
(コンパクトディスク)などに用いられている製法で作
成することができる。具体的には、ガラス原盤にレジス
トを塗布して、パターンを露光、現像してから、ニッケ
ルをスパッターで成膜して、電鋳して所定の厚さまでニ
ッケルを析出させる。こうして得られた第二原盤をファ
ーザーとして、第三原盤(マザー)および孫スタンパー
を作成しても良い。The master 4 in the present invention is generally a CD.
(Compact disc) can be created by the manufacturing method used. Specifically, a resist is applied to a glass master, a pattern is exposed and developed, nickel is sputtered to form a film, and electroforming is performed to deposit nickel to a predetermined thickness. The second master thus obtained may be used as a father to create a third master (mother) and a grandchild stamper.
【0022】その他の方法としては、剛性を持った基板
にフォトリソなどの方法でパターンを形成して、そのパ
ターンをレジストにして該剛性を持った基板を湿式また
は乾式エッチングで必要な深さまでパターンの溝を形成
する方法を用いることもできる。As another method, a pattern is formed on a rigid substrate by a method such as photolithography, and the pattern is used as a resist to form a pattern on the rigid substrate by wet or dry etching to a required depth. A method of forming a groove can also be used.
【0023】原盤4の厚さは、本発明の第1の製造方法
では、原盤4とベースシート5の間に紫外線または電子
線硬化樹脂を充填して、ベースシート5にパターンを加
工するのに用いるため、紫外線または電子線樹脂の塗
布、レベリング、転写、硬化、剥離などの加工方法に必
要な機械的強度、耐久性が得られる厚さにする。原盤の
厚さとしては10μm〜20mmが好ましく、特に0.
1〜1mmが好ましい。必要に応じて原盤4の表面に窒
化チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形成す
ることもできる。また必要に応じて、原盤4の裏面に保
護層を裏打ちすることも可能である。In the first manufacturing method of the present invention, the thickness of the master 4 is set so that the base sheet 5 can be patterned by filling the space between the master 4 and the base sheet 5 with an ultraviolet or electron beam curing resin. Since it is used, the thickness is such that the mechanical strength and durability required for processing methods such as application of ultraviolet or electron beam resin, leveling, transfer, curing and peeling are obtained. The thickness of the master is preferably 10 μm to 20 mm, and particularly preferably 0.
1-1 mm is preferable. If necessary, a hardened film of titanium nitride or the like, or a protective layer of silicon or the like can be formed on the surface of the master 4. If necessary, a protective layer may be lined on the back surface of the master 4.
【0024】ベースシート5は、可撓性があって、樹脂
の成型において十分な耐熱性および耐紫外線性と機械的
強度と可撓性を持つ樹脂材料であれば、いづれの材料で
も用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリビニルブチラール、ポリイミドポリメチルメタ
クリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリ
スチレン、ポリオレフィン、エポキシ樹脂などの重合体
または共重合体フィルムが適している。それに、ニッケ
ル、クロムなどの金属または金属化合物、金属の合金
類、ガラス、セラミクスなどを混合、混入して用いるこ
とができる。また、ベースシートのパターン面の反対側
に保護層を形成したり、または裏打ち材を貼り合わせる
ことも可能である。The base sheet 5 may be made of any material as long as it is flexible and has sufficient heat resistance, ultraviolet resistance, mechanical strength and flexibility in resin molding. it can. For example, a polymer or copolymer film of polyethylene terephthalate, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl butyral, polyimide polymethyl methyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene, polyolefin, epoxy resin or the like is suitable. Metals or metal compounds such as nickel and chromium, metal alloys, glass, ceramics and the like can be mixed and mixed therewith. It is also possible to form a protective layer on the opposite side of the pattern surface of the base sheet or to attach a backing material.
【0025】本発明に用いる紫外線硬化樹脂あるいは電
子線硬化樹脂としては、分子中に不飽和結合を有するプ
レポリマー、オリゴマー、モノマーを用いることができ
る。たとえば、不飽和ポリエステル類、エポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ートなどのアクリレート類、エポキシメタクリレート、
ウレタンメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリエステルメタクリレートなどのメタクリレート
類を一種または二種以上と、分子中に不飽和結合を有す
るモノマーまたは官能性化合物とを混合したもの、ある
いは必要に応じてこれに感剤などが添加されたものが使
用できる。As the ultraviolet curable resin or electron beam curable resin used in the present invention, a prepolymer, an oligomer or a monomer having an unsaturated bond in the molecule can be used. For example, unsaturated polyesters, acrylates such as epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyether acrylate, epoxy methacrylate,
A mixture of one or more methacrylates such as urethane methacrylate, polyether methacrylate, polyester methacrylate, and a monomer or functional compound having an unsaturated bond in the molecule, or if necessary, a sensitizer, etc. Can be used.
【0026】これらの樹脂液の塗布方法は公知の方法を
用いることができる。たとえば、ロールコート、ナイフ
コート、バーコート、グラビアコート、スクリーン印刷
などを用いることができる。ベースシート5と樹脂スタ
ンパー2の密着性を高めるために、アンカー材からなる
プライマー層を設けても良い。原盤4とベースシート5
を密着させるために、硬化前には両者の間に0.1kg
/cm2 以上、好ましくは、1kg/cm2 の圧力をか
けるのが良い。また、必要に応じて硬化した樹脂スタン
パー2の上に金属層を設けても良い。用いる金属として
はアルミニウム、金、銀、クロム、ニッケルなどがあ
る。金属層の製造方法は蒸着、スパッター、イオンプレ
ーティング、メッキなどの方法を用いることができる。As a coating method of these resin liquids, a known method can be used. For example, roll coating, knife coating, bar coating, gravure coating, screen printing and the like can be used. A primer layer made of an anchor material may be provided in order to enhance the adhesion between the base sheet 5 and the resin stamper 2. Master 4 and base sheet 5
Before curing, 0.1 kg between the two
/ Cm 2 or more, preferably, a pressure of 1 kg / cm 2 is applied. Further, a metal layer may be provided on the cured resin stamper 2 if necessary. The metal used includes aluminum, gold, silver, chromium, nickel and the like. As the method for producing the metal layer, vapor deposition, sputtering, ion plating, plating, or the like can be used.
【0027】その他に、樹脂スタンパー2をローラー1
に固定する大きさよりも大きく作成して、外側を打ち抜
き、バイト加工などの方法で切断することも可能であ
る。製造方法1で示される方法を、一枚のベースシート
5に複数回行なって多数個の凹凸パターン3を作製も良
い。In addition, the resin stamper 2 and the roller 1
It is also possible to make it larger than the size to be fixed to, punch out the outside, and cut by a method such as bite processing. The method shown in the manufacturing method 1 may be performed a plurality of times on one base sheet 5 to form a large number of concavo-convex patterns 3.
【0028】ローラー1は、硬度が高く、熱伝導率の良
いものであれば、どのような材料でも用いることができ
るが、例えば、鉄、クロム鋼などの金属、金属合金、金
属化合物、ガラス、セラミクスなどを用いることができ
る。ローラー表面の加工処理としては、脱錆、脱脂、水
分を除去して研磨する。表面精度は成型する光記録媒体
の面精度と、ほぼ同じかまたはそれよりも良い面精度が
必要である。好ましい面精度は1S以下で、より好まし
い面精度は0.1S以下である。また必要に応じて表面
に窒化チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形
成することもできるし、クロムメッキなどのメッキを施
すことも可能である。The roller 1 may be made of any material as long as it has high hardness and good thermal conductivity. For example, metals such as iron and chrome steel, metal alloys, metal compounds, glass, Ceramics or the like can be used. The roller surface is processed by derusting, degreasing, removing water and polishing. The surface accuracy needs to be substantially the same as or better than the surface accuracy of the optical recording medium to be molded. The preferred surface accuracy is 1 S or less, and the more preferred surface accuracy is 0.1 S or less. If necessary, a hardened film of titanium nitride or the like, a protective layer of silicon or the like can be formed on the surface, or plating such as chrome plating can be applied.
【0029】樹脂スタンパー2をローラー1に固定する
方法は、樹脂を成型するのに必要な面精度が得られて、
固定時または成型中に位置ずれが生じない方法であれ
ば、いづれの方法でも用いることができる。例えば、ネ
ジ止めなどの機械的な固定、接着剤や粘着剤を用いての
接着、はめ込み・か締めなどの方法を用いることができ
る。また、必要に応じて樹脂スタンパー2とローラー1
の間に金属などのシートなどを挟んでも良い。また、位
置合わせ用の切り欠きまたは凹凸部をローラーなどに設
けることもできる。The method of fixing the resin stamper 2 to the roller 1 provides the surface accuracy required for molding the resin,
Any method can be used as long as it does not cause displacement during fixing or molding. For example, a method such as mechanical fixing such as screwing, adhesion using an adhesive or a pressure sensitive adhesive, and fitting / tightening can be used. Also, if necessary, resin stamper 2 and roller 1
A sheet of metal or the like may be sandwiched between them. Further, a notch or uneven portion for alignment may be provided on the roller or the like.
【0030】樹脂スタンパー2に継ぎ目ができる場合
は、その継ぎ目では両方の樹脂スタンパー2の端をきっ
ちり合わせて、段差ができるのを避けることが必要であ
る。接着剤を用いたときには、接着剤の硬化収縮による
樹脂スタンパー2の継ぎ目の隙間及び接着剤のはみだし
がないようにする必要がある。When the resin stamper 2 has a seam, it is necessary that the ends of both the resin stampers 2 are closely aligned at the seam to avoid a step. When the adhesive is used, it is necessary to prevent the gap between the joints of the resin stamper 2 and the protrusion of the adhesive due to the curing shrinkage of the adhesive.
【0031】本発明の樹脂スタンパーの第2の製造方法
は、図3に示す様に、以下の一連の工程を経て樹脂スタ
ンパー2を製造する方法である。記録すべき情報に対応
した凹凸パターンが形成された原盤4の上に、熱可塑性
樹脂または熱硬化性樹脂からなるベースシート5を密着
させる。ベースシート5を原盤4と密着しながら加熱・
加圧して原盤の凹凸パターンをベースシートに転写させ
る。ベースシート5が冷却した後に、ベースシートを原
盤4から剥離させる。原盤から剥離したベースシートを
ローラーに固定する。The second method of manufacturing the resin stamper of the present invention is a method of manufacturing the resin stamper 2 through the following series of steps as shown in FIG. A base sheet 5 made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin is brought into close contact with the master 4 on which an uneven pattern corresponding to information to be recorded is formed. While heating the base sheet 5 in close contact with the master 4,
Pressurize to transfer the uneven pattern of the master onto the base sheet. After the base sheet 5 is cooled, the base sheet is peeled off from the master 4. The base sheet peeled from the master is fixed to the roller.
