JPH05188016A - Sample heating device of x-ray diffraction device - Google Patents
Sample heating device of x-ray diffraction deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、X線回折装置に用いら
れる試料加熱装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sample heating device used in an X-ray diffraction device.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般のX線回折装置においては、試料に
X線を照射し、その試料で回折したX線を検出するとい
う測定が行なわれる。また、そのX線回折測定を行なう
に際して試料を加熱して、高温状態下での試料の解析を
行なう場合もある。2. Description of the Related Art In a general X-ray diffractometer, measurement is performed by irradiating a sample with X-rays and detecting X-rays diffracted by the sample. In addition, when the X-ray diffraction measurement is performed, the sample may be heated to analyze the sample under a high temperature condition.
【0003】従来、X線回折測定に供される試料を加熱
するための装置として、試料のまわりに間隔をおいてコ
イル等の発熱線を巻回し、試料および発熱線を遮熱カバ
ーで覆ったものが知られている。この加熱装置において
は、発熱線に通電して該発熱線を発熱させ、その熱によ
り試料を加熱するようにしている。[0003] Conventionally, as an apparatus for heating a sample used for X-ray diffraction measurement, a heating wire such as a coil is wound around the sample at intervals and the sample and the heating wire are covered with a heat shield cover. Things are known. In this heating device, the heating wire is energized to generate heat, and the heat is used to heat the sample.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の加熱装置においては、試料に入射するX線および試
料で回折した回折X線が発熱線を透過することになるの
で、得られたX線回折データの中に発熱線の回折データ
も含まれてしまい、正確な測定データが得られないとい
う問題があった。また、発熱する発熱線から汚染成分が
発散され、試料のまわりの雰囲気が汚染されるという問
題があった。However, in the above-mentioned conventional heating device, since the X-rays incident on the sample and the diffracted X-rays diffracted by the sample are transmitted through the heating line, the obtained X-ray diffraction There is a problem in that accurate measurement data cannot be obtained because the diffraction data of the heating line is included in the data. In addition, there is a problem that a pollutant component is emitted from the heating line that generates heat, and the atmosphere around the sample is polluted.
【0005】本発明は従来装置における上記の問題点に
鑑みてなされたものであって、正確な測定データを得る
ことができ、しかも試料のまわりの雰囲気を汚染するこ
とのないX線発生装置の試料加熱装置を提供することを
目的とする。The present invention has been made in view of the above problems in the conventional apparatus, and it is an X-ray generator that can obtain accurate measurement data and does not contaminate the atmosphere around the sample. An object is to provide a sample heating device.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るX線回折装置の試料加熱装置は、光源
と、光源からの光を集束させる光集束手段と、光集束手
段によって集められた光を試料に導く光導体とを有する
ことを特徴としている。In order to achieve the above object, a sample heating apparatus for an X-ray diffraction apparatus according to the present invention comprises a light source, a light focusing means for focusing light from the light source, and a light focusing means. And a light guide for guiding the collected light to the sample.
【0007】[0007]
【作用】光源からの光は、光集束手段によって1点に集
束された後、光導体によって試料に導かれ、その光を試
料が吸収することによってその試料が加熱されて昇温す
る。試料は光をあてられることによって発熱するので、
試料に入射するX線および試料から回折するX線の進行
路上には何等の障害物も存在しない。従って、得られる
X線回折データに不要成分が含まれてしまうという不都
合が解消される。また、試料を光によって加熱するの
で、汚染成分の発生がなく、試料のまわりの雰囲気がき
れいな状態に維持される。The light from the light source is converged at one point by the light converging means and then guided to the sample by the light guide, and the sample absorbs the light to heat the sample to raise its temperature. The sample heats up when exposed to light,
There are no obstacles on the traveling path of the X-rays incident on the sample and the X-rays diffracted from the sample. Therefore, the inconvenience that the obtained X-ray diffraction data contains an unnecessary component is eliminated. Further, since the sample is heated by light, no pollutant component is generated and the atmosphere around the sample is maintained in a clean state.
