JPH05155603A - 塩素ガスの濃縮方法および装置 - Google Patents
塩素ガスの濃縮方法および装置Info
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- JPH05155603A JPH05155603A JP4135101A JP13510192A JPH05155603A JP H05155603 A JPH05155603 A JP H05155603A JP 4135101 A JP4135101 A JP 4135101A JP 13510192 A JP13510192 A JP 13510192A JP H05155603 A JPH05155603 A JP H05155603A
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Abstract
圧力スイング吸着法において、排ガス中の塩素をほとん
どなくし、製品塩素ガスの純度を高め、自動制御を可能
とし吸着剤の寿命を長くする方法を提供する。 【構成】 塩素を含むガス中より塩素を分離、濃縮する
圧力スイング吸着法において、吸着塔を複数用いるこ
と、脱着操作の前に製品塩素ガスを吸着塔に還流させる
こと、吸着塔にセンサーを設けること、および吸着塔の
前に脱水装置を備えることを特徴とする。
Description
用した塩素ガスの濃縮精製方法および装置に係わり、特
に排出処理廃ガス中の塩素濃度を低く且つ製品濃縮塩素
ガスの純度を高くするように構成された塩素ガスの濃縮
精製方法及び装置に関する。
は、塩素系の溶剤に塩素ガスを吸収させ、つぎに塩素ガ
スを蒸発させる方法、ガスを加圧・冷却して液体塩素と
して分離する方法、塩素をシリカゲルに吸着させる方法
(米国特許第1,617,305号)等である。しか
し、塩素系の溶剤を使用する方法は環境に与える影響等
により今後、規制を受ける方向にあり好ましい方法では
ない。
機や冷凍機を必要とし有利な方法とは言い難い。シリカ
ゲルに吸着させる方法も効率が悪く工業的に有利な方法
でなく今まで利用されてきていない。特に低濃度から高
濃度までの塩素ガスを濃縮する際に排ガス中に塩素ガス
を排出しないで処理出来る工業的に有効な方法および装
置が無かった。
精製する場合、工業的に有効な方法および装置は無かっ
た。また、塩素ガスを含む混合ガス中の塩素を分離する
場合、特に塩素濃度が比較的低く水分を含有したガスか
ら塩素を分離し濃縮する際に有効な方法がなかった。
した塩素ガスを濃縮精製する際に、溶媒を使用せず、ま
た塩素の液化も必要としないで高純度塩素を得、しかも
排出処理廃ガス中の塩素をほとんど無くすことができる
塩素ガス濃縮精製のための工業的方法および装置を提供
することを目的とする。
を分離・濃縮し、残ガス(処理廃ガス)中の塩素を実質
上ゼロとする圧力スイング吸着法において、特に残ガス
中の塩素濃度を実質上ゼロとする操作条件を自動的に制
御する方法および装置を提供することを目的とする。
着塔(複数)への吸着剤充填量、吸着性能、処理ガス中
吸着成分量、ガス量、運転時間をもとに吸着サイクル、
脱着サイクルを計算し、運転操作条件に反映させてい
る。しかしこの方法では、吸着剤の経時劣化,処理ガス
条件(温度,圧力,流量等)の変化に対しては最適操作
条件からの逸脱が起きる。特に残ガス中への特定ガス濃
度を実質上ゼロとする運転操作は困難であった。
塩素を含むガス中から塩素を分離・濃縮する方法を発明
したが、この方法により操作条件を適切に選択すると塩
素を含むガスより塩素を分離・濃縮し、その残ガス中の
塩素濃度を実質上ゼロとすることができるが、この方法
においても吸着剤の経時劣化,処理条件(温度,圧力,
流量等)の変化に対しては最適操作条件からの逸脱が起
き、残ガス中への塩素ガス濃度を実質上ゼロとする長期
間の運転操作は非常に困難であった。
水分を含有したガスから塩素を分離し濃縮する際に、溶
媒を使用せずまた塩素の液化も必要とせず吸着剤の寿命
