JPH05161882A - 洗浄装置の洗浄液質制御装置 - Google Patents
洗浄装置の洗浄液質制御装置Info
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- JPH05161882A JPH05161882A JP3332097A JP33209791A JPH05161882A JP H05161882 A JPH05161882 A JP H05161882A JP 3332097 A JP3332097 A JP 3332097A JP 33209791 A JP33209791 A JP 33209791A JP H05161882 A JPH05161882 A JP H05161882A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 イオン交換樹脂の寿命を延長し、洗浄不良を
減少させる。 【構成】 下洗い槽１４から排出された洗浄液は、フィ
ルタ１７によって濾過される。フィルタ１７からは、バ
ルブ２２を介してイオン交換器１８に洗浄水を供給す
る。洗浄水の一部は、バルブ２１によってバイパスされ
る。バルブ２１およびバルブ２２の開閉は、水質センサ
２３が検出する水質によって、制御装置２４が行う。制
御装置２４によって行われる制御は、水質センサ２３が
検出する水質が水質限界から予め定める程度で良好な範
囲となるように行う。
減少させる。 【構成】 下洗い槽１４から排出された洗浄液は、フィ
ルタ１７によって濾過される。フィルタ１７からは、バ
ルブ２２を介してイオン交換器１８に洗浄水を供給す
る。洗浄水の一部は、バルブ２１によってバイパスされ
る。バルブ２１およびバルブ２２の開閉は、水質センサ
２３が検出する水質によって、制御装置２４が行う。制
御装置２４によって行われる制御は、水質センサ２３が
検出する水質が水質限界から予め定める程度で良好な範
囲となるように行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板の温水洗
浄装置などのクローズド方式洗浄装置の洗浄液質制御装
置に関する。
浄装置などのクローズド方式洗浄装置の洗浄液質制御装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、プリント基板などの洗浄に
は、図５に示すような温水洗浄装置１が用いられてい
る。このような温水洗浄装置１では、プリント基板など
の洗浄物を洗浄物移動方向２に移動させながら、下洗い
槽４および仕上げ洗い槽３によって洗浄を行う。仕上げ
洗い槽３には、供給管路５から清浄な洗浄液が供給され
る。下洗い槽４からは排出管路６に洗浄液が排出され
る。排出管路６からは、フィルタ７およびイオン交換器
８を経てポンプ９に洗浄液が吸引される。ポンプ９から
は、供給管路５を介して仕上げ洗い槽３に洗浄液が送ら
れる。フィルタ７は洗浄後の洗浄液中に浮遊するゴミな
どを除去し、イオン交換器８は正または負のイオンを除
去する。ヒータ１０は洗浄性向上のため、洗浄液の温度
をイオン交換器が劣化しない範囲で高くするために使用
される。
は、図５に示すような温水洗浄装置１が用いられてい
る。このような温水洗浄装置１では、プリント基板など
の洗浄物を洗浄物移動方向２に移動させながら、下洗い
槽４および仕上げ洗い槽３によって洗浄を行う。仕上げ
洗い槽３には、供給管路５から清浄な洗浄液が供給され
る。下洗い槽４からは排出管路６に洗浄液が排出され
る。排出管路６からは、フィルタ７およびイオン交換器
８を経てポンプ９に洗浄液が吸引される。ポンプ９から
は、供給管路５を介して仕上げ洗い槽３に洗浄液が送ら
れる。フィルタ７は洗浄後の洗浄液中に浮遊するゴミな
どを除去し、イオン交換器８は正または負のイオンを除
去する。ヒータ１０は洗浄性向上のため、洗浄液の温度
をイオン交換器が劣化しない範囲で高くするために使用
される。
【０００３】温水洗浄装置１では、ポンプ９によって洗
浄水が循環して使用される。このため、水の消費量は少
なく、外部から補給する水の量も少ない。水を循環して
使用しないときには、外部から多くの水を供給し、洗浄
後の汚れが排水とともに排出される。このため、周囲の
環境に与える悪影響が大きい。水を循環して使用すれ
ば、水の供給量は少なく、汚れが排水とともに周囲の環
