JPH05178686A - Metallic block for liquid phase epitaxy and its production - Google Patents

Metallic block for liquid phase epitaxy and its production

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JPH05178686A
JPH05178686A JP34649591A JP34649591A JPH05178686A JP H05178686 A JPH05178686 A JP H05178686A JP 34649591 A JP34649591 A JP 34649591A JP 34649591 A JP34649591 A JP 34649591A JP H05178686 A JPH05178686 A JP H05178686A
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JP
Japan
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metal block
dopant
liquid phase
epitaxial growth
metal
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JP34649591A
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Hiroshi Sawai
浩史 沢井
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Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a metallic block for liquid phase epitaxy used as a solvent for making the distribution of dopant concentrations uniform. CONSTITUTION:A dopant housing part 2 where granulated dopants are housed and held is formed on the surface of a metallic block 1 which is almost semicircular as a whole. For the dopant housing part 2, recessed parts 3 formed on the surface of the metallic block 1 while dispersing them uniformly are suitable. The metallic block 1 is produced by casting a metal having high-purity and a low melting point.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液相エピタキシャル成
長において、溶媒として使用される低融点高純度の金属
ブロック及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low melting point and high purity metal block used as a solvent in liquid phase epitaxial growth and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザーダイオードなどの光半導体の基
板製造を液相エピタキシャル成長法(LPE法)で行う
場合、インジウムやガリウムなどの低融点金属が溶液溶
媒として使用される。この溶媒は高純度が要求されるこ
とから、高純度に精製された金属を鋳型で鋳造したもの
が使用される。
2. Description of the Related Art When a substrate for an optical semiconductor such as a laser diode is manufactured by a liquid phase epitaxial growth method (LPE method), a low melting point metal such as indium or gallium is used as a solution solvent. Since this solvent is required to have a high degree of purity, it is used by casting a highly purified metal in a mold.

【0003】図5及び図6は、上記溶媒となる従来の金
属ブロック(13)を使用した液相エピタキシャル成長装
置が示してあり、この装置を説明する。
FIG. 5 and FIG. 6 show a liquid phase epitaxial growth apparatus using a conventional metal block (13) as the solvent, and this apparatus will be described.

【0004】図5に示すように、ベルト状の基板保持搬
送体(8)に基板(9)の複数が等間隔に嵌め込まれ
る。基板保持搬送体(8)は基板(9)と共に枠状の融
液支持ボート(10)の下をスライド移動する。融液支持
ボート(10)は定間隔で矩形の融液保持口(11)を有
し、この融液保持口(11)の真下に基板(9)が配置さ
れるように基板保持搬送体(8)が融液支持ボート(1
0)に対して間欠スライド移動する。
As shown in FIG. 5, a plurality of substrates (9) are fitted into a belt-shaped substrate holding and conveying body (8) at equal intervals. The substrate holding carrier (8) slides under the frame-shaped melt support boat (10) together with the substrate (9). The melt-supporting boat (10) has rectangular melt-holding ports (11) at regular intervals, and the substrate-holding / transporting body ( 8) Melt support boat (1
Intermittent slide movement with respect to 0).

【0005】融液支持ボート(10)の融液保持口(11)
に同形の金属ブロック(13)が供給されて、基板(9)
上に載る。金属ブロック(13)の上からガリウムひ素な
どの結晶金属材料〔図示せず〕と共に、テルルやスズな
どの定量の粒状ドーパント(4)が供給される。融液支
持ボート(10)の複数の融液保持口(11)に複数種類の
ドーパント(4)が種類分けして供給される。
The melt holding port (11) of the melt supporting boat (10)
A metal block (13) of the same shape is supplied to the substrate (9)
Listed above. A certain amount of granular dopant (4) such as tellurium or tin is supplied from above the metal block (13) together with a crystalline metal material such as gallium arsenide (not shown). Plural kinds of dopants (4) are classified and supplied to the plural melt holding ports (11) of the melt supporting boat (10).