【0032】原盤4は、第1の製造方法と同様に一般に
CD(コンパクトディスク)などに用いられている製法
で作製することができる。原盤4の材料及び厚さは、本
発明の第2の製造方法では、原盤4と加圧型8の間にベ
ースシート5を挟んで加熱、加圧してベースシート5に
パターンを加工するため、成型の加熱、加圧、剥離など
の加工方法に必要な機械的強度、耐久性が得られる材
料、厚さにする。用いる材料としては、第1の製造方法
と同じように、金属および金属化合物、セラミクス、ガ
ラスなどが好ましい、厚さの範囲としては10μm〜2
0mmが好ましく、特に0.1〜10mmが好ましい。
必要に応じて原盤4または加圧型8の表面に窒化チタン
などの硬化膜、シリコンなどの保護層を形成することも
できる。また、必要に応じて原盤4または加圧型8の裏
面に保護層を裏打ちすることも可能である。The master 4 can be manufactured by a manufacturing method generally used for CDs (compact discs) and the like as in the first manufacturing method. In the second manufacturing method of the present invention, since the base sheet 5 is sandwiched between the master 4 and the pressure die 8 to heat and press the base sheet 5 to process a pattern on the base sheet 5, The material and thickness are such that the mechanical strength and durability required for the processing methods such as heating, pressing and peeling are obtained. As the material to be used, as in the first manufacturing method, metals and metal compounds, ceramics, glass and the like are preferable, and the thickness range is 10 μm to 2
0 mm is preferable, and 0.1-10 mm is particularly preferable.
If necessary, a hardened film of titanium nitride or the like, or a protective layer of silicon or the like can be formed on the surface of the master 4 or the pressure die 8. Further, a protective layer may be lined on the back surface of the master 4 or the pressure die 8 as needed.
【0033】ベースシート5は、可撓性があって、加
熱、加圧で凹凸パターンを形成できる材料で、樹脂の成
型において十分な耐熱性および耐紫外線性と機械的強度
を持つ材料であれば、いづれの材料でも用いることがで
きる。例えば、第1の製造方法と同じような材料を、用
いることができる。ポリエチレンテレフタレート、ポリ
イミドポリメチルメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリオレフィン、エ
ポキシ樹脂などの重合体または共重合体フィルムが適し
ている。第1の製造方法と同じように、混合物を加えて
も保護層または裏打ち層を加えても良い。The base sheet 5 is a material which is flexible and capable of forming a concavo-convex pattern by heating and pressurization, and is a material having sufficient heat resistance, ultraviolet resistance and mechanical strength in resin molding. Any material can be used. For example, a material similar to that of the first manufacturing method can be used. Polymer or copolymer films of polyethylene terephthalate, polyimide polymethyl methyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene, polyolefins, epoxy resins and the like are suitable. Similar to the first manufacturing method, a mixture or a protective layer or a backing layer may be added.
【0034】本発明でのベースシート5の成型は用いる
材料にもよるが、加える温度はTg点以上であれば良い
が、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以
上が好ましい。加える圧力は0.1kg/cm2 以上が
良く、好ましくは1.0kg/cm2 以上が良い。The temperature at which the base sheet 5 is molded according to the present invention depends on the material used, but the temperature at which it is applied may be at or above the Tg point, but is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher. The applied pressure is preferably 0.1 kg / cm 2 or more, and more preferably 1.0 kg / cm 2 or more.
【0035】また、第1の方法と同じように、必要に応
じて硬化した樹脂スタンパー2の上に金属層を設けても
良い。その他に、樹脂スタンパー2をローラー1に固定
する大きさよりも大きく作成して外周部を切断すること
も可能である。製造方法1で示される方法と同じよう
に、一枚のベースシート5に複数回行なって多数個の凹
凸パターン3を作製も良い。ローラー1は、第1の製造
方法と同じようなものを用いることができる。樹脂スタ
ンパー2をローラー1に固定する方法は、第1の製造方
法と同じようなものを用いることができる。Further, as in the first method, a metal layer may be provided on the cured resin stamper 2 if necessary. Besides, it is possible to cut the outer peripheral portion by making the resin stamper 2 larger than the size for fixing the resin stamper 2 to the roller 1. Similar to the method shown in the manufacturing method 1, a large number of concavo-convex patterns 3 may be prepared by performing the same process on one base sheet 5 a plurality of times. As the roller 1, the same one as in the first manufacturing method can be used. The method of fixing the resin stamper 2 to the roller 1 may be the same as that of the first manufacturing method.
【0036】本発明の樹脂スタンパーの第3の製造方法
は、図4に示す様に、以下の一連の工程を経て樹脂スタ
ンパー2を製造する方法である。記録すべき情報に対応
した凹凸パターンが形成された原盤4の上に紫外線また
は電子線などの放射線で硬化し、かつ熱成型性を有する
樹脂液6aを塗布して樹脂液層を形成する。必要に応じ
て、前記樹脂液の厚さが均一になるように加熱レベリン
グする。The third method of manufacturing the resin stamper of the present invention is a method of manufacturing the resin stamper 2 through the following series of steps as shown in FIG. A resin liquid 6a, which is hardened by radiation such as ultraviolet rays or electron beams and has thermoformability, is applied onto the master 4 on which an uneven pattern corresponding to the information to be recorded is formed to form a resin liquid layer. If necessary, heating leveling is performed so that the resin liquid has a uniform thickness.
【0037】塗布した樹脂液層に気泡が入らないよう
に、樹脂からなるベースシート5を合わせる。必要に応
じて、樹脂液層の厚さが均一になるように加圧する。樹
脂液を塗布したベースシートを原盤と密着しながら加熱
・加圧して原盤の凹凸パターンをベースシート上の樹脂
液層に転写させる(図4(a)参照)。ベースシート上
塗布した樹脂液層に紫外線または電子線などの放射線を
必要なだけ照射して硬化させて原盤の凹凸パターンを樹
脂液層に転写させる(図4(b)参照)。硬化したベー
スシート上の樹脂液層6bを原盤から剥離させる工程、
前記原盤から剥離したベースシート上の樹脂液層をロー
ラーに固定する。The base sheet 5 made of resin is put together so that air bubbles do not enter the applied resin liquid layer. If necessary, pressure is applied so that the resin liquid layer has a uniform thickness. The base sheet coated with the resin liquid is heated and pressed while closely adhering to the master disc to transfer the uneven pattern of the master disc onto the resin liquid layer on the base sheet (see FIG. 4A). The resin liquid layer applied on the base sheet is irradiated with radiation such as ultraviolet rays or electron beams as necessary to cure the resin liquid layer and transfer the concavo-convex pattern of the master to the resin liquid layer (see FIG. 4B). A step of peeling the resin liquid layer 6b on the cured base sheet from the master,
The resin liquid layer on the base sheet separated from the master is fixed to a roller.
【0038】原盤4は、第1の製造方法と同様に一般に
CD(コンパクトディスク)などに用いられている製法
で作成することができる。原盤4の材料、厚さは、本発
明の第3の製造方法では、ベースシート5を原盤4と加
圧型8の間に挟んで加熱、加圧してベースシートに5パ
ターンを加工するため、成型の加熱、加圧、剥離など
の、用いる加工方法に必要な機械的強度、耐久性が得ら
れる材料、厚さにする。用いる材料としては、第1の製
造方法と同じように金属および金属化合物、セラミク
ス、ガラスなどが好ましい、厚さの範囲としては10μ
m〜20mmが好ましく、特に0.1〜10mmが好ま
しい。必要に応じて原盤4または加圧型8の表面に窒化
チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形成する
こともできる。また必要に応じて原盤4または加圧型8
の裏面に保護層を裏打ちすることも可能である。The master 4 can be manufactured by the manufacturing method generally used for CDs (compact discs) and the like as in the first manufacturing method. In the third manufacturing method of the present invention, the base plate 5 is sandwiched between the master plate 4 and the pressure die 8 to heat and press to process 5 patterns on the base sheet. The material and thickness are such that the mechanical strength and durability required for the processing method used, such as heating, pressing and peeling, are obtained. As the material to be used, metals and metal compounds, ceramics, glass and the like are preferable as in the first manufacturing method, and the thickness range is 10 μm.
m to 20 mm is preferable, and 0.1 to 10 mm is particularly preferable. If necessary, a hardened film of titanium nitride or the like, or a protective layer of silicon or the like can be formed on the surface of the master 4 or the pressure die 8. If necessary, the master 4 or the pressurizing mold 8
It is also possible to line a protective layer on the back side of the.
【0039】ベースシート5は、可撓性があって、加
熱、加圧で凹凸パターンを形成できる材料で、樹脂の成
型において十分な耐熱性および耐紫外線性と機械的強度
を持つ材料であれば、いづれの材料でも用いることがで
きる。例えば、第1の製造方法と同じような材料を用い
ることができる。ポリエチレンテレフタレート、ポリイ
ミドポリメチルメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂などの重合体または共重合体フィルムが適してい
る。第1の製造方法と同じように、混合物を加えても保
護層または裏打ち層を加えても良い。The base sheet 5 is a material which is flexible and capable of forming a concavo-convex pattern by heating and pressurizing, and is a material having sufficient heat resistance, ultraviolet resistance and mechanical strength in resin molding. Any material can be used. For example, the same material as in the first manufacturing method can be used. Polyethylene terephthalate, polyimide polymethyl methyl methacrylate, polyvinyl chloride,
Polymer or copolymer films of polyethylene, polystyrene, polyolefins, epoxy resins and the like are suitable. Similar to the first manufacturing method, a mixture or a protective layer or a backing layer may be added.
【0040】本発明でのベースシート5上の樹脂液層
は、熱成型性を持つと同時に紫外線または電子線によっ
て硬化する樹脂である。常温では固体でベースシート5
の上に塗布するとベースシート5は一枚のシートとして
巻き取りをすることも可能である。このような材料とし
ては次のようなラジカル重合性不飽和基を有する熱成型
型物質がある。The resin liquid layer on the base sheet 5 in the present invention is a resin which has thermoformability and is cured by ultraviolet rays or electron beams. Base sheet 5 that is solid at room temperature
It is also possible to wind up the base sheet 5 as a single sheet by applying it on. As such a material, there is a thermoforming substance having a radically polymerizable unsaturated group as described below.
