JPH03235233A - Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die - Google Patents

Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die

Info

Publication number
JPH03235233A
JPH03235233A JP3064190A JP3064190A JPH03235233A JP H03235233 A JPH03235233 A JP H03235233A JP 3064190 A JP3064190 A JP 3064190A JP 3064190 A JP3064190 A JP 3064190A JP H03235233 A JPH03235233 A JP H03235233A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
resin layer
recording medium
substrate
information recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3064190A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirofumi Kamitakahara
上高原 弘文
Hitoshi Yoshino
斉 芳野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP3064190A priority Critical patent/JPH03235233A/en
Publication of JPH03235233A publication Critical patent/JPH03235233A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To manufacture a forming roll die for a substrate of information recording medium and to manufacture a substrate using this roll by applying a liquid resin on an original plate having a grooved pattern of preformat to form a resin layer and then fixing the resin layer on the surface of the roll body. CONSTITUTION:A resin layer 2 is formed to a certain thickness on an original plate or stamper 1 having a grooved pattern 3, then hardened and transferred to the surface of a roller 4 to be fixed thereon. In this process, the resin layer 2 is fixed to the roller 4 with the rugged pattern face outside. The resin layer 2 is preferably to have certain rigidity since it is mechanically peeled off from the plate after hardened. Usually, it is sufficient that the original plate or stamper 1 is >=100 mum thick and preferably 400 - 5000 mum thick. Any material can be used for the resin layer 2 as far as the layer can be formed to have uniform thickness on the original plate or stamper 1 and the layer can be processed and hardened after the pattern is formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光記録媒体の基板に凹凸プリフォーマットパタ
ーンを形成するロール形状の型またはスタンパ−の製造
方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a roll-shaped mold or stamper for forming a concavo-convex preformat pattern on a substrate of an optical recording medium.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、各種情報の記録には、磁気テープ、磁気ディスク
等の磁気材料、各種半導体メモリー等が主として用いら
れてきた。この様な磁気メモリー半導体メモリーは情報
の書き込みおよび読みだしが容易に行なえるという利点
はあるが、反面、情報の内容を容易に改ざんされたり、
また高密度記録ができないという問題点があった。かか
る問題点を解決するために、多種多様の情報を効率よく
取り扱う手段として、光記録媒体による光学的情報記録
方法が提案され、そのための光学的情報記録担体、記録
再生方法、記録再生装置が提案されている。
Conventionally, magnetic materials such as magnetic tapes and magnetic disks, various semiconductor memories, and the like have been mainly used to record various types of information. Although this kind of magnetic memory semiconductor memory has the advantage of being able to easily write and read information, it also has the disadvantage that the content of the information can be easily tampered with.
Another problem was that high-density recording was not possible. In order to solve these problems, an optical information recording method using an optical recording medium has been proposed as a means to efficiently handle a wide variety of information, and an optical information recording carrier, a recording/reproducing method, and a recording/reproducing apparatus for this purpose have been proposed. has been done.

かかる情報記録担体としての光記録媒体は、−般にレー
ザー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散
させるか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形
を生じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情
報を記録し、あるいは再生を行なっている。この場合、
光記録層は情報を書き込み後、現像処理などの必要がな
く、「書いた後に直読する」ことのできる、いわゆるD
RAW(ダイレクト リード アフター ライト)媒体
であり、高密度記録が可能であり、また追加書き込みも
可能であることから、情報の記録・保存媒体として有効
である。
Such an optical recording medium as an information recording carrier is generally produced by using a laser beam to evaporate a part of the optical recording layer on the information recording carrier, to cause a change in reflectance, or to cause deformation. Information is recorded or reproduced based on differences in optical reflectance and transmittance. in this case,
The optical recording layer does not require any development treatment after information is written, and can be read directly after writing, so-called D.
It is a RAW (Direct Read After Write) medium that allows high-density recording and additional writing, making it effective as an information recording/storage medium.

第7図は、光記録媒体の模式的断面図である。同第7図
において、41は透明基板、42はトラック溝部、43
は光記録層、44はスペーサー・接着層、45は保護基
板である。第7図において、情報の記録・再生は透明基
板41およびトラック溝部42を通して光学的に書き込
みと読みだしを行なう。この際、トラック溝部の微細な
凹凸を利用してレーザー光の位相差によりトラッキング
を行なえる様にしである。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an optical recording medium. In FIG. 7, 41 is a transparent substrate, 42 is a track groove, and 43 is a transparent substrate.
4 is an optical recording layer, 44 is a spacer/adhesive layer, and 45 is a protective substrate. In FIG. 7, information is recorded and read out optically through a transparent substrate 41 and track grooves 42. At this time, tracking can be performed using the phase difference of the laser beam by utilizing the fine irregularities of the track groove.

この様に、光記録媒体の基板にはトラック溝やアドレス
ピット等となる凹凸プリフォーマットが形成されている
In this way, a concave-convex preformat that becomes a track groove, an address pit, etc. is formed on the substrate of an optical recording medium.

この凹凸プリフォーマットの基板への形成は、例えば、
従来のビデオディスク、オーディオディスクなどでは、
一般にあらかじめ凹凸形状を形成されたスタンバ−を用
いて、プレス法、射出成型法または紫外線硬化樹脂法を
用いて透明樹脂基板にスタンバ−の凹凸形状を転写して
いる。上記の方法は一般に枚葉工程であるが、例えば、
特開昭56−87203号公報、特開昭56−8672
1号公報などのように、第8図に示すようにロール形状
のスタンバ−または金型52を用いて透明樹脂シート5
1に凹凸パターンを連続で形成する方法も広く用いられ
ている。上記先行技術では第4図に示すように、ロール
11にスタンバ−12を接着剤や両面テープで貼り付け
るか、あるいはネジ止めによって固定している。このス
タンバ−12は一般にフォトリソ工程でパターンを形成
した後に、現像、導電化処理をしてからニッケル電鋳し
て製造しているが、これらの工程は多大な時間を要する
上に、製造費用も高く実用的ではないという問題点があ
った。またスタンバ−とロールを接着することなく、ネ
ジなどで固定するときは、スタンバ−とロールの間の空
気を完全に追い出して密着させるのが困難である。スタ
ンバ−とロールの間に空気が入ると、スタンバ−の表面
に凹凸を生じ、その凹凸が樹脂に転写して光記録媒体の
基板の品質を低下させてしまうという問題点もある。そ
の上、スタンバ−が薄いと強度が不足するため、耐久性
が悪くなってしまい、その反対にスタンバ−が厚いと剛
性が高くなって、ロールに巻き付けるのが、難しくなる
だけでなく、熱伝導率も悪くなってしまうという問題点
もある。
The formation of this uneven preformat on the substrate can be done by, for example,
With conventional video discs, audio discs, etc.
In general, a stub bar with an uneven shape formed in advance is used to transfer the uneven shape of the stub bar onto a transparent resin substrate using a press method, an injection molding method, or an ultraviolet curing resin method. The above method is generally a single-wafer process, but for example,
JP-A-56-87203, JP-A-56-8672
As in Publication No. 1, as shown in FIG.
A method of continuously forming a concavo-convex pattern on a substrate 1 is also widely used. In the above-mentioned prior art, as shown in FIG. 4, the stand bar 12 is attached to the roll 11 with adhesive or double-sided tape, or fixed with screws. This stanbar 12 is generally manufactured by forming a pattern in a photolithography process, developing it, making it conductive, and then electroforming nickel, but these processes take a lot of time and are expensive to manufacture. The problem was that it was expensive and impractical. Further, when the stambar and the roll are fixed with screws or the like without adhesive, it is difficult to completely expel the air between the stambar and the roll and bring them into close contact. When air enters between the stand bar and the roll, there is another problem in that unevenness occurs on the surface of the stand bar, and the unevenness is transferred to the resin, deteriorating the quality of the substrate of the optical recording medium. Furthermore, if the stambar is thin, it will lack strength, resulting in poor durability.On the other hand, if the stambar is thick, it will not only be difficult to wrap around a roll, but will also have poor thermal conductivity. There is also the problem that the rate also gets worse.