境に排出されるのを防止することができる。
浄水が循環して使用される。このため、水の消費量は少
なく、外部から補給する水の量も少ない。水を循環して
使用しないときには、外部から多くの水を供給し、洗浄
後の汚れが排水とともに排出される。このため、周囲の
環境に与える悪影響が大きい。水を循環して使用すれ
ば、水の供給量は少なく、汚れが排水とともに周囲の環
境に排出されるのを防止することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来からの図５図示の
ようなクローズド方式の温水洗浄装置においては、フィ
ルタ７やイオン交換器８によって洗浄後の洗浄水の水質
を改善している。これらのフィルタやイオン交換器は、
使用を開始したときには十分な能力があっても、使用す
るに従い劣化する。このため、清浄でない洗浄水が仕上
げ洗い槽３に供給されて、洗浄されたプリント基板など
の電気絶縁性が悪くなるなどの問題が生じやすい。
ようなクローズド方式の温水洗浄装置においては、フィ
ルタ７やイオン交換器８によって洗浄後の洗浄水の水質
を改善している。これらのフィルタやイオン交換器は、
使用を開始したときには十分な能力があっても、使用す
るに従い劣化する。このため、清浄でない洗浄水が仕上
げ洗い槽３に供給されて、洗浄されたプリント基板など
の電気絶縁性が悪くなるなどの問題が生じやすい。
【０００５】従来からの温水洗浄装置１では、イオン交
換器８の使用開始時に必要以上の負荷をかけ、かつ残存
能力の把握をしていないのでイオン交換樹脂の交換回数
が多くなり、かつ劣化は水質が悪くなってから気が付く
ことが多いため交換が必要になってからの洗浄によっ
て、洗浄不良が発生しやすい。
換器８の使用開始時に必要以上の負荷をかけ、かつ残存
能力の把握をしていないのでイオン交換樹脂の交換回数
が多くなり、かつ劣化は水質が悪くなってから気が付く
ことが多いため交換が必要になってからの洗浄によっ
て、洗浄不良が発生しやすい。
【０００６】本発明の目的は、イオン交換器などの液質
改善手段の寿命を長くし、液質の劣化が急激に起こらず
に良好な液質で洗浄液を使用することが容易な洗浄装置
の洗浄液質制御装置を提供することである。
改善手段の寿命を長くし、液質の劣化が急激に起こらず
に良好な液質で洗浄液を使用することが容易な洗浄装置
の洗浄液質制御装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、洗浄液を循環
して使用する洗浄装置の洗浄液質制御装置において、洗
浄液の循環経路に設けられ、洗浄液の液質を改善する液
質改善手段と、洗浄液循環経路中で液質改善手段と並列
に設けられ、洗浄液の流量の一部を液質改善手段をバイ
パスして循環させるバイパス手段と、洗浄液循環経路中
で液質改善手段およびバイパス手段の下流側に設けら
れ、洗浄液の液質を検出する液質検出手段と、液質検出
手段からの出力に応答し、検出される液質が液質限界か
ら予め定める程度で良好な範囲内になるように、バイパ
ス手段の流量を制御する制御手段とを含むことを特徴と
する洗浄装置の洗浄液質制御装置である。
して使用する洗浄装置の洗浄液質制御装置において、洗
浄液の循環経路に設けられ、洗浄液の液質を改善する液
質改善手段と、洗浄液循環経路中で液質改善手段と並列
に設けられ、洗浄液の流量の一部を液質改善手段をバイ
パスして循環させるバイパス手段と、洗浄液循環経路中
で液質改善手段およびバイパス手段の下流側に設けら
れ、洗浄液の液質を検出する液質検出手段と、液質検出
手段からの出力に応答し、検出される液質が液質限界か
ら予め定める程度で良好な範囲内になるように、バイパ
ス手段の流量を制御する制御手段とを含むことを特徴と
する洗浄装置の洗浄液質制御装置である。
【０００８】
【作用】本発明に従えば、洗浄装置の洗浄液質制御装置
は、循環して使用される洗浄液の液質を制御する。洗浄
液質制御装置には、液質改善手段と、バイパス手段と、
液質検出手段と、制御手段とが含まれる。液質改善手段
は、洗浄液の循環経路に設けられ、洗浄液の液質を改善
する。バイパス手段は、洗浄液循環経路中で液質改善手
段と並列に設けられ、洗浄液の流量の一部をバイパスさ
せる。液質検出手段は、液質改善手段とバイパス手段と
の下流側に設けられ、洗浄液の液質を検出する。制御手