【0041】(1)ガラス転移温度が0〜250℃のポ
リマー中に、ラジカル重合性不飽和基を有するもの。よ
り具体的には、ポリマーとしては以下の化合物〜を
重合もしくは共重合させたものに対し、後述する方法
(a)〜(d)によりラジカル重合性不飽和基を導入し
たもの。(1) A polymer having a radically polymerizable unsaturated group in a polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C. More specifically, as a polymer, a radical-polymerizable unsaturated group is introduced by the methods (a) to (d) described below, in which the following compounds are polymerized or copolymerized.
【0042】 水酸基を有する単量体:N−メチルア
クリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒド
ロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシン、3−
フェノキシブチルアクリレート、3−フェノキシブチル
メタクリレートなど。Monomers having hydroxyl groups: N-methyl acrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2
-Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxyne, 3-
Phenoxybutyl acrylate, 3-phenoxybutyl methacrylate, etc.
【0043】 カルボキシル基を有する単量体:アク
リル酸、メタクリル酸、アクロイルオキシエチルモノサ
クシネートなど。 エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレ
ートなど。 アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニル
エチルメタクリレート、2−アジリジニルオウロピオン
酸アリルなど。Monomers having a carboxyl group: acrylic acid, methacrylic acid, acroyloxyethyl monosuccinate and the like. Monomers having epoxy groups: Glycidyl methacrylate, etc. Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl methacrylate, allyl 2-aziridinyl europionate and the like.
【0044】 アミノ基を有する単量体:アクリルア
ミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルア
ミノエチルメタクリレートなど。 スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルフォン酸など。 イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエ
ンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレー
トの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活
性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。Monomers having amino groups: acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate and the like. Monomers having sulfone groups: 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, etc. Monomers having isocyanate group: 1,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate, such as an adduct of 1 mole to 1 mole of diisocyanate and a radical-polymerizable monomer having active hydrogen.
【0045】 さらに、上記共重合体のガラス転移点
を調整したり、硬化膜の物性を調整したりするために、
上記化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような
単量体と共重合させることもできる。このような共重合
可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルアクリレート、ブチルメタク
リレート、ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、イソブチルアクリレート、t-ブチルメタクリレー
ト、t-ブチルアクリレート、イソアミルメタクリレー
ト、イソアミルアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、N−メチロール
メラミンアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレ
ート、2−エチルヘキシルアクリレートなどが挙げられ
る。Further, in order to adjust the glass transition point of the copolymer or the physical properties of the cured film,
It is also possible to copolymerize the above compound with the following monomers copolymerizable with this compound. Examples of such a copolymerizable monomer include methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, butyl methacrylate, butyl acrylate, isobutyl methacrylate, isobutyl acrylate, t-butyl methacrylate, t-butyl acrylate. , Isoamyl methacrylate, isoamyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, N-methylol melamine acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate and the like.
【0046】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法(a)〜(d)により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、本発明に
係わる材料を得ることができる。Next, the polymer obtained as described above is reacted by the methods (a) to (d) described below to introduce a radically polymerizable unsaturated group, whereby the material according to the present invention is obtained. Obtainable.
【0047】(a)水酸基を有する単量体の重合体、ま
たは共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸な
どのカルボキシル基を有する単量体を縮合反応させる。 (b)カルポキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体、または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。 (c)エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。 (d)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合にはエポキシ基を有する単
量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の1モル対1モルの付加物を付加反応させる。
上記の反応を行なうには微量のハイドロキノンなどの重
合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが好
ましい。(A) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction. (B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction. (C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group, or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or a monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction. (D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group, or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylic acid ester unit amount An addition reaction is carried out with 1 mol to 1 mol of the adduct of the body.
In order to carry out the above reaction, it is preferable to add a trace amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and to carry out the reaction with dry air.
【0048】(2)熱成型性を有する樹脂として、本発
明に使用可能な別な材料は、融点が0〜250℃で、ラ
ジカル重合性不飽和基を有する化合物である。具体的に
は、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレー
ト、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジ
オールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタ
クリレート、スピログリコールジメタクリレート、スピ
ログリコールジアクリレートなどが挙げられる。このよ
うなラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の
際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるものであっ
て、前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレ
ート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリ
レート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジア
クリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピ
レングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレー
ト、ソルビトールテトラジグリシジルエーテルアクリレ
ート、ソルビトールテトラジグリシジルエーテルメタク
リレートなどを用いることができ、前述した共重合体混
合物の固形分100重量部に対して、0.1〜100重
量部の割合で用いることが好ましい。(2) Another material that can be used in the present invention as a thermoformable resin is a compound having a melting point of 0 to 250 ° C. and a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl methacrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, cyclohexanediol dimethacrylate, spiroglycol dimethacrylate, and spiroglycol diacrylate. Such a radical-polymerizable unsaturated monomer improves the cross-linking density and heat resistance upon irradiation with ionizing radiation, and in addition to the above-mentioned monomers, ethylene glycol diacrylate and ethylene glycol diacrylate. Methacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate , Pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipe Data hexaacrylate,
Dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl Ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol tetradiglycidyl ether acrylate, sorbitol tetradiglycidyl ether methacrylate, and the like can be used, and the solid content of 100 parts by weight of the above-mentioned copolymer mixture is 0. Used in a proportion of 1 to 100 parts by weight Door is preferable.
【0049】また、上記のものは電子線により十分に硬
化可能であるが、紫外線によって硬化させる場合には、
増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロゲン化
アセトフェノン類、ピアチル類などの紫外線照射により
ラジカルを発生するものも用いることができる。Although the above-mentioned materials can be sufficiently cured by electron beams, when they are cured by ultraviolet rays,
As the sensitizer, benzoquinone, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, halogenated acetophenones, peeryls and the like which generate radicals by irradiation with ultraviolet rays can also be used.
【0050】この樹脂液層の成型条件は、加熱温度は、
好ましくは50〜300℃、より好ましくは100〜2
00℃以上が好ましい。加える圧力は0.1kg/cm
2 以上が良く、好ましくは1.0kg/cm2 以上が良
い。また、第1の方法と同じように、必要に応じて硬化
した樹脂スタンパー2の上に金属層を設けても良い。そ
の他に、樹脂スタンパー2をローラー1に固定する大き
さよりも大きく作って外周部を切断することも可能であ
る。製造方法1で示される方法と同じように、一枚のベ
ースシート5に複数回行なって多数個の凹凸パターン3
を作製も良い。The molding conditions for this resin liquid layer are that the heating temperature is
Preferably 50 to 300 ° C, more preferably 100 to 2
It is preferably 00 ° C or higher. The applied pressure is 0.1 kg / cm
2 or more is preferable, and 1.0 kg / cm 2 or more is preferable. Further, as in the first method, a metal layer may be provided on the cured resin stamper 2 as needed. Besides, it is also possible to cut the outer peripheral portion by making the resin stamper 2 larger than the size for fixing the resin stamper 2 to the roller 1. Similar to the method shown in the manufacturing method 1, a plurality of concave / convex patterns 3 are formed on one base sheet 5 a plurality of times.
Is also good to make.
【0051】ローラー1は、第1の製造方法と同じよう
なものを用いることができる。樹脂スタンパー2をロー
ラー1に固定する方法は、第1の製造方法と同じような
ものを用いることができる。As the roller 1, the same one as in the first manufacturing method can be used. The method of fixing the resin stamper 2 to the roller 1 may be the same as that of the first manufacturing method.
【0052】本発明の樹脂スタンパー2の第4の製造方
法は、図5に示す様に以下の一連の工程を経て樹脂スタ
ンパー2を製造する方法である。記録すべき情報に対応
した凹凸パターンが形成された原盤4の上に熱、圧力な
どで反応して重合して硬化する樹脂液6cを塗布する。
塗布した樹脂液に気泡が入らないように、一定の大きさ
の隙間を開けて裏材料10を合わせて、その間に樹脂液
を充填させる。必要に応じて、樹脂液の厚さが均一にな
るように加熱または/および加圧して樹脂液を硬化させ
て原盤の凹凸パターンを樹脂液に転写させる。硬化した
樹脂液6cを原盤4から剥離させる。原盤から剥離した
樹脂液をローラーに固定する。The fourth method for producing the resin stamper 2 of the present invention is a method for producing the resin stamper 2 through the following series of steps as shown in FIG. A resin liquid 6c which reacts with heat and pressure to polymerize and cure is applied onto the master 4 on which an uneven pattern corresponding to the information to be recorded is formed.
In order to prevent air bubbles from entering the applied resin liquid, a gap of a certain size is opened, the backing materials 10 are aligned, and the resin liquid is filled between them. If necessary, the resin liquid is cured by heating or / and pressurizing so that the resin liquid has a uniform thickness, and the concavo-convex pattern of the master is transferred to the resin liquid. The cured resin liquid 6c is peeled off from the master 4. The resin liquid peeled from the master is fixed to the roller.
【0053】原盤4は、第1の製造方法と同様に一般に
CD(コンパクトディスク)などに用いられている製法
で作成することができる。原盤4の材料、厚さは、本発
明の第4の製造方法では、原盤4と裏材料10の間にス
ペーサー9を介して、樹脂液を挟んで加熱、加圧して樹
脂液を重合させて硬化させるか、または樹脂の溶液を原
盤4と裏材料10の間にスペーサー9を介して注いで、
溶媒を除去させるために、これらの加熱、加圧、剥離な
どの、一連の加工方法に必要な機械的強度、耐久性が得
られる材料、厚さにする。用いる材料としては、第1の
製造方法と同じように金属および金属化合物、セラミク
ス、ガラスなどが好ましい、厚さの範囲としては10μ
m〜20mmが好ましく、特に0.1〜10mmが好ま
しい。必要に応じて原盤4または裏材料10の表面に窒
化チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形成す
ることもできる。また必要に応じて原盤4または加圧型
8の裏面に保護層を裏打ちすることも可能である。The master 4 can be manufactured by a manufacturing method generally used for CDs (compact discs) and the like as in the first manufacturing method. With respect to the material and thickness of the master 4, in the fourth manufacturing method of the present invention, the resin liquid is sandwiched between the master 4 and the backing material 10 via the spacer 9 to heat and pressurize the resin liquid for polymerization. Harden or pour a resin solution between the master 4 and the backing material 10 via a spacer 9,
In order to remove the solvent, the material and thickness are selected so as to obtain the mechanical strength and durability required for a series of processing methods such as heating, pressurizing and peeling. As the material to be used, metals and metal compounds, ceramics, glass and the like are preferable as in the first manufacturing method, and the thickness range is 10 μm.
m to 20 mm is preferable, and 0.1 to 10 mm is particularly preferable. If necessary, a hardened film such as titanium nitride or a protective layer such as silicon can be formed on the surface of the master 4 or the backing material 10. If necessary, a protective layer can be lined on the back surface of the master 4 or the pressure die 8.