が長く且つ装置の腐食を防止できる工業的装置を提供す
ることをも目的とするものである。
する吸着剤が充填された吸着塔に不純物を含む塩素ガス
を供給し塩素ガスを吸着させる吸着操作と、吸着剤に吸
着された塩素ガスを脱着させる脱着操作を交互に繰り返
すことによって、吸着塔に供給する不純物を含む塩素ガ
ス中の不純物を取り除き高純度塩素ガスを得る塩素ガス
濃縮方法において、前記1段目の吸着塔を出た処理ガス
を次の2段目の吸着塔に導くことにより排ガス中の塩素
をほとんど無くさんとするものであり、さらに、脱着操
作の前に製品塩素ガスを吸着塔に還流させて系内の滞留
ガスをパージすることにより製品塩素ガスの純度を高め
ようとするものである。
結ぶ事により、1段目の吸着塔では吸着剤が破過するま
で原料ガス(被処理ガス)を供給でき、また2段目の吸
着塔では1段目の吸着塔で漏れた塩素ガスを完全に吸着
することができる。また脱着操作の前に製品塩素ガスを
吸着塔に還流させることにより吸着塔中の純度の低い滞
留原料ガスをパージすることができる。その結果、製品
塩素ガスの純度は高められ、且つ排出処理廃ガス中の塩
素をほとんど無くすことが出来る。
縮する圧力スイング吸着法において、残ガス中の塩素濃
度を実質上ゼロとする運転操作条件を自動的に設定でき
ないかという点について鋭意検討し、吸着塔出口付近に
塩素ガスの存在を感知するセンサーを設置し、吸着操作
の終了を感知することにより自動制御が可能であること
を見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は吸着操
作中の吸着塔の吸着剤充填層の吸着状態を、塩素ガスの
存在を感知するセンサーによって検出し吸着操作の終了
を感知することにより、該吸着塔への不純物を含む塩素
ガスの供給を停止し、該吸着塔を吸着操作から脱着操作
へ移行せしめることを特徴とする塩素ガスの濃縮精製法
である。
合は、吸着塔内の処理廃ガス出口付近の吸着剤(充填
層)の温度変化を連続的に測定し、その吸着剤温度の微
分値が所定値となった時にその吸着塔への被処理ガスの
導入を中止し、その吸着塔の再生操作を開始することに
なる。
スには塩素以外のガスとしては酸素、窒素、二酸化炭
素、一酸化炭素、アルゴン、メタンなどの存在が考えら
れるが、圧力スイング吸着法でこれらのガスより塩素を
分離するには、これらのガスと吸着剤との吸着親和力に
塩素の場合より充分な差があり、センサーとして温度計
を使用する場合においては尚且つ、塩素の吸着熱が他の
ガスに比して充分に大きなものを選択する必要がある。
そこで本発明に使用する塩素の吸着剤としては、ゼオラ
イト、非ゼオライト系多孔質酸性酸化物、活性炭または
分子ふるいカーボンを使用することができる。
スの塩素濃度は特に制限はないが、通常5容量%〜98
容量%である。以下、センサーとして温度計を使用した
場合について説明する。本発明の吸着剤の温度変化を測
定するには、吸着操作中の処理廃ガス出口にある吸着剤
の先端から、吸着剤の全充填高さの1/2以内の位置に
おいて温度を測定することが好ましい。
ガスの吸着分離を行う場合、吸着熱が発生し吸着剤の温
度上昇が起こることが知られている。本発明者らが塩素
を含むガスを、吸着剤として、ゼオライト、非ゼオライ
ト系多孔質酸性酸化物、活性炭または分子ふるいカーボ
ンを使用し、吸着剤の温度変化を測定した結果、塩素の
吸着熱は他のガス成分の吸着熱に比して充分大きいこと
を確認した。また、吸着剤の急激な温度変化の起こって
いる吸着剤(充填層)の部位は大略塩素ガスの吸着の進
行している部位であることも確認した。
の温度変化は、原料ガス(被処理ガス)中の塩素濃度に
依存し、吸着に依る温度変化は塩素濃度が高いほど大き
くなる。従って、原料ガス中の塩素濃度における吸着熱
による吸着剤の温度変化の微分値と温度変化の検知部位
を特定し、残ガス中への塩素漏出をなくすことが可能と
なった。
用いた吸着熱の温度変化と残ガス中の塩素濃度の関係を
示した。図4からも明らかなように塩素濃度15容量%
の原料ガスを用い、温度変化を測定する部位を特定し、