段は、液質検出手段からの出力に応答し、検出される液
質が液質限界から予め定める程度で良好な範囲内になる
ようにバイパス手段の流量を制御する。
は、循環して使用される洗浄液の液質を制御する。洗浄
液質制御装置には、液質改善手段と、バイパス手段と、
液質検出手段と、制御手段とが含まれる。液質改善手段
は、洗浄液の循環経路に設けられ、洗浄液の液質を改善
する。バイパス手段は、洗浄液循環経路中で液質改善手
段と並列に設けられ、洗浄液の流量の一部をバイパスさ
せる。液質検出手段は、液質改善手段とバイパス手段と
の下流側に設けられ、洗浄液の液質を検出する。制御手
段は、液質検出手段からの出力に応答し、検出される液
質が液質限界から予め定める程度で良好な範囲内になる
ようにバイパス手段の流量を制御する。
【０００９】液質改善手段が新しく、液質改善手段のみ
では洗浄液の液質が液質限界に対して著しく良好である
ときは、バイパス手段によって洗浄液の一部をバイパス
して、洗浄液の液質が液質限界から予め定める程度で良
好な範囲内に制御される。洗浄液の一部がバイパスされ
るので、液質改善手段を通過する洗浄液の量は減少し、
液質改善手段の劣化は少なくなる。液質改善手段が劣化
するにつれて、バイパス手段によってバイパスされる流
量を少なくして、液質改善手段のみでも液質を液質限界
内に維持することができなくなるまで、液質改善手段単
独で使用するときよりも長い寿命を得ることができる。
また、バイパス手段によってバイパスされる流量が少な
くなることは、液質改善手段が劣化することに対応する
ので、液質改善手段の劣化状態を把握することも容易と
なり、予測不可能なうちに洗浄液の液質が急激に劣化し
て洗浄不良となることを防止することも容易である。
では洗浄液の液質が液質限界に対して著しく良好である
ときは、バイパス手段によって洗浄液の一部をバイパス
して、洗浄液の液質が液質限界から予め定める程度で良
好な範囲内に制御される。洗浄液の一部がバイパスされ
るので、液質改善手段を通過する洗浄液の量は減少し、
液質改善手段の劣化は少なくなる。液質改善手段が劣化
するにつれて、バイパス手段によってバイパスされる流
量を少なくして、液質改善手段のみでも液質を液質限界
内に維持することができなくなるまで、液質改善手段単
独で使用するときよりも長い寿命を得ることができる。
また、バイパス手段によってバイパスされる流量が少な
くなることは、液質改善手段が劣化することに対応する
ので、液質改善手段の劣化状態を把握することも容易と
なり、予測不可能なうちに洗浄液の液質が急激に劣化し
て洗浄不良となることを防止することも容易である。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の一実施例の温水洗浄装置１
１の構成を示す。プリント基板などの洗浄物は、洗浄物
移動方向１２に沿って移動されて洗浄される。温水洗浄
装置１１には、洗浄物移動方向１２と反対の方向に、仕
上げ洗い槽１３および下洗い槽１４が配置される。仕上
げ洗い槽１３には、供給管１５から洗浄水が供給され
る。下洗い槽１４からは、排出管路１６を介して洗浄後
の洗浄水が排出される。プリント基板などには、半田付
けのために使用されるフラックスなどが付着している。
フラックスが付着していると、残留イオンが環境の変化
のために電気絶縁性が悪くなり、プリント基板上に形成
される電子回路などの誤動作が生じたり、配線基板が腐
食したりする。洗浄水が汚れており、正や負のイオンな
どが多く含まれていると、プリント基板の電気絶縁材料
などの表面に付着し、電気絶縁性能を劣化させる。
１の構成を示す。プリント基板などの洗浄物は、洗浄物
移動方向１２に沿って移動されて洗浄される。温水洗浄
装置１１には、洗浄物移動方向１２と反対の方向に、仕
上げ洗い槽１３および下洗い槽１４が配置される。仕上
げ洗い槽１３には、供給管１５から洗浄水が供給され
る。下洗い槽１４からは、排出管路１６を介して洗浄後
の洗浄水が排出される。プリント基板などには、半田付
けのために使用されるフラックスなどが付着している。
フラックスが付着していると、残留イオンが環境の変化
のために電気絶縁性が悪くなり、プリント基板上に形成
される電子回路などの誤動作が生じたり、配線基板が腐
食したりする。洗浄水が汚れており、正や負のイオンな
どが多く含まれていると、プリント基板の電気絶縁材料