【0054】裏材料10は、原盤4との間に樹脂液を充
填させて、加熱または/および加圧して樹脂液を硬化さ
せて成型することに十分堪えることができる、耐熱性お
よび耐溶剤性と機械的強度を持つ材料であれば、いづれ
の材料でも用いることができる。例えば、原盤4と同じ
金属、金属化合物、ガラス、セラミクスなどを用いるこ
とができる。厚さも原盤4と同じように用いることがで
きる。The backing material 10 is heat and solvent resistant enough to be filled with a resin liquid between the master 4 and heated and / or pressurized to cure the resin liquid for molding. Any material having mechanical strength can be used. For example, the same metal, metal compound, glass, ceramics, etc. as the master 4 can be used. The thickness can be used similarly to the master 4.
【0055】スペーサー9は原盤4と裏材料10を一定
の隙間を開けて固定できる材料であれば、いづれの材料
でも用いることができる。原盤4と同じ金属、金属化合
物、ガラス、セラミクス、ポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ンテレフタレートなどの樹脂を用いることができる。ス
ペーサーの厚さは製造する樹脂スタンパーの厚さによる
が、10μm〜20mmが好ましく、特に0.1〜10
mmが好ましい。As the spacer 9, any material can be used as long as it can fix the master 4 and the backing material 10 with a certain gap. The same metal, metal compound, glass, ceramics, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, or other resin as the master 4 can be used. The thickness of the spacer depends on the thickness of the resin stamper to be manufactured, but is preferably 10 μm to 20 mm, particularly 0.1 to 10 mm.
mm is preferred.
【0056】樹脂スタンパー2を形成するのに用いる樹
脂液は加熱、加圧、紫外線または電子線で硬化すること
のできる樹脂であればいづれの樹脂、またはそのモノマ
ーでも用いる事ができる。たとえば、ポリメチルメタク
リル酸メチル、エポキシなどを用いることができる。そ
の他には溶剤に溶解させてから、溶媒を除去した後で硬
化できる樹脂も用いることができる。たとえば、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリイミド
ポリメチルメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリ
エチレン、ポリスチレン、ポリオレフィン、エポキシ樹
脂などの重合体または共重合体を用いることができる。
この樹脂液層の成型条件は、用いる樹脂の種類によって
最適な条件を選択することが好ましい。また、第1の方
法と同じように、必要に応じて硬化した樹脂スタンパー
2の上に金属層を設けても良い。As the resin liquid used to form the resin stamper 2, any resin or a monomer thereof can be used as long as it is a resin which can be cured by heating, pressurizing, ultraviolet rays or electron beams. For example, polymethyl methyl methacrylate, epoxy, etc. can be used. Alternatively, a resin that can be dissolved in a solvent and then cured after removing the solvent can be used. For example, polymers or copolymers of polyethylene terephthalate, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl butyral, polyimide polymethyl methyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene, polyolefin, epoxy resin and the like can be used.
Optimum molding conditions for the resin liquid layer are selected according to the type of resin used. Further, as in the first method, a metal layer may be provided on the cured resin stamper 2 as needed.
【0057】その他に、樹脂スタンパー2をローラー1
に固定する大きさよりも大きく作って外周部を切断する
ことも可能である。ローラー1は、第1の製造方法と同
じようなものを用いることができる。樹脂スタンパー2
をローラー1に固定する方法は、第1の製造方法と同じ
ようなものを用いることができる。In addition, the resin stamper 2 and the roller 1
It is also possible to cut the outer periphery by making it larger than the size to be fixed to. As the roller 1, the same one as in the first manufacturing method can be used. Resin stamper 2
The same method as in the first manufacturing method can be used to fix the roller to the roller 1.
【0058】本発明の樹脂スタンパー2の第5の製造方
法は、図6に示す様に以下の一連の工程を経て樹脂スタ
ンパー2を製造する方法である。記録すべき情報に対応
した凹凸パターンが形成された可撓性原盤4aまたは/
およびローラー1の上に紫外線または電子線などの放射
線または加熱、加圧で硬化性を有する樹脂液6dを塗布
する。必要に応じて、前記樹脂液の厚さが均一になるよ
うに加熱レベリングする。塗布した樹脂液に気泡が入ら
ないように、可撓性原盤4aとローラー1を合わせて、
樹脂をその間に充填させる。必要に応じて、前記樹脂液
6dの厚さが均一になるように加圧する。樹脂液6dを
充填した原盤4aとローラーを密着させて、原盤の凹凸
パターンをベースシートに転写させる。原盤とローラー
の間に充填した樹脂液に紫外線または電子線などの放射
線または熱、圧力を必要なだけ加えて硬化させて原盤の
凹凸パターンを樹脂液に転写させて樹脂液をローラー表
面に固定する。硬化した樹脂液から原盤を剥離させる。The fifth method for producing the resin stamper 2 of the present invention is a method for producing the resin stamper 2 through the following series of steps as shown in FIG. A flexible master 4a or / or an uneven pattern corresponding to the information to be recorded is formed.
Then, the resin liquid 6d having a curability is applied onto the roller 1 by radiation such as ultraviolet rays or electron beams, or by heating or pressurization. If necessary, heating leveling is performed so that the resin liquid has a uniform thickness. Align the flexible master 4a and the roller 1 so that air bubbles do not enter the applied resin liquid,
The resin is filled in between. If necessary, pressure is applied so that the resin liquid 6d has a uniform thickness. The master 4a filled with the resin liquid 6d and the roller are brought into close contact with each other, and the concavo-convex pattern of the master is transferred to the base sheet. The resin liquid filled between the master and the roller is cured by applying radiation such as ultraviolet rays or electron rays, heat or pressure as necessary to transfer the uneven pattern of the master to the resin liquid and fix the resin liquid on the roller surface. .. The master is separated from the cured resin liquid.
【0059】可撓性原盤4aは、第1の製造方法と同様
に一般にCD(コンパクトディスク)などに用いられて
いる製法で作成することができる。可撓性原盤4aの材
料、厚さは、本発明の第5の製造方法では、可撓性原盤
4aとローラー1の間に、樹脂液を挟んで加熱、加圧し
て樹脂液を重合させて硬化させるか、または樹脂の溶液
を可撓性原盤4aとローラー1の間に注いで、溶媒を除
去させるために、これらの紫外線または電子線照射、加
熱、加圧、剥離などの、一連の加工方法に必要な機械的
強度、耐久性が得られる材料、厚さにする。用いる材料
としては、第1の製造方法と同じように金属および金属
化合物、セラミクス、ガラス、樹脂などが好ましいが、
厚さの範囲としては10μm〜20mmが好ましく、特
に0.1〜10mmが好ましい。The flexible master 4a can be manufactured by a manufacturing method generally used for CDs (compact discs) and the like as in the first manufacturing method. In the fifth manufacturing method of the present invention, the material and thickness of the flexible master 4a are such that the resin liquid is sandwiched between the flexible master 4a and the roller 1 and heated and pressurized to polymerize the resin liquid. In order to cure or pour a solution of resin between the flexible master 4a and the roller 1 to remove the solvent, a series of processes such as UV or electron beam irradiation, heating, pressing, peeling, etc. Use a material and thickness that will provide the mechanical strength and durability required for the method. As the material to be used, like the first manufacturing method, metals and metal compounds, ceramics, glass, resins and the like are preferable,
The thickness range is preferably 10 μm to 20 mm, particularly preferably 0.1 to 10 mm.
【0060】特に、可撓性原盤4aをローラー1に沿わ
せて樹脂液を硬化させるために原盤4aは可撓性を持つ
ことが必要である。必要に応じて可撓性原盤4aの表面
に窒化チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形
成することもできる。また必要に応じて原盤4の裏面に
保護層を形成することもできる。また必要に応じて可撓
性原盤4a裏面に保護層を裏打ちすることも可能であ
る。また必要に応じてローラー1と可撓性原盤4aの間
にスペーサーを介在させても良い。In particular, the master 4a needs to have flexibility in order to set the flexible master 4a along the roller 1 to cure the resin liquid. If necessary, a hardened film of titanium nitride or the like, or a protective layer of silicon or the like can be formed on the surface of the flexible master 4a. Further, a protective layer may be formed on the back surface of the master 4 if necessary. In addition, a protective layer can be lined on the back surface of the flexible master 4a, if necessary. In addition, a spacer may be interposed between the roller 1 and the flexible master 4a, if necessary.
【0061】樹脂スタンパー2を形成するのに用いる樹
脂液は加熱、加圧、紫外線または電子線で硬化すること
のできる樹脂であればいづれの樹脂、またはそのモノマ
ーでも用いることができる。たとえば、ポリメチルメタ
クリル酸メチル、エポキシなどを用いることができる。
その他には溶剤に溶解させてから、溶媒を除去した後で
硬化できる樹脂も用いることができる。たとえば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリイミ
ドポリメチルメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリオレフィン、エポキシ
樹脂などの重合体または共重合体を用いることができ
る。この樹脂液層の成型条件は、用いる樹脂の種類によ
って最適な条件を選択することが好ましい。また、第1
の方法と同じように、必要に応じて硬化した樹脂スタン
パーの上に金属層を設けても良い。The resin liquid used to form the resin stamper 2 may be any resin or a monomer thereof as long as it is a resin that can be cured by heating, pressurizing, ultraviolet rays or electron beams. For example, polymethyl methyl methacrylate, epoxy, etc. can be used.
Alternatively, a resin that can be dissolved in a solvent and then cured after removing the solvent can be used. For example, polymers or copolymers of polyethylene terephthalate, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl butyral, polyimide polymethyl methyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene, polyolefin, epoxy resin and the like can be used. Optimum molding conditions for the resin liquid layer are selected according to the type of resin used. Also, the first
In the same manner as in the above method, a metal layer may be provided on the cured resin stamper if necessary.