【0008】[0008]
【実施例】図2は本発明に係る試料加熱装置を用いたX
線回折装置の一例を示している。試料加熱装置について
説明するのに先立って、まず、そのX線回折装置の全体
について簡単に説明する。EXAMPLE FIG. 2 shows X using the sample heating apparatus according to the present invention.
An example of a line diffraction device is shown. Prior to describing the sample heating apparatus, first, the entire X-ray diffraction apparatus will be briefly described.
【0009】テーブル1の上にゴニオメータ2が固定し
て配設されている。このゴニオメータ2は、中心から放
射状に延びる線源アーム3および検出器アーム4を備え
ている。線源アーム3の先端にはX線源Pを備えたX線
管5が固定されており、一方、検出器アーム4の先端に
はシンチレーションカウンタ(SC)その他のX線検出
器6が固定されている。ゴニオメータ2の手前位置には
試料加熱装置を兼ねた試料支持装置7が配設され、その
試料支持装置7によって測定対象である試料8が固定支
持されている。A goniometer 2 is fixedly arranged on the table 1. The goniometer 2 includes a source arm 3 and a detector arm 4 that extend radially from the center. An X-ray tube 5 equipped with an X-ray source P is fixed to the tip of the radiation source arm 3, while a scintillation counter (SC) and other X-ray detectors 6 are fixed to the tip of the detector arm 4. ing. A sample support device 7 which also functions as a sample heating device is arranged in front of the goniometer 2, and a sample 8 to be measured is fixedly supported by the sample support device 7.
【0010】X線管5内のX線源Pから放射されたX線
は、試料8に入射し、そして試料8内の結晶格子面との
間でX線回折条件が満足されたときにその試料で回折す
る。回折したX線はX線検出器6によって検出される。
X線検出器6には図示しないX線強度測定回路が接続さ
れていて、X線検出器6によって検出されたX線の強度
がそのX線強度測定回路によって測定される。The X-rays emitted from the X-ray source P in the X-ray tube 5 are incident on the sample 8 and when the X-ray diffraction condition is satisfied between the X-ray source P and the crystal lattice plane in the sample 8. Diffract on the sample. The diffracted X-rays are detected by the X-ray detector 6.
An X-ray intensity measurement circuit (not shown) is connected to the X-ray detector 6, and the intensity of the X-ray detected by the X-ray detector 6 is measured by the X-ray intensity measurement circuit.
【0011】ゴニオメータ2は、線源アーム3を一定の
角速度で間欠的あるいは連続的に矢印A方向へ回転駆動
し、さらに検出器アーム4を等しい角速度で間欠的ある
いは連続的に反対方向、すなわち矢印B方向に回転駆動
する。これらの回転は、通常、θ回転と呼ばれている。
このθ回転により、X線管5から出て試料8に入射する
入射X線の試料8に対する入射角度が時々刻々変化し、
その個々のX線入射角度に対する回折X線の強度が測定
され、その結果、試料8に入射するX線の入射角度変化
に対する回折X線の強度変化を表わしたグラフ、いわゆ
るX線回折図形が得られる。このX線回折図形より、試
料8の内部構造などの解析が行なわれる。The goniometer 2 drives the radiation source arm 3 to rotate in the direction of arrow A intermittently or continuously at a constant angular velocity, and further intermittently or continuously drives the detector arm 4 at the same angular velocity in the opposite direction, that is, the arrow. It is driven to rotate in the B direction. These rotations are usually called θ rotations.
Due to this θ rotation, the incident angle of the incident X-rays that emerge from the X-ray tube 5 and enter the sample 8 changes with time,
The intensity of the diffracted X-ray with respect to each individual X-ray incident angle was measured, and as a result, a graph showing the intensity change of the diffracted X-ray with respect to the incident angle change of the X-ray incident on the sample 8, that is, a so-called X-ray diffraction pattern was obtained. Be done. From this X-ray diffraction pattern, the internal structure of the sample 8 is analyzed.
【0012】上記のX線回折測定において、試料8を加
熱した状態で測定を行なう場合がある。試料支持装置7
はそのための試料加熱装置としても作用する。以下、そ
れについて詳細に説明する。In the above X-ray diffraction measurement, the measurement may be performed with the sample 8 being heated. Sample support device 7
Also acts as a sample heating device therefor. Hereinafter, it will be described in detail.