残ガス中への塩素の漏出を防ぐには、吸着熱による温度
変化の微分値が1.5℃/分(所定値)となった時点で
ガス導入弁を切換える操作を行えば良い。
温度変化を連続的に測定し、塩素の吸着熱を検知した瞬
間に、即ち温度変化の微分値が所定値となった瞬間に、
吸着操作から自動的に自動弁を切り換えることにより、
残ガス中への塩素漏出を完全に無くすことが出来る。即
ち、吸着塔上部の吸着剤中に設置した熱電対その他の手
段で温度変化を測定すれば、容易に塩素の吸着を検知す
ることができ、その検知方法は塩素ガスを含むガスの入
口温度等に左右されないように温度の微分変化により検
知し、その結果により適宜の変換手段によって吸着操作
の終了を決定するとともにそれを電気出力に変換して、
吸着塔の工程を切り換える自動弁の開閉を行うことを可
能とする。
て吸着塔上部の吸着剤の温度変化を連続的に測定し、そ
の温度上昇の微分値が所定値になったときに、吸着操作
を自動的に切り換えることにより、残ガス中の塩素濃度
をゼロとすることを可能とし、残ガス中の塩素濃度が実
質上ゼロとなるため除害の措置が簡略化でき、工業的に
非常に有効である。
法に依る塩素ガスの濃縮精製装置において、前記吸着塔
の前に塩素ガスを含む混合ガス中の水分を除去するため
に脱水装置を具備するものでもある。塩素ガスを含む混
合ガもス中の水分を除去するために脱水装置を備えるこ
とにより吸着剤の寿命を長くし、また装置の腐食を防止
することができる。
示す。管1は原料ガス導入管であり、塩素純度が比較的
低いガスが導入され、圧縮機2により所定の圧力まで昇
圧され、切替弁3aを経て4基の吸着塔4a,4b,4
c,4dの内の第1塔4aに導入される。
塩素を優先的に吸着する吸着剤、例えば、合成または天
然ゼオライト、非ゼオライト系多孔質酸性酸化物や活性
炭および分子ふるいカーボンが充填されており、加圧状
態で導入された原料ガス中の塩素が優先的に吸着され
る。所定量原料ガスが導入された後、切替弁1a,1b
の切替えにより圧縮機14で圧力を高められた製品塩素
ガスが導入され吸着塔4a内の原料ガスがパージされ
る。
ったガスは、切替弁5a,6bを経て第2塔4bに導入
される。第2塔4bで残りの塩素を吸着された処理ガス
は切替弁7bを経て排出される。この時、第3の吸着塔
4cでは第2の塔4bから吐出したガスの一部が流量調
節機構11、切替弁10cを経て導入され、この塔の圧
力が高められる充圧工程が実施される。
経て常圧脱着、さらに切替弁9bを経て真空ポンプ12
と塔内が接続され、濃縮された塩素ガスを回収するとと
もに塔内の吸着剤が再生される再生工程が実施されてい
る。そして所定量の塩素を吸着し製品ガスでパージされ
た吸着塔4aは切替弁3aの切替えによりガスの導入が
停止されるとともに、切替弁8aの切替えにより塔内が
減圧され、さらに真空ポンプ12で排気されて減圧状態
となり、吸着剤に吸着された塩素が脱着され吸着剤が再
生される。この再生工程で純度の高い塩素ガスを製品と
してバッファータンク13に貯められ圧縮機14で昇圧
されて製品導出管15より得ることが出来る。
切替弁3bを経て導入され、原料ガス中の塩素が優先的
に吸着される。吸着塔4bの出口から塩素濃度の低いガ
スが得られ、切替弁5b,6cを経て排出され第3の吸
着塔4cに導入され、残りの塩素が吸着され切替弁7c
を経て排出される。原料ガスの吸着が終わった後切替弁
1a,1bの切替えにより圧縮機14で圧力を高められ
た製品塩素ガスが導入され吸着塔4b内の原料ガスがパ
ージされる。パージされたガスは切替弁5b,6cを経
て排出され第3の吸着塔4cに導入され、塩素が吸着さ
れ、切替弁7cを経て排出される。また第4の吸着塔4
dでは、第3の塔4cから吐出したガスの一部が流量調
節機構11、切替弁10dを経て導入され、この塔の圧
力が高められる充圧工程が実施される。
が切替弁3cを経て導入され、原料ガス中の塩素が優先
的に吸着される。吸着塔4cの出口では塩素濃度の低い
ガスが得られ、切替弁5c,6dを経て第4の吸着塔4