【0062】その他に、樹脂スタンパー2をローラー1
に固定する大きさよりも大きく作って外周部を切断する
ことも可能である。ローラー1は、第1の製造方法と同
じようなものを用いることができる。In addition, the resin stamper 2 and the roller 1
It is also possible to cut the outer periphery by making it larger than the size to be fixed to. As the roller 1, the same one as in the first manufacturing method can be used.
【0063】本発明の方法で製造されたローラーを用い
て、従来の押し出し成型あるいは紫外線・電子線硬化樹
脂を用いる方法で特性の良い光記録媒体用基板を安価に
製造することができる。得られた光記録媒体用基板は光
記録層または反射層、その他必要に応じて保護層などを
設けて光記録媒体を形成することができる。これらの方
法または材料は一般に光記録媒体に用いられているもの
を自由に選択して用いることができる。本発明のローラ
ーは、例えば、光ディスク、光カード、光テープ、光コ
イン等のあらゆる光記録媒体の製造に用いることができ
る。By using the roller manufactured by the method of the present invention, it is possible to inexpensively manufacture a substrate for an optical recording medium having excellent characteristics by a conventional extrusion molding method or a method using an ultraviolet / electron beam curing resin. The obtained substrate for an optical recording medium can be provided with an optical recording layer or a reflective layer, and if necessary, a protective layer or the like to form an optical recording medium. As these methods or materials, those generally used for optical recording media can be freely selected and used. The roller of the present invention can be used for manufacturing all kinds of optical recording media such as optical disks, optical cards, optical tapes, optical coins and the like.
【0064】[0064]
【実施例】以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明がこれらに限定されるものではな
い。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
【0065】実施例1 ガラス板上にフォトレジストを塗布して、レーザー露光
機でパターンを形成してから、公知の導電化処理、電鋳
をして、1.6μmピッチ、0.6μm幅、深さ700
Åの連続溝が形成されたφ130mmのニッケル製原盤
(厚さ300μm)を作製した。その原盤を2mmのク
ロム鋼で裏打ちして、その上に、紫外線硬化樹脂(旭化
成工業社製、A.P.R.)をスクリーン印刷法を用い
て50μmの厚さに塗布した。その上にベースフィルム
として、100μm厚のポリエステルフィルム(東レ社
製、ルミラー)をのせて、ベースフィルム側から超高圧
水銀灯を用いて80W/cm、距離10cmの条件で紫
外線照射を行なって樹脂液を硬化させてパターンを転写
した。硬化した樹脂液をベースフィルムごと原盤から剥
離した。Example 1 A photoresist was applied on a glass plate, a pattern was formed by a laser exposure machine, and then publicly known conductive treatment and electroforming were carried out to obtain a pitch of 1.6 μm and a width of 0.6 μm. Depth 700
A nickel master (thickness: 300 μm) having a diameter of 130 mm and having a continuous groove of Å was prepared. The master was lined with 2 mm of chrome steel, and an ultraviolet curable resin (APR, manufactured by Asahi Kasei Kogyo KK) was applied thereon to a thickness of 50 μm using a screen printing method. As a base film, a 100 μm thick polyester film (Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) is placed on the base film, and ultraviolet rays are irradiated from the side of the base film using an ultra-high pressure mercury lamp at 80 W / cm for a distance of 10 cm to remove the resin liquid. The pattern was transferred by curing. The cured resin liquid was peeled off from the master together with the base film.
【0066】線幅およびトラック深さの転写は100%
であり、(エリオニクス社、表面形状測定機で測定)、
パターン転写率は良好であった。また、パターンの転写
によるベースシート表面の皺などは見られなかった。100% transfer of line width and track depth
And (measured by Elionix, surface profilometer),
The pattern transfer rate was good. Moreover, wrinkles on the surface of the base sheet due to the transfer of the pattern were not observed.
【0067】表面に1μmの厚さにクロムメッキした、
ロール径300mmφの鉄製ロールに、エポキシ樹脂
(ノザワケミカル社製、ダイヤボンド2000S)と硬
化剤としてジエチレントリアミン(キシダ化学社製)を
少量加えて均一に混合して、ローラーで20μmの厚さ
に均一に塗布した。その上から樹脂層が形成されたベー
スシートを片側の端からローラーの外周に貼り付けた。The surface was plated with chrome to a thickness of 1 μm,
A small amount of epoxy resin (Diabond 2000S, manufactured by Nozawa Chemical Co., Ltd.) and diethylenetriamine (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) as a curing agent were added to an iron roll with a roll diameter of 300 mmφ and mixed uniformly, and a roller uniformly formed a thickness of 20 μm. Applied. A base sheet having a resin layer formed thereon was attached to the outer circumference of the roller from one end.
【0068】実施例2 実施例1で用いた紫外線硬化樹脂の代わりに、電子線硬
化樹脂液(ウレタンアクリレート〔日本合成社製、XP
700B〕:オリゴエステルアクリレート〔東亜合成社
製、アロニックスM7300〕=30重量部:70重量
部)を用いて硬化条件を電子線180KeV、10Mr
adで照射して、他は実施例1と同じようにして樹脂液
を硬化させた。実施例1と同じ様にローラーに貼り付け
た。Example 2 Instead of the ultraviolet curable resin used in Example 1, an electron beam curable resin liquid (urethane acrylate [Nippon Gosei Co., Ltd., XP
700B]: Oligoester acrylate [Toagosei Co., Ltd., Aronix M7300] = 30 parts by weight: 70 parts by weight) and curing conditions were electron beam 180 KeV, 10 Mr.
The resin liquid was cured in the same manner as in Example 1 except that the resin solution was irradiated with ad. It was attached to a roller in the same manner as in Example 1.
【0069】実施例3 実施例1と同じ原盤を用いて、実施例1と同じように裏
打ちして、厚さ200μmのポリカーボネート(帝人化
成社製、パンライト202)を2mmのクロム鋼との間
に挟んで200℃で、10kg/cm2 の圧力を加え
て、2分間加熱・加圧してパターンを転写した。室温ま
で冷却した後に樹脂を原盤から剥離した。線幅およびト
ラック深さの転写は95%であり、パターン転写率は良
好であった。また、パターンの転写によるベースシート
表面の皺などは見られなかった。実施例1と同じように
ローラーに貼り付けた。Example 3 Using the same master as in Example 1, backing was performed in the same manner as in Example 1, and a polycarbonate having a thickness of 200 μm (Panlite 202, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) was used between 2 mm of chrome steel. Then, the pattern was transferred by applying a pressure of 10 kg / cm 2 at 200 ° C. with heating for 2 minutes. After cooling to room temperature, the resin was peeled off from the master. The transfer of line width and track depth was 95%, and the pattern transfer rate was good. Moreover, wrinkles on the surface of the base sheet due to the transfer of the pattern were not observed. It was attached to a roller in the same manner as in Example 1.
【0070】実施例4 実施例1と同じ100μm厚のポリエステルフィルムを
ベースフィルムとして、この上にアクリル系アンカー材
を2μm厚塗布してプライマー層を形成した。このプラ
イマー層の上に、N−メチロールアクリルアミド重合体
にアクリル酸を反応させて得られた化合物を厚さ20μ
mに塗布して樹脂液層として、実施例1と同じ原盤を用
いて、両者を気泡入らないように密着させて、温度11
0℃、圧力1kg/cm2 の条件で圧接し、紫外線を実
施例1と同じ条件で照射して樹脂液を硬化させてパター
ンを転写した。線幅およびトラック深さの転写は97%
であり、パターン転写率は良好であった。また、パター
ンの転写によるベースシート表面の皺などは見られなか
った。実施例1と同じようにローラーに貼り付けた。Example 4 The same 100 μm thick polyester film as in Example 1 was used as a base film, and an acrylic anchor material was applied thereon to a thickness of 2 μm to form a primer layer. On this primer layer, a compound obtained by reacting N-methylol acrylamide polymer with acrylic acid was formed to a thickness of 20 μm.
m as a resin liquid layer, the same master as in Example 1 was used to bring them into close contact with each other without causing bubbles, and the temperature was set to 11
The pattern was transferred by pressing under the conditions of 0 ° C. and a pressure of 1 kg / cm 2 and irradiating ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 to cure the resin liquid. 97% transfer of line width and track depth
And the pattern transfer rate was good. Moreover, wrinkles on the surface of the base sheet due to the transfer of the pattern were not observed. It was attached to a roller in the same manner as in Example 1.
【0071】実施例5 実施例4で用いた樹脂の代わりに樹脂液層としてN−メ
チロールメラミンとアクリル酸を反応させて得たN−メ
チロールメラミンアクリレートを用いて、実施例4と同
じ条件で成型、硬化させた。実施例4と同様なパターン
精度の樹脂層を得ることができた。実施例1と同じよう
にローラーに貼りつけた。Example 5 N-methylolmelamine acrylate obtained by reacting N-methylolmelamine with acrylic acid was used as a resin liquid layer in place of the resin used in Example 4, and molding was carried out under the same conditions as in Example 4. , Cured. A resin layer having the same pattern accuracy as in Example 4 could be obtained. It was attached to a roller in the same manner as in Example 1.
【0072】実施例6 実施例4で用いた樹脂の代わりに樹脂液層としてブチル
メタクリレートと2−ヒドロキシエチルメタクリレート
の3:7共重合物に2,4−トルエンジイソシアネート
を付加させて得られた化合物を用いて、実施例4と同じ
条件で成型、硬化させた。実施例4と同様なパターン精
度の樹脂層を得ることができた。実施例1と同じように
ローラーに貼りつけた。Example 6 A compound obtained by adding 2,4-toluene diisocyanate to a 3: 7 copolymer of butyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate as a resin liquid layer instead of the resin used in Example 4. Was molded and cured under the same conditions as in Example 4. A resin layer having the same pattern accuracy as in Example 4 could be obtained. It was attached to a roller in the same manner as in Example 1.