などの表面に付着し、電気絶縁性能を劣化させる。
【００１１】温水洗浄装置１１においては、環境問題な
どを考慮して、洗浄水は循環して使用される。排出管路
１６から排出された洗浄後の洗浄水は、フィルタ１７お
よびイオン交換器１８を介してポンプ１９に吸入され
る。ポンプ１９からは供給管路１５を介して仕上げ洗い
槽１３に清浄化された洗浄水が供給される。仕上げ洗い
槽１３および下洗い槽１４の周囲にはヒータ２０が設け
られ、洗浄水を加熱する。その加熱温度は、イオン交換
器１８内のイオン交換樹脂を劣化させない範囲で洗浄効
果が最大に得られる温度とすることが好ましい。
どを考慮して、洗浄水は循環して使用される。排出管路
１６から排出された洗浄後の洗浄水は、フィルタ１７お
よびイオン交換器１８を介してポンプ１９に吸入され
る。ポンプ１９からは供給管路１５を介して仕上げ洗い
槽１３に清浄化された洗浄水が供給される。仕上げ洗い
槽１３および下洗い槽１４の周囲にはヒータ２０が設け
られ、洗浄水を加熱する。その加熱温度は、イオン交換
器１８内のイオン交換樹脂を劣化させない範囲で洗浄効
果が最大に得られる温度とすることが好ましい。
【００１２】フィルタ１７は、洗浄後の洗浄水中のゴミ
などの固形物を除去する。イオン交換器１８は、洗浄水
中の正または負のイオンをイオン交換樹脂に吸着させて
除去する。洗浄水中に固形物が含まれていると、イオン
交換樹脂が目詰まりしやすくなるので、イオン交換器１
８の上流側にフィルタ１７を設けることが望ましい。フ
ィルタ１７が劣化すると、目詰まりし、洗浄水が透過す
る抵抗が大きくなるので、劣化の程度の把握は容易であ
る。
などの固形物を除去する。イオン交換器１８は、洗浄水
中の正または負のイオンをイオン交換樹脂に吸着させて
除去する。洗浄水中に固形物が含まれていると、イオン
交換樹脂が目詰まりしやすくなるので、イオン交換器１
８の上流側にフィルタ１７を設けることが望ましい。フ
ィルタ１７が劣化すると、目詰まりし、洗浄水が透過す
る抵抗が大きくなるので、劣化の程度の把握は容易であ
る。
【００１３】フィルタ１７によって濾過された洗浄水の
一部は、バルブ２１を介してイオン交換器１８をバイパ
スしてポンプ１９に導かれる。フィルタ１７からイオン
交換器１８までの経路には、バルブ２２が設けられる。
ポンプ１９には、イオン交換器１８からとバルブ２１か
らの洗浄水が吸入される。ポンプ１９から送り出される
洗浄水は、水質センサ２３によって水質が検出される。
水質センサ２３は、たとえば洗浄水の電気抵抗を測定し
て、導電率を検出する。水質センサ２３からの出力は、
制御装置２４に与えられる。制御装置２４は、水質セン
サ２３によって検出される水質が、水質限界から予め定
める程度で良好な範囲内になるように、バルブ２１およ
びバルブ２２の開度を調整する。バルブ２１を開けてバ
ルブ２２を閉めれば、バルブ経路を流れる洗浄水の量が
多くなり、導電率は大きくなる。バルブ２１を閉じてバ
ルブ２２を開ければイオン交換器１８を通る洗浄水の割
合が多くなり、導電率が低くなる。
一部は、バルブ２１を介してイオン交換器１８をバイパ
スしてポンプ１９に導かれる。フィルタ１７からイオン
交換器１８までの経路には、バルブ２２が設けられる。
ポンプ１９には、イオン交換器１８からとバルブ２１か
らの洗浄水が吸入される。ポンプ１９から送り出される
洗浄水は、水質センサ２３によって水質が検出される。
水質センサ２３は、たとえば洗浄水の電気抵抗を測定し
て、導電率を検出する。水質センサ２３からの出力は、
制御装置２４に与えられる。制御装置２４は、水質セン
サ２３によって検出される水質が、水質限界から予め定
める程度で良好な範囲内になるように、バルブ２１およ
びバルブ２２の開度を調整する。バルブ２１を開けてバ
ルブ２２を閉めれば、バルブ経路を流れる洗浄水の量が
多くなり、導電率は大きくなる。バルブ２１を閉じてバ
ルブ２２を開ければイオン交換器１８を通る洗浄水の割
合が多くなり、導電率が低くなる。
【００１４】図２は、イオン交換器１８の構成を示す。
イオン交換器１８は、槽３０内に、流入口３１から洗浄
水が供給される。槽３０内には、イオン交換樹脂３２が
設けられ、洗浄水がイオン交換樹脂３２を透過する際
に、イオンがイオン交換樹脂に吸着される。イオン交換
樹脂３２を透過した洗浄水は、流出口３３から流出す
る。