印刷機械入門および新・感光性樹脂(印刷学会出版部)
には、第5図、第6図に示すような一般的な製版の技術
が記載されている。第5図ではあらかじめパターンの形
成されているマスク22の上をロール21を転がしなが
ら電子線または電磁波を照射してマスクのパターンをロ
ールに転写している。また第6図の方法では感光樹脂な
どを塗ったロール31を軸を中心に回転させながら光ビ
ーム32を一方向にスキャンさせてパターンを直接描画
している。しかしながら光記録媒体のパターンはサブミ
クロンと微細であるために第5図の方法ではサブミクロ
ンのパターンの線幅を転写するのは、光学的な分解能か
ら現在ではまだ不可能である。また第6図の方法ではロ
ールとビームを連動させながらスパイラルパターンをサ
ブミクロンの精度で位置を正確に出して描画しなければ
ならず、この両省の機械的な制御が困難である。またロ
ールの軸受けやロール表面の平面度も精度が要求される
ために、ロールの加工も困難になっている。このように
一般的な製版技術の応用では光記録媒体用のロール型を
製作するのは困難である。
Introduction to printing machinery and new photosensitive resins (Printing Society Publishing Department)
describes a general plate-making technique as shown in FIGS. 5 and 6. In FIG. 5, a roll 21 is rolled over a mask 22 on which a pattern has been formed in advance, and electron beams or electromagnetic waves are irradiated to transfer the pattern of the mask onto the roll. Further, in the method shown in FIG. 6, a pattern is directly drawn by scanning a light beam 32 in one direction while rotating a roll 31 coated with photosensitive resin or the like around an axis. However, since the patterns on optical recording media are as fine as submicrons, it is currently impossible to transfer submicron pattern line widths using the method shown in FIG. 5 due to the optical resolution. Furthermore, in the method shown in FIG. 6, the spiral pattern must be accurately positioned and drawn with submicron precision while the roll and beam are interlocked, and mechanical control of both is difficult. Furthermore, since precision is required for the roll bearings and the flatness of the roll surface, processing of the rolls is also difficult. As described above, it is difficult to manufacture roll molds for optical recording media by applying general plate-making techniques.

〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は上記問
題点に鑑みなされたものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above problems.

即ち本発明は、情報記録媒体用基板に凹凸プリフォーマ
ットを連続的に精度良く形成することができる。情報記
録媒体用基板の成形用ロール型を、より簡単に作ること
ができる。情報記録媒体用基板の成形用ロール型の製造
方法を提供することを目的とするものである。
That is, according to the present invention, a concavo-convex preformat can be continuously and precisely formed on a substrate for an information recording medium. A roll mold for forming a substrate for an information recording medium can be made more easily. The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a roll mold for forming a substrate for an information recording medium.

また本発明は量産性に優れ、低コストで高品質の情報記
録媒体を得ることができる情報記録媒体の製造方法を提
供することを目的とするものである。
Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing an information recording medium that is excellent in mass productivity and can obtain a high quality information recording medium at low cost.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

即ち、本発明の情報記録媒体用基板の成形用ロール型の
製造方法は、情報記録媒体用基板に凹凸プリフォーマッ
トを連続的に形成する情報記録媒体用基板の成形用ロー
ル型の製造方法において、該凹凸プリフォーマットに対
応する凹凸プリフォーマットパターンが形成された原版
の上に液状樹脂を塗布して樹脂層を形成し、該凹凸プリ
フォーマットパターンが転写された樹脂層をロール基材
表面に、該樹脂層の凹凸プリフォーマットパターン形成
面を外側にして固定することを特徴とする、ものである
。また本発明情報記録媒体用基板の製造方法は、凹凸プ
リフォーマットを有する、情報記録媒体用基板を連続的
に製造する方法に於て、該凹凸プリフォーマットに対応
する凹凸プリフォーマットパターンが形成された原版の
上に樹脂層を形成して、次いで該凹凸プリフォーマット
パターンが転写された液状樹脂を塗布して樹脂層を形成
し、該凹凸プリフォーマットパターンが転写された樹脂
層をロール基材表面に該樹脂層の凹凸プリフォーマット
パターン形成面を外側にして固定してなる、ロール型を
用いて情報記録媒体用基板に凹凸プリフォーマットを形
成することを特徴とするものである。
That is, the method for manufacturing a roll mold for forming a substrate for an information recording medium of the present invention is a method for manufacturing a roll mold for forming a substrate for an information recording medium, in which a concave-convex preformat is continuously formed on the substrate for an information recording medium. A resin layer is formed by coating a liquid resin on the original plate on which a concavo-convex preformat pattern corresponding to the concavo-convex preformat is formed, and the resin layer to which the concavo-convex preformat pattern is transferred is applied to the surface of the roll base material. This method is characterized in that the resin layer is fixed with the surface on which the uneven preformat pattern is formed facing outward. Further, the method for manufacturing a substrate for an information recording medium of the present invention is a method for continuously manufacturing a substrate for an information recording medium having an uneven preformat, in which an uneven preformat pattern corresponding to the uneven preformat is formed. A resin layer is formed on the original plate, and then a liquid resin to which the uneven preformat pattern is transferred is applied to form a resin layer, and the resin layer to which the uneven preformat pattern is transferred is applied to the surface of the roll base material. The present invention is characterized in that the uneven preformat is formed on the information recording medium substrate using a roll mold in which the resin layer is fixed with the uneven preformat pattern forming surface facing outward.