【0073】実施例7 実施例1と同じ裏打ちした原盤を用いて、0.2mm厚
塩化ビニル樹脂のスペーサーを介して、2mm厚のガラ
ス板を設置した。その中にアクリル樹脂のモノマー(キ
シダ化学社製)を注ぎ、温度130℃、圧力1kg/c
m2 の条件で15時間圧接して硬化させた。原盤から剥
離して測定すると、線幅およびトラック深さの転写は9
8%であり、パターン転写率は良好であった。実施例1
と同じようにローラーに貼りつけた。Example 7 Using the same backing master as in Example 1, a 2 mm thick glass plate was placed via a spacer of 0.2 mm thick vinyl chloride resin. Acrylic resin monomer (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) was poured into it, and temperature was 130 ° C., pressure was 1 kg / c
It was pressed and cured under the condition of m 2 for 15 hours. When peeled from the master and measured, transfer of line width and track depth is 9
The pattern transfer rate was 8%, which was good. Example 1
I stuck it on the roller in the same way.
【0074】実施例8 実施例1と同じ方法で100μm厚の原盤を作製した。
実施例1と同じローラーの表面に実施例4と同じプライ
マー層を実施例4と同じように形成した。実施例7と同
じ0.2mm厚塩化ビニル樹脂のスペーサーを原盤とロ
ーラーの間に挟んで固定した。その中に実施例7と同じ
アクリル樹脂モノマーを注ぎ込んで、実施例7と同じ条
件で硬化させた。その後原盤を剥離した。Example 8 In the same manner as in Example 1, a master having a thickness of 100 μm was produced.
The same primer layer as in Example 4 was formed on the surface of the same roller as in Example 1 as in Example 4. The same 0.2 mm thick vinyl chloride resin spacer as in Example 7 was sandwiched and fixed between the master and the roller. The same acrylic resin monomer as in Example 7 was poured into it and cured under the same conditions as in Example 7. After that, the master was peeled off.
【0075】このロールを押し出し成型機(日立造船社
製、SHT90−32DVG)に取り付けて、2.3m
/分の速度で、ダイ温度は250℃、ローラー温度15
0℃の条件で、ポリカーボネート(帝人化成社製、K−
1285)を1.2mm厚に押し出した。This roll was mounted on an extrusion molding machine (SHT90-32DVG, manufactured by Hitachi Zosen Co., Ltd.), and 2.3 m
Die temperature is 250 ° C, roller temperature is 15
Polycarbonate (made by Teijin Chemicals Co., K-
1285) was extruded to a thickness of 1.2 mm.
【0076】押し出した基板を測定しすると、厚さのム
ラは最大値で50μmであり、十分小さかった。複屈折
の値はシングルパスで20nmでバラツキはすくなっか
た。(日本電子光学社製、複屈折測定機、λ=830n
mで測定)。光透過率は89%で十分に透明であった
(日立社製、U−3400、λ=830nmで測定)。
面振れ量はp−pで20μmで十分小さかった(カール
ツァイス社製、三次元測定機で測定)。長尺スタンパー
に形成されたプリフォーマットパターンの転写率は、深
さで97〜98%であった(テーラーホブソン社製、タ
リステップで測定)。線幅およびトラックピッチの転写
は100〜101%であった。(エリオニクス社製、表
面形状測定機で測定)。When the extruded substrate was measured, the unevenness in thickness was 50 μm at the maximum, which was sufficiently small. The value of birefringence was 20 nm in a single pass, and the variation was small. (Nippon Electronic Optical Co., Ltd., birefringence measuring machine, λ = 830n
measured in m). The light transmittance was 89%, which was sufficiently transparent (U-3400, manufactured by Hitachi Ltd., measured at λ = 830 nm).
The amount of surface deflection was 20 μm in pp, which was sufficiently small (measured by a three-dimensional measuring machine manufactured by Carl Zeiss). The transfer rate of the preformat pattern formed on the long stamper was 97 to 98% in depth (measured by Taristep manufactured by Taylor Hobson). Transfer of line width and track pitch was 100-101%. (Measured with a surface profiler manufactured by Elionix).
【0077】この基板を86mmφに切断して、下記構
造式(I)で示される、光記録材料を溶剤塗布した。This substrate was cut into 86 mmφ and an optical recording material represented by the following structural formula (I) was solvent coated.
【0078】[0078]
【化1】 [Chemical 1]
【0079】保護基板には0.3mm厚のポリカーボネ
ート(帝人化成社製、パンライト251)を86mmφ
に切断したものを用いて、0.3mmのエアーギャップ
を持つように接着した。記録・再生を行なったところ、
ディスクの回転数1800rpm、書き込み周波数3M
Hz、書き込みパワー6mW、読み出しパワー0.5m
Wで、C/N比で50dBであった。(ナカミチ社製、
OMS−1000IIで測定)86 mmφ of 0.3 mm thick polycarbonate (Panlite 251 manufactured by Teijin Kasei) is used as a protective substrate.
The cut pieces were used and bonded so as to have an air gap of 0.3 mm. After recording / playback,
Disc speed 1800rpm, writing frequency 3M
Hz, writing power 6 mW, reading power 0.5 m
At W, the C / N ratio was 50 dB. (Made by Nakamichi,
(Measured with OMS-1000II)
【0080】実施例9 実施例1と同じポリエステルシートに、紫外線硬化樹脂
(日本火薬社製、INC118)を10μmの厚さに塗
布して、実施例1と同じニッケル製スタンパーを原盤に
用いて5KWの紫外線ランプ(ウシオ電気社製)を用い
て紫外線硬化樹脂を完全に硬化させて、実施例1と同じ
個数のパターンを転写して、長尺スタンパーを作製し
た。パターンの転写は深さで99%であり、線幅および
トラックピッチの転写は100%であり、パターン転写
率は良好であった。実施例1と同様にパターンの転写に
よるベースシート表面の皺などは見られなかった。Example 9 An ultraviolet curable resin (INC 118, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was applied to the same polyester sheet as in Example 1 to a thickness of 10 μm, and the same nickel stamper as in Example 1 was used as a master plate for 5 KW. UV curing resin (manufactured by USHIO INC.) Was completely cured, and the same number of patterns as in Example 1 was transferred to produce a long stamper. The pattern transfer was 99% in depth, the line width and track pitch were 100%, and the pattern transfer rate was good. As in Example 1, no wrinkles on the surface of the base sheet due to the transfer of the pattern were observed.
【0081】実施例1と同じクロムメッキしたロール径
300mmφの鉄製ロールに実施例1と同じ方法で固定
した。継ぎ目での段差は最大で10μmであった。表面
の凹凸は最大値(p−p)で3μmであり、表面精度は
実施例1と同様に良好であった。It was fixed to the same chrome-plated iron roll having a diameter of 300 mmφ as in Example 1 by the same method as in Example 1. The maximum step difference at the joint was 10 μm. The maximum value (pp) of surface irregularities was 3 μm, and the surface accuracy was good as in Example 1.
【0082】このロールを実施例7と同じ押し出し装置
に取り付けて、実施例7と同じ樹脂を同じ条件で押し出
し成型を行なった。押し出した樹脂を測定したところ、
厚さのムラは最大値で50μmであり、十分小さかっ
た。複屈折の値はシングルパスで20nmでバラツキは
すくなかった。光透過率は89%で十分に透明であっ
た。面振れ量はp−pで50μmで十分小さかった。長
尺スタンパーに形成されていたプリフォーマットパター
ンの転写率は、深さで97〜98%以上であった。線幅
およびトラックピッチの転写は100〜101%であっ
た。This roll was attached to the same extruder as in Example 7, and the same resin as in Example 7 was extrusion molded under the same conditions. When measuring the extruded resin,
The maximum thickness unevenness was 50 μm, which was sufficiently small. The value of birefringence was 20 nm in a single pass, and the variation was small. The light transmittance was 89%, which was sufficiently transparent. The amount of surface deflection was 50 μm in pp, which was sufficiently small. The transfer rate of the preformat pattern formed on the long stamper was 97 to 98% or more in depth. Transfer of line width and track pitch was 100-101%.
【0083】この基板を実施例7と同様に、86mmφ
に切断して、光記録層を形成してから、保護基板を接着
して光ディスクとして完成させた。記録・再生を行なっ
たところ、ディスクの回転数1800rpm、書き込み
周波数3MHz、書き込みパワー6mW、読み出しパワ
ー0.5mWで、C/N比で53dBであった。This substrate was 86 mmφ in the same manner as in Example 7.
After cutting into optical discs to form an optical recording layer, a protective substrate was adhered to complete an optical disc. When recording / reproducing was performed, the disk rotation speed was 1800 rpm, the writing frequency was 3 MHz, the writing power was 6 mW, the reading power was 0.5 mW, and the C / N ratio was 53 dB.
【0084】実施例10 実施例1と同じ厚さ、大きさのアルミシートに、紫外線
硬化樹脂(日本火薬社製、INC118)を10μmの
厚さに塗布して、12μmピッチ、2.5μm幅、深さ
3000Åのカードパターンの溝が形成された99×7
1mmのガラス製スタンパー(厚さ2mm)を原盤に用
いて、5KWの紫外線ランプ(ウシオ電気社製)を用い
て紫外線硬化樹脂を完全に硬化させて、実施例1と同じ
個数のパターンを転写して、長尺スタンパーを作製し
た。パターンの転写は深さで99%であり、線幅および
トラックピッチの転写は100%であり、パターン転写
率は良好であった。実施例1と同様にパターンの転写に
よるベースシート表面の皺などは見られなかった。Example 10 An ultraviolet ray curing resin (INC118, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was applied to an aluminum sheet having the same thickness and size as in Example 1 to a thickness of 10 μm to give a pitch of 12 μm and a width of 2.5 μm. 99 x 7 with a groove of 3000 Å deep card pattern
Using a 1 mm glass stamper (thickness: 2 mm) as a master, the UV curable resin was completely cured using a 5 KW UV lamp (manufactured by Ushio Inc.) to transfer the same number of patterns as in Example 1. Then, a long stamper was produced. The pattern transfer was 99% in depth, the line width and track pitch were 100%, and the pattern transfer rate was good. As in Example 1, no wrinkles on the surface of the base sheet due to the transfer of the pattern were observed.