【0013】図1に示すように試料支持および加熱装置
7は、円筒状の筺体9と、その筺体9の上に固定載置さ
れた遮熱カバー10とを有している。遮熱カバー10の
上部にはX線を自由に透過させることのできる材料から
成る薄膜11が貼られている。筺体9の内部には楕円体
形状に形成された内面反射鏡12が設けられており、そ
の内面反射鏡12の2つの焦点位置のうちの一方に、光
源としてのタングステンランプ13が配置され、そして
他方の焦点位置に円柱状の棒材である光導体14の光導
入端14aが配置されている。ランプ13には電流供給
回路16が接続されていて、その電流供給回路から供給
される電流によりランプ13が発光する。光導体14
は、光を効率良く伝達できる材料、例えば石英(SiO
2 )、透明サファイヤ(Al2O3 )によって形成され
ており、そして筺体9によって位置不動に固定されてい
る。As shown in FIG. 1, the sample support and heating device 7 has a cylindrical casing 9 and a heat shield cover 10 fixedly mounted on the casing 9. A thin film 11 made of a material that allows X-rays to freely pass through is attached to the upper portion of the heat shield cover 10. An ellipsoidal inner reflecting mirror 12 is provided inside the housing 9, and a tungsten lamp 13 as a light source is arranged at one of two focal positions of the inner reflecting mirror 12. The light introducing end 14a of the light guide 14 which is a cylindrical rod is arranged at the other focal position. A current supply circuit 16 is connected to the lamp 13, and the lamp 13 emits light by the current supplied from the current supply circuit. Light guide 14
Is a material that can efficiently transmit light, such as quartz (SiO 2
2 ), made of transparent sapphire (Al 2 O 3 ), and fixed by the housing 9 immovably.
【0014】光導体14の上端、すなわち光出射端14
bには試料載置台15がはめ込まれて装着されている。
そして、その試料載置台15の上に試料8が載置されて
いる。X線は薄膜11を透過して試料8に入射し、そし
て試料8からの回折X線は薄膜11を透過して進行す
る。The upper end of the light guide 14, that is, the light emitting end 14
A sample mounting table 15 is fitted and attached to the sample b.
Then, the sample 8 is placed on the sample placing table 15. The X-rays pass through the thin film 11 and enter the sample 8, and the diffracted X-rays from the sample 8 pass through the thin film 11 and proceed.
【0015】試料載置台15の中には検温素子、例えば
熱電対17が埋め込まれており、その熱電対の温度信
号、すなわち熱起電力が温度制御回路18に導かれる。
温度制御回路18は上記の温度信号に基づいて、試料8
の温度が目標とする所定温度に維持されるよう、電流供
給回路16による供給電流を制御する。A temperature detecting element, for example, a thermocouple 17 is embedded in the sample mounting table 15, and a temperature signal of the thermocouple, that is, a thermoelectromotive force is guided to a temperature control circuit 18.
The temperature control circuit 18 determines whether the sample 8
The current supplied by the current supply circuit 16 is controlled so that the temperature of 1 is maintained at the target predetermined temperature.
【0016】試料支持および加熱装置7は以上の構成よ
りなっているので、ランプ13で発光した光は全て、内
面反射鏡12によって光導体14の光入射端14aに集
められる。そして、集光された光は光導体14の中を伝
わって光出射端14bより試料8へ照射される。その光
照射により、試料8が加熱されて目標温度に昇温する。
この状態で、X線回折測定が行なわれる。Since the sample supporting and heating device 7 is constructed as described above, all the light emitted from the lamp 13 is collected by the inner reflecting mirror 12 at the light incident end 14a of the light guide 14. Then, the condensed light propagates through the light guide 14 and is applied to the sample 8 from the light emitting end 14b. The light irradiation heats the sample 8 to a target temperature.
In this state, X-ray diffraction measurement is performed.