【0006】図6に示すように、基板保持搬送体(8)
と融液支持ボート(10)が水素雰囲気の石英管(12)内
で加熱される。石英管(12)内で金属ブロック(13)が
溶融する600℃〜850℃の所望温度まで加熱されると、そ
の温度が数時間維持される。この間に金属ブロック(1
3)が溶融した溶融金属〔溶媒〕にドーパント(4)が
飽和するまで溶解する。この溶融金属を基板(9)上に
接触させて、石英管(12)内で0.3〜1.0℃/分で徐冷す
ると、ある温度で液相に固相が析出しはじめ、基板
(9)上でエピタキシャルに結晶が成長する。
As shown in FIG. 6, the substrate holding and transporting body (8)
And the melt support boat (10) is heated in the quartz tube (12) in a hydrogen atmosphere. When the metal block (13) is heated in the quartz tube (12) to a desired temperature of 600 ° C. to 850 ° C., the temperature is maintained for several hours. During this time the metal block (1
The dopant (4) is dissolved in the molten metal [solvent] in which 3) is molten until it is saturated. When this molten metal is brought into contact with the substrate (9) and gradually cooled in the quartz tube (12) at 0.3 to 1.0 ° C./minute, a solid phase begins to precipitate in the liquid phase at a certain temperature, and the solid phase begins on the substrate (9). The crystal grows epitaxially at.

【0007】融液支持ボート(10)に対して基板保持搬
送体(8)を間欠スライド移動させて、基板(9)を各
融液保持口(11)下に順に移動させることにより、基板
(9)に複層にp形やn形の半導体領域が形成される。
The substrate holding carrier (8) is intermittently slid with respect to the melt supporting boat (10) to move the substrates (9) below the respective melt holding ports (11) in order. In 9), p-type and n-type semiconductor regions are formed in the multilayer.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】液相エピタキシャル成
長用の金属ブロック(13)は、高純度のものが要求され
る関係から、高純度で精製された金属を鋳型で鋳造した
製品が使用される。
Since the metal block (13) for liquid phase epitaxial growth is required to have a high purity, a product obtained by casting a highly purified metal in a mold is used.

【0009】ところが、このような鋳造された金属ブロ
ック(13)は、表面張力によって、図7の(イ)と
(ロ)に示すように、全面が湾曲した略かまぼこ形の形
状となる。一方、融液支持ボート(10)の融液保持口
(11)に収納した金属ブロック(13)上に供給されるド
ーパント(4)は、直径が1mm程度の粒である。
However, such a cast metal block (13) has a substantially semi-cylindrical shape whose entire surface is curved due to surface tension, as shown in (a) and (b) of FIG. 7. On the other hand, the dopant (4) supplied onto the metal block (13) housed in the melt holding port (11) of the melt supporting boat (10) is a particle having a diameter of about 1 mm.

【0010】その結果、金属ブロック(13)上にピンセ
ットなどでドーパント(4)を供給すると、ドーパント
(4)が金属ブロック(13)の曲面状に膨らんだ表面を
滑り落ちて、金属ブロック(13)の周辺部に集中するこ
とがある。このようなドーパント分布状態で金属ブロッ
ク(13)を加熱溶融させると、その溶融金属の周辺部と
中央部のドーパント濃度に無視できない差が生じ、この
差が液相エピタキシャル成長基板の品質を悪くする一要
因となっている。
As a result, when the dopant (4) is supplied onto the metal block (13) with tweezers or the like, the dopant (4) slides down on the curved surface of the metal block (13), and the metal block (13). ) May be concentrated in the peripheral area. When the metal block (13) is heated and melted in such a dopant distribution state, a non-negligible difference occurs in the dopant concentration between the peripheral portion and the central portion of the molten metal, and this difference deteriorates the quality of the liquid phase epitaxial growth substrate. It is a factor.

【0011】従って、本発明の目的とするところは、ド
ーパント濃度の均一性を高めて液相エピタキシャル成長
を品質的に安定させて行わせる液相エピタキシャル成長
用金属ブロック及びその製造方法を提供することにあ
る。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a metal block for liquid phase epitaxial growth and a method for manufacturing the same for enhancing the uniformity of the dopant concentration and stabilizing the liquid phase epitaxial growth in quality. ..

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、液相エピタキ
シャル成長用金属ブロックの表面に粒状ドーパントが収
納保持されるドーパント収納部を形成したことにより、
上記目的を達成するものである。
According to the present invention, a dopant accommodating portion for accommodating and retaining a granular dopant is formed on the surface of a liquid phase epitaxial growth metal block.
The above object is achieved.

【0013】金属ブロック表面のドーパント収納部は、
金属ブロック表面に部分的に形成された凹部であること
が、金属ブロック制作上に望ましい。
The dopant storage portion on the surface of the metal block is
It is desirable to manufacture the metal block that it is a concave portion partially formed on the surface of the metal block.

【0014】また、金属ブロックは、底面に凸部若しく
は凹部を形成した鋳型に低融点高純度金属を流し込んで
鋳造することが望ましい。
The metal block is preferably cast by pouring a low melting point high purity metal into a mold having a convex portion or a concave portion on the bottom surface.