即ち本発明によれば従来の様にNiの電鋳を行なう必要
がなく、また、従来の製版技術を用いて、スタンパ−を
作成するのに比べても高精度のスタンバ−を得ることが
でき、従来よりも簡単に高精度のロール型を得ることが
できる。
That is, according to the present invention, there is no need to electroform Ni as in the past, and it is possible to obtain a stamper with higher precision than when creating a stamper using conventional plate-making technology. , it is possible to obtain a high-precision roll mold more easily than before.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

以下、本発明の詳細な説明する。第1図〜第3図は本発
明の光記録媒体のロール型の製造方法の−実施態様を示
す断面図である。同第1図において、本発明の光記録媒
体のロール型の製造方法は、凹凸パターン3が表面に形
成された原版またはスタンパ−1の表面に樹脂層2が一
定の厚さで形成されている。第2図に示すように、この
樹脂層2を硬化させた後に、ローラー4の表面に同樹脂
層を転写して固定する。または第3図に示すように樹脂
層2を硬化させた後に、原版またはスタンバ−1から剥
離して、ローラー4の回りに硬化した樹脂層を巻き付け
て固定することもできる。
The present invention will be explained in detail below. 1 to 3 are cross-sectional views showing an embodiment of the method for manufacturing a roll type optical recording medium of the present invention. In FIG. 1, the method for producing a roll type optical recording medium of the present invention includes forming a resin layer 2 with a constant thickness on the surface of an original plate or stamper 1 on which a concavo-convex pattern 3 is formed. . As shown in FIG. 2, after this resin layer 2 is cured, it is transferred and fixed onto the surface of the roller 4. Alternatively, as shown in FIG. 3, after the resin layer 2 is cured, it can be peeled off from the original plate or stand bar 1, and the cured resin layer can be wrapped around the roller 4 and fixed.

本発明における原版lは、必要な精度の凹凸を形成する
ことができる方法であれば、いづれの方法・材料でも用
いることが出来るが、例えば、一般にCD(コンパクト
ディスク)などに用いられている原版またはスタンバ−
を用いることができる。その製法は一般にCD (コン
パクトディスク)などに用いられている製法で作成する
ことができ、具体的には、ガラス原盤にレジストを塗布
して、パターンを露光、現像してから、ニッケルをスパ
ッターで成膜して、電鋳して所定の厚さまでニッケルを
析出させる。こうして得られた第二原盤をファーザーと
して、第三原盤(マザー)および孫スタンバ−を作成し
ても良い。その他の方法としては、原版を製作する方法
を用いることもできる。具体的にはクロムなどの金属層
を形成しであるガラス板にレジストを壁布して、パター
ンを露光、現像してから金属層をエツチングなどによっ
て一部除去して凹凸パターンを形成する。この原版から
露光によって上記スタンパ−を形成しても良い。その他
にガラス原版にパターンを形成してからドライまたはウ
ェットエツチングによって凹凸を形成しても良い。材質
も上記以外に、金属または金属化金物、ガラス、セラミ
クス等を用いることができる。原版またはスタンパ−1
の厚さは、本発明では硬化した樹脂層2を機械的に剥が
すのである程度の剛性がある方が望ましい。用いられる
範囲としては、原版またはスタンバ−1の材質によるが
、一般に、100μm以上あれば良く、より好ましい厚
さは400〜5000 μmである。
The original plate l in the present invention can be used with any method and material as long as it is possible to form unevenness with the necessary precision. For example, an original plate generally used for CDs (compact discs) etc. or stand bar
can be used. It can be manufactured using the manufacturing method generally used for CDs (compact discs), etc. Specifically, resist is applied to a glass master, the pattern is exposed and developed, and then nickel is sputtered. A film is formed and electroformed to deposit nickel to a predetermined thickness. Using the thus obtained second master as a father, a third master (mother) and a grandchild stand may be created. As another method, a method of producing an original plate can also be used. Specifically, a resist is applied to a glass plate on which a metal layer such as chromium is formed, a pattern is exposed and developed, and then a portion of the metal layer is removed by etching or the like to form a concavo-convex pattern. The stamper may be formed from this original plate by exposure. Alternatively, the irregularities may be formed by dry or wet etching after forming a pattern on the glass original plate. In addition to the above materials, metals, metallized metals, glass, ceramics, etc. can also be used. Original plate or stamper 1
In the present invention, since the cured resin layer 2 is mechanically peeled off, it is desirable that the thickness has a certain degree of rigidity. The range of thickness to be used depends on the material of the original plate or stand bar 1, but generally the thickness is 100 μm or more, and the more preferable thickness is 400 to 5000 μm.

原版またはスタンバ−1の表面に形成する樹脂層2の材
料は原版またはスタンパ−1の上に均一な厚さに形成で
きて、微細なパターンを精度良く転写できて、かつその
微細なパターンを形成した後にそのパターンを維持でき
るように加工・硬化できる材料であれば、いづれの材料
でも用いることができるが、例えばアクリル系樹脂など
の放射線硬化性樹脂、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹
脂などを用いることができる、また何れの樹脂の場合で
もその硬化収縮率は5%以下特に1%以下が好ましい。
The material of the resin layer 2 formed on the surface of the original plate or stamper 1 can be formed to a uniform thickness on the original plate or stamper 1, and a fine pattern can be transferred with high precision, and the fine pattern can be formed. Any material can be used as long as it can be processed and hardened so that the pattern can be maintained after it has been applied. For example, radiation-curable resins such as acrylic resins, thermosetting resins such as epoxy resins, The curing shrinkage rate of any resin that can be used is preferably 5% or less, particularly 1% or less.

その他に塩化ビニル樹脂等の溶剤塗布できるものを用い
ることができる。
In addition, materials that can be coated with a solvent, such as vinyl chloride resin, can be used.

更に、熱成形性を有する放射線硬化樹脂も用いることか
できる。
Furthermore, radiation-curable resins having thermoformability can also be used.

この様な材料としては、次のようなラジカル重合性不飽
和基を有する化合物がある。
Examples of such materials include the following compounds having radically polymerizable unsaturated groups.

(1)ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中に、
ラジカル重合性不飽和基を有するもの。より具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し、後述する方法(a)〜(d)
によりラジカル重合性不飽和基を導入したもの。
(1) In a polymer with a glass transition temperature of 0 to 250°C,
Those with radically polymerizable unsaturated groups. More specifically, the following methods (a) to (d) are applied to polymers obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds 1 to 2.
A radically polymerizable unsaturated group has been introduced.

■水酸基を有する単量体重N−メチルアクリルアミド、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメ
タクリレ−)、2−ヒドロキシン、3−フェノキシブチ
ルアクリレート、3−フェノキシブチルメタクリレート
など。
■ Monomeric weight N-methylacrylamide with hydroxyl group,
2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate), 2-hydroxyne, 3-phenoxybutyl acrylate, 3-phenoxybutyl methacrylate, etc.

■カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタク
リル酸、アクロイルオキシエチルモノサクシネートなど
■ Monomers with carboxyl groups such as nialic acid, methacrylic acid, acroyloxyethyl monosuccinate, etc.

■エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレー
トなど。
■ Monomer nigericidyl methacrylate, etc. having an epoxy group.

■アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエ
チルメタクリレート、2−アジリジニルオウロビオン酸
アリルなど。
(2) Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl methacrylate, allyl 2-aziridinylourobionate, etc.

■アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。
■ Monomers containing amino groups such as niacrylamide, methacrylamide, diaseptone acrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, etc.

■スルフォン基を有する単量体=2−アクリルアミドー
2−メチルプロパンスフオン酸など。
(2) Monomer having a sulfone group = 2-acrylamide 2-methylpropanesulfonic acid, etc.

■イソソアネート基を有する単量体重2.4−トルエン
ジイソアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの
1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。
(2) Adducts of diisocyanates and radically polymerizable monomers having active hydrogen, such as 1 mol to 1 mol adducts of monomer weight 2.4-toluene diisoanate and 2-hydroxyethyl acrylate, each having an isocyanate group.

■さらに、上記共重合体のガラス転移点を調整したり、
硬化膜の物性を調整したりするために、上記化合物と、
この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合
させることもできる。このような共重合可能な単量体と
しては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリ
レート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルアクリレート、ブチルメタクリレート、ブチル
アクリレート、イソブチルメタクリレート、イソブチル
アクリレート、t−ブチルメタクリレート、t−ブチル
アクリレート、イソアミルメタクリレート、イソアミル
アクリレート、シクロへキシルアクリレート、シクロへ
キシルメタクリレート、N−メチロールメラミンアクリ
レート、2−エチルへキシルメタクリレート、2−エチ
ルへキシルアクリレートなどが挙げられる。
■Furthermore, by adjusting the glass transition point of the above copolymer,
In order to adjust the physical properties of the cured film, the above compound and
It is also possible to copolymerize with the following monomers that can be copolymerized with this compound. Examples of such copolymerizable monomers include methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate,
Propyl acrylate, butyl methacrylate, butyl acrylate, isobutyl methacrylate, isobutyl acrylate, t-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, isoamyl methacrylate, isoamyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, N-methylolmelamine acrylate, 2-ethyl Examples include hexyl methacrylate and 2-ethylhexyl acrylate.

次に上述のようにして得られた重合体を、以下に述べる
方法(a)〜(d)により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、この発明に係わる材料
を得ることができる。
Next, the material according to the present invention can be obtained by reacting the polymer obtained as described above by methods (a) to (d) described below to introduce a radically polymerizable unsaturated group. can.

(a)水酸基を有する単量体の重合体、または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体を縮合反応させる。
(a) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction.

(b)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体、または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。
(b) In the case of a polymer or copolymer of monomers having a carboxyl group or a sulfone group, the aforementioned monomers having a hydroxyl group are subjected to a condensation reaction.

(c)エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共加反応させる
(c) Polymerization or co-addition reaction of monomers having epoxy groups, isocyanate groups, or aziridinyl groups.

(d)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の1モル対1モルの付加物を付加反応させる
。上記の反応を行なうには微量のハイドロキノンなどの
重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが
好ましい。
(d) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group, or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylic ester monomer. 1 mole of polymer to 1 mole of adduct is subjected to an addition reaction. In order to carry out the above reaction, it is preferable to add a small amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and carry out the reaction while blowing dry air.

(2)熟成型性を有する樹脂として本発明に使用可能な
別な材料は、融点が0〜250℃で、ラジカル重合性不
飽和基を有する化合物である。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリル
イソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレ
ート、ソクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピ
ログリコールジメタクリレート、スピログリコールジア
クリレートなどが挙げられる。このようなラジカル重合
性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を向
上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量体
の他にエチレングリコールジアクリレート、エリレンゲ
リコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロ
ールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールへキサアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサメタクリレート、エチレングリコールジグリ
シジルエーテルジアクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジメタクリレート、ホリエチレング
リコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレー
ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアク
リレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジメタクリルレート、ソルビトールテ
トラジグリシジルエーテルアクリレート、ソルビトール
テトラジグリシジルエーテルメタクリレートなどを用い
ることができ、前述した共重合体皇后物の固形分100
菫量部に対して、0.1〜100重量部で用いることが
好ましい。また、上記のものは電子線により充分に硬化
可畦であるが、紫外線によって硬化させる場合には、増
感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロゲン化ア
セトフェノン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラ
ジカルを発生するものも用いることができる。
(2) Another material that can be used in the present invention as a resin having aging properties is a compound having a melting point of 0 to 250°C and a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl methacrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, isochlorohexanediol dimethacrylate, spiroglycol dimethacrylate, and spiroglycol diacrylate. Such radically polymerizable unsaturated monomers improve crosslinking density and heat resistance when irradiated with ionizing radiation, and in addition to the above monomers, ethylene glycol diacrylate, erylene gelyl Dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol tetra acrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate,
Pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate Methacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol tetradiglycidyl ether acrylate, sorbitol tetradiglycidyl ether methacrylate, etc. can be used. Polymer empress solid content 100
It is preferable to use it in an amount of 0.1 to 100 parts by weight based on the violet part. In addition, the above materials can be sufficiently cured by electron beams, but when curing by ultraviolet rays, benzoin ethers such as benzoquinone, benzoin, benzoin methyl ether, halogenated acetophenones, and piatil can be used as sensitizers. It is also possible to use materials that generate radicals when irradiated with ultraviolet rays, such as.

この樹脂液層の成型条件は、加熱温度は、好ましくは5
0〜300℃、より好ましくは100〜200℃以上が
好ましい。加える圧力は0.1kg/cm以上が良く、
好ましくは1.Okg/c+rr以上が良い。また、必
要に応じて硬化した樹脂層2の上に金属層を設けても良
い。
The molding conditions for this resin liquid layer are that the heating temperature is preferably 5.
The temperature is preferably 0 to 300°C, more preferably 100 to 200°C or higher. The pressure to be applied should preferably be 0.1 kg/cm or more.
Preferably 1. Okg/c+rr or more is good. Further, a metal layer may be provided on the cured resin layer 2 if necessary.

樹脂層の形成の仕方は一般に樹脂のコーティングに用い
られている方法であればいづれの方法でも用いることが
できるが、例えば、スプレーコート、ディッピング、ロ
ールコータ−などによる溶剤塗布を用いると厚み精度良
(形成できる。原版またはスタンバ−1の上に形成して
凹凸パターン3を樹脂層2に転写する。原版またはスタ
ンバ−1上に形成する樹脂層2の厚さは用いる樹脂によ
って、いづれの厚さでも用いることができるが、0.1
〜5000μmの範囲が好ましい。また必要に応じてレ
ベリング、予備硬化の工程を加えても良い。次に図1に
示すように凹凸パターン3が樹脂層2に形成されたら凹
凸パターンを維持できるように樹脂層2を硬化させる。
The resin layer can be formed using any method generally used for resin coating, but for example, spray coating, dipping, or solvent coating using a roll coater can improve thickness accuracy. (Can be formed. The uneven pattern 3 is formed on the original plate or stambar 1 and transferred to the resin layer 2. The thickness of the resin layer 2 formed on the original plate or stambar 1 depends on the resin used. It can also be used, but 0.1
A range of ~5000 μm is preferred. Further, leveling and preliminary curing steps may be added as necessary. Next, as shown in FIG. 1, after the uneven pattern 3 is formed on the resin layer 2, the resin layer 2 is cured so that the uneven pattern can be maintained.