【0017】以上説明した試料加熱装置7においては、
試料8のX線照射面側には、コイルなどの発熱線が存在
しない。よって、不要なX線回折線が発生することがな
くなり、正確なX線回折測定を行なうことができる。ま
た、発熱線を用いないので高温になっても汚染成分の発
生がなく、きれいな雰囲気の下でX線回折測定を行なう
ことができる。よって、試料8に悪影響が及ぼされるこ
とがなくなり、正確な測定結果を得ることができる。In the sample heating device 7 described above,
No heating line such as a coil exists on the X-ray irradiation surface side of the sample 8. Therefore, unnecessary X-ray diffraction lines are not generated, and accurate X-ray diffraction measurement can be performed. Further, since no heating line is used, no pollutant component is generated even at high temperatures, and X-ray diffraction measurement can be performed in a clean atmosphere. Therefore, the sample 8 is not adversely affected, and accurate measurement results can be obtained.
【0018】なお、光導体14の材料として石英、透明
サファイヤなどを適用できることは既述の通りである
が、透明サファイヤの耐熱温度は約2000度の高温で
あり、従って、試料8を高温に加熱したい場合は、その
透明サファイヤを光導体として用いると都合が良い。As described above, quartz, transparent sapphire, etc. can be applied as the material of the light guide 14, but the heat resistant temperature of the transparent sapphire is as high as about 2000 degrees, and therefore the sample 8 is heated to a high temperature. If desired, it is convenient to use the transparent sapphire as a light guide.
【0019】また、試料載置台15は、黒色材料のよう
に光を吸収して発熱し易い材料あるいは透明材料のいず
れによっても構成することができる。ただし、試料とし
て透明度の高いものを適用する場合には、発熱効率を高
めるために黒色などの光吸収材料によって試料載置台を
構成するのが良い。Further, the sample mounting table 15 can be made of either a material such as a black material which easily absorbs light to generate heat or a transparent material. However, when a highly transparent sample is used as the sample, it is preferable to configure the sample mounting table with a light absorbing material such as black in order to increase the heat generation efficiency.
【0020】図3は本発明に係る試料加熱装置の他の実
施例を示している。この実施例に係る試料加熱装置20
は、楕円体形状の内面反射鏡12と、内面反射鏡12の
第1焦点に配置された光源としてのタングステンランプ
13と、そして光導体としての全反射キャピラリ管21
とを有している。全反射キャピラリ管21は、石英から
成る円柱丸棒の中心に微小径の貫通穴22を設けたもの
である。例えば、円柱棒の外形は直径8mm程度であ
り、貫通穴22の内径は直径30〜50μmである。全
反射キャピラリ管21は、その光導入端が内面反射鏡1
2の第2焦点位置に配置される。FIG. 3 shows another embodiment of the sample heating apparatus according to the present invention. Sample heating device 20 according to this embodiment
Is an ellipsoidal internal reflection mirror 12, a tungsten lamp 13 as a light source arranged at the first focal point of the internal reflection mirror 12, and a total reflection capillary tube 21 as a light guide.
And have. The total reflection capillary tube 21 is a cylindrical round bar made of quartz with a through hole 22 having a minute diameter formed in the center thereof. For example, the outer diameter of the cylindrical rod is about 8 mm, and the inner diameter of the through hole 22 is 30 to 50 μm. The total reflection capillary tube 21 has a light introduction end at the inner reflection mirror 1.
The second focal point position is set to 2.
【0021】上記試料加熱装置20は、微小試料又は試
料の微小領域のX線回折像を得るためのX線回折装置、
例えば、いわゆる微小領域X線回折装置、四軸ゴニオメ
ータ等に供される試料を加熱するための加熱装置として
好適である。The sample heating device 20 is an X-ray diffraction device for obtaining an X-ray diffraction image of a micro sample or a micro region of the sample.
For example, it is suitable as a heating device for heating a sample to be used in a so-called minute area X-ray diffractometer, a four-axis goniometer, or the like.
【0022】図5は、試料加熱装置20を微小領域X線
回折装置に設置した場合の一例を示している。微小領域
X線回折装置は、X線Rの光軸と直交する軸線であるω
軸線を中心として回転揺動可能なωホルダ23と、ωホ
ルダの先端に接続されていてω軸線と直交する軸線であ
るχ(カイ)軸線を中心として回転揺動可能なχホルダ
24と、χホルダ24の先端に接続されていてω軸線及
びχ軸線の両軸線に直交するφ軸線を中心として回転揺
動可能な試料ホルダ25とを有している。FIG. 5 shows an example in which the sample heating device 20 is installed in a microscopic area X-ray diffractometer. The small area X-ray diffractometer is an axis line orthogonal to the optical axis of the X-ray R.