【0085】実施例1と同じクロムメッキしたロール径
300mmφの鉄製ロールに実施例1と同じ方法で固定
した。継ぎ目での段差は最大で10μmであった。表面
の凹凸は最大値(p−p)で3μmであり、表面精度は
実施例1と同様に良かった。このロールを実施例7と同
じ押し出し装置に取り付けて、実施例7と同じ樹脂を同
じ条件で押し出し成型を行なった。押し出した樹脂を測
定してみたところ、厚さのムラは最大値で50μmであ
り、十分小さかった。複屈折の値はシングルパスで10
nmでバラツキはすくなかった。光透過率は90%で十
分に透明であった。面振れ量はp−pで20μmで十分
小さかった。長尺スタンパーに形成されていたプリフォ
ーマットパターンの転写率は、深さで97〜98%以上
であった。線幅およびトラックピッチの転写は100〜
101%であった。It was fixed to the same chromium-plated iron roll having a diameter of 300 mmφ as in Example 1 by the same method as in Example 1. The maximum step difference at the joint was 10 μm. The maximum value (pp) of surface irregularities was 3 μm, and the surface accuracy was good as in Example 1. This roll was attached to the same extruder as in Example 7, and the same resin as in Example 7 was extrusion molded under the same conditions. When the resin extruded was measured, the unevenness in the thickness was 50 μm at the maximum, which was sufficiently small. The value of birefringence is 10 in a single pass.
There was no variation in nm. The light transmittance was 90%, which was sufficiently transparent. The amount of surface deflection was 20 μm in pp, which was sufficiently small. The transfer rate of the preformat pattern formed on the long stamper was 97 to 98% or more in depth. Transfer of line width and track pitch is 100 ~
It was 101%.
【0086】この基板に実施例7と同じ光記録材料を溶
剤塗布した後に、0.25mm厚のポリカーボネート
(帝人化成社製、パンライト251)の裏材をホットメ
ルト系接着剤(ヒロダイン、エバフレックスEXP8
0)を用いて接着した。それから86×54mmのカー
ドサイズに切断して光カードを作製した。This substrate was coated with the same optical recording material as in Example 7 by a solvent, and then a 0.25 mm thick polycarbonate (Panlite 251 manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) backing material was used as a hot melt adhesive (Hirodine, Evaflex). EXP8
0) was used for bonding. Then, an optical card was prepared by cutting into a card size of 86 × 54 mm.
【0087】次の条件で記録・再生してみたところ、C
/N比で50dBであった。 カードの送り速度:記録60mm/秒、再生400mm
/秒 記録周波数:7.65kHz レーザーパワー:書き込み3.5mW、読み出し0.2
mW、 スポット系3μmWhen recording / reproducing under the following conditions, C
The / N ratio was 50 dB. Card feeding speed: recording 60 mm / sec, playback 400 mm
/ Sec Recording frequency: 7.65 kHz Laser power: Writing 3.5 mW, reading 0.2
mW, spot system 3 μm
【0088】比較例1 実施例1と同じポリエステルシートに、実施例1と同じ
ニッケルスタンパーを実施例1と同じ接着剤を用いて実
施例1と同じ方法で30個(3×10)貼り付けて長尺
スタンパーを作製した。実施例1と同じ方法で長尺スタ
ンパーを実施例1と同じローラーに貼りつけた。パター
ンの転写は深さで96%であり、線幅およびトラックピ
ッチの転写は100%であり、パターン転写率は良好で
あった。Comparative Example 1 30 pieces (3 × 10) of the same nickel stamper as in Example 1 were attached to the same polyester sheet as in Example 1 using the same adhesive as in Example 1 in the same manner as in Example 1. A long stamper was produced. The long stamper was attached to the same roller as in Example 1 by the same method as in Example 1. The pattern transfer was 96% in depth, the line width and track pitch were 100%, and the pattern transfer rate was good.
【0089】実施例1と同様に、長尺スタンパーを片側
の端からロールの外周方向から順に貼り付けた。長尺ス
タンパーの継ぎ目の隙間は5μm以下の長さであり十分
な精度であった。しかしながら、各一つ一つのスタンパ
ーの端や継ぎ目での段差は最大で100〜300μm、
隙間は長さで300〜500μm程度あった。In the same manner as in Example 1, the long stamper was attached in order from the outer peripheral direction of the roll from one end. The gap between the seams of the long stamper was 5 μm or less, which was sufficient accuracy. However, the maximum step difference at each end of each stamper or joint is 100-300 μm,
The gap had a length of about 300 to 500 μm.
【0090】このローラーを用いて実施例7と同じ条件
で樹脂基板を成型すると。この各一つ一つのスタンパー
の端や継ぎ目での段差や隙間が樹脂に転写してしまい、
面振れ量が大きすぎて樹脂基板としては不適当であっ
た。また、この段差や隙間の部分で樹脂の成型時の押し
圧力のムラが生じるため、樹脂基板の複屈折が実施例7
と同じ方法で測定して400nm程度あって基板として
不適当であった。その他に成型中に長尺スタンパーに貼
り付けた各一つ一つのスタンパーの端が剥がれてしま
い、この方法での樹脂成型は不適当であることが明らか
になった。Using this roller, a resin substrate is molded under the same conditions as in Example 7. The steps and gaps at the ends and joints of each of these stampers are transferred to the resin,
The amount of surface wobbling was too large to be suitable as a resin substrate. Further, since unevenness of the pressing force at the time of molding the resin is generated in the step and the gap, the birefringence of the resin substrate is caused in the embodiment 7.
The thickness was about 400 nm as measured by the same method as that of 1. In addition, the end of each stamper attached to the long stamper was peeled off during molding, and it became clear that resin molding by this method was inappropriate.
【0091】比較例2 実施例1と同じニッケルスタンパーを実施例1と同じ接
着剤を用いて同じ方法で30個(3×10)を実施例1
と同じローラーに貼り付けた。比較例1と同様に各一つ
一つのスタンパーの端や継ぎ目での段差は最大で100
〜300μm、隙間は長さで300〜500μm程度あ
り、このローラーを用いて実施例7と同じ条件で樹脂基
板を成型すると、この各一つ一つのスタンパーの端や継
ぎ目での段差や隙間が樹脂に転写してしまい、面振れ量
が大きすぎて樹脂基板としては不適当であった。Comparative Example 2 Using the same nickel stamper as in Example 1 and the same adhesive as in Example 1, 30 pieces (3 × 10) were made in Example 1 by the same method.
I stuck it on the same roller. Similar to Comparative Example 1, the maximum step difference at each end and joint of each stamper is 100.
.About.300 .mu.m, and the gap has a length of about 300 to 500 .mu.m. When a resin substrate is molded under the same conditions as in Example 7 using this roller, steps and gaps at the ends and joints of each stamper are However, it was unsuitable as a resin substrate because the amount of surface runout was too large.
【0092】また、この段差や隙間の部分で樹脂の成型
時の押し圧力のムラが生じるため、樹脂基板の複屈折が
実施例7と同じ方法で測定して400nm程度あって基
板として不適当であった。比較例1と同様に成型中にロ
ーラーに貼り付けた各一つ一つのスタンパーの端が剥が
れてしまい、この方法での樹脂成型は不適当であること
が明らかになった。Further, since unevenness of the pressing force at the time of molding the resin is generated in the step and the gap portion, the birefringence of the resin substrate is about 400 nm as measured by the same method as in Example 7, which is unsuitable as a substrate. there were. As in Comparative Example 1, the end of each stamper attached to the roller was peeled off during molding, and it became clear that resin molding by this method was inappropriate.
【0093】[0093]
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、樹
脂材料から成るスタンパーをローラー外周部に固定する
構成のため、パターン精度および平面性が良い光記録媒
体基板の製造用ローラーを安価に提供できる効果があ
る。As described above, according to the present invention, since the stamper made of a resin material is fixed to the outer peripheral portion of the roller, the roller for manufacturing the optical recording medium substrate having good pattern accuracy and flatness is inexpensive. There is an effect that can be provided to.
【図1】本発明の方法により製造された光記録媒体用基
板製造用ローラーの実施態様を示す断面模式図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a roller for producing a substrate for an optical recording medium produced by the method of the present invention.
【図2】本発明の樹脂スタンパーの第1の製造方法の概
略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a first method of manufacturing a resin stamper of the present invention.
【図3】本発明の樹脂スタンパーの第2の製造方法の概
略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of a second method for manufacturing a resin stamper of the present invention.
【図4】本発明の樹脂スタンパーの第3の製造方法の概
略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a third method for manufacturing a resin stamper of the present invention.
【図5】本発明の樹脂スタンパーの第4の製造方法の概
略断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of a fourth method for manufacturing a resin stamper of the present invention.
【図6】本発明の樹脂スタンパーの第5の製造方法の概
略断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view of a fifth method for manufacturing a resin stamper of the present invention.
【図7】従来の押し出し成型による光記録媒体用基板の
製造方法の概略図である。FIG. 7 is a schematic view of a conventional method for manufacturing an optical recording medium substrate by extrusion molding.
【図8】従来の紫外線硬化樹脂法による光記録媒体用基
板の製造方法の概略図である。FIG. 8 is a schematic view of a method for manufacturing a substrate for an optical recording medium by a conventional ultraviolet curing resin method.
【図9】従来の光記録媒体の一般的な断面図である。FIG. 9 is a general cross-sectional view of a conventional optical recording medium.
1 ローラー 2 樹脂スタンパー 3 凹凸パターン 4 原盤 4a 可撓性原盤 5 ベースシート 6,6a,6b,6c,6d 樹脂液(樹脂層) 7 紫外線、電子線源 8 加圧型 9 スペーサー 10 裏材料 11 基板樹脂 12 成型ローラー 13 加圧ローラー 14 Tダイ 15 ルーダー 16 ホッパー 17 引き取りローラー 21 基板樹脂シート 22 巻き出しローラー 23 巻き取りローラー 24 供給ローラー 25 加圧ローラー 26 成型樹脂塗布装置 31 透明基板 32 トラック溝部 33 光記録媒体 34 スペーサー 35 接着剤層 36 保護基板 1 Roller 2 Resin Stamper 3 Concavo-convex Pattern 4 Master 4a Flexible Master 5 Base Sheet 6, 6a, 6b, 6c, 6d Resin Liquid (Resin Layer) 7 Ultraviolet and Electron Beam Source 8 Pressurizing Type 9 Spacer 10 Backing Material 11 Substrate Resin 12 molding roller 13 pressure roller 14 T die 15 ruder 16 hopper 17 take-up roller 21 substrate resin sheet 22 unwinding roller 23 take-up roller 24 supply roller 25 pressure roller 26 molding resin coating device 31 transparent substrate 32 track groove 33 optical recording Medium 34 Spacer 35 Adhesive Layer 36 Protective Substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29L 17:00 4F (72)発明者 鹿目 修 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number within the agency FI technical display location // B29L 17:00 4F (72) Inventor Osamu Kaname 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo No. Canon Inc.