【0015】[0015]

【作用】金属ブロックが鋳造された略かまぼこ形であっ
ても、その表面に形成された凹部などのドーパント収納
部に粒状のドーパントを収納させて置くと、ドーパント
は金属ブロックの表面から周辺部に不本意に分散する心
配が無い。従って、ドーパント収納部の位置、形状の適
正な設定でもって、ドーパントは常に定位置から溶融し
た金属ブロック内に拡散するようになり、溶媒でのドー
パント濃度分布を均一にすることが容易になる。
[Function] Even if the metal block is a cast semi-cylindrical shape, if the granular dopant is stored in the dopant storage portion such as a recess formed in the surface of the metal block, the dopant is transferred from the surface of the metal block to the peripheral portion. There is no need to worry about unwillingness to disperse. Therefore, with proper setting of the position and shape of the dopant accommodating portion, the dopant will always diffuse from the fixed position into the molten metal block, and it will be easy to make the dopant concentration distribution in the solvent uniform.

【0016】[0016]

【実施例】図1に本発明の一実施例である金属ブロック
(1)が、図2に金属ブロック(1)を鋳造する鋳型
(5)の一実施例が示してある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a metal block (1) which is an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows an embodiment of a mold (5) for casting the metal block (1).

【0017】図1の金属ブロック(1)は、液相エピタ
キシャル成長用の低融点高純度のインジウム、ガリウム
などの金属を略矩形に鋳造したものである。金属ブロッ
ク(1)は全体に略かまぼこ形で、表面にドーパント収
納部(2)を有することを特徴とする。
The metal block (1) of FIG. 1 is formed by casting a metal such as indium or gallium having a low melting point and high purity for liquid phase epitaxial growth into a substantially rectangular shape. The metal block (1) has a substantially semicylindrical shape as a whole and is characterized by having a dopant accommodating portion (2) on its surface.

【0018】ドーパント収納部(2)は、定量の粒状ド
ーパント(4)を収納保持する部所で、例えば金属ブロ
ック(1)の湾曲表面に部分的に形成された凹部(3)
である。凹部(3)は略円形の窪みで、その口径、深さ
は、図4に示すように粒状のドーパント(4)の所望量
が安定して収納されるサイズに設定される。
The dopant storage portion (2) is a portion for storing and holding a fixed amount of granular dopant (4), for example, a recess (3) partially formed on the curved surface of the metal block (1).
Is. The concave portion (3) is a substantially circular depression, and the diameter and depth thereof are set to a size in which a desired amount of the granular dopant (4) can be stably stored, as shown in FIG.

【0019】1つの金属ブロック(1)における凹部
(3)の数は、金属ブロック(1)のサイズに応じて設
定される。例えば、図1の金属ブロック(1)は比較的
大きなサイズのもので、これの場合は表面の中央部と四
隅部の平均的に分散された5箇所に凹部(3)が形成さ
れる。また、図3に示すような比較的小さなサイズの長
方形金属ブロック(1')においては、その表面に一列
に3つの凹部(3)が形成される。
The number of recesses (3) in one metal block (1) is set according to the size of the metal block (1). For example, the metal block (1) shown in FIG. 1 has a relatively large size, and in this case, the recesses (3) are formed in the central portion of the surface and the five corners of the four corners which are evenly distributed. Further, in the rectangular metal block (1 ′) having a relatively small size as shown in FIG. 3, three recesses (3) are formed in a line on the surface thereof.

【0020】図1の金属ブロック(1)は、図2の鋳型
(5)で鋳造すればよい。鋳型(5)は、金属ブロック
(1)の外形に合わせた開口部(6)の底に凸部(7)
を形成している。凸部(7)は、開口部(6)の底に部
分的に突設された5つの凸部(7a)で形成される。開口
部(6)に高純度精製された溶融金属を流し込んで冷却
硬化させると、凸部(7a)の部所に凹部(3)が形成さ
れた略かまぼこ形の金属ブロック(1)が鋳造される。
The metal block (1) of FIG. 1 may be cast with the mold (5) of FIG. The mold (5) has a convex portion (7) at the bottom of the opening (6) that matches the outer shape of the metal block (1).
Is formed. The convex portion (7) is formed by five convex portions (7a) partially protruding from the bottom of the opening (6). When the highly purified refined molten metal is poured into the opening (6) and is cooled and hardened, a substantially semi-cylindrical metal block (1) having a concave portion (3) formed in the convex portion (7a) is cast. It

