JPH0517798Y2 - - Google Patents

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JPH0517798Y2
JPH0517798Y2 JP11012587U JP11012587U JPH0517798Y2 JP H0517798 Y2 JPH0517798 Y2 JP H0517798Y2 JP 11012587 U JP11012587 U JP 11012587U JP 11012587 U JP11012587 U JP 11012587U JP H0517798 Y2 JPH0517798 Y2 JP H0517798Y2
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clamp
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【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案は半導体製造ラインのイオン打ち込み
装置において、デイスクのウエハー置き台に設け
られたクランプ装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] This invention relates to a clamp device provided on a wafer stand of a disk in an ion implantation device for a semiconductor manufacturing line.

[従来技術] 従来この種のウエハーのクランプ装置は、第8
図、第9図に示す如く、デイスク1′の台本体
2′にウエハー5′の装入又は取り出しを行うバキ
ユームチヤツク19′の装入溝が設けられており、
この装入溝上のウエハー5′は、台本体2′に接触
することができないので冷却効果が悪くなり、イ
オン打ち込み時に150℃以上にも達するような温
度上昇をまねいていた。
[Prior art] Conventionally, this type of wafer clamping device
As shown in FIG. 9, a loading groove for a vacuum chuck 19' for loading or unloading a wafer 5' is provided in the stand body 2' of the disk 1'.
Since the wafer 5' on this loading groove cannot come into contact with the stand main body 2', the cooling effect is poor, leading to a temperature rise reaching 150° C. or more during ion implantation.

この温度上昇により、LSIの微細パターンを加
工する為に塗布されているレジスト膜に変質、破
損が起こり、LSIの歩留りが低下するか若しくは
温度上昇の為ビーム電流を上げることが出来ず生
産性の低下をも招いていた。また、ウエハー積載
面側に揺動機構が設けられている為にここで発生
するゴミがウエハーに付着しやすく、歩留りの低
下もまねいていた。
This temperature rise causes deterioration and damage to the resist film applied to process the fine patterns of LSI, resulting in a decrease in the yield of LSI, or the inability to increase the beam current due to the temperature rise, resulting in decreased productivity. It also caused a decline. Furthermore, since the swinging mechanism is provided on the wafer loading surface side, dust generated here tends to adhere to the wafers, resulting in a decrease in yield.

上記欠点を改良する為、第10図、第11図に
示すように台本体2″のウエハー5″を保持するこ
とのできる保持ピン12″が装備されたクランプ
装置も知られている。
In order to improve the above-mentioned drawbacks, a clamping device is also known which is equipped with a holding pin 12'' capable of holding a wafer 5'' on a stand main body 2'', as shown in FIGS. 10 and 11.

この装置ではブラケツト23″に、ウエハー
5″を保持するピン12″とロツド20″を介して
ウエハー5″をクランプするクランプアーム8″と
が設けられており、ブラケツト23″が台本体
2″の上面に対し直角方向に上下動することによ
り、ウエハー5″をクランプ又はクランプ解除時
の下方からの支持を行うようにして前記欠点を解
消している。しかし、ウエハー5″をクランプ又
はクランプ解除時の下方からの支持を行う際、ク
ランプロツド20″が貫通穴22″に対しスライド
するようにしているので、スムーズに作動しなく
なる場合があり、生産性の低下をまねいていた。
In this device, a bracket 23'' is provided with a pin 12'' that holds the wafer 5'' and a clamp arm 8'' that clamps the wafer 5'' via a rod 20''. By moving up and down perpendicular to the top surface, the wafer 5'' is supported from below when clamped or unclamped, thereby solving the above drawback.However, when the wafer 5'' is clamped or unclamped, When supporting the clamp rod from below, the clamp rod 20'' slides relative to the through hole 22'', so it may not operate smoothly, resulting in a decrease in productivity.