樹脂層2を硬化させる方法としては、用いる樹脂によっ
て最適な方法を選択するのが好ましいが、例えば、紫外
線または電子線を用いても良い。溶剤塗布の場合は必要
に応じて乾燥装置を用いても良い。その他の手段として
加熱、加圧を用いることも可能である。硬化前の樹脂層
2の粘度が高くて、原版と樹脂層2の間に空気が入り易
い場合には、粘度の高い樹脂の上に粘度の低い樹脂層を
重ねて形成することによって空気の混入を防止すること
も出来る。
As a method for curing the resin layer 2, it is preferable to select an optimal method depending on the resin used, but for example, ultraviolet rays or electron beams may be used. In the case of solvent coating, a drying device may be used if necessary. It is also possible to use heating and pressurization as other means. If the viscosity of the resin layer 2 before curing is high and air tends to enter between the original plate and the resin layer 2, the incorporation of air can be prevented by stacking a low viscosity resin layer on top of the high viscosity resin. It can also be prevented.

第2.3図に示すように、硬化した樹脂層2を原版から
剥離してロール4の表面に固定する。第2図で示した方
法ではロール4を樹脂層2の上に転がせてローラー4の
表面に樹脂層2を転写する。ロール基材4と樹脂層2の
形成されたスタンバ−または原版lの接触圧力およびロ
ール4を転がせる際の圧力および速度はロール4と樹脂
層2の間に空気が入らなく、かつ凹凸パターンが変形し
ない圧力・速度であれば、いづれの圧力・速度でも用い
ることができるがその圧力は、ロール型の耐久性などの
点から好ましい圧力は10.0kg/c d以下、特に
8kg/crrf以下である。また速度は空気を押し出
すためになるべく遅い速度で転がせるのが良く、好まし
い速度は10m/分以下である。硬化した樹脂層2とロ
ール4の固定方法は、いづれの方法でも用いることがで
きるが、例えば接着剤を用いた接着、溶剤接着等を用い
ることができる。接着は、接着剤または溶剤を樹脂層2
またはロール4の少なくとも片側にコートすることで容
易に行なうことができる。
As shown in FIG. 2.3, the cured resin layer 2 is peeled off from the original and fixed to the surface of the roll 4. In the method shown in FIG. 2, a roll 4 is rolled onto the resin layer 2 to transfer the resin layer 2 onto the surface of the roller 4. The contact pressure between the roll base material 4 and the stand bar or master plate l on which the resin layer 2 is formed, and the pressure and speed at which the roll 4 is rolled are such that air does not enter between the roll 4 and the resin layer 2, and the uneven pattern is formed. Any pressure and speed can be used as long as it does not cause deformation, but from the viewpoint of the durability of the roll mold, the preferable pressure is 10.0 kg/cd or less, especially 8 kg/crrf or less. be. Further, it is preferable to roll at a speed as slow as possible in order to push out air, and a preferable speed is 10 m/min or less. Any method can be used to fix the cured resin layer 2 and the roll 4, and for example, bonding using an adhesive, solvent bonding, etc. can be used. For adhesion, apply adhesive or solvent to the resin layer 2.
Alternatively, this can be easily achieved by coating at least one side of the roll 4.

ここで用いる接着剤としては耐熱性の接着剤、例えばエ
ポキシ接着剤が好ましい。
The adhesive used here is preferably a heat-resistant adhesive, such as an epoxy adhesive.

第3図に示した方法では硬化した樹脂層2を原版または
スタンバ−1から剥離する。剥離する方法はいづれの方
法でも用いることができる。例えば吸引チャックした端
から剥がしても良い。剥離した樹脂層2は第2図の方法
と同じようにしてロール4の表面に固定することができ
る。
In the method shown in FIG. 3, the cured resin layer 2 is peeled off from the original plate or stand bar 1. Any method can be used for peeling. For example, it may be peeled off from the suction chucked end. The peeled resin layer 2 can be fixed to the surface of the roll 4 in the same manner as the method shown in FIG.

本発明におけるロール4は硬度がある程度高く、ある程
度の剛性のある材料であれば、どのような材料でも用い
ることができるが、例えば、鉄、クロム鋼などの金属や
金属化合物および硬質塩化ビニルなどの樹脂などを用い
ることができ、特に鏡面加工の容易なりロム綱は好まし
い。ロール表面は鏡面に研磨する。面精度は成型する光
記録媒体の面精度と、はぼ同じかまたはそれよりも良い
面精度が必要である。具体的には表面の凹凸が三次元測
定機(カールツアイス製)で測定したときのピーク間距
離(以後p−pと略)が50μm以下であることが好ま
しい。また必要に応じてロール表面に窒化チタンなどの
硬化膜、シリコンなどの保護層を形成することもできる
し、ニッケルやクロムなどのメツキを施すことも可能で
ある。
The roll 4 in the present invention can be made of any material as long as it has a certain degree of hardness and a certain degree of rigidity. Resin or the like can be used, and roman steel is particularly preferred because it can be easily mirror-finished. The roll surface is polished to a mirror finish. The surface accuracy must be approximately the same as or better than the surface accuracy of the optical recording medium to be molded. Specifically, it is preferable that the distance between peaks (hereinafter abbreviated as pp) of the surface unevenness is 50 μm or less when measured with a coordinate measuring machine (manufactured by Carl Zeiss). Further, if necessary, a hardened film of titanium nitride or the like, a protective layer of silicon or the like can be formed on the roll surface, or it can be plated with nickel, chromium or the like.

本発明に於て、ロール型に形成される凹凸プリフォーマ
ットのパターンはトラック溝やアドレスビット等のパタ
ーンであり、具体的には、例えば幅0.5μm〜5μm
、ピッチ1μm〜5μm1深さ0.01μm〜0,4μ
mのスパイラルや同心円状またはストライブ状の光ディ
スクや光カード用のトラッキンググループのパターンで
ある。
In the present invention, the uneven preformat pattern formed in a roll type is a pattern of track grooves, address bits, etc., and specifically, has a width of 0.5 μm to 5 μm, for example.
, pitch 1 μm ~ 5 μm 1 depth 0.01 μm ~ 0.4 μm
This is a tracking group pattern for an optical disk or optical card in the form of a spiral, concentric circle, or stripe of m.