【0021】なお、鋳造された金属ブロック表面に凹部
を工具で形成すると、工具による凹部加工時に金属ブロ
ックが不純物汚染されて、高純度を保てないが、上記金
属ブロック(1)のように鋳型(5)で鋳造すれば、純
度が低下する心配が無く、また、凹部(3)が鋳造と同
時に形成されて、製造工程的にも有利となる。
When a concave portion is formed on the surface of a cast metal block with a tool, the metal block is contaminated with impurities when the concave portion is processed by the tool, and high purity cannot be maintained. If the casting is performed in (5), there is no concern that the purity will decrease, and the recess (3) is formed at the same time as casting, which is advantageous in the manufacturing process.

【0022】金属ブロック(1)を使用したレーザダイ
オードなどの液相エピタキシャル成長装置は、従来設備
が適用される。
Conventional equipment is applied to a liquid phase epitaxial growth apparatus such as a laser diode using the metal block (1).

【0023】また、鋳型(5)は、開口部(6)の底に
凹部を設けて、その凹部で金属ブロックの凸部以外の表
面を形成するようにしてもよい。
The mold (5) may be provided with a recess at the bottom of the opening (6) and the recess may form a surface other than the projection of the metal block.

【0024】例えば、図4に示すように、基板保持搬送
体(8)と融液支持ボート(10)を組合せ、融液支持ボ
ート(10)の融液保持口(11)に金属ブロック(1)を
収納し、その上から定量の粒状ドーパント(4)を供給
する。ドーパント(4)は、例えばピンセットで挟ん
で、金属ブロック(1)の凹部(3)にだけ供給する。
1つの凹部(3)にドーパント(4)は同一種類の複数
個を、あるいは複数種類の複数個を供給してもよい。
For example, as shown in FIG. 4, a substrate holding carrier (8) and a melt supporting boat (10) are combined, and a metal block (1) is attached to a melt holding port (11) of the melt supporting boat (10). ) Is stored and a certain amount of granular dopant (4) is supplied from above. The dopant (4) is sandwiched between tweezers, for example, and is supplied only to the concave portion (3) of the metal block (1).
A plurality of dopants (4) of the same type or a plurality of dopants (4) may be supplied to one recess (3).

【0025】凹部(3)に供給されたドーパント(4)
は、多少の振動が加わっても凹部(3)から外に飛び出
すことは無く、凹部(3)の定位置に安定に保持され
る。
Dopant (4) supplied to the recess (3)
Does not jump out from the concave portion (3) even if some vibration is applied, and is stably held at a fixed position in the concave portion (3).

【0026】基板保持搬送体(8)と融液支持ボート
(10)を石英管(12)内に収納して、従来同様に加熱
し、徐冷すれば基板保持搬送体(8)の基板(9)に所
望の液相エピタキシャル成長が行われる。
The substrate holding carrier (8) and the melt supporting boat (10) are housed in a quartz tube (12), heated as in the conventional case, and then slowly cooled. 9) The desired liquid phase epitaxial growth is performed.

【0027】金属ブロック(1)が溶融した場合、金属
ブロック(1)の表面の平均的に分散された5箇所の凹
部(3)に収納されたドーパント(4)は、凹部(3)
の定位置から溶融金属〔溶媒〕に拡散する。凹部(3)
を金属ブロック(1)の表面全体に平均的に分散してい
るので、金属ブロック(1)の溶融金属全体にドーパン
ト(4)は平均的に拡散する。その結果、溶融金属での
ドーパント濃度の分布が均一になり、基板(9)に液相
エピタキシャル成長が濃度的に均一に行われる。
When the metal block (1) is melted, the dopants (4) contained in the five uniformly distributed recesses (3) on the surface of the metal block (1) become the recesses (3).
Diffuses into the molten metal [solvent] from the fixed position. Recess (3)
Are dispersed evenly over the entire surface of the metal block (1), so that the dopant (4) diffuses evenly throughout the molten metal of the metal block (1). As a result, the distribution of the dopant concentration in the molten metal becomes uniform, and the liquid phase epitaxial growth is uniformly performed on the substrate (9).