An ω holder 23 that is rotatable about an axis, and a χ holder 24 that is connected to the tip of the ω holder and is rotatable about an χ (chi) axis that is an axis orthogonal to the ω axis. The sample holder 25 is connected to the tip of the holder 24 and is capable of rotating and swinging around a φ axis line orthogonal to both the ω axis line and the χ axis line.
【0023】ωホルダ23はω軸線上に配置されたパル
スモータ26によって駆動されて揺動し、χホルダ24
はχ軸線上に配置されたパルスモータ27によって駆動
されて揺動し、そして試料ホルダ25はφ軸線上に配置
されたパルスモータ28によって駆動されて揺動する。The ω holder 23 is driven by a pulse motor 26 arranged on the ω axis to oscillate, and the χ holder 24
Is swung by being driven by a pulse motor 27 arranged on the χ axis, and the sample holder 25 is swung by being driven by a pulse motor 28 arranged on the φ axis.
【0024】試料8は、試料ホルダ25の先端に保持さ
れており、その試料8に関して上記の各ホルダ23,2
4,25の反対側に、位置感応型X線検出器(PSP
C)29が設置されている。PSPC29は、それ自体
周知のX線検出器であり、円弧状に延びる開口30から
X線を内部へ取り込み、その円弧領域内の個々の位置に
おけるX線強度を同時に測定するものである。すなわ
ち、回折角2θの広い範囲にわたって回折X線の強度が
同時に検出される。The sample 8 is held at the tip of a sample holder 25, and the holders 23 and 2 described above with respect to the sample 8 are held.
Position sensitive X-ray detector (PSP
C) 29 is installed. The PSPC 29 is an X-ray detector known per se, and takes in X-rays from an opening 30 extending in an arc shape, and simultaneously measures the X-ray intensity at each position in the arc area. That is, the intensity of the diffracted X-ray is simultaneously detected over a wide range of the diffraction angle 2θ.
【0025】X線Rの光軸上にはコリメータ31が設け
られており、試料8に入射するX線はコリメータ31に
よってその断面がきわめて狭い微小断面、例えば直径数
μmに制限される。コリメータ31を通って試料8に照
射されたX線ビームは、試料内の結晶格子面との間で回
折条件が満足されたときに試料8で回折する。回折した
X線は開口30を通ってPSPC29内に入射して、回
折角2θの広い範囲にわたってその強度が同時に測定さ
れる。A collimator 31 is provided on the optical axis of the X-ray R, and the X-ray incident on the sample 8 is limited by the collimator 31 to a very narrow cross section, for example, a diameter of several μm. The X-ray beam irradiated on the sample 8 through the collimator 31 is diffracted by the sample 8 when the diffraction condition is satisfied with the crystal lattice plane in the sample. The diffracted X-rays enter the PSPC 29 through the opening 30, and their intensities are simultaneously measured over a wide range of the diffraction angle 2θ.
【0026】X線ビームはコリメータ31によってきわ
めて微小な断面積に制限されて試料8に入射するので、
微小な試料、あるいは試料の微小領域のX線情報を得る
ことができる。X線の照射面積が上記のように微小にな
ると、そのX線照射面積内に存在する結晶の数が少なく
なって、測定結果の再現性が悪くなるおそれがある。こ
れを回避するため、ωホルダ23、χホルダ24、そし
て試料ホルダ25をそれぞれω軸線、χ軸線、そしてφ
軸線を中心として揺動させて試料8をあらゆる方向に回
転揺動させ、試料内のより多くの結晶を確実にX線照射
領域内に入れるようにしている。Since the X-ray beam is limited by the collimator 31 to have a very small cross-sectional area and is incident on the sample 8,
It is possible to obtain X-ray information of a minute sample or a minute area of the sample. When the X-ray irradiation area becomes minute as described above, the number of crystals existing in the X-ray irradiation area decreases, and the reproducibility of the measurement result may deteriorate. In order to avoid this, the ω holder 23, the χ holder 24, and the sample holder 25 are respectively attached to the ω axis, χ axis, and φ.