次に本発明のロール型を用いた情報記録媒体用基板の製
造方法としては、樹脂ベレットを溶融して押し出した樹
脂シートへ凹凸を財形する押し出し成形や紫外線硬化樹
脂層に凹凸を財形する2P法(Photo  poly
merization)、予め成形さレタシートを加熱
して軟化させて凹凸を財形するエンボス成形やカレンダ
成形等が挙げられる。特に、熱が加わらないという点で
2P法が好ましい。
Next, methods for manufacturing substrates for information recording media using the roll mold of the present invention include extrusion molding in which unevenness is formed on a resin sheet extruded by melting a resin pellet, and 2P method in which unevenness is formed in an ultraviolet curable resin layer. (Photo poly
merization), embossing molding, calender molding, etc. in which a preformed letter sheet is heated and softened to form irregularities. In particular, the 2P method is preferable because no heat is added.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

〈実施例1〉 第1図に示すように、1.6μmピッチ、0.6μm幅
、深さ700大の連続溝が形成されたニッケル製スタン
バ−(セイコーエプソン製)を2mm厚のガラス板に貼
り合わせて裏打ちした上に、紫外線硬化樹脂(三菱レイ
ヨン、MRA500)をロールコータ−で50μmの厚
さに均一に塗布した。その上に空気が入らないようにし
て、2mm厚のガラス板をかぶせて密閉した。3kWの
紫外線ランプ(ウシオ電気)を2本設置して、200m
W/ctr?の強度の紫外線を30秒間、凹凸パターン
が紫外線の熱で形状変化を起こさないように空冷しなが
ら、紫外線硬化樹脂を硬化させた。その後で樹脂層の上
にのせたガラス板を取り除いて、同じ紫外線ランプを用
いて、3分間紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を完全に
硬化させた。完全に硬化した樹脂層を、第2図に示すよ
うに、ロール径200mmφの鉄製ロール基材を表面を
研磨して鏡面にした表面上に、同じ紫外線硬化樹脂を塗
布した。そのロール基材を、1、Okg/cボの圧力を
加えて、0.1m/分の速度でころがしてスタンバ−か
ら剥がしながらロール基材上に転写して同じ紫外線ラン
プを用いて、3分間紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を
完全に硬化させロール基材上に樹脂層を固定した。その
上に、表面硬度を上げるために、ローラーの表面に10
0μmの厚さのニッケル層を無電解メツキで形成した。
<Example 1> As shown in Fig. 1, a nickel stump bar (manufactured by Seiko Epson) in which continuous grooves of 1.6 μm pitch, 0.6 μm width, and 700 mm depth were formed was placed on a 2 mm thick glass plate. After laminating and backing, an ultraviolet curable resin (Mitsubishi Rayon, MRA500) was uniformly applied to a thickness of 50 μm using a roll coater. A 2 mm thick glass plate was placed on top of it to prevent air from entering and it was sealed. Two 3kW ultraviolet lamps (Ushio Electric) were installed, and the distance was 200m.
W/ctr? The ultraviolet curable resin was cured by applying ultraviolet rays with an intensity of 100 mL for 30 seconds while air cooling the concavo-convex pattern so that its shape would not change due to the heat of the ultraviolet rays. Thereafter, the glass plate placed on the resin layer was removed, and the same ultraviolet lamp was used to irradiate ultraviolet light for 3 minutes to completely cure the ultraviolet curing resin. As shown in FIG. 2, the completely cured resin layer was coated with the same ultraviolet curable resin on the surface of an iron roll base material with a roll diameter of 200 mm, which had been polished to a mirror finish. The roll base material was transferred onto the roll base material while applying a pressure of 1.0 kg/cm and rolling at a speed of 0.1 m/min to remove it from the stand bar, and then transferred to the roll base material using the same ultraviolet lamp for 3 minutes. The ultraviolet curing resin was completely cured by irradiating ultraviolet rays, and the resin layer was fixed on the roll base material. In addition, in order to increase the surface hardness, we added 10% to the surface of the roller.
A 0 μm thick nickel layer was formed by electroless plating.

スタンバ−に形成されていたプリフォーマットパターン
の転写率は、深さで97〜100%であった。ローラー
の表面の凹凸はp−pで50μm以下で十分小さかった
。樹脂層を転写したローラー表面の偏芯は十分小さく、
30μm以下であった。
The transfer rate of the preformat pattern formed on the stanbar was 97 to 100% in depth. The unevenness on the surface of the roller was 50 μm or less in pp, which was sufficiently small. The eccentricity of the roller surface to which the resin layer has been transferred is sufficiently small.
It was 30 μm or less.

このロールを押し出し成型機(日立造船製、商品名5H
T90−32DVG)に取り付けて、23m/分の速度
で、ダイ温度は250℃、ローラー温度60℃の条件で
、厚さ1.2mmのポリカーボネート(奇人化成、K−
1285)を押し出し成形した。押し出し成形した基板
を測定してみたところ、面振れ量はp−pで50μm以
下で十分小さかった。この基板86mmφに切断して、
下記構造式[l″Jで示される、光記録材料を溶剤塗布
した。
This roll is molded using an extrusion molding machine (manufactured by Hitachi Zosen, product name 5H).
T90-32DVG) at a speed of 23 m/min, the die temperature was 250°C, and the roller temperature was 60°C.
1285) was extruded. When the extruded substrate was measured, the amount of surface runout was 50 μm or less in terms of pp, which was sufficiently small. Cut this board into 86mmφ,
An optical recording material represented by the following structural formula [l''J] was solvent coated.

[I] 保護基板には0 、3 m m厚のポリカーボネート(
奇人化成、パンライl−251)を86mmφに切断し
て、0.3mmのエアーギャップを持つように接着した
[I] The protective substrate is made of 0.3 mm thick polycarbonate (
Panrai l-251 (manufactured by Kijin Kasei) was cut to 86 mm diameter and bonded to have an air gap of 0.3 mm.

記録・再生してみたところ。ディスクの回転数180O
rpm。
I tried recording and playing it. Disc rotation speed 180O
rpm.

書き込み周波数3 M Hz、書き込みパワー6 m 
W 、読み出しパワー0.5mWで、C/N比で50d
Bであった。
Writing frequency 3 MHz, writing power 6 m
W, read power 0.5mW, C/N ratio 50d
It was B.

またこのローラーで1万枚相当の光デイスク基板を成形
してもローラー表面の形状に変化はなかった。
Further, even when 10,000 optical disk substrates were formed using this roller, there was no change in the shape of the roller surface.