イオン交換器１８は、槽３０内に、流入口３１から洗浄
水が供給される。槽３０内には、イオン交換樹脂３２が
設けられ、洗浄水がイオン交換樹脂３２を透過する際
に、イオンがイオン交換樹脂に吸着される。イオン交換
樹脂３２を透過した洗浄水は、流出口３３から流出す
る。
【００１５】図３は、図１図示の実施例によって水質制
御されるときの導電率の変化を示す。イオン交換器１８
内のイオン交換樹脂を時刻ｔ０で交換すると、破線で示
すように図１図示のような制御を行わないときには、時
刻ｔ１までは非常に導電率が低くて良好な水質であるけ
れども、時刻ｔ１からｔ２まで急激に導電率が上昇して
水質が劣化する。実線で示す図１図示の実施例によれ
ば、水質限界よりも導電率が低い良好な水質の範囲内に
制御し、時刻ｔ３までイオン交換器１８のイオン交換樹
脂の寿命を延長させることができる。
御されるときの導電率の変化を示す。イオン交換器１８
内のイオン交換樹脂を時刻ｔ０で交換すると、破線で示
すように図１図示のような制御を行わないときには、時
刻ｔ１までは非常に導電率が低くて良好な水質であるけ
れども、時刻ｔ１からｔ２まで急激に導電率が上昇して
水質が劣化する。実線で示す図１図示の実施例によれ
ば、水質限界よりも導電率が低い良好な水質の範囲内に
制御し、時刻ｔ３までイオン交換器１８のイオン交換樹
脂の寿命を延長させることができる。
【００１６】図４は、本発明の他の実施例の溶剤洗浄装
置４１の構成を示す。溶剤洗浄装置４１は、洗浄槽４２
において有機溶剤によって洗浄を行う。有機溶剤は供給
管４３から供給され、排出管４４から排出される。有機
溶剤の液質改善は、蒸留再生装置４５によって行う。液
質が改善された有機溶剤は、ポンプ４６によって吸引さ
れ、供給管４３側に押し出される。蒸留再生装置４５に
関連して、バルブ４７を有するバイバス管路が並列に設
けられる。バルブ４７の開閉制御は、ポンプ４６からの
溶剤の液質を液質センサ４８で検出して、制御装置４９
によって行われる。
置４１の構成を示す。溶剤洗浄装置４１は、洗浄槽４２
において有機溶剤によって洗浄を行う。有機溶剤は供給
管４３から供給され、排出管４４から排出される。有機
溶剤の液質改善は、蒸留再生装置４５によって行う。液
質が改善された有機溶剤は、ポンプ４６によって吸引さ
れ、供給管４３側に押し出される。蒸留再生装置４５に
関連して、バルブ４７を有するバイバス管路が並列に設
けられる。バルブ４７の開閉制御は、ポンプ４６からの
溶剤の液質を液質センサ４８で検出して、制御装置４９
によって行われる。
【００１７】有機溶剤としては、フロンなど単一組成の
溶剤や共沸物を使用することができる。有機溶剤の汚れ
が少ないときにバイバスすることによって、蒸留再生に
要するエネルギを減少させることができる。
溶剤や共沸物を使用することができる。有機溶剤の汚れ
が少ないときにバイバスすることによって、蒸留再生に
要するエネルギを減少させることができる。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液質改善
手段の能力が十分あるうちはバイパス手段によって洗浄
液をバイパスするので、バイパス手段の劣化を遅らせて
寿命を延長することができる。またバイパス手段によっ
てバイパスされる流量が少なくなると、液質改善手段が
劣化していることが容易に把握されるので、液質改善手
段の交換などを洗浄不良が生じないうちに行うことがで
きる。また、安定した液質の洗浄液を使用することがで
きるので、洗浄品の品質の変動を少なくすることができ
る。
手段の能力が十分あるうちはバイパス手段によって洗浄
液をバイパスするので、バイパス手段の劣化を遅らせて
寿命を延長することができる。またバイパス手段によっ
てバイパスされる流量が少なくなると、液質改善手段が
劣化していることが容易に把握されるので、液質改善手
段の交換などを洗浄不良が生じないうちに行うことがで
きる。また、安定した液質の洗浄液を使用することがで
きるので、洗浄品の品質の変動を少なくすることができ
る。
【図１】本発明の一実施例を示すブロック図である。
【図２】図１図示のイオン交換器１８の概略的な構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】図１図示の実施例による導電率の変化を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図４】本発明の他の実施例の構成を示すブロック図で