dに導入される。これと同時に第1の吸着塔4aでは、
第4の塔4dから吐出したガスの一部が流量調節機構1
1、切替弁7aを経て導入され、この塔の圧力が高めら
れる充圧工程が実施される。
えにより原料ガスおよびパージガスの導入が停止される
と共に、切替弁8bの切替えによって塔内が減圧され、
さらに切替弁9bの切替え及び真空ポンプ12で排気さ
れて減圧状態となり、吸着剤に吸着された塩素が脱着さ
れ吸着剤が再生される。
塔4a,4b,4c,4dについて交互に繰り返すこと
によって、不純物を含有する塩素ガスより高純度塩素を
連続的に製造できる。
2により説明すると、以下のようである。図2に於い
て、(1),(2)は内部に吸着剤を充填した吸着塔、
(3)は塩素を含むガスの圧縮機、(4)は吸着圧力制
御装置、(5)は脱着再生用真空ポンプ、(6)〜(1
1)は切換弁である。
われ、吸着塔(2)では脱着再生工程が行われていると
すると、切換弁(7),(8),(10)が開、同じく
(6),(9),(11)が閉の状態にあり、塩素を含
むガスの圧縮機(3)からの塩素を含むガスは切換弁
(8)を通って吸着塔の下部より供給され、主に塩素を
吸着されて残ガスとなり、塔上部から塔外へ排出され、
切換弁(10)を通って系外へ排出される。
が吸着された吸着成分を真空ポンプを用いて、吸着剤よ
り脱着させ、吸着塔下部より排気され切換弁(7)を通
して真空ポンプ(5)により系外に排出される。この排
出ガスは塩素が濃縮されたガスであり、他の工程等にて
処理される。
せてタイマー等で切換えられていたが、塩素を含むガス
の塩素濃度,温度,圧力等の変化が生じた場合に、残ガ
ス中の塩素濃度を長期間を通じて実質上ゼロとするよう
な運転は困難であった。そこで本発明は、吸着塔内の吸
着剤の温度を連続的に測定し、任意の温度の微分変化を
検知し、それによって任意の吸着時間を選定できるよう
にし、脱着工程に切り換えるようにした。
(1),(2)の上部に熱電対(12),(13)を設
置し、吸着剤の温度変化を連続的に検知し、出力された
電気信号は(14)の増幅器へ入力され、増幅された電
気信号は(15)の計算制御器へ入力され、温度の微分
変化を計算する。温度の微分変化が、(15)の計算機
にあらかじめ設定された任意の温度の微分変化以上とな
った場合、その電気信号を(16)の出力部へ入力し、
(16)の出力部は(17)の電磁弁の開閉を指令し、
(6)〜(11)の切換弁切の開閉を行うようにするも
のである。つまり、本発明の主要点は、塩素を含むガス
の処理ガス条件(組成,流量,圧力,温度)等が変化し
ても、残ガス中の塩素濃度を常に実質上ゼロとすべく、
圧力スイング吸着法における吸着工程の時間設定を監視
させることにある。
主に塩素が吸着剤に吸着されると吸着熱により吸着剤の
温度上昇が見られ、塔内部では塩素の吸着帯の進行に対
して略等しく昇温帯域が移動するから、この昇温帯域を
塔の出口付近で連続的に検知すれば塩素の破過時間の正
確な予測に使用できるため、これにより塔の切換え時間
の設定を監視できる。しかし、ただ単に温度を検出する
だけでは塩素を含むガスの入口温度との関係から不十分
であるため、温度の微分変化を常にチェックすることに
より吸着工程の時間設定の監視を行うことにより正確に
判断できる。
場合の吸着熱が他のガス成分が吸着される場合の吸着熱
よりもはるかに大きい場合に有効であり、その特徴を有
する吸着剤はゼオライト、非ゼオライト系多孔質酸性酸
化物、活性炭または分子ふるいカーボンが挙げられる。
常に実質上ゼロとする運転が長期間に渡り実現され、常
に残ガス中に塩素を漏出させないように監視できるため
信頼性も高く、工業的に非常に有効な手段が提供されう
る。
が、本発明はこれらのみに限定されるものではない。 実施例1 実施例に使用した塩素を含むガスより塩素を分離・濃縮
する圧力スイング吸着装置2塔式の吸着塔は、直径50
mm,高さ2000mmの耐圧鋼管製で、吸着剤として
Y型ゼオライト(Zecohem社製)を用い、その3