〈実施例2〉 実施例1と同じように、実施例1と同じような凹凸パタ
ーンの形成されたガラス基板(旭ガラス)の上に実施例
1と同じ紫外線硬化樹脂を、実施例1と同じ方法で50
μmの厚さに均一に塗布した。実施例1と同じガラスで
密閉して、実施例1と同じ紫外線照射装置を用いて、同
じ条件で紫外線硬化樹脂を硬化させた。また後硬化も実
施例】と同じ条件で行なって、完全に樹脂を硬化させた
。硬化した樹脂の片側の端を吸引チャックして剥がして
から、剥がれた端を持って樹脂層全部をスタンバ−から
剥離した。鏡面研磨したロール径200mmφの鉄製ロ
ールに、エポキシ系接着剤(EP−007、セメダイン
)を50μmの厚さに塗布した。剥離した樹脂の片側か
ら、空気を巻き込まないように押えつけながら、ロール
に巻き付けた。その後に24時間常温で放置して接着剤
を硬化させた。できたロールを測定したところ、ガラス
基板のプリフォーマットパターンの転写率は、深さ98
〜100%であった。
<Example 2> In the same way as in Example 1, the same ultraviolet curable resin as in Example 1 was applied on a glass substrate (Asahi Glass) on which a concavo-convex pattern similar to that in Example 1 was formed. 50 in a way
It was applied uniformly to a thickness of μm. It was sealed with the same glass as in Example 1, and the ultraviolet curing resin was cured under the same conditions using the same ultraviolet irradiation device as in Example 1. Post-curing was also carried out under the same conditions as in Example to completely cure the resin. One edge of the cured resin was peeled off using a suction chuck, and the entire resin layer was peeled off from the stand bar by holding the peeled edge. An epoxy adhesive (EP-007, Cemedine) was applied to a thickness of 50 μm on a mirror-polished iron roll with a roll diameter of 200 mmφ. The peeled resin was wrapped around a roll from one side while being pressed down so as not to trap air. Thereafter, the adhesive was left to stand at room temperature for 24 hours to harden. When the resulting roll was measured, the transfer rate of the preformat pattern on the glass substrate was 98 mm deep.
It was ~100%.

ローラーの表面の凹凸はp−pで50μm以下で、十分
小さかった。ロール表面の偏芯は、30μm以下で十分
小さかった。実施例1と同じ方法で一万枚の光デイスク
基板を成型した後でも、表面形状の変化は認められなか
った。成型した基板の特性は面振れ量でp−pで50μ
m以下で十分小さかった。
The unevenness on the surface of the roller was 50 μm or less in pp, which was sufficiently small. The eccentricity of the roll surface was 30 μm or less, which was sufficiently small. Even after 10,000 optical disk substrates were molded using the same method as in Example 1, no change in surface shape was observed. The characteristics of the molded board are the surface runout amount of 50μ p-p.
It was sufficiently small, less than m.

この光デイスク基板を実施例1と同様に光記録層を形成
して記録・再生を行なったところC/N比で52dBで
あった。
When an optical recording layer was formed on this optical disk substrate in the same manner as in Example 1 and recording and reproduction was performed, the C/N ratio was 52 dB.

〈実施例3〉 実施例】と同じスタンパ−の上に、実施例1と同じ紫外
線硬化樹脂を、実施例1と同じ方法で50μmの厚さに
均一に塗布して、実施例1と同じように密閉して、実施
例1と同じ紫外線照射装置を用いて、同じ条件で硬化さ
せた。また後硬化も実施例Iと同じように行なった。実
施例1と同じ方法で、表面が鏡面に研磨されたロール径
200 m mφのガラス製ロール(コーニング)表面
に実施例1と同じ紫外線硬化樹脂を塗布してから実施例
1と同じように硬化した樹脂層をロール表面に転写して
、固定した。できたローラーを測定してみると、転写率
では、スタンパ−の凹凸パターンを、深さ95〜100
%転写していた。ローラーの表面の凹凸はp−pで50
μm以下と十分小さかった。ロールの中に3kWの紫外
線ランプ(ウシオ電気)を2本人れた。1.2mm厚の
ポリカーボネート(余人化成、パンライト202)の上
に紫外線硬化樹脂(三菱レイヨン、MRA500)を1
0μmの厚さに塗布して、このロールを用いて、送り速
度3m/分、ロール圧力1.5kg/crrr、照射紫
外線強度180 m W / c gで、パターンを転
写しながら硬化させた。その後に実施例1と同じように
ディスクを作成した。この光デイスク基板を実施例1と
同じ条件で記録・再生を行なったところ、C/N比で5
3dBであった。
<Example 3> On the same stamper as in Example, the same ultraviolet curable resin as in Example 1 was applied uniformly to a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1, and the same stamper as in Example 1 was applied. The sample was sealed and cured using the same ultraviolet irradiation device as in Example 1 under the same conditions. Post-curing was also carried out in the same manner as in Example I. Using the same method as in Example 1, the same ultraviolet curable resin as in Example 1 was applied to the surface of a glass roll (Corning) with a mirror-polished roll diameter of 200 mm, and then cured in the same manner as in Example 1. The resulting resin layer was transferred onto the roll surface and fixed. When we measured the finished roller, we found that the transfer rate was approximately 95 to 100 mm deep.
% was transferred. The unevenness of the roller surface is 50 pp
It was sufficiently small, less than μm. Inside the roll were two 3kW ultraviolet lamps (Ushio Electric). 1 layer of ultraviolet curing resin (Mitsubishi Rayon, MRA500) was applied on 1.2 mm thick polycarbonate (Yoto Kasei, Panlite 202).
It was coated to a thickness of 0 μm and cured while transferring the pattern using this roll at a feed rate of 3 m/min, a roll pressure of 1.5 kg/crrr, and an irradiated ultraviolet intensity of 180 mW/c g. Thereafter, a disk was produced in the same manner as in Example 1. When this optical disk substrate was recorded and reproduced under the same conditions as in Example 1, the C/N ratio was 5.
It was 3dB.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、精度良く、簡単な機構で成型用ロール
型を製造できるために、安い費用で面精度が良く、パタ
ーンの転写性の良い光記録媒体の製造用ロール型を製造
できる効果がある。
According to the present invention, since a molding roll mold can be manufactured with high precision and a simple mechanism, it is possible to manufacture a roll mold for manufacturing optical recording media with good surface accuracy and pattern transferability at low cost. be.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第2図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第3図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第4図は従来の光記録媒体の製造用スタンパ−の貼り付
は方法である。 第5図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第6図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第7図は従来の光記録媒体の一般的な断面図である。 第8図は従来の光記録媒体の基板の連続製造法の概略図
である。 1・・・原版またはスタンパ− 2・・・樹脂層 3・・・凹凸パターン 4・・・ロール基材 11・・・加圧ローラー 12・・・貼り付けたスタンパ− 2】・・・製版用ロール 22・・・パターンの形成されたマスク23・・・パタ
ーン露光用光ビーム 31・・・製版用ロール 32・・・パターン露光用光ビーム 41・・・透明基板 42・・・トラック溝部 43・・・光記録媒体 44・・・スペーサー 45・・・保護基板 51・・・樹脂シート 52・・・成型用ロール 53・・・加圧またはテンション用ロール54・・・巻
き出し用ロール 55・・・巻き取り用ロール
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a roll mold for manufacturing an optical recording medium according to the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a roll mold for producing an optical recording medium according to the present invention. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a roll mold for producing an optical recording medium according to the present invention. FIG. 4 shows a conventional method for attaching a stamper for manufacturing an optical recording medium. FIG. 5 shows a roll pattern transfer method using a conventional plate-making method. FIG. 6 shows a roll pattern transfer method using a conventional plate-making method. FIG. 7 is a general cross-sectional view of a conventional optical recording medium. FIG. 8 is a schematic diagram of a conventional continuous manufacturing method for a substrate of an optical recording medium. 1... Original plate or stamper 2... Resin layer 3... Uneven pattern 4... Roll base material 11... Pressure roller 12... Pasted stamper 2]... For plate making Roll 22... Mask 23 with a pattern formed thereon... Light beam for pattern exposure 31... Roll for plate making 32... Light beam for pattern exposure 41... Transparent substrate 42... Track groove portion 43... ... Optical recording medium 44 ... Spacer 45 ... Protective substrate 51 ... Resin sheet 52 ... Molding roll 53 ... Pressure or tension roll 54 ... Unwinding roll 55 ...・Take-up roll