【0028】なお、鋳造される金属ブロックのドーパン
ト収納部は、上記のような凹部に限らず、例えば金属ブ
ロック表面を波形や格子状の凹凸面に形成して、その凹
凸面の凹所にドーパントを収納させるようにしてもよ
い。
It should be noted that the dopant accommodating portion of the cast metal block is not limited to the concave portion as described above. May be stored.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば、鋳造された液相エピタ
キシャル成長用金属ブロックの表面に形成したドーパン
ト収納部に粒状のドーパントを収納保持させて、金属ブ
ロックを加熱溶融させると、その溶融金属にドーパント
が常に定位置から適正な方向に拡散するようになり、溶
融金属でのドーパント濃度分布が均一になって、品質的
に安定した液相エピタキシャル成長が行えるようにな
り、レーザーダイオードなどの液相エピタキシャル成長
製品の品質向上、歩留まり改善が図れる効果がある。
According to the present invention, when a granular dopant is accommodated and held in the dopant accommodating portion formed on the surface of the cast metal block for liquid phase epitaxial growth and the metal block is heated and melted, the molten metal is melted. The dopant will always diffuse from the fixed position in the proper direction, the dopant concentration distribution in the molten metal will be uniform, and stable liquid-phase epitaxial growth will be possible. It has the effect of improving product quality and yield.

【0030】また、底に凸部若しくは凹部を形成した鋳
型で金属ブロックを鋳造することにより、金属ブロック
をその表面のドーパント収納部と共に1工程で製造で
き、品質的に優秀な低融点高純度の液相エピタキシャル
成長用金属ブロックが簡単に製造できる効果がある。
Further, by casting the metal block in a mold having a convex portion or a concave portion formed on the bottom, the metal block can be manufactured together with the dopant accommodating portion on the surface thereof in one step, and it is excellent in quality and has a low melting point and a high purity. There is an effect that a metal block for liquid phase epitaxial growth can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における金属ブロックの一実施例を示す
もので、(イ)は平面図、(ロ)はA−A線に沿う断面
FIG. 1 shows an embodiment of a metal block according to the present invention, in which (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along the line AA.

【図2】図1の金属ブロックを鋳造する鋳型の断面図FIG. 2 is a sectional view of a mold for casting the metal block of FIG.

【図3】本発明における金属ブロックの他の実施例を示
すもので、(イ)は平面図、(ロ)はB−B線に沿う断
面図
FIG. 3 shows another embodiment of the metal block according to the present invention, in which (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view taken along line BB.

【図4】図1の金属ブロックを使用した液相エピタキシ
ャル成長装置の部分断面図
4 is a partial sectional view of a liquid phase epitaxial growth apparatus using the metal block of FIG.

【図5】従来の金属ブロックを使用した液相エピタキシ
ャル成長装置のドーパント供給時の部分断面図
FIG. 5 is a partial cross-sectional view of a conventional liquid phase epitaxial growth apparatus using a metal block when supplying a dopant.

【図6】図5の装置の液相エピタキシャル成長動作時の
部分断面図
6 is a partial cross-sectional view of the apparatus of FIG. 5 during a liquid phase epitaxial growth operation.

【図7】従来の液相エピタキシャル成長用金属ブロック
を示し、(イ)は平面図、(ロ)はC−C線に沿う断面
FIG. 7 shows a conventional metal block for liquid phase epitaxial growth, in which (a) is a plan view and (b) is a sectional view taken along line CC.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属ブロック 2 ドーパント収納部 3 凹部 4 ドーパント 5 鋳型 6 開口部 7 凸部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal block 2 Dopant accommodating part 3 Recessed part 4 Dopant 5 Template 6 Opening part 7 Convex part

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に粒状ドーパントが収納保持される
ドーパント収納部を有することを特徴とする液相エピタ
キシャル成長用金属ブロック。
1. A metal block for liquid phase epitaxial growth, comprising a dopant accommodating portion for accommodating and retaining a granular dopant on its surface.
【請求項2】 ドーパント収納部が部分的に形成された
凹部であることを特徴とする請求項1記載の液相エピタ
キシャル成長用金属ブロック。
2. The metal block for liquid phase epitaxial growth according to claim 1, wherein the dopant accommodating portion is a concave portion partially formed.
【請求項3】 底面に凸部若しくは凹部を形成した鋳型
の金属ブロック鋳造用開口部に高純度金属を流し込んで
鋳造することを特徴とする液相エピタキシャル成長用金
属ブロックの製造方法。
3. A method for producing a metal block for liquid phase epitaxial growth, which comprises casting a high-purity metal by pouring into a metal block casting opening of a mold having a convex portion or a concave portion formed on the bottom surface.
JP34649591A 1991-12-27 1991-12-27 Metallic block for liquid phase epitaxy and its production Pending JPH05178686A (en)

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