kgを充填した。実施例で使用した塩素を含むガスは塩
素15容量%,酸素50容量%,窒素15容量%,二酸
化炭素20容量%からなり、図2に示す圧縮器(3)を
用いて2Nm3/hの流量で供給し、吸着圧力は(4)
に示す圧力制御装置により1〜7kg/cm2ゲージ圧
力まで任意に設定可能である。脱着圧力は真空ポンプ
(5)の最大能力である100torrの真空度に3分
間で達するものを選定し使用した。
に必要な基礎データを得る際に、塩素の吸着の際に得ら
れる吸着剤の温度変化を測定した。図3に吸着操作中の
ガス出口にある吸着剤の先端から、吸着剤の全充填高さ
の1/10と1/3の距離における、吸着剤の温度変化
の経時変化を示す。
剤の温度変化は2℃/分の昇温速度であり、他のガス成
分の通過(吸着)の際の温度変化0.5℃/分と比較し
て明らかに昇温速度が充分大きいことを確認した。この
結果をコンピュータに入力し、吸着剤の温度変化が1.
5℃/分以上になった瞬間に吸着工程を打切り、吸着塔
の切換えを行うようにプログラムした。
続運転を行ったが、残ガス中の塩素濃度は期間中不検出
であった。濃縮ガスの塩素濃度は60容量%の一定であ
った。尚、濃縮ガス及び残ガス中の塩素濃度はガスクロ
マトグラフィーにより測定した。
濃縮する圧力スイング吸着法を開始し、実験途中で処理
ガスの吸着塔入口温度15℃から40℃へ変化させた。
処理ガスの吸着塔入口温度を上昇させた場合、吸着時間
は初期設定の5分間から4分50秒となったが、残ガス
中の塩素濃度は不検出であり、濃縮ガスの塩素濃度は6
0容量%と一定であった。
濃縮する圧力スイング吸着法を開始し、実験途中で吸着
圧力を6.0kg/cm2Gから2.0kg/cm2Gへ
低下させた場合、吸着時間は初期設定の5分間から4分
20秒となったが、やはり残ガス中の塩素濃度は不検出
であった。尚、この場合精製塩素ガスの濃度は60容量
%であり、実施例1と大差なかった。
濃縮する圧力スイング吸着法を開始し、実験途中で塩素
を含むガスの流量を2Nm3/hから3Nm3/hに変更
した場合、吸着時間は初期設定の5分間から4分00秒
となった。この時、残ガス中の塩素濃度は数100pp
mとなった。これは、処理ガスの線速度が増加したた
め、吸着剤の温度変化の微分値1.5℃/分を検出して
いる間に吸着塔上部まで塩素ガスが進行した為と考えら
れた。そこで、温度測定箇所を吸着操作中のガス出口に
ある吸着剤の先端から、吸着剤の全充填高さの1/5の
距離に変更し、同様の実験を行ったところ、吸着時間は
初期設定の5分間から4分30秒となったが、残ガス中
の塩素濃度は不検出であった。ただし、精製塩素ガスの
濃度は55容量%となった。
ガス濃縮装置の一例を示す。管0は、原料ガス導入管で
あり、塩素濃度が比較的低く水分を含有したガスが導入
される。18は脱水塔であり、ポンプ19により濃硫酸
が循環されている、管20は新しい濃硫酸の供給口であ
り、管21は比較的濃度が薄くなった濃硫酸の排出口で
ある。
過して水分を除去されたのち、圧縮機2により所定の圧
力まで昇圧され、切替弁3を経て、3基の吸着塔4a,
4b,4cの内の第1塔4aに導入される。3基の吸
着塔4a,4b,4cには塩素を優先的に吸着するゼオ
ライト、活性炭等の吸着剤が充填されており、加圧状態
で導入された原料ガス中の塩素が優先的に吸着される。
まないガスが得られ、切替弁7aを経て排出される。こ
の時第2の吸着塔4bでは、第1の塔4aから吐出した
ガスの一部が圧力調節機構11、切替弁10bを経て導
入され、この塔の圧力が高められる充圧工程が実施され
る。また第3の吸着塔4cでは、切替弁8c,9bを経
て真空ポンプ12と塔内が接続され、濃縮された塩素ガ
スを回収するとともに、塔内の吸着剤が再生される再生
工程が実施されている。
は切替弁3aの切替えにより、原料ガスの導入が停止さ
れるとともに、切替弁8aの切替えにより塔内が真空ポ
ンプ12で排気されて減圧状態となり、吸着剤に吸着さ
れた塩素が脱着され吸着剤が再生される。この再生工程
で、濃度の高い塩素ガスを製品として、真空ポンプ12