The sample 8 is oscillated about the axis to rotate and oscillate in all directions, and more crystals in the sample are surely put in the X-ray irradiation region.
【0027】上記のような微小領域X線回折装置に付設
される試料加熱装置20は、図5に示す実施例の場合、
試料8に関してω軸パルスモータ26の反対側に固定さ
れている。この加熱装置20は既述のように図3に示し
た構成よりなっているので、ランプ13から放射された
光は内面反射鏡12によって全反射キャピラリ管12の
光入射端に集められる。こうして集められた光は、微小
貫通穴22内を全反射しながら進行して光出射端から外
部へ出射し、試料8に入射する。この光照射により試料
8が加熱される。全反射キャピラリ管21は、微小断面
で強度の強いスポット状の光を出射することができるの
で、試料8が微小試料である場合でもそれを確実に加熱
することができる。また、試料8が比較的大きい場合に
その試料の微小領域のみを確実に加熱することができ
る。なお、全反射キャピラリ管21の光出射端と試料8
との間に集光用レンズ32を配置すれば、試料8への光
照射領域をより一層狭くして、きわめて微小な領域を加
熱することができるようになる。In the case of the embodiment shown in FIG. 5, the sample heating device 20 attached to the above-mentioned minute region X-ray diffraction device is
The sample 8 is fixed to the opposite side of the ω-axis pulse motor 26. Since the heating device 20 has the configuration shown in FIG. 3 as described above, the light emitted from the lamp 13 is collected at the light incident end of the total reflection capillary tube 12 by the internal reflection mirror 12. The light collected in this manner travels while being totally reflected in the minute through hole 22, exits from the light exit end, and enters the sample 8. The sample 8 is heated by this light irradiation. Since the total reflection capillary tube 21 can emit spot-like light having a small cross section and high intensity, even if the sample 8 is a minute sample, it can be reliably heated. Further, when the sample 8 is relatively large, it is possible to reliably heat only the minute region of the sample. The light emitting end of the total reflection capillary tube 21 and the sample 8
By arranging the condenser lens 32 between and, it becomes possible to further narrow the light irradiation area to the sample 8 and heat an extremely small area.
【0028】図4は試料加熱装置のさらに他の実施例を
示している。この試料加熱装置は、光源としてのキセノ
ンラプ33と楕円体形状の内面反射鏡12と、光導体と
しての光ファイバ34とを有している。キセノンランプ
33の発光部33aは内面反射鏡12の第1焦点位置に
配置されている。光ファイバ34は、それ自体周知の光
伝導部材であって、光を全反射させながら伝導すること
のできる細径の線状部材を多数束ねることによって形成
されている。この光ファイバ34は可撓性を有してお
り、自由に変形できる。光ファイバ34の光入射部34
aは内面反射鏡12の第2焦点位置に配置されている。
そして、光ファイバ34の光出射部34bには集光用レ
ンズ32が固着されている。FIG. 4 shows still another embodiment of the sample heating apparatus. This sample heating device has a xenon lamp 33 as a light source, an ellipsoidal internal reflection mirror 12, and an optical fiber 34 as an optical conductor. The light emitting portion 33a of the xenon lamp 33 is arranged at the first focal position of the inner reflecting mirror 12. The optical fiber 34 is a known photoconductive member, and is formed by bundling a large number of thin linear members capable of conducting light while totally reflecting the light. The optical fiber 34 has flexibility and can be freely deformed. Light incident part 34 of optical fiber 34
a is located at the second focal position of the inner reflecting mirror 12.
The condenser lens 32 is fixed to the light emitting portion 34b of the optical fiber 34.