しかも、摺動面の偏摩擦によりゴミが発生し、
製品の歩留り低下もまねいていた。
Moreover, dirt is generated due to uneven friction on the sliding surfaces.
This also led to a decrease in product yield.

また、装置全体をデイスク面に対し上下方向に
スライドするようにしているで、装置を覆うデイ
スクチヤンバーの空間部が大きくなつて、デイス
クチヤンバー内を真空にしたり、または真空から
大気にもどすのに長時間を必要とし、生産性の低
下をまねいていた。
In addition, since the entire device is designed to slide vertically relative to the disk surface, the space in the disk chamber that covers the device becomes large, making it difficult to create a vacuum inside the disk chamber or return it from a vacuum to the atmosphere. This required a long time, leading to a decrease in productivity.

[考案が解決しようとする問題点] 半導体製造工程においてウエハーの温度のばら
つき及び塵は、ウエハーの歩留を著しく悪化さ
せ、また、装置の不円滑な動き及び装置の大型化
は製品コストアツプになるため上記従来例はいず
れも問題がある。
[Problems that the invention aims to solve] In the semiconductor manufacturing process, variations in wafer temperature and dust significantly reduce the yield of wafers, and unsmooth movement of equipment and increased equipment size increase product costs. Therefore, all of the above conventional examples have problems.

本考案は、従来技術に於ける前記問題点を回避
するためになされたものである。
The present invention has been made in order to avoid the above-mentioned problems in the prior art.

[問題点を解決するための手段] そこで本考案のクランプ装置は、ウエハー置き
台を有するデイスクの裏側にクランプアームとレ
バーとを揺動可能に枢着し、前記デイスクに貫通
してウエハーを押さえるクランプをクランプアー
ムに複数個設けると共に、前記ウエハー置き台に
貫通してウエハーを保持するピンをレバーに複数
個設け、前記クランプアームとデイスクとの間に
バネを介在させ、該バネより強力なバネ力を有す
るバネをクランプアームとレバーとの間に介在さ
せたものである。
[Means for Solving the Problems] Therefore, in the clamp device of the present invention, a clamp arm and a lever are pivotably attached to the back side of a disk having a wafer stand, and penetrate through the disk to hold the wafer. A plurality of clamps are provided on the clamp arm, a plurality of pins are provided on the lever that penetrate the wafer stand and hold the wafer, and a spring is interposed between the clamp arm and the disk, and a spring stronger than the spring is provided. A spring with force is interposed between the clamp arm and the lever.

[実施例] 本考案の構成を添付図面(第1図乃至第7図)
に示す実施例により詳細に説明する。
[Example] The structure of the present invention is shown in the attached drawings (Figures 1 to 7).
This will be explained in detail using the examples shown in .

1はデイスクで、その上面には円周方向に複数
の台本体2が設けられている。3と4は、イオン
注入時デイスク1が高速で回転している時もウエ
ハー5を回転保持する内側突起と外側ストツパー
で、台本体2の周囲に夫々2個づつ設けられてい
る。
Reference numeral 1 denotes a disk, and a plurality of stand bodies 2 are provided on the upper surface of the disk in the circumferential direction. Reference numerals 3 and 4 denote an inner protrusion and an outer stopper, which hold the wafer 5 in rotation even when the disk 1 rotates at high speed during ion implantation, and two of each are provided around the base body 2.