の吐出口から得ることができる。
切替弁3bを経て導入され、原料ガス中の塩素が優先的
に吸着される。吸着塔4bの出口では、ほとんど塩素を
含まないガスが得られ、切替弁7bを経て排出される。
また第3の吸着塔4cでは、第2の塔4bから吐出した
ガスの一部が圧力調節機構11、切替弁10cを経て導
入され、この塔の圧力が高められる充圧工程が実施され
る。
切替弁3cを経て導入され、原料ガス中の塩素が優先的
に吸着される。吸着塔4cの出口では、ほとんど塩素を
含まないガスが得られ、切替弁7cを経て排出される。
これと同時に第1の吸着塔4aでは、第3の塔4cから
吐出したガスの一部が圧力調節機構11、切替弁10a
を経て導入され、この塔の圧力が高められる充圧工程が
実施される。
えにより原料ガスの導入が停止されると共に、切替弁8
bの切替えによって、塔内が真空ポンプ12で排気され
て減圧状態となり、吸着剤に吸着された塩素が脱着さ
れ、吸着剤が再生される。
塔4a,4b,4cについて交互に繰り返すことによっ
て、塩素を含有する原料ガスより、塩素を連続的に分離
濃縮できるシステムが構築されている。この際、この装
置を構成する機器の材質としては、高価な耐食材料を必
要とせず比較的安価な材料でよい。上記のように、本発
明によれば圧力スイング吸着法により不純物を含有した
塩素を排ガス中にほとんど漏らすことなく精製して高純
度の製品を得ることができる。
吸着剤の温度変化を連続的に測定し、その吸着剤温度の
微分値が所定値となった時にその吸着剤へのガスの導入
を中止し、その吸着塔の再生作業を開始することによ
り、処理ガス条件が変動しても常に残ガス中の塩素濃度
を実質上ゼロとする操作を可能とするものであり、工業
的に極めて有効な制御手段である。さらに、本発明は塩
素を含有し、かつ水分を含有したガスから塩素を分離し
濃縮する装置を比較的安価に提供できる。
とにより排ガス中の塩素をほとんど無くすことができ、
脱着操作の前に製品塩素ガスを吸着塔に還流させること
により、製品塩素ガスの純度を高めることができ、吸着
塔にセンサーを設けることにより、自動制御が可能とな
り、さらに吸着塔の前に塩素ガスを含む混合ガス中の水
分を除去する脱水装置を備えることにより吸着剤の寿命
を長くし、装置の腐食を防止することができた。
一例の系統図である。
一例の系統図である。
吸着剤の先端から、吸着剤の全充填高さの1/10と1
/3の位置における、吸着剤の温度上昇の経時変化であ
る。縦軸は温度(℃)であり、横軸は吸着時間を示す。
る。
弁 11 圧力調整機構 12 真空ポンプ 13 製品タンク 14 製品ガス圧縮機 15 製品ガス排出配管 16 バッファータンク 17 処理ガス排出管 18 脱水塔 19 ポンプ 20 硫酸供給管 21 硫酸排出管 (1),(2) 吸着塔 (3) 塩素を含むガスの圧縮機 (4) 吸着圧力制御装置 (5) 真空ポンプ (6),(7),(8),(9),(10),(11)
切換弁 (12),(13) 熱電対 (14) 増幅器 (15) 計算制御器 (16) 出力部 (17) 電磁弁
Claims (18)
- 【請求項1】 塩素ガスを吸着する吸着剤が充填された
複数の吸着塔に、不純物を含む塩素ガスを供給し塩素ガ
スを吸着させる吸着操作と、該吸着剤に吸着された塩素
ガスを脱着させる脱着操作を交互に繰返すことによっ
て、吸着塔に供給される不純物を含む塩素ガスを高純度
に濃縮精製する圧力スイング吸着式塩素ガス濃縮精製法
において、吸着操作中の吸着塔から排出される処理廃ガ
スを、次に吸着操作を行う吸着塔に導入することにより
吸着操作を二段以上に行うことを特徴とする塩素ガスの
濃縮精製法。 - 【請求項2】 吸着操作を二段以上に行い、更に脱着操
作の開始前に、濃縮済みの高純度塩素ガスを、吸着操作
の終了した吸着塔に還流させて、系内の該不純物を含む
塩素ガスを置換することを特徴とする請求項1記載の塩
素ガスの濃縮精製法。 - 【請求項3】 塩素ガス中に含まれる不純物が酸素ガス
であることを特徴とする請求項1記載の塩素ガスの濃縮