【0029】ランプ33は電源35から給電されて発光
する。ランプ33からの光は内面反射鏡12によって光
ファイバ34の光入射部34aに集光される。集光され
た光は光ファイバ34内を全反射しながら進行し、光出
射部34bから出射され、さらに集光用レンズ32によ
って微小試料8又は試料8の微小領域に収束された状態
で照射される。こうして、光が照射された領域が加熱さ
れる。ランプ33と光ファイバ34の光入射部34aと
の間に配置されたシャッタ36は、試料8へ向けて光を
照射する必要のないときに、内面反射鏡12からの反射
光の光路を遮断するように作用する。試料加熱を行なう
場合、このシャッタ36は光路を開放している。The lamp 33 is powered by the power source 35 and emits light. The light from the lamp 33 is condensed by the inner reflecting mirror 12 on the light incident portion 34 a of the optical fiber 34. The condensed light travels while being totally reflected in the optical fiber 34, is emitted from the light emitting portion 34b, and is further irradiated by the condenser lens 32 while being converged on the minute sample 8 or the minute region of the sample 8. It In this way, the area irradiated with light is heated. The shutter 36 arranged between the lamp 33 and the light incident part 34a of the optical fiber 34 blocks the optical path of the reflected light from the internal reflection mirror 12 when it is not necessary to irradiate the sample 8 with light. Acts like. When heating the sample, the shutter 36 opens the optical path.
【0030】図4に示した実施例も、微小領域に光を集
光することができるので、微小領域X線回折装置等とい
った微小領域を対象としたX線回折装置に供される試料
を加熱するのに好適である。また特に、可撓性の光ファ
イバ34を用いて光を伝えるようにしており、そして光
出射部34bは非常に小さな部材であるので、試料8の
まわりに空間的な余裕が少ない場合でも、本試料加熱装
置を楽に設置することができる。In the embodiment shown in FIG. 4 as well, light can be condensed in a minute region, so that a sample used in an X-ray diffraction device for a minute region such as a minute region X-ray diffraction device is heated. It is suitable for Further, in particular, since the flexible optical fiber 34 is used to transmit the light, and the light emitting portion 34b is a very small member, even if the spatial margin around the sample 8 is small, the The sample heating device can be installed easily.
【0031】以上、好ましい実施例を用いて本発明を説
明したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、図1において、ランプ13の光を光導体1
4に集光させるための集光手段としては、楕円体形状の
内面反射鏡12以外に、集光レンズを用いることもでき
る。Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiment, the present invention is not limited to the embodiment. For example, referring to FIG.
As the condensing means for condensing the light on the surface 4, a condensing lens may be used in addition to the ellipsoidal inner reflecting mirror 12.
【0032】図1に示した実施例では、光導体14その
ものを試料8を支持するための構造要素として用いた。
しかしながら、試料を支持するための構造要素を別に設
けて、光導体14を試料を加熱するためだけの要素とし
て用いることもできる。In the embodiment shown in FIG. 1, the light guide 14 itself is used as a structural element for supporting the sample 8.
However, it is also possible to provide a separate structural element for supporting the sample and use the light guide 14 only as an element for heating the sample.
【0033】図1に示した実施例では、試料8をX線照
射面の裏側から加熱した、しかしながら加熱点は必ずし
もX線照射面の裏側には限られず、例えば横方向から試
料を加熱することもできる。In the embodiment shown in FIG. 1, the sample 8 is heated from the back side of the X-ray irradiation surface. However, the heating point is not necessarily limited to the back side of the X-ray irradiation surface. For example, heating the sample from the lateral direction. You can also
【0034】[0034]
【発明の効果】本発明によれば、試料を高温に保持した
状態でX線回折測定を行なう場合、試料のまわりに発熱
線を設ける必要がないので、ノイズ成分を含まない正確
なX線回折データが得られる。また、試料のまわりの雰
囲気をきれいな状態に保持できる。According to the present invention, when the X-ray diffraction measurement is performed while the sample is kept at a high temperature, it is not necessary to provide a heating line around the sample, so that accurate X-ray diffraction that does not include a noise component is obtained. Data is obtained. In addition, the atmosphere around the sample can be maintained in a clean state.
【図1】本発明に係る試料加熱装置の一実施例を示す側
面断面図である。FIG. 1 is a side sectional view showing an embodiment of a sample heating apparatus according to the present invention.
【図2】上記試料加熱装置を用いたX線回折装置の一例
を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an example of an X-ray diffraction apparatus using the sample heating apparatus.