Claims (7)
化させて情報の記録・再生を行なう光記録媒体の製造
で、ローラー状の型を用いて成型を行なってプリフォー
マット付き透明基板を連続的に形成するローラーの製造
方法において、記録すべき情報に対応した凹凸パターン
が形成された原盤の凹凸パターンを、一つまたは複数
個、樹脂シート表面に転写して樹脂スタンパーを形成す
る工程、該樹脂スタンパーをロール基材表面に凹凸パタ
ーンを外側にして固定する工程を有することを特徴とす
る光記録媒体用基板製造用ローラーの製造方法。1. A method for manufacturing an optical recording medium in which optical characteristics are changed by irradiating a light beam to record / reproduce information, and a transparent substrate with a preformat is continuously formed by molding using a roller-shaped mold. In the method for manufacturing a roller to be formed in step 1, a step of transferring one or a plurality of uneven patterns of a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded onto a resin sheet surface to form a resin stamper, A method for manufacturing a roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium, comprising a step of fixing a stamper on a surface of a roll base material with an uneven pattern on the outside.
用基板製造用ローラーは、記録すべき情報に対応した凹
凸パターンが形成された原盤の上に紫外線または電子線
などの放射線で硬化する樹脂液を塗布する工程、必要に
応じて前記樹脂液の厚さが均一になるように加熱してレ
ベリングする工程、前記塗布した樹脂液に気泡が入らな
いように、樹脂からなるベースシートを合わせて、その
間に樹脂液を充填させる工程、必要に応じて前記樹脂液
の厚さが均一になるように加圧する工程、前記塗布した
樹脂液に紫外線または電子線などの放射線を照射して樹
脂液を硬化させて原盤の凹凸パターンを樹脂液に転写さ
せる工程、前記硬化した樹脂液を原盤から剥離する工
程、前記原盤から剥離した樹脂液をベースシートと共に
ローラーに固定する工程を有することを特徴とする請求
項1記載の光記録媒体用基板製造用ローラーの製造方
法。2. A roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium having the resin stamper is provided with a resin liquid which is cured by radiation such as ultraviolet rays or electron beams on a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded. The step of applying, the step of heating and leveling the resin solution so that the thickness of the resin solution becomes uniform, if necessary, the base sheets made of resin are combined so that air bubbles do not enter the applied resin solution, In which the resin liquid is filled, the step of pressurizing the resin liquid so that the thickness of the resin liquid becomes uniform, and the resin liquid cured by irradiating the applied resin liquid with radiation such as ultraviolet rays or electron beams. To transfer the uneven pattern of the master to the resin liquid, the step of peeling the cured resin liquid from the master, and the step of fixing the resin liquid peeled from the master together with the base sheet to the roller. The method for producing a roller for producing a substrate for an optical recording medium according to claim 1, wherein
用基板製造用ローラーは、記録すべき情報に対応した凹
凸パターンが形成された原盤の上に、熱可塑性樹脂また
は熱硬化性樹脂からなるベースシートを密着させる工
程、前記ベースシートを原盤と密着しながら加熱・加圧
して原盤の凹凸パターンをベースシートに転写させる工
程、前記ベースシートを原盤から剥離する工程、前記原
盤から剥離したベースシートをローラーに固定する工程
を有することを特徴とする請求項1記載の光記録媒体用
基板製造用ローラーの製造方法。3. A roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium having the resin stamper is a base sheet made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin on a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded. , A step of transferring the uneven pattern of the master to the base sheet by heating and pressing while closely contacting the base sheet with the master, a step of peeling the base sheet from the master, a roller of the base sheet peeled from the master. The method for producing a roller for producing a substrate for an optical recording medium according to claim 1, further comprising a step of fixing the roller to the substrate.
性のよい樹脂層を設ける工程、前記成型用樹脂層を設け
たベースシートを原盤に密着させる工程、前記ベースシ
ートを原盤と密着させたまま加熱・加圧して原盤の凹凸
パターンをベースシートに転写させる工程、前記ベース
シートを原盤から剥離する工程、前記原盤から剥離した
ベースシートをローラーに固定する工程を有することを
特徴とする請求項3記載の光記録媒体用基板製造用ロー
ラーの製造方法。4. A step of providing a resin layer having good moldability on the base sheet as needed, a step of bringing the base sheet provided with the molding resin layer into close contact with a master, and a step of bringing the base sheet into close contact with the master. The method comprises the steps of heating and pressing as it is to transfer the concavo-convex pattern of the master onto a base sheet, peeling the base sheet from the master, and fixing the base sheet peeled from the master to a roller. 4. The method for producing a roller for producing a substrate for an optical recording medium according to 3.
用基板製造用ローラーは、記録すべき情報に対応した凹
凸パターンが形成された原盤の上に紫外線または電子線
などの放射線で硬化し、かつ熱成型性を有する樹脂液を
塗布して樹脂液の層を形成する工程、必要に応じて前記
樹脂液層の厚さが均一になるように加熱レベリングする
工程、前記塗布した樹脂液層に気泡が入らないように、
樹脂からなるベースシートを合わせる工程、必要に応じ
て前記樹脂液層の厚さが均一になるように加圧する工
程、前記樹脂液を塗布したベースシートを原盤と密着し
ながら加熱・加圧して原盤の凹凸パターンをベースシー
ト上の樹脂液層に転写させる工程、前記ベースシート上
の樹脂液層に紫外線または電子線などの放射線を照射し
て硬化させて原盤の凹凸パターンを樹脂液に転写させる
工程、前記硬化したベースシート上の樹脂液層を原盤か
ら剥離する工程、前記原盤から剥離したベースシート上
の樹脂液層をローラーに固定する工程を有することを特
徴とする請求項1記載の光記録媒体用基板製造用ローラ
ーの製造方法。5. A roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium having the resin stamper is cured by radiation such as ultraviolet rays or electron beams on a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded, and heat. A step of applying a resin liquid having moldability to form a layer of the resin liquid, a step of heating and leveling the resin liquid layer so that the thickness of the resin liquid layer becomes uniform if necessary, and bubbles are formed in the applied resin liquid layer. Do not enter
A step of combining base sheets made of resin, a step of pressurizing the resin liquid layer so that the thickness of the resin liquid layer becomes uniform as necessary, a master sheet by heating and pressing the base sheet coated with the resin liquid while closely contacting the master sheet. Of transferring the uneven pattern of the master to the resin liquid layer on the base sheet, and irradiating the resin liquid layer of the base sheet with radiation such as ultraviolet rays or electron beams to cure and transferring the uneven pattern of the master to the resin liquid. 2. The optical recording according to claim 1, further comprising a step of peeling the resin liquid layer on the cured base sheet from a master, and a step of fixing the resin liquid layer on the base sheet peeled from the master to a roller. A method for manufacturing a roller for manufacturing a medium substrate.
用基板製造用ローラーは、記録すべき情報に対応した凹
凸パターンが形成された原盤の上に熱、圧力などで反応
して重合して硬化する樹脂液を塗布する工程、前記塗布
した樹脂液に気泡が入らないように、一定の大きさの隙
間を開けて裏材料を合わせて、その間に樹脂液を充填さ
せる工程、必要に応じて前記樹脂液の厚さが均一になる
ように加熱または/および加圧して樹脂液を硬化させて
原盤の凹凸パターンを樹脂液に転写させる工程、前記硬
化した樹脂液を原盤から剥離する工程、前記原盤から剥
離した樹脂液をベースシートと共にローラーに固定する
工程を有することを特徴とする請求項1記載の光記録媒
体用基板製造用ローラーの製造方法。6. The roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium having the resin stamper reacts with heat, pressure, etc. on a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded, and is polymerized and cured. A step of applying a resin liquid, a step of forming a gap of a certain size so as to prevent bubbles from entering the applied resin liquid, aligning backing materials, and filling a resin liquid between them; A step of curing the resin liquid by heating or / and pressurizing so that the thickness of the liquid becomes uniform to transfer the uneven pattern of the master to the resin liquid, a step of peeling the cured resin liquid from the master, The method for manufacturing a roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium according to claim 1, further comprising a step of fixing the peeled resin liquid together with the base sheet to the roller.
用基板製造用ローラーは、記録すべき情報に対応した凹
凸パターンが形成された可撓性原盤または/およびロー
ラーの上に紫外線または電子線などの放射線または加
熱、加圧で硬化性を有する樹脂液を塗布する工程、必要
に応じて前記樹脂液の厚さが均一になるようにレベリン
グする工程、前記塗布した樹脂液に気泡が入らないよう
に、前記可撓性原盤とローラーを合わせて樹脂をその間
に充填させる工程、必要に応じて前記樹脂液の厚さが均
一になるように加圧する工程、前記樹脂液を充填した原
盤とローラー密着させて、原盤の凹凸パターンをベース
シートに転写させる工程、前記原盤とローラーの間に充
填した樹脂液に紫外線または電子線などの放射線または
熱、圧力を加えて硬化させて原盤の凹凸パターンを樹脂
液に転写させて樹脂液をローラー表面に固定する工程、
前記硬化した樹脂液から原盤を剥離させる工程を有する
ことを特徴とする請求項1記載の光記録媒体用基板製造
用ローラーの製造方法。7. A roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium, which has the resin stamper, is provided on a flexible master disk and / or roller on which an uneven pattern corresponding to information to be recorded is formed. A step of applying a resin liquid having a curability by radiation, heating, or pressurization, a step of leveling the resin liquid so that the thickness of the resin liquid becomes uniform if necessary, and preventing bubbles from entering the applied resin liquid. , A step of filling the resin between the flexible master and the roller together, a step of pressurizing the resin liquid so that the thickness of the resin liquid becomes uniform if necessary, and a roller close contact with the master filled with the resin liquid And transfer the uneven pattern of the master to the base sheet, and cure by applying radiation such as ultraviolet rays or electron beams, heat, or pressure to the resin liquid filled between the master and the roller. Then, the step of transferring the uneven pattern of the master to the resin liquid and fixing the resin liquid on the roller surface,
The method for manufacturing a roller for manufacturing a substrate for an optical recording medium according to claim 1, further comprising a step of peeling the master disk from the cured resin liquid.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4021690A JPH05189815A (en) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | Manufacture of roller for manufacture of substrate for optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
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JP4021690A JPH05189815A (en) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | Manufacture of roller for manufacture of substrate for optical recording medium |
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ID=12062066
Family Applications (1)
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JP4021690A Pending JPH05189815A (en) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | Manufacture of roller for manufacture of substrate for optical recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05189815A (en) |
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