精製法。 - 【請求項4】 吸着操作中の吸着塔の吸着剤充填層の吸
着状態を、塩素ガスの存在を感知するセンサーによって
検出し吸着操作の終了を感知することにより、該吸着塔
への不純物を含む塩素ガスの供給を停止し、該吸着塔を
吸着操作から脱着操作へ移行せしめることを特徴とする
請求項1記載の塩素ガスの濃縮精製法。 - 【請求項5】 塩素ガスの存在を感知するセンサーが、
温度計であることを特徴とする請求項4記載の塩素ガス
の濃縮精製法。 - 【請求項6】 吸着操作中の吸着塔の温度上昇の検出
を、吸着剤充填層の処理廃ガス排出口から、全充填高さ
の1/2以内の位置において行うことを特徴とする請求
項5記載の塩素ガスの濃縮精製法。 - 【請求項7】 塩素ガスを吸着する吸着剤がゼオライ
ト、非ゼオライト系多孔質酸性酸化物、活性炭または分
子ふるいカーボンの何れかであることを特徴とする請求
項1記載の塩素ガスの濃縮精製法。 - 【請求項8】 塩素ガスを吸着する吸着剤がY型ゼオラ
イトであることを特徴とする請求項7記載の塩素ガスの
濃縮精製法。 - 【請求項9】 塩素ガスを吸着する吸着剤が充填された
複数の吸着塔に、不純物を含む塩素ガスを供給し塩素ガ
スを吸着する吸着操作と、該吸着剤に吸着された塩素ガ
スを脱着させる脱着操作を交互に繰返すことによって、
吸着塔に供給される不純物を含む塩素ガスを高純度に濃
縮精製する圧力スイング吸着式塩素ガス濃縮精製装置に
おいて、吸着操作中の吸着塔から排出される処理廃ガス
を、次に吸着操作を行う吸着塔に導入して吸着操作を二
段以上に行うことに拠り、処理廃ガス中の塩素ガス濃度
を実質的にゼロとすることのできる機構を具備すること
を特徴とする塩素ガスの濃縮精製装置。 - 【請求項10】 吸着操作を二段以上で行い、更に脱着
操作の開始前に、濃縮済みの高純度塩素ガスを、吸着操
作の終了した吸着塔に還流させて、系内の該不純物を含
む塩素ガスを置換する機構を具備することを特徴とする
請求項9記載の塩素ガスの濃縮精製装置。 - 【請求項11】 下記の(a)〜(f)の各要素、 (a)被処理ガス導入口および処理廃ガス排出口を具備
し、且つ塩素ガスを吸着する吸着剤が充填された複数の
吸着塔、 (b)各吸着塔の被処理ガス導入口を連結する管路、各
吸着塔の処理廃ガス排出口を連結する管路、各吸着塔か
ら濃縮塩素ガスを脱着させて取り出すために配設された
各吸着塔の被処理ガス導入口を連結する管路、一の吸着
塔の処理廃ガス排出口と他の吸着塔の被処理ガス導入口
を連絡する管路、濃縮塩素ガスを吸着塔へ還流するため
に配設された各吸着塔の被処理ガス導入口と製品ガスタ
ンク又は濃縮精製塩素ガス圧縮機の排気口を連結する管
路、 (c)上記各管路のうち特定の管路を、随時特定のガス
が流通できるよう流路設定するための切替弁、 (d)塩素ガス脱着吸着のため、系内を減圧するための
真空ポンプ、 (e)濃縮精製塩素ガスの圧力を均一化するための製品
タンクおよび (f)濃縮精製塩素ガスを昇圧するための圧縮機 を具備することを特徴とする請求項9記載の塩素ガスの
濃縮精製装置。 - 【請求項12】 吸着塔に充填された吸着剤の充填層の
上部に、塩素ガスの存在を感知するセンサーを配設し、
吸着操作中の該充填層の吸着操作の終了を検出し、該吸
着塔への不純物を含む塩素ガスの導入を停止して、該吸
着塔を吸着操作から脱着操作へ移行せしめるよう作動す
る機構を具備することを特徴とする請求項9記載の塩素
ガスの濃縮精製装置。 - 【請求項13】 塩素ガスの存在を感知するセンサー
が、温度計である請求項12記載の塩素ガスの濃縮精製
装置。 - 【請求項14】 下記の(a)〜(f)の各要素、 (a)被処理ガス導入口および処理廃ガス排出口を具備
し、且つ塩素ガスを吸着する吸着剤が充填された充填層
の上部に温度計が配設された複数の吸着塔、 (b)各吸着塔の被処理ガス導入口を連結する管路、各
吸着塔の処理廃ガス排出口を連結する管路、各吸着塔か
ら濃縮塩素ガスを脱着させて取り出すために配設された
各吸着塔の被処理ガス導入口を連結する管路、一の吸着