ある。
ある。
【図５】従来からの温水洗浄装置の構成を示すブロック
図である。
図である。
１１ 温水洗浄装置 １３ 仕上げ洗い槽 １４ 下洗い槽 １７ フィルタ １８ イオン交換器 １９ ポンプ ２１ バルブ ２２ バルブ ２３ 水質センサ ２４ 制御装置 ３０ 槽 ３２ イオン交換樹脂 ４１ 溶剤洗浄装置 ４２ 洗浄槽 ４５ 蒸留再生装置 ４６ ポンプ ４７ バルブ ４８ 液質センサ ４９ 制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/26 6736−4Ｅ
Claims (1)
- 【請求項１】 洗浄液を循環して使用する洗浄装置の洗
浄液質制御装置において、 洗浄液の循環経路に設けられ、洗浄液の液質を改善する
液質改善手段と、 洗浄液循環経路中で液質改善手段と並列に設けられ、洗
浄液の流量の一部を液質改善手段をバイパスして循環さ
せるバイパス手段と、 洗浄液循環経路中で液質改善手段およびバイパス手段の
下流側に設けられ、洗浄液の液質を検出する液質検出手
段と、 液質検出手段からの出力に応答し、検出される液質が液
質限界から予め定める程度で良好な範囲内になるよう
に、バイパス手段の流量を制御する制御手段とを含むこ
とを特徴とする洗浄装置の洗浄液質制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3332097A JPH05161882A (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 洗浄装置の洗浄液質制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3332097A JPH05161882A (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 洗浄装置の洗浄液質制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05161882A true JPH05161882A (ja) | 1993-06-29 |
Family
ID=18251116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3332097A Withdrawn JPH05161882A (ja) | 1991-12-16 | 1991-12-16 | 洗浄装置の洗浄液質制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05161882A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6338795B1 (en) | 1999-01-13 | 2002-01-15 | Fuji Jukogyo Kabushiki Kaisha | Purifying system |
| JP2002153867A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-28 | Kurita Water Ind Ltd | 比抵抗調整水製造装置及び缶検査用水製造装置 |
| JP2002172391A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-18 | Japan Organo Co Ltd | イオン交換システム |
| JP2002292362A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-08 | Kurita Water Ind Ltd | 比抵抗調整水製造装置 |
| JP2019217427A (ja) * | 2018-06-15 | 2019-12-26 | オリンパス株式会社 | 洗浄装置および洗浄装置の作動方法 |
-
1991
- 1991-12-16 JP JP3332097A patent/JPH05161882A/ja not_active Withdrawn
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