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)情報記録媒体用基板に凹凸プリフオーマツトを連
続的に形成する情報記録媒体用基板の成形用ロール型の
製造方法において、該凹凸プリフオーマツトに対応する
凹凸プリフオーマツトパターンが形成された原版の上に
液状樹脂を塗布して樹脂層を形成し、該凹凸プリフオー
マツトパターンが転写された樹脂層をロール基材表面に
、 該樹脂層の凹凸プリフオーマツトパターン形成面を外側
にして固定することを特徴とする情報記録媒体用基板の
成形用ロール型の製造方法。
(1) In a method for manufacturing a roll mold for forming an information recording medium substrate in which a concavo-convex preformat is continuously formed on an information recording medium substrate, a concave-convex preformat pattern corresponding to the concave-convex preformat is formed on an original plate. A liquid resin is applied to the resin layer to form a resin layer, and the resin layer to which the uneven preformat pattern is transferred is fixed to the surface of the roll base material with the uneven preformat pattern forming surface of the resin layer facing outward. A method for manufacturing a roll mold for forming a substrate for an information recording medium, characterized by:
(2)凹凸プリフオーマツトを有する、情報記録媒体用
基板を連続的に製造する方法に於て、該凹凸プリフオー
マットに対応する凹凸プリフオーマツトパターンが形成
された原版の上に樹脂層を形成して、次いで該凹凸プリ
フオーマツトパターンが転写された液状樹脂を塗布して
樹脂層を形成し、該凹凸プリフオーマツトパターンが転
写された樹脂層をロール基材表面に該樹脂層の凹凸プリ
フオーマツトパターン形成面を外側にして固定してなる
、ロール型を用いて情報記録媒体用基板に凹凸プリフオ
ーマツトを形成することを特徴とする情報記録媒体用基
板の製造方法。
(2) In a method for continuously manufacturing a substrate for an information recording medium having an uneven preformat, a resin layer is formed on an original plate on which an uneven preformat pattern corresponding to the uneven preformat is formed. Next, a liquid resin to which the uneven preformat pattern has been transferred is applied to form a resin layer, and the resin layer to which the uneven preformat pattern has been transferred is applied to the surface of the roll base material. 1. A method of manufacturing a substrate for an information recording medium, comprising forming a concavo-convex preformat on the substrate for an information recording medium using a roll mold, which is fixed with the pattern forming surface facing outward.
JP3064190A 1990-02-09 1990-02-09 Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die Pending JPH03235233A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3064190A JPH03235233A (en) 1990-02-09 1990-02-09 Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3064190A JPH03235233A (en) 1990-02-09 1990-02-09 Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03235233A true JPH03235233A (en) 1991-10-21

Family

ID=12309463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3064190A Pending JPH03235233A (en) 1990-02-09 1990-02-09 Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03235233A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010005829A (en) * 2008-06-25 2010-01-14 Jiroo Corporate Plan:Kk Optical sheet and its manufacturing method
JP2011511722A (en) * 2008-01-29 2011-04-14 エルジー・ケム・リミテッド Manufacturing method of viewing angle limiting film
WO2014080858A1 (en) * 2012-11-22 2014-05-30 綜研化学株式会社 Imprint mold manufacturing method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011511722A (en) * 2008-01-29 2011-04-14 エルジー・ケム・リミテッド Manufacturing method of viewing angle limiting film
US8444885B2 (en) 2008-01-29 2013-05-21 Lg Chem, Ltd. Method for making privacy film
JP2010005829A (en) * 2008-06-25 2010-01-14 Jiroo Corporate Plan:Kk Optical sheet and its manufacturing method
WO2014080858A1 (en) * 2012-11-22 2014-05-30 綜研化学株式会社 Imprint mold manufacturing method
CN104853897A (en) * 2012-11-22 2015-08-19 综研化学株式会社 Imprint mold manufacturing method
EP2923818A4 (en) * 2012-11-22 2016-09-28 Soken Kagaku Kk Imprint mold manufacturing method
JPWO2014080858A1 (en) * 2012-11-22 2017-01-05 綜研化学株式会社 Method for producing imprint mold
US9776359B2 (en) 2012-11-22 2017-10-03 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Imprint mold manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4619804A (en) Fabricating optical record media
EP0288580B2 (en) Method of manufacturing a flexible optical information recording medium
JPH0354742A (en) Optical disk, production thereof and reading method thereof
US6210609B1 (en) Method of manufacturing optical recording medium
TW480475B (en) Recording medium and process for manufacturing the medium
JPH03235233A (en) Manufacture of roll die to form substrate for information recording medium and manufacture of substrate for information recording medium using this roll die
JPH05189815A (en) Manufacture of roller for manufacture of substrate for optical recording medium
JP2001234383A (en) Method for manufacturing stamper
JPH03235234A (en) Manufacture of roll die to form substrate sheet for information recording medium
JP2665269B2 (en) Forming roller manufacturing method
JPH09147417A (en) Optical recording medium and its production
JPH0547048A (en) Production of stamper for production of substrate for optical recording medium
JP2522680B2 (en) Flexible laser disk manufacturing method
JPH03219443A (en) Manufacture of roller for molding and substrate for optical recording medium using the same
JP2633021B2 (en) Method of manufacturing roll mold for optical recording medium
KR20040043101A (en) Optical recording medium and production method therefor
JPH03266237A (en) Production of substrate for optical recording medium
JPH0721593A (en) Production of master disk for production of substrate for optical recording medium
JPH0316720A (en) Manufacture of board for optical recording medium
JPH10154351A (en) Optical recording medium and its production
JPH09134547A (en) Optical recording medium and its manufacture
JP2531792B2 (en) Method for manufacturing substrate for optical recording medium
JPH02210632A (en) Production of stamper for optical card
JPH05314545A (en) Continuous production of substrate for optical information recording medium
JP2003091886A (en) Optical disk and manufacturing method therefor