塔の処理廃ガス排出口と他の吸着塔の被処理ガス導入口
を連結する管路、濃縮塩素ガスを吸着塔へ還流するため
に配設された各吸着塔の被処理ガス導入口と製品ガスタ
ンク又は濃縮精製塩素ガス圧縮機の排気口を連結する管
路、 (c)上記各管路の内の特定の管路を、随時特定のガス
が流通できるよう流路設定するための切替弁、 (d)塩素ガス脱着吸着のため、系内を減圧にするため
の真空ポンプ、 (e)吸着操作中の吸着塔の吸着剤充填層の温度上昇を
検出する計測装置および (f)上記温度上昇が所定値の範囲を超えると被処理ガ
スの導入を停止するように仕切弁を作動させる調節機構 を具備することを特徴とする請求項12記載の塩素ガス
の濃縮精製装置。 - 【請求項15】 吸着操作中の吸着塔の温度上昇を検出
する温度検出端の配設位置が吸着剤充填層の処理廃ガス
排出口から全充填高さの1/2以内の位置であることを
特徴とする請求項12記載の塩素ガスの濃縮精製装置。 - 【請求項16】温度上昇の所定値が一分間に1.5℃で
あることを特徴とする請求項12または14記載の塩素
ガスの濃縮精製装置。 - 【請求項17】 不純物を含む塩素ガス中の水分を除去
するため、吸着塔の前に脱水装置を具備することを特徴
とする請求項9記載の塩素ガスの濃縮精製装置。 - 【請求項18】 脱水装置が濃硫酸を循環し被処理ガス
と接触させて水分を吸収させる脱水塔であることを特徴
とする請求項17記載の塩素ガスの濃縮精製装置。
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JP3-121688 | 1991-05-28 | ||
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JP14748691 | 1991-06-19 | ||
JP20429191 | 1991-08-14 | ||
JP3-204291 | 1991-08-14 | ||
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Country | Link |
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JP (1) | JP3570732B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009023907A (ja) * | 2008-09-08 | 2009-02-05 | Kobe Steel Ltd | ガス分離方法および同装置 |
JP2013545704A (ja) * | 2011-10-11 | 2013-12-26 | ホンインケミカル シーオー.,エルティディ. | 高純度塩化水素の製造方法及び製造システム |
JP2014073461A (ja) * | 2012-10-04 | 2014-04-24 | Metawater Co Ltd | 混合ガスの精製方法及び精製装置 |
JP6279818B2 (ja) * | 2016-02-22 | 2018-02-14 | Semitec株式会社 | ガスセンサ、ガス検出装置、ガス検出方法及びガス検出装置を備えた装置 |
JP2021020178A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社豊田中央研究所 | ガス分離装置およびガス分離方法 |
-
1992
- 1992-05-27 JP JP13510192A patent/JP3570732B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2021020178A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社豊田中央研究所 | ガス分離装置およびガス分離方法 |
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