6は軸受で、その軸受部にはクランプアーム8
及びレバー9を枢着しているシヤフト7が軸支さ
れ、その取付位置はデイスク1の下面で台本体2
の外周付近のデイスク中心側になる。8は台本体
2の形状より大きい外形をしたクランプアーム
で、その元付側がシヤフト7の両端に枢着され、
開放側がデイスクの周辺側になる。クランプアー
ム8の開放側には開口8aが形成され、ピン12
に邪魔にならないようにしている。クランプアー
ム8の開放側と元付側付近との両側には、ウエハ
ー5をクランプするための外側クランプ10と内
側クランプ11とが夫々2個づつ設けられ、それ
らの先端はデイスク1の台本体2近辺に穿設され
た孔16を貫通している。外側クランプ10と内
側クランプ11との先端はL字形に形成され、そ
の先端は台本体2の上面に重なるようになつてい
る。
6 is a bearing, and a clamp arm 8 is attached to the bearing part.
The shaft 7 on which the lever 9 is pivotally mounted is pivotally supported, and its mounting position is on the bottom surface of the disk 1 and on the base body 2.
near the outer periphery of the disk. Reference numeral 8 denotes a clamp arm having a larger external shape than the shape of the base body 2, and its base side is pivotally attached to both ends of the shaft 7.
The open side will be the peripheral side of the disk. An opening 8a is formed on the open side of the clamp arm 8, and a pin 12
I try not to get in the way. Two outer clamps 10 and two inner clamps 11 for clamping the wafer 5 are provided on both sides of the open side and near the base side of the clamp arm 8, and their tips are connected to the base body 2 of the disk 1. It passes through a hole 16 drilled nearby. The tips of the outer clamp 10 and the inner clamp 11 are formed into an L-shape, and are arranged to overlap with the upper surface of the base body 2.

9はレバーで、元付側がッシヤフト7に枢着さ
れ、開放側がデイスク1の周辺側になる。その先
端には、台本体2に穿設された孔17を貫通して
ウエハー5を保持するピン12が固設されてい
る。
Reference numeral 9 denotes a lever, the base side of which is pivotally connected to the shaft 7, and the open side of the lever located near the disk 1. A pin 12 that passes through a hole 17 formed in the stand main body 2 and holds the wafer 5 is fixed at its tip.

13はクランプアーム8にウエハー5をクラン
プする為のクランプ力を付与するバネで、デイス
ク1とクランプアーム8との間に取り付けられて
いる。14はクランプアーム8に取り付けられた
ストツパーで、クランプアーム8を上方へ押し上
げたときにデイスク1に当たつてクランプアーム
8がそれ以上開かないようにする。15はバネ1
3より大きいバネ力を有するバネで、クランプア
ーム8とレバー9との間に取り付けられている。
18はクランプアーム8とレバー9とが一定間隔
以上に開かないようにするためのブラケツトで、
その形状はL字形をし、その先端がレバー9の下
面に引つ掛かるようになつており、元付部はクラ
ンプアーム8に取り付けられている。
A spring 13 is attached between the disk 1 and the clamp arm 8 and provides a clamping force for clamping the wafer 5 to the clamp arm 8. A stopper 14 is attached to the clamp arm 8, and when the clamp arm 8 is pushed upward, it hits the disk 1 and prevents the clamp arm 8 from opening any further. 15 is spring 1
A spring with a spring force greater than 3 is mounted between the clamp arm 8 and the lever 9.
18 is a bracket to prevent the clamp arm 8 and lever 9 from opening beyond a certain distance;
Its shape is L-shaped, and its tip is hooked on the lower surface of the lever 9, and the base portion is attached to the clamp arm 8.

尚、実施例ではブラケツト18がクランプアー
ム8に取り付けられているが、レバー9に取り付
けても良い。
Although the bracket 18 is attached to the clamp arm 8 in the embodiment, it may also be attached to the lever 9.

本考案は上記のように構成され、その構成によ
りウエハー5を台本体2に載置させる場合につい
て第6図、第7図を参照にして説明する。
The present invention is constructed as described above, and the case where the wafer 5 is placed on the stand main body 2 using this construction will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

まず、クランプリフター(図示せず)によりレ
バー9を上方へ押し上げる。この時、バネ13は
バネ15よりバネ力が弱い為、バネ13のみが圧
縮され、クランプアーム8とレバー9とが一体で
シヤフト7を中心に回転移動する。
First, the lever 9 is pushed upward by a clamp lifter (not shown). At this time, since the spring force of the spring 13 is weaker than that of the spring 15, only the spring 13 is compressed, and the clamp arm 8 and the lever 9 rotate as a unit around the shaft 7.