【図3】本発明に係る試料加熱装置の他の実施例を示す
平面断面図である。FIG. 3 is a plan sectional view showing another embodiment of the sample heating apparatus according to the present invention.
【図4】本発明に係る試料加熱装置のさらに他の実施例
を示す平面断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional plan view showing still another embodiment of the sample heating apparatus according to the present invention.
【図5】図3に示す試料加熱装置を微小領域X線回折装
置に付設した場合を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a case where the sample heating device shown in FIG. 3 is attached to a minute region X-ray diffraction device.
8 試料 12 内面反射鏡 13 ランプ 14 光導体 15 試料載置台 21 全反射キャピラリ管 32 集光用レンズ 33 キセノンランプ 34 光ファイバ 8 sample 12 internal reflecting mirror 13 lamp 14 optical conductor 15 sample mounting table 21 total reflection capillary tube 32 condensing lens 33 xenon lamp 34 optical fiber
Claims (7)
たX線を検出するX線回折装置に用いられる試料加熱装
置において、光源と、光源からの光を集束させる光集束
手段と、光集束手段によって集められた光を試料に導く
光導体とを有することを特徴とする試料加熱装置。1. A sample heating apparatus used in an X-ray diffraction apparatus for injecting X-rays into a sample and detecting the X-rays diffracted by the sample, a light source, and a light focusing means for focusing the light from the light source, A sample heating device, comprising: a light guide for guiding the light collected by the light focusing means to the sample.
ファイヤ(Al2O3)によって形成された円柱棒である
ことを特徴とする請求項1記載の試料加熱装置。2. The sample heating apparatus according to claim 1, wherein the light guide is a cylindrical rod made of quartz (SiO 2 ) or transparent sapphire (Al 2 O 3 ).
せる微細径の貫通穴を備えた全反射キャピラリ管で有る
ことを特徴とする請求項1記載の試料加熱装置。3. The sample heating apparatus according to claim 1, wherein the light guide is a total reflection capillary tube provided with a through hole having a fine diameter for advancing while totally reflecting the light.
で有ることを特徴とする請求項1記載の試料加熱装置。4. The sample heating apparatus according to claim 1, wherein the optical conductor is a flexible optical fiber bundle.
レンズを配置したことを特徴とする請求項1から請求項
4のいずれか一つに記載の試料加熱装置。5. The sample heating apparatus according to claim 1, further comprising a condenser lens disposed between the light emitting end of the light guide and the sample.
部材を設けたことを特徴とする請求項1記載の試料加熱
装置。6. The sample heating apparatus according to claim 1, further comprising a light absorbing member provided between the light emitting end of the light guide and the sample.
反射鏡で有ることを特徴とする請求項1記載の試料加熱
装置。7. The sample heating apparatus according to claim 1, wherein the light focusing means is a reflecting mirror formed in an ellipsoidal shape.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4024405A JPH05188016A (en) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | Sample heating device of x-ray diffraction device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4024405A JPH05188016A (en) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | Sample heating device of x-ray diffraction device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05188016A true JPH05188016A (en) | 1993-07-27 |
Family
ID=12137263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4024405A Pending JPH05188016A (en) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | Sample heating device of x-ray diffraction device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05188016A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5843617A (en) * | 1996-08-20 | 1998-12-01 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Thermal bleaching of infrared dyes |
US6855474B1 (en) | 2004-05-03 | 2005-02-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Laser thermal color donors with improved aging characteristics |
JP2015075430A (en) * | 2013-10-10 | 2015-04-20 | 和枝 栗原 | Heating method of minute sample, and heating unit of the same |
DE102016105401A1 (en) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | imaging device |
-
1992
- 1992-01-14 JP JP4024405A patent/JPH05188016A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5843617A (en) * | 1996-08-20 | 1998-12-01 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Thermal bleaching of infrared dyes |
US6855474B1 (en) | 2004-05-03 | 2005-02-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Laser thermal color donors with improved aging characteristics |
JP2015075430A (en) * | 2013-10-10 | 2015-04-20 | 和枝 栗原 | Heating method of minute sample, and heating unit of the same |
DE102016105401A1 (en) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | imaging device |
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