そして、クランプアーム8に取り付けられたス
トツパー14がデイスク1に当たると外側クラン
プ10と内側クランプ11とが開の状態になる。
(第6図参照)この時、クランプリフターの押上
げを停止させ、バキユームチヤツク19(ウエハ
ー装入装置)によつて吸着されたウエハー5を台
本体2の上に装入する。
When the stopper 14 attached to the clamp arm 8 hits the disk 1, the outer clamp 10 and the inner clamp 11 are opened.
(See FIG. 6) At this time, the pushing up of the clamp lifter is stopped, and the wafer 5 that has been sucked by the vacuum chuck 19 (wafer loading device) is loaded onto the table main body 2.

そして再び、クランプリフターでレバー9を上
方へ押し上げると今度は、バネ15のみが圧縮さ
れレバー9のみがシヤフト7を中心に回転移動
し、ウエハー5はレバー9の先端に設けられたピ
ン12に保持される。(第7図参照) 次に、バキユームチヤツク19を後退させてク
ランプリフターを下方へ下降させると、まず、レ
バー9のみがシヤフト7を中心に回転移動して、
ウエハー5を台本体2に載置する。そして、ブラ
ケツト18の先端がレバー9に引つ掛かると今度
は、クランプアーム8もレバー9と同様にシヤフ
ト7を中心に回転移動し、外側クランプ10と内
側クランプ11とがウエハー5を押さえるまで回
転する。
Then, when the lever 9 is pushed upward again with the clamp lifter, only the spring 15 is compressed, and only the lever 9 rotates around the shaft 7, and the wafer 5 is held by the pin 12 provided at the tip of the lever 9. be done. (See Fig. 7) Next, when the vacuum chuck 19 is retreated and the clamp lifter is lowered downward, first, only the lever 9 rotates around the shaft 7.
The wafer 5 is placed on the stand main body 2. Then, when the tip of the bracket 18 is caught on the lever 9, the clamp arm 8 also rotates around the shaft 7 in the same way as the lever 9, and rotates until the outer clamp 10 and the inner clamp 11 hold the wafer 5. do.

そして、クランプリフターがレバー9から離れ
るとウエハー5は、バネ13のバネ力で外側クラ
ンプ10と内側クランプ11とによりクランプさ
れる。
Then, when the clamp lifter leaves the lever 9, the wafer 5 is clamped by the outer clamp 10 and the inner clamp 11 by the spring force of the spring 13.

また、逆にウエハー5を台本体2から取り出す
場合は、クランプリフターによりレバー9を上方
に押し上げ、ウエハー5がピン12により第7図
の想像線の位置になるまでクランプリフターを作
動させ、その後、バキユームチヤツク19により
ウエハー5を吸着して台本体2から取り出す。そ
して、クランプリフターを下方へ下降させて、ク
ランプアーム8及びレバー9等を第1図の位置に
戻す。
Conversely, when taking out the wafer 5 from the stand main body 2, push up the lever 9 using the clamp lifter, operate the clamp lifter until the wafer 5 is at the position indicated by the imaginary line in FIG. 7 by the pin 12, and then, The wafer 5 is sucked by the vacuum chuck 19 and taken out from the stand main body 2. Then, the clamp lifter is lowered to return the clamp arm 8, lever 9, etc. to the position shown in FIG. 1.

[考案の効果] 以上のように本考案装置では、ウエハーをウエ
ハー置き台の下面よりピンで保持し、クランプア
ーム、レバーの回転揺動部をデイスクのウエハー
積載面の裏側に設け、デイスクとウエハークラン
プアームとレバーとの夫々の間にバネを介在させ
2段式作動にクランプとレバーとの開閉機構を単
一としたことにより、ウエハー積載面からバキユ
ームチヤツクの切欠部がなくなり、この部分の温
度上昇を低下させるのと同時に、直動式クランプ
に伴うゴミの発生及び真空容器の大容量化に伴う
生産性低下の問題も解決できる。
[Effects of the invention] As described above, in the device of the invention, the wafer is held by pins from the bottom of the wafer table, and the rotating and swinging parts of the clamp arm and lever are provided on the back side of the wafer loading surface of the disk, and the disk and wafer are By interposing a spring between each of the clamp arm and lever and using a single opening/closing mechanism for the clamp and lever in a two-stage operation, there is no cutout of the vacuum chuck from the wafer loading surface, and this part At the same time, it is possible to solve the problems of dust generation associated with direct-acting clamps and decreased productivity associated with increased capacity of vacuum containers.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本考案装置の正面図、第2図は第1図
の平面図、第3図は第1図の下面図、第4図は第
1図の断面図、第5図は第3図の断面図、第
6図はウエハーを本考案装置に装入する際の図、
第7図はウエハーが本考案装置のピンに保持され
た状態を示す図。第8図は従来技術(ウエハー置
き台切欠き型)の正面図、第9図は第8図の平面
図、第10図は従来装置(クランプアームスライ
ド式)の正面図、第11図は第10図の平面図で
ある。 1,1′,1″……デイスク、2,2′,2″……
台本体、5,5′,5″……ウエハー、8,8″…
…クランプアーム、9……レバー、10……外側
クランプ、11……内側クランプ、12,12″
……ピン、13……バネ、15……バネ、19,
19′,19″……バキユームチヤツク、20″…
…クランプロツド、21′……ウエハークランプ。
Fig. 1 is a front view of the device of the present invention, Fig. 2 is a plan view of Fig. 1, Fig. 3 is a bottom view of Fig. 1, Fig. 4 is a sectional view of Fig. 1, and Fig. 5 is a Figure 6 is a cross-sectional view of the wafer being loaded into the device of the present invention;
FIG. 7 is a diagram showing a state in which the wafer is held by the pins of the device of the present invention. Fig. 8 is a front view of the conventional technology (wafer stand notch type), Fig. 9 is a plan view of Fig. 8, Fig. 10 is a front view of the conventional device (clamp arm sliding type), and Fig. 11 is the front view of the conventional device (clamp arm sliding type). FIG. 10 is a plan view of FIG. 1, 1', 1''...Disk, 2, 2', 2''...
Stand body, 5, 5', 5''...Wafer, 8, 8''...
...Clamp arm, 9...Lever, 10...Outer clamp, 11...Inner clamp, 12,12''
...Pin, 13...Spring, 15...Spring, 19,
19', 19''... Bakyumu chuck, 20''...
...Clamp rod, 21'...Wafer clamp.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] ウエハー置き台を有するデイスクの裏側にクラ
ンプアームとレバーとを揺動可能に枢着し、前記
デイスクに貫通してウエハーを押さえるクランプ
をクランプアームに複数個設けると共に、前記ウ
エハー置き台に貫通してウエハーを保持するピン
をレバーに複数個設け、前記クランプアームとデ
イスクとの間にバネを介在させ、該バネより強力
なバネ力を有するバネをクランプアームとレバー
との間に介在させたことを特徴とするデイスクの
ウエハー置き台に設けられたクランプ装置。
A clamp arm and a lever are pivotably attached to the back side of a disk having a wafer holder, and the clamp arm is provided with a plurality of clamps that penetrate the disk and hold the wafer, and the clamp arm is provided with a plurality of clamps that penetrate the wafer holder and hold the wafer. A plurality of pins for holding the wafer are provided on the lever, a spring is interposed between the clamp arm and the disk, and a spring having a stronger spring force than the spring is interposed between the clamp arm and the lever. A special feature is the clamp device installed on the wafer stand of the disk.
JP11012587U 1987-07-20 1987-07-20 Expired - Lifetime JPH0517798Y2 (en)

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JPS6416054U JPS6416054U (en) 1989-01-26
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